JPH11261015A - 半導体可変コンデンサ及びその製造方法 - Google Patents
半導体可変コンデンサ及びその製造方法Info
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- JPH11261015A JPH11261015A JP11007026A JP702699A JPH11261015A JP H11261015 A JPH11261015 A JP H11261015A JP 11007026 A JP11007026 A JP 11007026A JP 702699 A JP702699 A JP 702699A JP H11261015 A JPH11261015 A JP H11261015A
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- G—PHYSICS
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- G01L9/00—Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
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- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 半導体装置内において集積化されている可変
コンデンサ及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明によれば、半導体装置内の可変コ
ンデンサが提供され、その容量値は、外部刺激に応答し
て該コンデンサのプレート間の空間内の誘電体物質の運
動によって変化される。このような可変コンデンサの製
造方法が提供され、その場合に、コンデンサは積層構成
体内に形成され、頂部層はコンデンサプレート間の空間
内に延在する誘電体物質部分からなる部分を有してい
る。頂部層を形成した後に、中間層をエッチング除去し
て頂部層を可撓的なものとさせ、コンデンサプレート間
の空間内において該誘電体物質が移動することを容易と
させる。
コンデンサ及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明によれば、半導体装置内の可変コ
ンデンサが提供され、その容量値は、外部刺激に応答し
て該コンデンサのプレート間の空間内の誘電体物質の運
動によって変化される。このような可変コンデンサの製
造方法が提供され、その場合に、コンデンサは積層構成
体内に形成され、頂部層はコンデンサプレート間の空間
内に延在する誘電体物質部分からなる部分を有してい
る。頂部層を形成した後に、中間層をエッチング除去し
て頂部層を可撓的なものとさせ、コンデンサプレート間
の空間内において該誘電体物質が移動することを容易と
させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、大略、半導体装置
及びその製造方法に関するものであって、更に詳細に
は、共通の半導体基板上に形成した集積回路の一つの要
素として可変コンデンサを組込む技術に関するものであ
る。
及びその製造方法に関するものであって、更に詳細に
は、共通の半導体基板上に形成した集積回路の一つの要
素として可変コンデンサを組込む技術に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】可変コンデンサは、一般的に、二つの対
向した平行なプレートを分離させる距離即ち隣接する平
行なプレートのオーバーラップする量を変化させること
によって容量を変化させる可動性のプレートを使用して
いる。この様な可変コンデンサを半導体装置の一部とし
て移動プレートと共に集積化することは、半導体装置の
製造上の本来的な制限に起因してある種の問題を発生さ
せる。半導体基板上に集積化されている可変コンデンサ
の例は、米国特許第４，４９５，８２０号及び第４，６
７２，８４９号において記載されており、それらの各特
許は可動プレートと固定プレートとの間の距離における
変化を検知する装置を開示している。本発明は構成を簡
単化させ且つ半導体可変コンデンサを製造するプロセス
を提供するためにこれらの先行する特許の可動プレート
アプローチから逸脱するものである。
向した平行なプレートを分離させる距離即ち隣接する平
行なプレートのオーバーラップする量を変化させること
によって容量を変化させる可動性のプレートを使用して
いる。この様な可変コンデンサを半導体装置の一部とし
て移動プレートと共に集積化することは、半導体装置の
製造上の本来的な制限に起因してある種の問題を発生さ
せる。半導体基板上に集積化されている可変コンデンサ
の例は、米国特許第４，４９５，８２０号及び第４，６
７２，８４９号において記載されており、それらの各特
許は可動プレートと固定プレートとの間の距離における
変化を検知する装置を開示している。本発明は構成を簡
単化させ且つ半導体可変コンデンサを製造するプロセス
を提供するためにこれらの先行する特許の可動プレート
アプローチから逸脱するものである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上の点に
鑑みなされたものであって、上述した如き従来技術の欠
点を解消し、改良した半導体可変コンデンサ及びその製
造方法を提供することを目的とする。
鑑みなされたものであって、上述した如き従来技術の欠
点を解消し、改良した半導体可変コンデンサ及びその製
造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体装置内
に集積化した可変コンデンサを提供しており、それは振
動センサ、加速度計、圧力センサ、音響変換器において
使用するのに適したものである。可変コンデンサの容量
は、コンデンサの固定したプレートの間のギャップにお
ける誘電体物質からなるメンブレンを移動させることに
よって変化される。容量変化は、固定プレート間のギャ
ップ内の誘電体の値を変化させることによって影響され
る。
に集積化した可変コンデンサを提供しており、それは振
動センサ、加速度計、圧力センサ、音響変換器において
使用するのに適したものである。可変コンデンサの容量
は、コンデンサの固定したプレートの間のギャップにお
ける誘電体物質からなるメンブレンを移動させることに
よって変化される。容量変化は、固定プレート間のギャ
ップ内の誘電体の値を変化させることによって影響され
る。
【０００５】本発明の可変コンデンサは、互いに離隔さ
れている固定プレート及びそれらのプレートの間の空間
即ちギャップ内において移動可能な誘電体メンブレンを
有する積層構成体を構築する独特な一連のステップにお
いて従来の製造技術及び物質を使用して半導体装置内に
集積化させることが可能である。
れている固定プレート及びそれらのプレートの間の空間
即ちギャップ内において移動可能な誘電体メンブレンを
有する積層構成体を構築する独特な一連のステップにお
いて従来の製造技術及び物質を使用して半導体装置内に
集積化させることが可能である。
【０００６】
【発明の実施の形態】図１を参照すると、大略参照番号
１０として示した半導体装置の一部が示されており、そ
の一部１０は本発明に基づいて製造された可変コンデン
サ１２を包含している。可変コンデンサ１２は、可撓性
メンブレン１４を有しており、それは、第二長尺導体２
０と平行であり且つそれから離隔されている第一長尺導
体１８を包含する下側に存在する特徴を示すために切欠
部１６が示されている。導体１８と２０との間の空間は
ギャップ２２を画定しており、且つこれらの導体は、以
下に説明するように装置１０のその他の回路要素（不図
示）へ接続させることの可能な可変コンデンサ１２のプ
レートを形成している。理解されるように、例として、
櫛型の第一及び第二導体及び導体の相互接続したアレイ
を包含するその他のレイアウトを使用して本発明に基づ
いて製造した可変コンデンサの容量を増加させることが
可能である。
１０として示した半導体装置の一部が示されており、そ
の一部１０は本発明に基づいて製造された可変コンデン
サ１２を包含している。可変コンデンサ１２は、可撓性
メンブレン１４を有しており、それは、第二長尺導体２
０と平行であり且つそれから離隔されている第一長尺導
体１８を包含する下側に存在する特徴を示すために切欠
部１６が示されている。導体１８と２０との間の空間は
ギャップ２２を画定しており、且つこれらの導体は、以
下に説明するように装置１０のその他の回路要素（不図
示）へ接続させることの可能な可変コンデンサ１２のプ
レートを形成している。理解されるように、例として、
櫛型の第一及び第二導体及び導体の相互接続したアレイ
を包含するその他のレイアウトを使用して本発明に基づ
いて製造した可変コンデンサの容量を増加させることが
可能である。
【０００７】図２の断面を参照すると、装置１０は半導
体基板２４の上に形成されており、該基板は、好適に
は、従来のシリコン基板であって且つその上側の表面領
域を画定する従来の浅いエピタキシャル層を有すること
が可能である。基板２４は上表面２６を有しており、そ
の上に第一絶縁層２８が形成される。第一絶縁層２８
は、好適には、酸化物層であるが、任意の誘電体物質と
することが可能であり、又は少なくとも上部層が誘電体
物質である二つ又はそれ以上の層からなる複合層とする
ことが可能である。
体基板２４の上に形成されており、該基板は、好適に
は、従来のシリコン基板であって且つその上側の表面領
域を画定する従来の浅いエピタキシャル層を有すること
が可能である。基板２４は上表面２６を有しており、そ
の上に第一絶縁層２８が形成される。第一絶縁層２８
は、好適には、酸化物層であるが、任意の誘電体物質と
することが可能であり、又は少なくとも上部層が誘電体
物質である二つ又はそれ以上の層からなる複合層とする
ことが可能である。
【０００８】好適にはアルミニウムである第一及び第二
導体１８及び２０が酸化物層２８の上側に存在してい
る。第二絶縁層３０は、好適には、窒化シリコンである
が、第一及び第二導体１８及び２０の上側に存在してお
り且つ導体１８及び２０によって被覆されていない酸化
物層２８の部分の上に存在している。第二絶縁層３０は
導体１８及び２０の頂部表面及び側部表面に倣ってい
る。
導体１８及び２０が酸化物層２８の上側に存在してい
る。第二絶縁層３０は、好適には、窒化シリコンである
が、第一及び第二導体１８及び２０の上側に存在してお
り且つ導体１８及び２０によって被覆されていない酸化
物層２８の部分の上に存在している。第二絶縁層３０は
導体１８及び２０の頂部表面及び側部表面に倣ってい
る。
【０００９】可撓性メンブレン１４は誘電体物質であっ
て、好適には窒化シリコンから構成されている。一方、
それは、ポリイミド層を有することが可能である。可撓
性メンブレン１４は周辺部分３２を有しており、周辺部
分３２は半導体基板２４によって中間層を介して支持さ
れている。メンブレン１４及び下側に存在する窒化物層
３０はそれらの間にキャビティ即ち凹所３４を画定して
いる。キャビティ３４は、図２の断面に沿った方向及び
図１から理解されるようにそれと直交する方向の両方に
おいてメンブレン１４の周辺部３２へ延在している。
て、好適には窒化シリコンから構成されている。一方、
それは、ポリイミド層を有することが可能である。可撓
性メンブレン１４は周辺部分３２を有しており、周辺部
分３２は半導体基板２４によって中間層を介して支持さ
れている。メンブレン１４及び下側に存在する窒化物層
３０はそれらの間にキャビティ即ち凹所３４を画定して
いる。キャビティ３４は、図２の断面に沿った方向及び
図１から理解されるようにそれと直交する方向の両方に
おいてメンブレン１４の周辺部３２へ延在している。
【００１０】更に、図２を参照すると、メンブレン１４
は第一及び第二導体１８及び２０の間のギャップ２２内
へ部分的に延在するビーム３６を有している。メンブレ
ン１４は可撓性があるので、ビーム３６はギャップ２２
内を移動自在である。図２Ａはメンブレン１４が完全に
屈曲した位置にある状態を示しており、ビーム３６はギ
ャップ２２内へ下方向へ延在しており且つ窒化物層３０
の上表面と当接している。図１及び３に示した開口即ち
ポート３８がメンブレン１４内に設けられており、空気
がキャビティ３４内へ移動し且つキャビティ３４から排
除されることを可能としており、メンブレン１４が移動
することを容易なものとさせている。
は第一及び第二導体１８及び２０の間のギャップ２２内
へ部分的に延在するビーム３６を有している。メンブレ
ン１４は可撓性があるので、ビーム３６はギャップ２２
内を移動自在である。図２Ａはメンブレン１４が完全に
屈曲した位置にある状態を示しており、ビーム３６はギ
ャップ２２内へ下方向へ延在しており且つ窒化物層３０
の上表面と当接している。図１及び３に示した開口即ち
ポート３８がメンブレン１４内に設けられており、空気
がキャビティ３４内へ移動し且つキャビティ３４から排
除されることを可能としており、メンブレン１４が移動
することを容易なものとさせている。
【００１１】外部刺激がメンブレン１４へ付与される
と、ビーム３６はギャップ２２内において上下に移動
し、それにより第一及び第二導体１８及び２０の間の誘
電体特性を変化させる。ギャップ２２が基本的に空気で
あるので、可変コンデンサ１２の誘電体の値はビーム３
６がギャップ２２内を移動する場合に変化し、それによ
りビーム３６の移動に比例して容量値を変化させる。
と、ビーム３６はギャップ２２内において上下に移動
し、それにより第一及び第二導体１８及び２０の間の誘
電体特性を変化させる。ギャップ２２が基本的に空気で
あるので、可変コンデンサ１２の誘電体の値はビーム３
６がギャップ２２内を移動する場合に変化し、それによ
りビーム３６の移動に比例して容量値を変化させる。
【００１２】図３を参照すると、メンブレン１４がその
周辺部３２において固定的に支持されている。この実施
例においては、メンブレンの周辺部３２は下側に存在す
る窒化物層３０の一部の上に直接的に存在している。本
装置の別の実施例を図３Ａに示しており、その場合に
は、メンブレンの周辺部は参照番号３２′で示されてお
り、それは中間の絶縁層４０ｂの上側に存在しており、
絶縁層４０ｂは窒化物層３０の上側に存在している。図
３Ａの装置１０′は以下に説明するプロセスから得られ
る。
周辺部３２において固定的に支持されている。この実施
例においては、メンブレンの周辺部３２は下側に存在す
る窒化物層３０の一部の上に直接的に存在している。本
装置の別の実施例を図３Ａに示しており、その場合に
は、メンブレンの周辺部は参照番号３２′で示されてお
り、それは中間の絶縁層４０ｂの上側に存在しており、
絶縁層４０ｂは窒化物層３０の上側に存在している。図
３Ａの装置１０′は以下に説明するプロセスから得られ
る。
【００１３】図４は好適な製造プロセスにおける早い段
階における本発明の可変コンデンサの構造を示してい
る。絶縁層２８が半導体基板２４の上側に所望の厚さに
形成されており、その厚さは装置構成における可変コン
デンサの位置及び同一の半導体装置の一部として製造さ
れるその他の回路要素に対する処理条件に依存して最大
で数ミクロンの厚さとすることが可能である。絶縁層２
８は従来の処理技術を使用して基板２４の上に直接的に
付着形成するか又は成長させた比較的薄い酸化物層とす
ることが可能である。一方、層２８は複数個の層からな
る複合体とすることが可能であり、最も上側の層は酸化
物層又はその他の誘電体層とすることが可能である。更
に理解されるように、層２８は装置１０のその他の活性
要素（不図示）の上方に形成することが可能である。
階における本発明の可変コンデンサの構造を示してい
る。絶縁層２８が半導体基板２４の上側に所望の厚さに
形成されており、その厚さは装置構成における可変コン
デンサの位置及び同一の半導体装置の一部として製造さ
れるその他の回路要素に対する処理条件に依存して最大
で数ミクロンの厚さとすることが可能である。絶縁層２
８は従来の処理技術を使用して基板２４の上に直接的に
付着形成するか又は成長させた比較的薄い酸化物層とす
ることが可能である。一方、層２８は複数個の層からな
る複合体とすることが可能であり、最も上側の層は酸化
物層又はその他の誘電体層とすることが可能である。更
に理解されるように、層２８は装置１０のその他の活性
要素（不図示）の上方に形成することが可能である。
【００１４】図５を参照すると、約０. ５乃至３ミクロ
ンの厚さの導電体層を、好適には、従来のアルミニウム
付着によって該構成体上に形成する。次いで、該導電層
の選択した部分を、従来のパターン形成技術を使用して
異方性エッチングし、第一導体１８及び第二導体２０を
形成し、それらの間にギャップ２２を画定する。異方性
エッチングは、導体１８及び２０に対して実質的に直線
的な垂直のエッジを発生させるので好適なものであり、
そのことは本発明の可変コンデンサのコンデンサプレー
トの対面する表面を形成する上で有益的である。次に、
第二絶縁層３０を該構成体の上に形成し、その結果図５
に示した構成体が得られる。このことは、好適には、従
来の窒化シリコン付着によって達成される。
ンの厚さの導電体層を、好適には、従来のアルミニウム
付着によって該構成体上に形成する。次いで、該導電層
の選択した部分を、従来のパターン形成技術を使用して
異方性エッチングし、第一導体１８及び第二導体２０を
形成し、それらの間にギャップ２２を画定する。異方性
エッチングは、導体１８及び２０に対して実質的に直線
的な垂直のエッジを発生させるので好適なものであり、
そのことは本発明の可変コンデンサのコンデンサプレー
トの対面する表面を形成する上で有益的である。次に、
第二絶縁層３０を該構成体の上に形成し、その結果図５
に示した構成体が得られる。このことは、好適には、従
来の窒化シリコン付着によって達成される。
【００１５】次に、図６を参照すると、第二絶縁層３０
の上に第三絶縁層４０を形成する。好適には、この第三
絶縁層４０はリン酸ガラス（ＰＳＧ）であって、約２乃
至１０ｋÅの厚さへ付着形成させる。ＰＳＧは比較的速
いレートでエッチングするので、第三絶縁層４０に対す
る好適な物質として選択される。又、フッ化水素酸を使
用するスタンダードのウェットエッチングは、窒化シリ
コンに著しい影響を与えることなしにＰＳＧを優先的に
エッチングする。
の上に第三絶縁層４０を形成する。好適には、この第三
絶縁層４０はリン酸ガラス（ＰＳＧ）であって、約２乃
至１０ｋÅの厚さへ付着形成させる。ＰＳＧは比較的速
いレートでエッチングするので、第三絶縁層４０に対す
る好適な物質として選択される。又、フッ化水素酸を使
用するスタンダードのウェットエッチングは、窒化シリ
コンに著しい影響を与えることなしにＰＳＧを優先的に
エッチングする。
【００１６】次いで、第三絶縁層４０の一部を、従来の
ホトリソグラフィ技術を使用して、図７に示したよう
に、その周辺部において選択的にエッチングし、ＰＳＧ
層４０ａを不変のまま残存させる。
ホトリソグラフィ技術を使用して、図７に示したよう
に、その周辺部において選択的にエッチングし、ＰＳＧ
層４０ａを不変のまま残存させる。
【００１７】次に、図８を参照すると、好適には、約３
乃至１０ｋÅの厚さへ窒化シリコンを付着形成させるこ
とによって、該構成体の上にメンブレン１４を形成す
る。窒化シリコンメンブレン１４はＰＳＧ層４０ａの表
面にならい、図示した如くビーム３６を形成する。
乃至１０ｋÅの厚さへ窒化シリコンを付着形成させるこ
とによって、該構成体の上にメンブレン１４を形成す
る。窒化シリコンメンブレン１４はＰＳＧ層４０ａの表
面にならい、図示した如くビーム３６を形成する。
【００１８】図９を参照すると、従来のパターン形成技
術を使用してメンブレン１４の一部を選択的にエッチン
グ除去することによって、メンブレン１４内にポート３
８を形成し、且つ、そうすることによって、ＰＳＧ層４
０ａの下側に存在する部分を露出させる。その後に、Ｐ
ＳＧ層４０ａを、好適には、ポート３８を介して導入さ
せたスタンダードの弗化水素酸ウエットエッチ溶解液を
使用して横方向にエッチングし、図３に示したようなキ
ャビティ即ち凹所３４を形成する。ＰＳＧ層のこの除去
によって、メンブレン１４を可撓的なものとさせ、従っ
てビーム３６は第一及び第二導体１８及び２０の間のギ
ャップ２２内において上下に移動可能である。
術を使用してメンブレン１４の一部を選択的にエッチン
グ除去することによって、メンブレン１４内にポート３
８を形成し、且つ、そうすることによって、ＰＳＧ層４
０ａの下側に存在する部分を露出させる。その後に、Ｐ
ＳＧ層４０ａを、好適には、ポート３８を介して導入さ
せたスタンダードの弗化水素酸ウエットエッチ溶解液を
使用して横方向にエッチングし、図３に示したようなキ
ャビティ即ち凹所３４を形成する。ＰＳＧ層のこの除去
によって、メンブレン１４を可撓的なものとさせ、従っ
てビーム３６は第一及び第二導体１８及び２０の間のギ
ャップ２２内において上下に移動可能である。
【００１９】本発明に基づくプロセスの変形例において
は、図７の構成体を形成するためのホトリソグラフィパ
ターン形成及びエッチングステップを取除くことが可能
である。メンブレン１４を形成するための窒化シリコン
を図６の構成体上に付着形成することが可能であり、且
つその後において同一の態様で処理を継続することが可
能である。ＰＳＧ層４０がメンブレン１４の下側におい
て横方向にエッチングされる場合に、そのエッチング期
間を制御し、従ってＰＳＧをギャップ２２内において且
つビーム３６の下側において完全にエッチングし、次い
で停止させる。その結果得られる空間３４を洗い流した
後に、結果的に得られる構造は図３Ａに示したようなも
のとなる。オリジナルのＰＳＧ層の一部４０ｂはメンブ
レン１４の周辺部３２′下側に残存する。エッチング期
間は、残存するＰＳＧ層４０ｂの端部がどこに位置され
るかを決定し、従ってメンブレン１４の可撓性に関して
何等かの影響を有している。図７の手順を使用するか又
は使用しないかの決定は装置の設計及び処理コストの考
慮に依存する。
は、図７の構成体を形成するためのホトリソグラフィパ
ターン形成及びエッチングステップを取除くことが可能
である。メンブレン１４を形成するための窒化シリコン
を図６の構成体上に付着形成することが可能であり、且
つその後において同一の態様で処理を継続することが可
能である。ＰＳＧ層４０がメンブレン１４の下側におい
て横方向にエッチングされる場合に、そのエッチング期
間を制御し、従ってＰＳＧをギャップ２２内において且
つビーム３６の下側において完全にエッチングし、次い
で停止させる。その結果得られる空間３４を洗い流した
後に、結果的に得られる構造は図３Ａに示したようなも
のとなる。オリジナルのＰＳＧ層の一部４０ｂはメンブ
レン１４の周辺部３２′下側に残存する。エッチング期
間は、残存するＰＳＧ層４０ｂの端部がどこに位置され
るかを決定し、従ってメンブレン１４の可撓性に関して
何等かの影響を有している。図７の手順を使用するか又
は使用しないかの決定は装置の設計及び処理コストの考
慮に依存する。
【００２０】図１０及び１１を参照して、本発明の可変
コンデンサに対する修正した構成１１２について説明す
る。修正した可変コンデンサ１１２は半導体装置１０の
一部として集積化されており、前に使用したものと同様
の構成要素には同様の参照番号を付してある。可変コン
デンサ１１２は離隔されている導体プレート１１８及び
１２０を有しており、それらの間にギャップ１２２が画
定されている。前に説明した可変コンデンサ１２の場合
と同一の態様で、可撓性メンブレン１１４はプレート１
１８と１２０との間のギャップ１２２において上下に移
動するビーム部分１３６を有している。可撓性メンブレ
ン１１４と第二絶縁層１３０との間のキャビティ即ち空
間１３４がＰＳＧ層（不図示）をエッチングすることに
よって前に説明したのと同様の態様で形成される。然し
ながら、この修正した実施例においては、ポート１３８
がプレート１１８及び１２０上から除去されており且つ
図１０に示したように周辺部に位置されている。ＰＳＧ
を横方向にエッチングし且つメンブレン１１４下側の空
間１３４から洗い流した後に、付加的な誘電体層１０２
を付着形成し且つパターン形成して可変コンデンサ１１
２の周辺部分の上側に残存させ、従って図１１に示した
ようにエッチポート１３８を被覆する。誘電体層１０２
は、例えば従来のガラスパッシベーション又はポリイミ
ド物質等の任意の適宜の物質とすることが可能である。
コンデンサに対する修正した構成１１２について説明す
る。修正した可変コンデンサ１１２は半導体装置１０の
一部として集積化されており、前に使用したものと同様
の構成要素には同様の参照番号を付してある。可変コン
デンサ１１２は離隔されている導体プレート１１８及び
１２０を有しており、それらの間にギャップ１２２が画
定されている。前に説明した可変コンデンサ１２の場合
と同一の態様で、可撓性メンブレン１１４はプレート１
１８と１２０との間のギャップ１２２において上下に移
動するビーム部分１３６を有している。可撓性メンブレ
ン１１４と第二絶縁層１３０との間のキャビティ即ち空
間１３４がＰＳＧ層（不図示）をエッチングすることに
よって前に説明したのと同様の態様で形成される。然し
ながら、この修正した実施例においては、ポート１３８
がプレート１１８及び１２０上から除去されており且つ
図１０に示したように周辺部に位置されている。ＰＳＧ
を横方向にエッチングし且つメンブレン１１４下側の空
間１３４から洗い流した後に、付加的な誘電体層１０２
を付着形成し且つパターン形成して可変コンデンサ１１
２の周辺部分の上側に残存させ、従って図１１に示した
ようにエッチポート１３８を被覆する。誘電体層１０２
は、例えば従来のガラスパッシベーション又はポリイミ
ド物質等の任意の適宜の物質とすることが可能である。
【００２１】エッチポート１３８が被覆されるので、汚
染物がメンブレン１１４下側の空間１３４内に入り込む
ことはない。然しながら、このことは、又、その下側に
存在するエアークッションに起因してメンブレン１１４
をより可撓性の低いものとさせる。従って、この修正し
た可変コンデンサ１１２は前に説明した可変コンデンサ
１２とは異なった電気的特性を呈する。可変コンデンサ
１１２は物理的に接触される感圧装置として使用するの
により適したものである。このようなコンデンサ１１２
からなるアレイは指紋検知器として有用な適用例を有し
ている。指紋検知器として使用されるコンデンサアレイ
の一例は米国特許第５，３２５，４４２号において記載
されている。同様に、本発明に基づいて構成されたアレ
イは、人間の指が接触した場合に指紋イメージを提供す
ることが可能である。指紋の山及び谷の変化する圧力
は、逐次的な行走査及び列検知を使用してアレイ位置に
おける孤立されたコンデンサの値を読取ることによって
検知することが可能である。各可変コンデンサ位置にお
いて読取イネーブルトランジスタを設けることが可能で
あり、且つ従来のメモリ製品において使用されるのと同
様の態様で基板及び基板上方の導体によって行及び列ア
クセスを与えることが可能である。
染物がメンブレン１１４下側の空間１３４内に入り込む
ことはない。然しながら、このことは、又、その下側に
存在するエアークッションに起因してメンブレン１１４
をより可撓性の低いものとさせる。従って、この修正し
た可変コンデンサ１１２は前に説明した可変コンデンサ
１２とは異なった電気的特性を呈する。可変コンデンサ
１１２は物理的に接触される感圧装置として使用するの
により適したものである。このようなコンデンサ１１２
からなるアレイは指紋検知器として有用な適用例を有し
ている。指紋検知器として使用されるコンデンサアレイ
の一例は米国特許第５，３２５，４４２号において記載
されている。同様に、本発明に基づいて構成されたアレ
イは、人間の指が接触した場合に指紋イメージを提供す
ることが可能である。指紋の山及び谷の変化する圧力
は、逐次的な行走査及び列検知を使用してアレイ位置に
おける孤立されたコンデンサの値を読取ることによって
検知することが可能である。各可変コンデンサ位置にお
いて読取イネーブルトランジスタを設けることが可能で
あり、且つ従来のメモリ製品において使用されるのと同
様の態様で基板及び基板上方の導体によって行及び列ア
クセスを与えることが可能である。
【００２２】本発明の好適な可変コンデンサ実施例１２
及び１１２は、例えば、振動センサー、加速度計、圧力
センサー、音響変換器を包含する種々の適用場面におい
て使用することが可能である。本発明の可変コンデンサ
のこのような殆どの適用場面は、可変コンデンサによっ
て発生される信号の増幅を必要とする。図１２を参照す
ると、本発明の可変コンデンサと同一の半導体基板上に
形成されている集積回路の要素を有する簡単化した回路
２００について説明する。回路２００は参照符号Ｃv に
よって示される可変コンデンサの容量値変動と共に変化
する電圧信号を検知し且つ増幅することを可能とさせ
る。可変コンデンサＣv は正電圧供給源Ｖと接地接続と
の間において固定値コンデンサＣf と直列に接続してい
る。検知ノード２０１が可変コンデンサＣv と固定コン
デンサＣf との間の接続部において画定されている。検
知ノード２０１上の信号は高利得増幅器２０３によって
増幅され、動作期間中に可変コンデンサＣv の容量値に
おける変動変化を反映する出力２０５を発生する。該出
力２０５は特定の適用場面に依存した形態とされるその
他の回路（不図示）へ付与される。
及び１１２は、例えば、振動センサー、加速度計、圧力
センサー、音響変換器を包含する種々の適用場面におい
て使用することが可能である。本発明の可変コンデンサ
のこのような殆どの適用場面は、可変コンデンサによっ
て発生される信号の増幅を必要とする。図１２を参照す
ると、本発明の可変コンデンサと同一の半導体基板上に
形成されている集積回路の要素を有する簡単化した回路
２００について説明する。回路２００は参照符号Ｃv に
よって示される可変コンデンサの容量値変動と共に変化
する電圧信号を検知し且つ増幅することを可能とさせ
る。可変コンデンサＣv は正電圧供給源Ｖと接地接続と
の間において固定値コンデンサＣf と直列に接続してい
る。検知ノード２０１が可変コンデンサＣv と固定コン
デンサＣf との間の接続部において画定されている。検
知ノード２０１上の信号は高利得増幅器２０３によって
増幅され、動作期間中に可変コンデンサＣv の容量値に
おける変動変化を反映する出力２０５を発生する。該出
力２０５は特定の適用場面に依存した形態とされるその
他の回路（不図示）へ付与される。
【００２３】理解されるように、本発明の可変コンデサ
を従来の集積回路装置の一部として集積化することは従
来の半導体処理技術を使用して容易に達成される。図１
３を参照すると、集積回路装置３００の一部が示されて
おり、その場合に、適宜のコンタクトが前に説明したも
のと同様の可変コンデンサの１実施例に対して形成され
ている。この例においては、基板３２４は軽度にドープ
したＰ型であり且つコンデンサプレート３１８と接触す
るＮ＋ドープ領域３０４を有しており、コンデンサプレ
ート３１８は絶縁層３２８における開口を介して延在す
る接続部分を有している。Ｎ＋領域３０４は装置３００
における接地線接続を画定することが可能である。第二
レベル金属層において好適に形成されている導体３０６
は、絶縁層３３０における開口を介してコンデンサプレ
ート３２０の上表面と接触するために使用されている。
従来のパッシベーション層３０２が該装置を被覆してい
る。図１３におけるコンデンサプレート３１８及び３２
０は、図１の実施例の周辺部３２を超えて延在する図１
の修正した導体１８及び２０の延長部とすることが可能
である。当業者によって理解されるように、図１３に示
した相互接続方法は、例えば装置３００のような集積回
路装置における可変コンデンサプレートへのコンタクト
即ち接触を形成するために使用することが可能な種々の
異なる技術のうちの単に１つに過ぎないものである。
を従来の集積回路装置の一部として集積化することは従
来の半導体処理技術を使用して容易に達成される。図１
３を参照すると、集積回路装置３００の一部が示されて
おり、その場合に、適宜のコンタクトが前に説明したも
のと同様の可変コンデンサの１実施例に対して形成され
ている。この例においては、基板３２４は軽度にドープ
したＰ型であり且つコンデンサプレート３１８と接触す
るＮ＋ドープ領域３０４を有しており、コンデンサプレ
ート３１８は絶縁層３２８における開口を介して延在す
る接続部分を有している。Ｎ＋領域３０４は装置３００
における接地線接続を画定することが可能である。第二
レベル金属層において好適に形成されている導体３０６
は、絶縁層３３０における開口を介してコンデンサプレ
ート３２０の上表面と接触するために使用されている。
従来のパッシベーション層３０２が該装置を被覆してい
る。図１３におけるコンデンサプレート３１８及び３２
０は、図１の実施例の周辺部３２を超えて延在する図１
の修正した導体１８及び２０の延長部とすることが可能
である。当業者によって理解されるように、図１３に示
した相互接続方法は、例えば装置３００のような集積回
路装置における可変コンデンサプレートへのコンタクト
即ち接触を形成するために使用することが可能な種々の
異なる技術のうちの単に１つに過ぎないものである。
【００２４】以上、本発明の具体的実施の態様について
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
詳細に説明したが、本発明は、これら具体例にのみ制限
されるべきものではなく、本発明の技術的範囲を逸脱す
ることなしに種々の変形が可能であることは勿論であ
る。
【図１】 本発明の１実施例に基づく半導体装置におけ
る可変コンデンサを示した概略平面図であって、該構成
体の下側に存在する特徴を示すために可変コンデンサの
上表面部分において切欠部を有している概略平面図。
る可変コンデンサを示した概略平面図であって、該構成
体の下側に存在する特徴を示すために可変コンデンサの
上表面部分において切欠部を有している概略平面図。
【図２】 可撓性メンブレンがその屈曲されていない位
置において示されている図１における２−２断面に沿っ
てとった図１に示した可変コンデンサの概略断面図。
置において示されている図１における２−２断面に沿っ
てとった図１に示した可変コンデンサの概略断面図。
【図２Ａ】 可撓性メンブレンが完全に屈曲した位置に
ある状態を示した図２と同様の概略断面図。
ある状態を示した図２と同様の概略断面図。
【図３】 図１における３−３断面に沿ってとった図１
に示した可変コンデンサの概略断面図。
に示した可変コンデンサの概略断面図。
【図３Ａ】 本発明に基づく処理変動から発生する僅か
に変化した構成体を示している図３と同様の概略断面
図。
に変化した構成体を示している図３と同様の概略断面
図。
【図４】 本発明の１実施例に基づいて装置を製造する
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
【図５】 本発明の１実施例に基づいて装置を製造する
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
【図６】 本発明の１実施例に基づいて装置を製造する
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
【図７】 本発明の１実施例に基づいて装置を製造する
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
【図８】 本発明の１実施例に基づいて装置を製造する
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
【図９】 本発明の１実施例に基づいて装置を製造する
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
プロセスにおける１つの段階における構成体を示した概
略断面図。
【図１０】 本発明の別の実施例に基づく半導体装置に
おける可変コンデンサを示した概略平面図であって、点
線で表面下側の特徴を示した概略平面図。
おける可変コンデンサを示した概略平面図であって、点
線で表面下側の特徴を示した概略平面図。
【図１１】 図１０における１１−１１断面に沿ってと
った図１０に示した可変コンデンサの一部の概略断面
図。
った図１０に示した可変コンデンサの一部の概略断面
図。
【図１２】 本発明の可変コンデンサの容量における変
動を検知するための回路を示した概略回路図。
動を検知するための回路を示した概略回路図。
【図１３】 本発明の可変コンデンサが装置のその他の
回路要素と集積化されている半導体装置においてコンデ
ンサプレート延長部への接続を示したコンデンサプレー
ト延長部を介しての概略断面図。
回路要素と集積化されている半導体装置においてコンデ
ンサプレート延長部への接続を示したコンデンサプレー
ト延長部を介しての概略断面図。
１０ 半導体装置の一部 １２ 可変コンデンサ １４ 可撓性メンブレン １６ 切欠部 １８ 第一長尺導体 ２０ 第二長尺導体 ２２ ギャップ ２４ 半導体基板 ２６ 上表面 ２８ 第一絶縁層 ３０ 第二絶縁層 ３２ 周辺部分 ３４ キャビティ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アレキサンダー カルニツキー アメリカ合衆国， カリフォルニア 94116， サン フランシスコ， フォー ティーサード アベニュー 2601， ナン バー 204 (72)発明者 アラン クレイマー アメリカ合衆国， カリフォルニア 94708， バークレー， ヒルデイル ア ベニュー 705 (72)発明者 ビト ファッブリツィオ アメリカ合衆国， カリフォルニア 94530， エル セッリト， ソースベイ ロード 8639 (72)発明者 ジオバッニ ゴッジーニ アメリカ合衆国， カリフォルニア 94709， バークレー， エムエル ケイ エムジー ジュニア バーシティー ウエ イ 1508 (72)発明者 ブサン グプタ アメリカ合衆国， カリフォルニア 94306， パロ アルト， アシュトン アベニュー 640 (72)発明者 マルコ サバティーニ アメリカ合衆国， カリフォルニア 94709， バークレー， スプルース ス トリート 1743
Claims (20)
- 【請求項１】 半導体装置の一部として形成されている
可変コンデンサにおいて、 （ａ）半導体基板、 （ｂ）前記半導体基板によって支持されている絶縁層、 （ｃ）前記可変コンデンサの第一プレートを画定する前
記絶縁層上に配設されている第一導体、 （ｄ）前記絶縁層上に配設されており前記可変コンデン
サの第二プレートを画定する第二導体であって、前記第
一導体との間にギャップを画定するために前記第一導体
から離隔されている第二導体、 （ｅ）前記半導体基板によってその周辺部が支持されて
いる可撓性メンブレンであって、誘電体物質を有してお
り且つ前記可変コンデンサの容量を変化させるために前
記第一及び第二導体の間のギャップ内へ延在し且つ移動
可能な部分を有する可撓性メンブレン、を有することを
特徴とする可変コンデンサ。 - 【請求項２】 請求項１において、更に、前記半導体基
板上に形成されている集積回路の要素に対して前記第一
及び第二導体を接続させるためのコンタクトを有してい
ることを特徴とする可変コンデンサ。 - 【請求項３】 請求項１において、前記第一及び第二導
体が約０. ５乃至３μｍの厚さを有していることを特徴
とする可変コンデンサ。 - 【請求項４】 請求項１において、前記可撓性メンブレ
ンが、基本的に、窒化シリコンから構成されていること
を特徴とする可変コンデンサ。 - 【請求項５】 請求項１において、前記可撓性メンブレ
ンが、基本的に、ポリイミドから構成されていることを
特徴とする可変コンデンサ。 - 【請求項６】 半導体装置を形成するために積層構成体
を構築することによって可変コンデンサを製造する方法
において、 （ａ）前記構成体に対するベースとして半導体基板を用
意し、 （ｂ）前記半導体基板の上に第一絶縁層を形成し、 （ｃ）前記第一絶縁層上に導電層を付着形成し、 （ｄ）前記導電層をパターン形成して前記構成体上に第
一導体及び第二導体を形成し、尚前記パターン形成は前
記第一及び第二導体の間にギャップを画定し、 （ｅ）前記構成体の上に第二絶縁層を形成し、 （ｆ）前記第二絶縁層の上に第三絶縁層を形成し、 （ｇ）前記第三絶縁層の上側に存在し前記構成体の上に
メンブレンを形成し、尚前記メンブレンは部分的に前記
ギャップ内へ延在するビーム部分を有しており、 （ｈ）前記メンブレンの一部を選択的にエッチングして
前記第三絶縁層の一部を露出させるポートを形成し、 （ｉ）前記ポートを介して酸を導入させることによって
前記メンブレンの一部の下側の前記第三絶縁層を横方向
にエッチングし、前記エッチングが前記第一及び第二導
体の間の前記ギャップ内の前記第三絶縁層を除去し、従
って前記ギャップ内にキャビティが形成され、それによ
り前記メンブレンの前記ビーム部分が前記ギャップ内を
移動可能である、上記各ステップを有することを特徴と
する方法。 - 【請求項７】 請求項６において、更に、 （ａ）前記構成体上にメンブレンを形成するステップの
前に前記第三絶縁層の一部を選択的にエッチング除去し
て前記第一及び第二導体を被覆する前記第三絶縁層の領
域を残存させる、上記ステップを有することを特徴とす
る方法。 - 【請求項８】 請求項６において、更に、 （ａ）前記第一導体を前記半導体装置における集積回路
の要素へ接続させ、 （ｂ）前記第二導体を前記半導体装置内の集積回路の要
素へ接続させる、上記各ステップを有することを特徴と
する方法。 - 【請求項９】 請求項６において、更に、 （ａ）前記メンブレンの選択した部分の上に誘電体層を
形成し、前記誘電体層が前記ポートを被覆する、上記ス
テップを有することを特徴とする方法。 - 【請求項１０】 請求項６において、前記導電層をパタ
ーン形成するステップが、前記導電層の選択した部分を
異方性エッチングすることを特徴とする方法。 - 【請求項１１】 可変コンデンサを有する半導体装置に
おいて、 （ａ）半導体基板、 （ｂ）前記半導体基板によって支持されており前記可変
コンデンサの第一プレートを画定する第一導体、 （ｃ）前記半導体基板によって支持されており前記可変
コンデンサの第二プレートを画定する第二導体であっ
て、前記第一導体から離隔されており前記第一導体との
間にギャップを画定している第二導体、 （ｄ）外部刺激に応答して前記ギャップ内へ及び前記ギ
ャップ内において移動可能な誘電体物質からなるビーム
であって、前記ビームの運動が前記可変コンデンサの容
量変化を発生させる、を有することを特徴とする半導体
装置。 - 【請求項１２】 請求項１１において、更に、 （ａ）前記ビームへ接続している可撓性メンブレンであ
って、前記半導体基板によってその周辺部が支持されて
いる可撓性メンブレン、 （ｂ）前記第一及び第二導体を前記半導体基板上に形成
した集積回路の要素へ接続させるコンタクト、を有する
ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項１３】 請求項１２において、前記可撓性メン
ブレンが一つ又はそれ以上のポートを画定する部分を有
していることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項１４】 請求項１３において、前記ポートが前
記第一及び第二導体の上側に存在していることを特徴と
する半導体装置。 - 【請求項１５】 請求項１３において、前記ポートが前
記第一及び第二導体の上方から除去され且つ前記可変コ
ンデンサの周辺部に位置されていることを特徴とする半
導体装置。 - 【請求項１６】 請求項１５において、更に、前記可撓
性メンブレンの選択した部分の上に形成されている誘電
体層を有しており、前記誘電体層が前記可撓性メンブレ
ンによって画定されているポートを被覆していることを
特徴とする半導体装置。 - 【請求項１７】 請求項１６において、前記誘電体層
が、基本的に、従来のガラスパッシベーション物質から
構成されていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項１８】 請求項１６において、前記誘電体層
が、基本的に、ポリイミドから構成されていることを特
徴とする半導体装置。 - 【請求項１９】 請求項１２において、前記第一及び第
二導体が前記可撓性メンブレンの周辺部を超えて、前記
半導体基板上の前記可変コンデンサと一体的に形成され
ている集積回路の要素とのコンタクト点へ延在している
ことを特徴とする半導体装置。 - 【請求項２０】 請求項１１において、更に、 （ａ）前記可変コンデンサと直列接続している固定コン
デンサ、 （ｂ）前記固定コンデンサと前記可変コンデンサとの間
の接続部において画定されている検知ノード、 （ｃ）前記検知ノードへ接続している高利得増幅器であ
って、動作期間中に前記可変コンデンサの容量変化を反
映する出力を発生することが可能な増幅器、を有するこ
とを特徴とする半導体装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US09/6269 | 1998-01-13 | ||
| US09/006,269 US5982608A (en) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | Semiconductor variable capacitor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11261015A true JPH11261015A (ja) | 1999-09-24 |
| JP4602494B2 JP4602494B2 (ja) | 2010-12-22 |
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