JPH11260767A - Cutting table of dicing apparatus - Google Patents
Cutting table of dicing apparatusInfo
- Publication number
- JPH11260767A JPH11260767A JP6533998A JP6533998A JPH11260767A JP H11260767 A JPH11260767 A JP H11260767A JP 6533998 A JP6533998 A JP 6533998A JP 6533998 A JP6533998 A JP 6533998A JP H11260767 A JPH11260767 A JP H11260767A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cutting
- table base
- porous member
- work
- cutting table
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Jigs For Machine Tools (AREA)
- Dicing (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はダイシング装置のカ
ッティングテーブルに係り、特にダイシング装置で半導
体ウェーハをダイス状に切断する際に半導体ウェーハを
保持するカッティングテーブルに関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a cutting table for a dicing apparatus, and more particularly to a cutting table for holding a semiconductor wafer when the semiconductor wafer is cut into dice by the dicing apparatus.
【0002】[0002]
【従来の技術】ダイシング装置は、切断刃(ブレード)
を高速回転させて半導体ウェーハ(ワーク)をダイス状
に切断する装置である。前記ワークは接着シートに接着
され、この接着シートをカッティングテーブルで吸着す
ることにより、ワークが接着シートを介してカッティン
グテーブルに保持される。2. Description of the Related Art A dicing apparatus includes a cutting blade.
Is a device for rotating a semiconductor wafer (work) into a dice by rotating at a high speed. The work is bonded to the adhesive sheet, and the work is held on the cutting table via the adhesive sheet by adsorbing the adhesive sheet on the cutting table.
【0003】従来のカッティングテーブルは、SUS製
のテーブルベースにセラミック製の多孔質部材を接着す
ることにより構成されている。この多孔質部材によって
前記接着シートが吸着されて、ワークがカッティングテ
ーブルに保持される。カッティングテーブルに保持され
たワークは、接着シートと共に前記ブレードによって切
断される。A conventional cutting table is constructed by bonding a ceramic porous member to a SUS table base. The adhesive sheet is adsorbed by the porous member, and the work is held on the cutting table. The work held on the cutting table is cut by the blade together with the adhesive sheet.
【0004】なお、切断を開始するにあたり、ブレード
の基準位置を設定するためのコンタクトカッターセット
が予め行われる。このコンタクトカッターセットは、テ
ーブルベースにブレードを接触させて導通させることに
より、その時のブレードの位置を基準位置として設定す
る作業であり、この基準位置に基づいてブレードの切込
量が設定される。When starting the cutting, a contact cutter set for setting a reference position of the blade is performed in advance. This contact cutter set is an operation of setting a blade position at that time as a reference position by bringing the blade into contact with a table base and conducting the blade, and the cutting amount of the blade is set based on the reference position.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のカッティングテーブルを使用すると、ブレードの切
込量を一定に設定しても、実際の切込量が変動して切断
不足部分が発生する場合があるので、ワークの切断精度
が悪いという欠点がある。本発明はこのような事情に鑑
みてなされたもので、ワークの切断精度を向上させるこ
とができるダイシング装置のカッティングテーブルを提
供する。However, when the conventional cutting table is used, even when the cutting amount of the blade is set to a constant value, the actual cutting amount may fluctuate and a shortage of cutting may occur. Therefore, there is a disadvantage that the cutting accuracy of the work is poor. The present invention has been made in view of such circumstances, and provides a cutting table of a dicing apparatus that can improve the cutting accuracy of a workpiece.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は、前記目的を達
成するために、切断刃を回転させてワークを所定の形状
に切断するダイシング装置に用いられ、前記ワークが接
着された接着シートを吸着することにより、ワークを接
着シートを介して保持するカッティングテーブルにおい
て、前記カッティングテーブルはトレイ状のテーブルベ
ース部材と、該テーブルベース部材に取り付けられて前
記接着シートを吸着する多孔質部材とから構成されると
共に、前記テーブルベースと多孔質部材とは線膨張係数
の等しい材料で製造されていることを特徴としている。According to the present invention, there is provided a dicing apparatus for cutting a work into a predetermined shape by rotating a cutting blade. In a cutting table that holds a work via an adhesive sheet by suction, the cutting table includes a tray-shaped table base member and a porous member attached to the table base member and sucking the adhesive sheet. The table base and the porous member are made of materials having the same linear expansion coefficient.
【0007】本発明は、カッティングテーブルのバイメ
タル効果に起因する多孔質部材の撓みによって切込量が
変動することを確認し、この多孔質部材の撓みを防止す
るために、テーブルベースと多孔質部材とを線膨張係数
の等しい材料で製造した。これにより、本発明は、前記
バイメタル効果に起因する多孔質部材の撓みを抑制する
ことができるので、ワークの切断精度を向上させること
ができる。[0007] The present invention confirms that the cutting amount fluctuates due to the bending of the porous member due to the bimetal effect of the cutting table, and to prevent the bending of the porous member, a table base and a porous member are provided. And were made of materials having the same linear expansion coefficient. Thus, according to the present invention, the bending of the porous member due to the bimetal effect can be suppressed, so that the cutting accuracy of the work can be improved.
【0008】また、多孔質部材の撓みを抑制するために
は、テーブルベース及び多孔質部材を線膨張係数の小さ
い材料で、且つ、耐腐食性のある材料で製造することが
好ましい。このため、本発明では、テーブルベース及び
多孔質部材をセラミックで製造している。これにより、
ワークの切断精度を更に向上させることができる。更
に、本発明は、テーブルベース部材の一部に導電性セラ
ミックを焼結し、この導電性セラミックに切断刃を接触
させて導通させることにより、切断刃の基準位置を設定
している。これにより、本発明のカッティングテーブル
は、コンタクトカッターセットを支障なく実施すること
ができる。In order to suppress the bending of the porous member, it is preferable that the table base and the porous member are made of a material having a small coefficient of linear expansion and a material having corrosion resistance. For this reason, in the present invention, the table base and the porous member are made of ceramic. This allows
The cutting accuracy of the work can be further improved. Further, according to the present invention, the reference position of the cutting blade is set by sintering the conductive ceramic on a part of the table base member and bringing the cutting blade into contact with the conductive ceramic to conduct electricity. Thereby, the cutting table of the present invention can implement the contact cutter set without any trouble.
【0009】[0009]
【発明の実施の形態】以下添付図面に従って本発明に係
るダイシング装置のカッティングテーブルについて詳説
する。図1は、ダイシング装置10の斜視図、図2は本
発明の実施の形態に係るカッティングテーブル12の断
面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A cutting table of a dicing apparatus according to the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a dicing apparatus 10, and FIG. 2 is a sectional view of a cutting table 12 according to an embodiment of the present invention.
【0010】これらの図に示すダイシング装置10は、
カッティングテーブル12に接着シート14を介して保
持されたワーク16をファインアライメントし、その
後、高速回転するブレード18でワーク16をダイス状
に切断する装置である。そして、ワーク16の切断時に
は、ワーク16の加工精度を維持するために、一対の洗
浄水噴射ノズル20、20及び切削水噴射ノズル22か
らワーク切断中のブレード18の両面に向けて洗浄水、
切削水を吹き付けてブレード18の冷却、洗浄を実施し
ている。なお、図1上で符号24は前記洗浄水噴射ノズ
ル20、20に洗浄水を供給するチューブであり、符号
26は前記切削水噴射ノズル22に切削水を供給するチ
ューブである。また、符号28は前記ブレード18の駆
動モータであり、符号30はフランジカバーである。[0010] The dicing apparatus 10 shown in these figures comprises:
This is a device that finely aligns the work 16 held on the cutting table 12 via the adhesive sheet 14 and then cuts the work 16 into a dice with a blade 18 that rotates at a high speed. When cutting the work 16, in order to maintain the processing accuracy of the work 16, the cleaning water is directed from the pair of cleaning water injection nozzles 20, 20 and the cutting water injection nozzle 22 toward both surfaces of the blade 18 during cutting of the work,
The blade 18 is cooled and washed by spraying cutting water. In FIG. 1, reference numeral 24 denotes a tube that supplies cleaning water to the cleaning water injection nozzles 20, 20, and reference numeral 26 denotes a tube that supplies cutting water to the cutting water injection nozzle 22. Reference numeral 28 denotes a drive motor for the blade 18, and reference numeral 30 denotes a flange cover.
【0011】前記カッティングテーブル12は図2に示
すように、テーブルベース32と多孔質部材34とから
構成される。前記テーブルベース32は、セラミック製
でトレイ状に形成されており、このテーブルベース32
の凹部に前記多孔質部材34が所定の間隙をもってガラ
ス溶着されている。また、テーブルベース32の中央部
には通気孔36が穿孔され、この通気孔36に図示しな
い吸引装置が接続されている。したがって、前記吸引装
置が駆動されると、前記接着シート14が多孔質部材3
4に吸着されることにより、ワーク16がカッティング
テーブル12に保持される。The cutting table 12 comprises a table base 32 and a porous member 34, as shown in FIG. The table base 32 is made of ceramic and formed in a tray shape.
The porous member 34 is glass-welded to the concave portion with a predetermined gap. A vent 36 is formed in the center of the table base 32, and a suction device (not shown) is connected to the vent 36. Therefore, when the suction device is driven, the adhesive sheet 14 is
The work 16 is held on the cutting table 12 by being sucked to the work table 4.
【0012】多孔質部材34は、セラミック製のテーブ
ルベース32と線膨張係数(7.4×10-6/℃)が等
しくなるようにセラミックで製造されている。これによ
り、切断時に生じる熱でカッティングテーブル12が加
温されても、カッティングテーブル12にバイメタル効
果は生じないので、バイメタル効果に起因する多孔質部
材34の撓みを抑制することができる。The porous member 34 is made of ceramic so that the linear expansion coefficient (7.4 × 10 −6 / ° C.) is equal to that of the ceramic table base 32. Thereby, even if the cutting table 12 is heated by the heat generated at the time of cutting, the bimetal effect does not occur in the cutting table 12, so that the bending of the porous member 34 due to the bimetal effect can be suppressed.
【0013】ところで、前記テーブルベース32には導
電性セラミック38が焼結されている。この導電性セラ
ミック38は、テーブルベース32の上縁の一部に形成
されると共に、コンタクトカッターセットを行うための
回路に接続されている。この回路は、導電性セラミック
38にブレード18が接触すると閉じられ、閉じられた
時のブレード18の位置が基準位置として設定される。
ブレード18によるワーク16の切込量は、前記基準位
置に基づいて設定される。On the table base 32, a conductive ceramic 38 is sintered. The conductive ceramic 38 is formed on a part of the upper edge of the table base 32 and is connected to a circuit for performing a contact cutter set. This circuit is closed when the blade 18 contacts the conductive ceramic 38, and the position of the blade 18 when closed is set as a reference position.
The cutting amount of the work 16 by the blade 18 is set based on the reference position.
【0014】このようなカッティングテーブル12は、
以下の手順によって製造される。まず、テーブルベース
32に多孔質部材34をガラス溶着し、次に、テーブル
ベース32に導電性セラミック38を焼結する。次い
で、カッティングテーブル12の表面(多孔質部材34
の表面と導電性セラミック38の表面)を研磨して平坦
に加工する。この手順によって、カッティングテーブル
12が製造される。[0014] Such a cutting table 12
It is manufactured by the following procedure. First, the porous member 34 is glass-welded to the table base 32, and then the conductive ceramic 38 is sintered to the table base 32. Next, the surface of the cutting table 12 (the porous member 34)
And the surface of the conductive ceramic 38) are polished and flattened. By this procedure, the cutting table 12 is manufactured.
【0015】次に、前記の如く構成されたカッティング
テーブル12の効果について説明する。まず、本実施の
形態のカッティングテーブル12は、テーブルベース3
2と多孔質部材34とを線膨張係数の等しい材料(セラ
ミック)で製造したので、バイメタル効果に起因する多
孔質部材34の撓みを抑制することができる。よって、
このカッティングテーブル12を使用すると、ワーク1
6の切断精度を向上させることができる。Next, the effects of the cutting table 12 configured as described above will be described. First, the cutting table 12 of the present embodiment has a table base 3
2 and the porous member 34 are made of a material (ceramic) having the same linear expansion coefficient, so that the bending of the porous member 34 due to the bimetal effect can be suppressed. Therefore,
When this cutting table 12 is used, the work 1
6 can improve the cutting accuracy.
【0016】また、テーブルベース32と多孔質部材3
4とを、線膨張係数が小さく、且つ、耐腐食性のあるセ
ラミックで製造したので、ワークの切断精度を更に向上
させることができ、その切断精度を安定して維持するこ
とができる。更に、前記カッティングテーブル12で
は、テーブルベース32の一部に導電性セラミック38
を焼結したので、コンタクトカッターセットを支障なく
実施することができる。The table base 32 and the porous member 3
Since No. 4 is manufactured from a ceramic having a small coefficient of linear expansion and corrosion resistance, the cutting accuracy of the work can be further improved, and the cutting accuracy can be stably maintained. Further, in the cutting table 12, a conductive ceramic 38 is provided on a part of the table base 32.
, The contact cutter set can be implemented without any trouble.
【0017】なお、本実施の形態では、テーブルベース
32及び多孔質部材34をセラミックで製造したが、こ
れに限られるものではなく、例えば、エンジニアリング
プラスチック樹脂のような線膨張係数の小さい材料で、
且つ、耐腐食性のある材料であれば適用することができ
る。In this embodiment, the table base 32 and the porous member 34 are made of ceramic. However, the present invention is not limited to this. For example, a material having a small linear expansion coefficient such as engineering plastic resin may be used.
In addition, any material having corrosion resistance can be used.
【0018】[0018]
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るダイシ
ング装置のカッティングテーブルによれば、テーブルベ
ースと多孔質部材とを線膨張係数の等しい材料で製造し
たので、ワークの切断精度を向上させることができる。
また、本発明は、テーブルベース及び多孔質部材をセラ
ミックで製造したので、ワークの切断精度を更に向上さ
せることができる。As described above, according to the cutting table of the dicing apparatus according to the present invention, since the table base and the porous member are made of materials having the same linear expansion coefficient, the cutting accuracy of the work can be improved. Can be.
Further, in the present invention, since the table base and the porous member are made of ceramic, the cutting accuracy of the work can be further improved.
【0019】更に、本発明は、テーブルベース部材の一
部に導電性セラミックを焼結したので、コンタクトカッ
ターセットを支障なく実施することができる。Further, according to the present invention, since the conductive ceramic is sintered on a part of the table base member, the contact cutter set can be implemented without any trouble.
【図1】本発明の実施の形態に係るカッティングテーブ
ルが適用されたダイシング装置の斜視図FIG. 1 is a perspective view of a dicing apparatus to which a cutting table according to an embodiment of the present invention is applied.
【図2】本発明の実施の形態に係るカッティングテーブ
ルの断面図FIG. 2 is a cross-sectional view of the cutting table according to the embodiment of the present invention.
10…ダイシング装置 12…カッティングテーブル 14…接着シート 16…ワーク 18…ブレード 32…テーブルベース 34…多孔質部材 38…導電性セラミック DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Dicing apparatus 12 ... Cutting table 14 ... Adhesive sheet 16 ... Work 18 ... Blade 32 ... Table base 34 ... Porous member 38 ... Conductive ceramic
Claims (3)
切断するダイシング装置に用いられ、前記ワークが接着
された接着シートを吸着することにより、ワークを接着
シートを介して保持するカッティングテーブルにおい
て、 前記カッティングテーブルはトレイ状のテーブルベース
部材と、該テーブルベース部材に取り付けられて前記接
着シートを吸着する多孔質部材とから構成されると共
に、前記テーブルベースと多孔質部材とは線膨張係数の
等しい材料で製造されていることを特徴とするダイシン
グ装置のカッティングテーブル。1. A cutting table which is used in a dicing apparatus which cuts a work into a predetermined shape by rotating a cutting blade, and which holds the work via the adhesive sheet by sucking an adhesive sheet to which the work is bonded. In the above, the cutting table is composed of a tray-shaped table base member and a porous member attached to the table base member and adsorbing the adhesive sheet, and the table base and the porous member have a linear expansion coefficient. A cutting table for a dicing apparatus, wherein the cutting table is made of a material having the same size.
とは、セラミック製であることを特徴とする請求項1記
載のダイシング装置のカッティングテーブル。2. The cutting table according to claim 1, wherein said table base member and said porous member are made of ceramic.
セラミックが焼結され、該導電性セラミックに前記切断
刃を接触させて導通させることにより該切断刃の基準位
置を設定することを特徴とする請求項2記載のダイシン
グ装置のカッティングテーブル。3. A conductive ceramic is sintered on a part of the table base member, and the cutting blade is brought into contact with the conductive ceramic to make it conductive, thereby setting a reference position of the cutting blade. The cutting table of the dicing apparatus according to claim 2, wherein
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6533998A JPH11260767A (en) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | Cutting table of dicing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6533998A JPH11260767A (en) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | Cutting table of dicing apparatus |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11260767A true JPH11260767A (en) | 1999-09-24 |
Family
ID=13284098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6533998A Pending JPH11260767A (en) | 1998-03-16 | 1998-03-16 | Cutting table of dicing apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11260767A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007114433A1 (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-11 | Miraial Co., Ltd. | Method for processing chip of semiconductor wafer |
-
1998
- 1998-03-16 JP JP6533998A patent/JPH11260767A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007114433A1 (en) * | 2006-04-04 | 2007-10-11 | Miraial Co., Ltd. | Method for processing chip of semiconductor wafer |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US20040092108A1 (en) | Method of processing a semiconductor wafer | |
JP4895594B2 (en) | Substrate cutting method | |
US11101162B2 (en) | Chuck table, cutting apparatus, and method correcting chuck table | |
US20020178883A1 (en) | Semiconductor wafer cutting method | |
JP2008254132A (en) | Chuck table | |
JP2000126959A (en) | Chuck table for work piece material | |
JPH11260767A (en) | Cutting table of dicing apparatus | |
JP3921354B2 (en) | Cutting apparatus and cutting method | |
JP2019186488A (en) | Wafer processing method | |
JPH0976088A (en) | Work sucking plate | |
JP5175692B2 (en) | Support apparatus, support method, dicing apparatus, and dicing method | |
JP7463036B2 (en) | Sheet sticking method and sheet sticking device | |
JP3736027B2 (en) | Manufacturing method of semiconductor device using adhesive sheet for semiconductor | |
JP2007290046A (en) | Cutting tool | |
JPH11274110A (en) | Cutting method and apparatus for semiconductor wafer | |
JP3486154B2 (en) | Cutting device and cutting method | |
JP7519790B2 (en) | Holding table, processing device, and spinner cleaning unit | |
JPH11345787A (en) | Dicing device | |
JP2555228Y2 (en) | Dicing equipment | |
KR20040009802A (en) | A package sawing apparatus having rubber plate for fixing frame that having bended type mount surface | |
JP2019201018A (en) | Processing method of wafer | |
JP2010171067A (en) | Cutting device | |
JPH11176772A (en) | Precut method | |
JP7436250B2 (en) | Holding table, processing equipment, and spinner cleaning unit | |
JP5288785B2 (en) | Wafer processing equipment |