JP2555228Y2 - Dicing equipment - Google Patents

Dicing equipment

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JP2555228Y2
JP2555228Y2 JP1992066548U JP6654892U JP2555228Y2 JP 2555228 Y2 JP2555228 Y2 JP 2555228Y2 JP 1992066548 U JP1992066548 U JP 1992066548U JP 6654892 U JP6654892 U JP 6654892U JP 2555228 Y2 JP2555228 Y2 JP 2555228Y2
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JP
Japan
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wafer
cutting
blade
work
dicing apparatus
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豊 小林
宏 大房
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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Tokyo Seimitsu Co Ltd
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  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本考案はダイシング装置に係り、
特に半導体ウエハをダイス状に切断するダイシング装置
に関する。
The present invention relates to a dicing apparatus,
More particularly, the present invention relates to a dicing apparatus for cutting a semiconductor wafer into dice.

【0002】[0002]

【従来の技術】ダイシング装置で半導体ウエハ(以下
「ワーク」と称す)をダイス状に切断する場合、シート
上に固着されたワークをこのシートを介してカッティン
グテーブルに真空吸着し、ダイシング装置の切断刃(以
下「ブレード」と称す)で切断する。
2. Description of the Related Art When a semiconductor wafer (hereinafter referred to as "work") is cut into a dice by a dicing apparatus, the work fixed on a sheet is vacuum-sucked to a cutting table via the sheet and cut by the dicing apparatus. Cut with a blade (hereinafter referred to as "blade").

【0003】[0003]

【考案が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
ダイシング装置では、ウエハの切断中に、ウエハ表面上
に蒸着されているAu等の電極接点用導電性材料がブレ
ードの砥粒間に付着すると、その導電性材料が雪だるま
式に成長してブレードの目づまりを発生させ、ブレード
による切断が不能になるという欠点がある。
However, in the conventional dicing apparatus, when a conductive material for electrode contact such as Au deposited on the wafer surface adheres between the abrasive grains of the blade during the cutting of the wafer, There is a disadvantage that the conductive material grows in a snowball manner and causes clogging of the blade, making it impossible to cut by the blade.

【0004】本考案はこのような事情に鑑みてなされた
もので、ブレードの目づまりを防止するダイシング装置
を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of such circumstances, and has as its object to provide a dicing apparatus that prevents clogging of a blade.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本考案は、前記目的を達
成する為に、シート上に固着されたウエハをテーブルに
吸着し、切断刃でダイス状に切断するダイシング装置に
於いて、前記シートと前記テーブルとの間に振動発生手
段を設け、この振動発生手段によって切断中の前記ウエ
ハに、該ウエハの面と直交する方向の振動を与えること
を特徴とする。
According to the present invention, there is provided a dicing apparatus for sucking a wafer fixed on a sheet onto a table and cutting the wafer into a dice with a cutting blade. Vibration generating means is provided between the wafer and the table, and the vibration generating means applies vibration to the wafer being cut in a direction perpendicular to the surface of the wafer.

【0006】[0006]

【作用】本考案によれば、テーブルに取り付けられた振
動発生手段を駆動して、ウエハのチップに悪影響を与え
ない範囲でウエハに振動を与えながら、切断刃でウエハ
をダイス状に切断する。これにより、切断刃の砥粒間に
付着したAu等の電極接点用導電性材料は、ウエハの振
動により雪だるま式に成長する途中で切断刃から剥離さ
れるので、切断刃の目づまりを防止することができる。
According to the present invention, the vibration generating means mounted on the table is driven to vibrate the wafer within a range that does not adversely affect the chips of the wafer, and the wafer is cut into a dice by the cutting blade. As a result, the conductive material for electrode contact such as Au adhered between the abrasive grains of the cutting blade is separated from the cutting blade while growing in a snowball manner due to the vibration of the wafer, thereby preventing the cutting blade from being clogged. Can be.

【0007】[0007]

【実施例】以下添付図面に従って本考案に係るダイシン
グ装置の好ましい実施例について詳説する。図1は、本
考案に係るダイシング装置10の実施例を示す斜視図で
ある。このダイシング装置10は、カッティングテーブ
ル12、及びブレード14等を有している。このカッテ
ィングテーブル12の表面中央部には、円弧状の吸着面
16が形成される。この吸着面16には、シート18上
に固着されたワーク20が図2に示すようにシート18
を介して真空吸着される。前記ワーク20の表面には、
Au等の電極接点用導電性材料が蒸着されており、ま
た、前記シート18は、その周部がフレーム板22によ
って固定されている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the dicing apparatus according to the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a dicing apparatus 10 according to the present invention. The dicing apparatus 10 has a cutting table 12, a blade 14, and the like. An arc-shaped suction surface 16 is formed at the center of the surface of the cutting table 12. A work 20 fixed on the sheet 18 is attached to the suction surface 16 as shown in FIG.
Is adsorbed in vacuum. On the surface of the work 20,
A conductive material for electrode contacts, such as Au, is vapor-deposited, and the periphery of the sheet 18 is fixed by a frame plate 22.

【0008】また、振動発生手段であるピエゾ素子2
4、24…が、前記カッティングテーブル12の表面
で、且つ吸着面16の周部に等間隔で取り付けられてい
る。これらのピエゾ素子24、24…は、各々の超音波
発振面24a、24a…が上方に向けられて、即ち吸着
面16に吸着されたシート18に向けられてカッティン
グテーブル12に埋め込まれている。
Further, a piezo element 2 as a vibration generating means
Are attached at regular intervals on the surface of the cutting table 12 and on the periphery of the suction surface 16. These piezo elements 24, 24... Are embedded in the cutting table 12 with their respective ultrasonic oscillation surfaces 24a, 24a.

【0009】一方、前記ブレード14は、駆動モータ2
6のスピンドル28に固定されており、駆動モータ26
を駆動することにより時計回り方向に高速で回転され
て、ワーク20を所定のダイス状チップに切断すること
ができる。また、ワーク20の切断時には、図示しない
切削水噴射ノズル、及び洗浄水噴射ノズルから噴き出さ
れる切削水、洗浄水によってブレード14の冷却、洗浄
が行われてワーク20の加工精度が維持されている。
On the other hand, the blade 14 is
6 is fixed to the spindle 28, and the drive motor 26
, The workpiece 20 is rotated at a high speed in the clockwise direction, and the workpiece 20 can be cut into predetermined dice-like chips. When the work 20 is cut, the blade 14 is cooled and cleaned by cutting water and cleaning water jetted from a cutting water injection nozzle and a cleaning water injection nozzle (not shown), and the processing accuracy of the work 20 is maintained. .

【0010】次に、前記の如く構成されたダイシング装
置10の作用について説明する。先ず、ワーク20を、
シート18を介してカッティングテーブル12の吸着面
16に吸着する。そして、ワーク20をファインアライ
メントした後、カッティングテーブル12の表面に埋め
込まれたピエゾ素子24、24…を駆動して、ピエゾ素
子24、24…の超音波発振面24a、24a…からシ
ート18に向けて超音波を発振し、シート18を介して
ワーク20をチップに悪影響を与えない範囲で振動させ
る。
Next, the operation of the dicing apparatus 10 configured as described above will be described. First, the work 20 is
It is adsorbed on the adsorption surface 16 of the cutting table 12 via the sheet 18. After the workpiece 20 is finely aligned, the piezo elements 24, 24 embedded in the surface of the cutting table 12 are driven to direct the piezo elements 24, 24,... From the ultrasonic oscillation surfaces 24a, 24a. The work 20 is vibrated via the sheet 18 within a range that does not adversely affect the chip.

【0011】そして、ワーク20を前述したように振動
させながら、ブレード14を時計回り方向に高速で回転
させてワーク20を所定のダイス状チップに切断する。
これにより、ワーク20の切断中にワーク20の砥粒間
に付着したAu等の電極接点用導電性材料は、ワーク2
0の振動により雪だるま式に成長する途中でワーク20
の砥粒間から剥離するようになる。従って、前記導電性
材料によるブレード14の目づまりを防止できるので、
ワーク20の連続切断が可能となる。
Then, while vibrating the work 20 as described above, the blade 14 is rotated at a high speed in a clockwise direction to cut the work 20 into predetermined die-shaped chips.
As a result, the conductive material for electrode contact such as Au adhered between the abrasive grains of the work 20 during the cutting of the work 20 becomes the work 2
Work 20 in the middle of growing snowball by zero vibration
From the abrasive grains. Therefore, clogging of the blade 14 due to the conductive material can be prevented.
The work 20 can be continuously cut.

【0012】[0012]

【考案の効果】以上説明したように本考案に係るダイシ
ング装置によれば、テーブルに取り付けられた振動発生
手段を駆動して、切断中に切断刃の砥粒間に付着したA
u等の電極接点用導電性材料を、ウエハの振動で切断刃
から剥離するようにしたので、切断刃の目づまりを防止
することができる。
As described above, according to the dicing apparatus according to the present invention, the vibration generating means attached to the table is driven so that the A adhered between the abrasive grains of the cutting blade during cutting.
Since the electrode contact conductive material such as u is separated from the cutting blade by the vibration of the wafer, it is possible to prevent the cutting blade from being clogged.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本考案に係るダイシング装置の実施例を示す斜
視図
FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a dicing apparatus according to the present invention.

【図2】ウエハ切断中の実施例を示す断面図FIG. 2 is a cross-sectional view showing an embodiment during wafer cutting.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…ダイシング装置 12…カッティングテーブル 14…ブレード 16…吸着面 18…シート 20…ワーク 24…ピエゾ素子 26…駆動モータ DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Dicing device 12 ... Cutting table 14 ... Blade 16 ... Suction surface 18 ... Sheet 20 ... Work 24 ... Piezo element 26 ... Drive motor

Claims (1)

(57)【実用新案登録請求の範囲】(57) [Scope of request for utility model registration] 【請求項1】 シート上に固着されたウエハをテーブル
に吸着し、切断刃でダイス状に切断するダイシング装置
に於いて、前記シートと前記テーブルとの間に振動発生手段を設
け、この振動発生手段によって切断中の前記ウエハに、
該ウエハの面と直交する方向の振動を与える ことを特徴
とするダイシング装置。
In a dicing apparatus for adsorbing a wafer fixed on a sheet to a table and cutting the wafer into dice with a cutting blade, vibration generating means is provided between the sheet and the table.
In the wafer being cut by the vibration generating means,
A dicing apparatus for applying vibration in a direction perpendicular to the surface of the wafer .
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016209998A (en) * 2016-09-16 2016-12-15 株式会社東京精密 Dicing device and dicing method

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