JPH11260667A

JPH11260667A - 高周波用容量可変素子の製造方法及び高周波用容量可変素子

Info

Publication number: JPH11260667A
Application number: JP5828298A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyuki Masuda; 義行増田; Ryusuke Kita; 隆介喜多; Sakiko Sato; 咲子佐藤; Noboru Otani; 昇大谷
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1998-03-10
Filing date: 1998-03-10
Publication date: 1999-09-24
Anticipated expiration: 2018-03-10
Also published as: JP3599558B2

Abstract

(57)【要約】【課題】セラミック基板上にも容易に形成でき、小型
で、低電圧で容量変化が大きく、１ＧＨｚ以上の周波数
でもキャパシタ特性が劣化しない小型で、かつ低製造コ
ストの高周波用容量可変素子の製造方法を提供するこ
と。【解決手段】下部電極２として低抵抗・非酸化性金属
からなる膜を塗布熱分解法により形成し、下部電極２上
に誘電体薄膜３を塗布熱分解法により形成し、誘電体薄
膜３上に上部電極５として低抵抗・非酸化性金属の単層
又は低抵抗・非酸化性金属／高融点金属／低抵抗・非酸
化性金属からなる積層膜をスパッタリング法又は真空蒸
着法により形成する高周波用容量可変素子の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高周波用容量可変
素子の製造方法又は高周波用容量可変素子に関し、より
詳細には高周波デバイス用キャパシタ等に応用すること
ができ、電圧印加によりその容量を大きく変化させるこ
とが可能な高周波用容量可変素子の製造方法又は高周波
用容量可変素子に関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】従
来、容量可変素子として、（ａ）バリキャップダイオー
ドやバラクタなどのＳｉやＧａＡｓ半導体のｐｎ接合を
用いるもの、（ｂ）バルクの強誘電体に電圧を印加し、
誘電率が減少することを利用した可変コンデンサなどが
ある。しかし、一般に、ＳｉやＧａＡｓの単結晶は、セ
ラミック基板の上にモノリシックな薄膜状に成長させる
ことができないため、上記素子（ａ）は、ＳｉやＧａＡ
ｓの単結晶ウエハから作製することが必要である。よっ
て、セラミック基板上に集積化デバイスとして形成でき
ないという課題がある。

【０００３】また、上記（ｂ）の可変コンデンサとして
は、例えば、特開昭６２−２５９４１７号公報において
提案されているものがある。この可変コンデンサは、図
１０に示すように、バルクの強誘電体１４（厚さ４５μ
ｍ程度）が上下の電極間に挟持された構造であり、下部
電極として下部容量電極１３及び下部バイアス電極１
３’を備え、上部電極として上部容量電極１６及び上部
バイアス電極１６’を備えている。この下部バイアス電
極１３’と下部容量電極１３との間、上部バイアス電極
１６’と上部容量電極１６との間には、直流バイアスを
印加し、これにより強誘電体１４の誘電率を変化させ、
下部バイアス電極１３’と下部容量電極１３との間、上
部バイアス電極１６’と上部容量電極１６との間の容量
を可変とするものである。

【０００４】なお、上記可変コンデンサでは、強誘電体
セラミック粉末をポリビニルアルコールなどの合成樹脂
をバインダーとして、厚さ４５μｍ程度のシート状にし
たものを強誘電体１４として用いている。このように、
（ｂ）の可変コンデンサでは、バルクの強誘電体セラミ
ック材を用いているため、薄膜デバイスとして小型化す
ることが困難であり、強誘電体自体の膜厚が厚いため、
印加する電圧も大きく、低電圧化も困難である。また、
強誘電体を用いているため、１ＧＨｚ以上の周波数では
キャパシタとして動作しない等の欠点がある。

【０００５】一方、常誘電体であるチタン酸ストロンチ
ウム（ＳｒＴｉＯ₃）薄膜の電圧印加による誘電率変化
が報告されているが（A. Walkenhorst et. al., Appl.
Phys. Lett. 60 (1992) 1744）、この場合の誘電率変化
はバルクと比べて小さいという問題がある。また、バル
クのチタン酸ストロンチウムの場合には、大きな誘電率
変化を得ることができるが、このように大きな誘電率変
化を得るためには３０Ｋという低温にする必要があり、
容量可変素子としては応用できないのが現実である。

【０００６】また、このような誘電体薄膜を電極上に形
成するための方法としては、真空蒸着法、スパッタリン
グ法、レーザーアブレーション法等の物理的方法及び有
機金属化合物を出発原料とし、これらを熱分解して誘電
体を得るゾルゲル法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposit
ion）法等の化学的方法が用いられている。このような
薄膜形成法の中で、ゾルゲル法等の塗布熱分解法は、原
子レベルの均質な混合が可能であること、組成制御が容
易で再現性に優れること、常温常圧で大面積の成膜が可
能であること、工業的に低コストであること等の利点か
ら広く利用されている。

【０００７】しかし、ゾルゲル法等の塗布熱分解法で誘
電体薄膜を形成する際には５００℃以上、場合によって
は８００℃以上の熱処理温度を必要とすることがある。
よって、このような温度に耐えられる電極材料、電極構
造が必要になっている。特に、数百ＭＨｚ〜１ＧＨｚ以
上の高周波帯域で使用するデバイス用の電極としては、
Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等の低抵抗金属が望ましいが、Ａｇ、
Ｃｕ等の酸化されやすい金属では上記の熱処理により酸
化されるため電極として不適当である。

【０００８】また、非酸化性金属であるＡｕでは基板と
の密着性を確保するためＡｕ／Ｔｉ等の積層構造が採用
されることがあるが、この構造も上記の熱処理により反
応を起こし電極の凹凸増大を招いてしまうため、高温プ
ロセスには適さない。さらに、Ａｕペーストを使用して
印刷法等により塗布熱分解して電極を形成する方法があ
り、この際のＡｕペーストには密着性や耐熱性等を改善
するために通常ガラス成分が含まれている。よって、誘
電体薄膜を形成する際、あるいは誘電体薄膜上に電極を
形成する際に誘電体材料とＡｕペーストに含まれるガラ
ス成分の界面での反応により、誘電体薄膜の特性が劣化
したり、膜の剥離を生じてしまうという問題を有してい
る。

【０００９】本発明は、上記のような課題を解決するた
めになされたものであって、セラミック基板上にも容易
に低コストで形成でき、小型で、低電圧で大きな容量変
化が得られ、数百ＭＨｚ〜１ＧＨｚ以上の高周波帯域で
もキャパシタ特性が劣化しない低コストの容量可変素子
を提供することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明によれば、下部電
極として非酸化性金属からなる膜を塗布熱分解法により
形成し、前記下部電極上に誘電体薄膜を塗布熱分解法に
より形成し、前記誘電体薄膜上に上部電極として低抵抗
・非酸化性金属の単層又は低抵抗・非酸化性金属／高融
点金属／非酸化性金属からなる積層膜をスパッタリング
法又は真空蒸着法により形成する高周波用容量可変素子
の製造方法が提供される。

【００１１】また、本発明によれば、上記方法により形
成されてなる高周波用容量可変素子が提供される。

【００１２】

【発明の実施の形態】本発明の高周波用容量可変素子の
製造方法において、高周波用容量可変素子は、主として
下部電極、誘電体薄膜及び上部電極をこの順で形成して
構成される。なお、本発明の高周波用容量可変素子は、
基板上に形成されることが好ましい。使用することがで
きる基板としては、特に限定されるものではなく、高周
波での誘電損が小さいもの、例えば、アルミナ等のセラ
ミック基板、ガラス基板、樹脂基板等の絶縁性基板、シ
リコン、ゲルマニウム等の半導体基板及びＧａＡｓ、Ｉ
ｎＧａＡｓ等の化合物半導体基板等を用いることができ
る。なかでも、強度、耐熱性、コスト等の点でセラミッ
ク基板が好ましい。また、本発明に使用することができ
る基板は、その表面にＳｉＮｘ、ＳｉＯ₂等の絶縁膜、
所望の回路を構成する素子やこれらを被覆する層間絶縁
膜、基板上に形成する電極層との密着性を良好にするた
めの接着層（例えば、タンタル、チタン、窒化チタン
等）又はこれらが組み合わされて形成されていてもよ
い。

【００１３】本発明の方法においては、まず、下部電極
として非酸化性金属からなる膜を塗布熱分解法により形
成する。ここで、非酸化性金属としては、一般に電極材
料として使用することができる程度の抵抗値を有し、通
常の電極形成条件で、電極の特性に悪影響を及ぼす酸化
反応が起こらない金属を意味し、例えば、比抵抗が１×
１０^-5Ωｃｍ程度以下、大気中で５００〜９００℃程度
の温度範囲で、１０〜１２０分間程度熱処理した場合
に、ほとんど酸化反応が起こらない材料が挙げられる。
具体的には、金、白金、パラジウム等が挙げられる。な
かでも、高周波領域での使用が可能な容量可変素子を形
成する場合に導体損が少ない金が好ましい。

【００１４】この金属の成膜方法としては、公知の方
法、例えば、電子ビーム蒸着法、スパッタ法等の真空プ
ロセス；印刷法、ＭＯＤ法、ゾルゲル法等の塗布熱分解
法等種々の方法で所望の膜厚に形成することができる
が、低コスト化及び後工程で形成する誘電体薄膜のプロ
セスにおける耐熱性の観点から、塗布熱分解法、なかで
も電極材料のペーストを用いたスクリーン印刷法等の簡
易プロセスが特に好ましい。

【００１５】下部電極の膜厚は、容量可変素子を搭載す
るデバイスの種類により異なるが、例えば１ＧＨｚ以上
の高周波で使用する場合、導体損を低減するための膜厚
として０．５μｍ以上、さらに、０．５〜５μｍ程度が
好ましい。また、上述したように、下部電極と下層との
接着性等を改善するために、後工程での熱処理に耐え得
るものであれば接着層等を下部電極直下に形成してもよ
い。さらに、下部電極の形状は、得ようとする容量、用
途、印加電圧等により適宜調整することができる。

【００１６】下部電極は、上記金属を成膜した後、例え
ばフォトリソグラフィ及びエッチング法、リフトオフ法
等により所望の形状にパターニングすることができる。
また下部電極を形成した後、後述する誘電体薄膜を形成
する前に、下部電極表面をＨＦを含む溶液で処理するこ
とが好ましい。ここでの処理は、下部電極表面のガラス
成分等のバインダー成分を除去し、後に形成する誘電体
膜と電極との電気的なコンタクトを良好にするために行
うものであり、電気的なコンタクトを良好にすることが
できる限り、その方法は特に限定されるものではない。
なお、ここでＨＦを含む溶液とは、例えば、ＨＦ１０％
水溶液、Buffered ＨＦ（ＢＨＦ）水溶液、ＨＦ水溶液
とＨＣｌとの混酸、ＢＨＦ水溶液とＨＣｌとの混酸等が
挙げられる。

【００１７】下部電極表面をＨＦを含む溶液で処理する
方法としては、例えば、この溶液を下部電極表面に噴霧
又は塗布する方法、下部電極をこの溶液中に浸漬する方
法等が挙げられる。下部電極表面にこの溶液と接触させ
る時間は、用いる溶液、濃度、処理方法等により適宜調
整することができるが、例えば、浸漬する方法において
は、溶液の温度が１５〜２５℃程度の温度範囲、使用す
る溶液がダイキン工業製ＢＨＦ１１０と１２Ｎ−ＨＣｌ
との混酸で、その濃度はＢＨＦ：ＨＣｌ：Ｈ₂Ｏ＝１：
１：６程度の場合には、５秒〜１５秒程度が挙げられ
る。

【００１８】次に、上記の下部電極上に誘電体薄膜を塗
布熱分解法により形成する。誘電体薄膜としては、特に
限定されるものではなく、例えば、チタン酸バリウムス
トロンチウム［（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃（０．５≦ｙ
＜１）］、チタン酸バリウム［ＢａＴｉＯ₃］、チタン
酸ビスマス［Ｂｉ₄Ｔｉ₃Ｏ₁₂］等が挙げられるが、な
かでもチタン酸バリウムストロンチウム［（Ｂａ_yＳｒ
_1-y）ＴｉＯ₃（０．５≦ｙ＜１）］が好ましい。

【００１９】これら誘電体薄膜は、公知の方法、例えば
スパッタ法、印刷法、蒸着法、ゾルゲル法、ＭＯＣＶＤ
法、ＭＯＤ法等の種々の方法で所望の膜厚に形成するこ
とができるが、なかでも、低コスト化及び組成制御の容
易性の観点から、塗布熱分解法、ことにゾルゲル法によ
り形成することが好ましい。誘電体薄膜の膜厚は、容量
可変素子の大きさ、印加電圧、用途、形成方法等に応じ
て適宜調整することができるが、例えば５０ｎｍ〜３μ
ｍ程度が好ましい。なお、この誘電体薄膜は、１層で形
成されていてもよいし、２層以上で形成されていてもよ
い。また、２層以上で形成する場合には、誘電体薄膜の
組成割合は、同じでもよいし、段階的又は連続的に変化
させてもよい。

【００２０】誘電体薄膜の形成方法においては、例え
ば、まず、ゾルゲル法により、誘電体薄膜を構成する元
素の前駆体溶液を調製する。前駆体溶液は、例えば、Ｂ
ａ、Ｓｒ、Ｔｉ等のカルボン酸塩又はアルコキシドを、
適当な濃度、適当な温度、適当な配合割合で、適当な水
性媒体又は有機溶媒に溶解させて調製することができ
る。この際、使用することができる有機溶媒としては、
例えば、メタノール、エタノール、プロパノール等の低
級アルコール、キシレン、酢酸エステル等が挙げられ
る。前駆体溶液の調製は、例えば、強誘電体を構成する
金属元素の各溶液を、最終的に得ようとする強誘電体の
組成により異なるが、０．１〜５ｍｏｌ／リットル程
度、好ましくは０．１〜２ｍｏｌ／リットル程度で別々
に調製し、例えば２００℃程度以下、好ましくは１５０
℃程度以下で十分加熱するとともに、５時間程度、好ま
しくは１〜３時間程度攪拌しながら適宜混合し、さらに
混合液を１時間〜１昼夜程度攪拌する方法等が挙げられ
る。なお、前駆体溶液は、任意に濾過、溶媒の蒸留、濃
度の調整等を行うことが好ましい。

【００２１】次に、得られた前駆体溶液は、下部電極上
に、例えばスピンコート法、印刷法、ロールコート法等
の種々の方法により一層あたり２０〜２００ｎｍ程度の
膜厚で塗布することができる。ただし、一層あたりの膜
厚が厚いと乾燥工程でクラックを発生しやすいため、一
層あたりの塗布する膜厚は１００ｎｍ程度以下がより好
ましい。なお、特に印刷法の場合には、前駆体溶液は、
アクリル樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エチ
ルセルロース、ポリビニルアルコール等の有機バインダ
樹脂及びアルコール系、エーテル系、エステル系等の有
機溶剤を適宜混合することにより、その粘度を調整する
ことができる。

【００２２】さらに、塗布した前駆体溶液を乾燥する。
乾燥の方法は、前駆体溶液として用いた有機溶媒の種
類、前駆体溶液の組成等により適宜選択することができ
るが、例えば、８０℃〜３００℃、好ましくは１００℃
〜２００℃程度の温度範囲、大気中で１０秒〜６０分
間、好ましくは１５分間程度以下、熱処理することによ
り行うことができる。熱処理は、公知の方法、例えば赤
外線加熱炉、抵抗加熱炉等を使用して、均一の温度で一
定時間行ってもよいし、温度を異ならせて行ってもよ
い。

【００２３】続いて、任意に熱処理により薄膜中の有機
物を分解除去してもよい。この際の熱処理方法は、薄膜
中に存在する有機物が充分に分解する温度で、かつ結晶
化が始まらない温度範囲で行うことが好ましく、具体的
には、４００℃〜５５０℃程度の温度範囲、大気中又は
不活性ガス雰囲気中等で１０〜６０分間程度行うことが
できる。

【００２４】上記の工程は、得ようとする誘電体薄膜の
膜厚に応じて２回以上繰り返して行うことが好ましい。
この際の上記の工程は、同じ種類及び組成比の誘電体薄
膜を得るために、全く同じ条件で繰り返してもよいし、
誘電体薄膜の種類及び組成比に応じてその条件等を適宜
調整して繰り返してもよい。また、任意に誘電体薄膜の
結晶化を行ってもよい。誘電体薄膜の結晶化は、酸素雰
囲気、アルゴンや窒素等の不活性雰囲気下、常圧又は減
圧下、好ましくは常圧下、５５０℃〜８００℃以下の温
度範囲で、３０秒間〜６０分間程度行うことができる。
この際の熱処理方法は、上述の方法の他、ＲＴＡ法等を
用いることができる。

【００２５】なお、上記における薄膜中の有機物の分解
除去のための熱処理と結晶化のための熱処理とを、適当
な条件を適宜選択することにより兼ねて行ってもよい。
さらに、誘電体薄膜上に上部電極として低抵抗・非酸化
性金属の単層又は低抵抗・非酸化性金属／高融点金属／
非酸化性金属からなる積層膜をスパッタリング法又は真
空蒸着法により形成する。

【００２６】上部電極における低抵抗・非酸化性金属
は、下部電極におけるものと同様のものを挙げることが
できる。また、高融点金属としては、通常バリアメタル
や接着層として使用することができる金属が挙げられ、
具体的には、チタン、タンタル、タングステン、モリブ
デン等が挙げられる。上部電極は、全体として、通常電
極材料として使用することができ、具体的には、金の単
層、あるいは金／タンタル／白金、金／チタン／白金、
金／タングステン／白金、金／モリブデン／白金等が挙
げられる。なかでも、高周波領域での使用が可能な容量
可変素子を形成する場合に導体損が少ない金の単層ある
いは金／タンタル／白金、金／チタン／白金が好まし
い。

【００２７】この上部電極の成膜方法としては、公知の
方法、例えば、蒸着法、スパッタ法等の真空プロセス；
印刷法、ＭＯＤ法、ゾルゲル法等の塗布熱分解法等種々
の方法で所望の膜厚に形成することができるが、上部電
極と誘電体薄膜との界面の状態を良好にするという観点
から、スパッタリング法又は蒸着法が好ましい。上部電
極の膜厚は、容量可変素子を搭載するデバイスの種類に
より異なるが、例えば１ＧＨｚ以上の高周波で使用する
場合、導体損を低減するための膜厚として０．５μｍ以
上、さらに０．５〜５μｍ程度が好ましい。

【００２８】また、上述したように、上部電極の接着性
等を改善するために、接着層等を上部電極直下に形成し
てもよい。さらに、上部電極の形状は、得ようとする容
量、用途、印加電圧等により適宜調整することができ
る。例えば、上部電極の全面が誘電体薄膜と接触する形
状、上部電極が誘電体全面を被覆する形状、上部電極と
誘電体薄膜との間の一部にエアーブリッジを有する形状
等種々の形状が挙げられる。

【００２９】本発明における容量可変素子は、ＧＨｚ帯
までの容量可変素子として動作させることができる形状
及び構造であれば、それらは特に限定されるものではな
く、例えば、下部電極、誘電体薄膜及び上部電極が順次
積層されてなる一般的なキャパシタ構造、縦型キャパシ
タ構造、上部電極の少なくとも一端部にエアーブリッジ
が形成された構造等の種々の形状及び構造のものが含ま
れる。

【００３０】また、本発明における容量可変素子は、下
部電極と上部電極間に電圧を印加して容量を変化させる
ことができるものである。具体的には、上下部電極の少
なくとも一方にバイアス電圧を印加することにより容量
を変化させることができるものであり、さらにはこのバ
イアス電圧の印加により、誘電体薄膜の誘電率を電圧の
変化に応じて変化させることができるものである。上下
部電極に印加する電圧は、誘電体材料、膜厚又は用途等
により適宜調整することができるが、例えば、誘電体の
リーク電流、電源の実用性等の観点から、±２０Ｖ程度
以下、好ましくは±５Ｖ程度が挙げられる。また、印加
電圧に対応して変化する容量の変化率（〔電圧印加後の
容量−０Ｖでの容量〕／０Ｖでの容量×１００）は、大
きければ大きいほど好ましく、例えば−５０％程度以
上、より好ましくは−９０％程度が挙げられる。さら
に、上記印加電圧に応じて変化する誘電体の誘電率は、
誘電体材料、誘電体膜厚、上部電極の電極面積及びその
形成方法、上部電極の加工精度等により異なるが、例え
ば、５０〜１０００程度が挙げられる。印刷法による形
成の場合には、誘電率は４００以下が好ましい。

【００３１】上述のように、本発明の容量可変素子は、
下部電極と上部電極間に電圧を印加することにより素子
全体の容量を大きく変化させることができるため、容量
が高周波回路の特性に影響して、フィルター透過特性、
検出周波数等を変化させることが可能となり、種々の高
周波デバイス、例えば、高周波フィルター、インピーダ
ンスアンテナ、遅延素子、アレイアンテナ、結合型スト
リップ線路等の高周波デバイスに広く応用が可能とな
る。

【００３２】以下、本発明の高周波用容量可変素子の製
造方法及び高周波用容量可変素子の実施例を図面に基づ
いて説明する。

【００３３】実施例１図１は、本発明の高周波用容量可変素子の概略断面図で
ある。この高周波用容量可変素子は、セラミック基板１
上に、Ｐｔ下部電極２、誘電体薄膜３、エアーブリッジ
４、Ａｕ／Ｔｉ／Ｐｔの３層からなる上部電極５がそれ
ぞれ順次形成されて構成されている。

【００３４】以下に、この高周波用容量可変素子の製造
方法について説明する。まず、セラミック基板１上にス
クリーン印刷法を用いてＰｔペーストを印刷し、６０℃
で３０分間乾燥後、８００℃で８分間焼成し、膜厚０．
５μｍのＰｔ膜を形成した。その後、Ｐｔ膜をエッチン
グにより所定の形状になるよう加工し、下部電極２を形
成した。

【００３５】次に、このようにして形成したＰｔ下部電
極２上に、（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ ₃［０．５≦ｙ＜
１］（チタン酸バリウムストロンチウム）の金属アルコ
キシドからなるゾル状態の前駆体溶液をスピンコートし
（プロセス１）、これを１００℃で１０分間の熱処理に
より乾燥し、乾燥ゲル膜を作製した（プロセス２）。続
いて得られた乾燥ゲル膜中の有機物の熱分解を行うた
め、４７０℃で１０分間、大気圧の大気中で熱処理を行
った（プロセス３）。プロセス１からプロセス３までを
３回繰り返した後、結晶化のため、大気圧の大気中で８
００℃で４５分間熱処理を行った。これにより、膜厚２
００ｎｍの（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃薄膜３を得た。こ
の（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃薄膜３はエッチングにより
所定の形状になるように加工した。前記金属アルコキシ
ドからなるゾル状態の前駆体溶液をスクリーン印刷する
場合は、有機バインダーを粘度調節のために加えて、ペ
ーストとすればよい。

【００３６】その後、（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃薄膜３
上に、エアーブリッジ形成用レジストを用いてエアーブ
リッジレジストパターンを形成した。次いで、上記基板
上にＡｕのターゲットを用いてＤＣマグネトロンスパッ
タリング法により、スパッタリングガスとしてＡｒ（ア
ルゴン）ガスを成膜室内に供給し、スパッタガス圧２０
ｍＴｏｒｒ、スパッタパワー４００Ｗの条件で、Ａｕ電
極を成膜した。その後、エッチングにより加工し、Ａｕ
上部電極５を形成した。

【００３７】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極５と下部電極２の間にバイアス電圧を印加
し、２５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電
率、誘電損失および５ＧＨｚでの容量変化率：（Ｃｘ／
Ｃｏ）×１００［％］（Ｃｘはｘ［Ｖ］印加時の容量、
Ｃｏは０［Ｖ］での容量）を測定した。その結果を図２
（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図２（ａ）及び（ｂ）
中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたときの比誘電
率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００３８】図２（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４５５、誘電損失tanδ＝
０．０６が得られており、図２（ｂ）においては、例え
ば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変化
率＝−４０％、−５６％が得られている。

【００３９】実施例２実施例１ではＰｔ下部電極形成直後に誘電体薄膜として
ゾルゲル法により（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃［０．５≦
ｙ＜１］（チタン酸バリウムストロンチウム）薄膜を形
成したが、この実施例ではＰｔ下部電極形成後、ＢＨ
Ｆ：Ｈ₂Ｏ＝１：６の溶液中に１０秒間浸して下部電極
の表面処理を施した以外は、実施例１と同様の方法によ
り高周波用容量可変素子を作製した。

【００４０】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極と下部電極の間にバイアス電圧を印加し、２
５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電率、誘
電損失および５ＧＨｚでの容量変化率を測定した。その
結果を図３（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図３（ａ）及
び（ｂ）中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたとき
の比誘電率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００４１】図３（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４８５、誘電損失tanδ＝
０．０４が得られており、図３（ｂ）においては、例え
ば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変化
率＝−４８％、−６０％が得られている。

【００４２】実施例３実施例１ではＰｔペーストを用いて下部電極を形成した
が、この実施例ではＡｕペーストを用いて下部電極を形
成した以外は、実施例１と同様の方法により高周波用容
量可変素子を作製した。

【００４３】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極と下部電極の間にバイアス電圧を印加し、２
５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電率、誘
電損失および５ＧＨｚでの容量変化率を測定した。その
結果を図４（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図４（ａ）及
び（ｂ）中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたとき
の比誘電率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００４４】図４（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４６０、誘電損失tanδ＝
０．０１が得られており、図４（ｂ）においては、例え
ば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変化
率＝−４２％、−６０％が得られている。

【００４５】実施例４実施例３ではＡｕ下部電極形成直後に誘電体薄膜として
ゾルゲル法により（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃［０．５≦
ｙ＜１］（チタン酸バリウムストロンチウム）薄膜を形
成したが、この実施例ではＡｕ下部電極形成後、ＢＨ
Ｆ：Ｈ₂Ｏ＝１：６の溶液中に１０秒間浸して下部電極
の表面処理を施した以外は、実施例１と同様の方法によ
り高周波用容量可変素子を作製した。

【００４６】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極と下部電極の間にバイアス電圧を印加し、２
５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電率、誘
電損失および５ＧＨｚでの容量変化率を測定した。その
結果を図５（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図５（ａ）及
び（ｂ）中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたとき
の比誘電率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００４７】図５（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４９０、誘電損失tanδ＝
０．００６が得られており、図５（ｂ）においては、例
えば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変
化率＝−５０％、−６２％が得られている。

【００４８】実施例５実施例１〜４ではＡｕターゲットを用いたＤＣマグネト
ロンスパッタ法により上部電極を形成したが、この実施
例では真空蒸着法によりＰｔ、Ｔｉ、Ａｕの順に蒸着し
てＡｕ／Ｔｉ／Ｐｔ積層の上部電極を形成した以外は、
実施例１と同様の方法により高周波用容量可変素子を作
製した。

【００４９】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極と下部電極の間にバイアス電圧を印加し、２
５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電率、誘
電損失および５ＧＨｚでの容量変化率を測定した。その
結果を図６（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図６（ａ）及
び（ｂ）中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたとき
の比誘電率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００５０】図６（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４５７、誘電損失tanδ＝
０．０２が得られており、図６（ｂ）においては、例え
ば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変化
率＝−４２％、−６０％が得られている。

【００５１】実施例６実施例５ではＡｕ下部電極形成直後に誘電体薄膜として
ゾルゲル法により（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃［０．５≦
ｙ＜１］（チタン酸バリウムストロンチウム）薄膜を形
成したが、この実施例ではＡｕ下部電極形成後、ＢＨ
Ｆ：Ｈ₂Ｏ＝１：６の溶液中に１０秒間浸して下部電極
の表面処理を施した以外は、実施例５と同様の方法によ
り高周波用容量可変素子を作製した。

【００５２】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極と下部電極の間にバイアス電圧を印加し、２
５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電率、誘
電損失および５ＧＨｚでの容量変化率を測定した。その
結果を図７（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図７（ａ）及
び（ｂ）中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたとき
の比誘電率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００５３】図７（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４８７、誘電損失tanδ＝
０．００６が得られており、図７（ｂ）においては、例
えば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変
化率＝−５０％、−６０％が得られている。

【００５４】実施例７実施例５では真空蒸着法によりＰｔ、Ｔｉ、Ａｕの順に
蒸着してＡｕ／Ｔｉ／Ｐｔ積層の上部電極を形成してい
たが、この実施例では、Ｔｉに代えてＴａを用いた以外
は実施例５と同様の方法により高周波用容量可変素子を
作製した。

【００５５】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極と下部電極の間にバイアス電圧を印加し、２
５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電率、誘
電損失および５ＧＨｚでの容量変化率を測定した。その
結果を図８（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図８（ａ）及
び（ｂ）中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたとき
の比誘電率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００５６】図８（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４５７、誘電損失tanδ＝
０．０２１が得られており、図８（ｂ）においては、例
えば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変
化率＝−４２％、−６０％が得られている。

【００５７】実施例８実施例７ではＡｕ下部電極形成直後に誘電体薄膜として
ゾルゲル法により（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ₃［０．５≦
ｙ＜１］（チタン酸バリウムストロンチウム）薄膜を形
成したが、この実施例ではＡｕ下部電極形成後、ＢＨ
Ｆ：Ｈ₂Ｏ＝１：６の溶液中に１０秒間浸して下部電極
の表面処理を施した以外は、実施例７と同様の方法によ
り高周波用容量可変素子を作製した。

【００５８】上記のような方法で作製した容量可変素子
の上部電極と下部電極の間にバイアス電圧を印加し、２
５℃で、測定周波数０．１〜５ＧＨｚでの比誘電率、誘
電損失および５ＧＨｚでの容量変化率を測定した。その
結果を図９（ａ）及び（ｂ）に示す。なお図９（ａ）及
び（ｂ）中、誘電体薄膜のＢａ量ｙ＝０．７としたとき
の比誘電率、誘電損失および容量変化率を示す。

【００５９】図９（ａ）においては、例えば、１ＧＨ
ｚ、０［Ｖ］での比誘電率＝４８７、誘電損失tanδ＝
０．００８が得られており、図９（ｂ）においては、例
えば、ｘ＝４、６すなわち４Ｖ又は６Ｖ印加時で容量変
化率＝−５０％、−６０％が得られている。

【００６０】

【発明の効果】本発明の方法によれば、下部電極として
非酸化性金属からなる膜を塗布熱分解法により形成す
る。次いで、下部電極上に誘電体薄膜を塗布熱分解法に
より形成し、さらに、誘電体薄膜上に上部電極として低
抵抗・非酸化性金属の単層又は低抵抗・非酸化性金属／
高融点金属／非酸化性金属からなる積層膜をスパッタリ
ング法又は真空蒸着法により形成するため、低コスト
で、損失の少ない素子構造を作成することが可能とな
る。

【００６１】よって、１ＧＨｚ以上の周波数でもキャパ
シタ特性が劣化せず、誘電損失が少ない優れた特性を持
つ高周波用容量可変素子を製造することが可能となる。
また、本発明の方法によれば、基板としてＳｉやＧａＡ
ｓ単結晶材料を用いず、セラミック基板を用いて、素子
構造を薄膜状に容易に形成することができるため、小型
・軽量化が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の容量可変素子の構造を示す要部の概略
断面図である。

【図２】本発明の第１の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図３】本発明の第２の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図４】本発明の第３の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図５】本発明の第４の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図６】本発明の第５の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図７】本発明の第６の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図８】本発明の第７の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図９】本発明の第８の実施例の容量可変素子の誘電
率、誘電損失及び容量変化特性を示す図である。

【図１０】従来の容量可変素子の構造を示す要部の概略
断面図である。

【符号の説明】

１セラミック基板２下部電極３誘電体薄膜４エアーブリッジ５上部電極

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者大谷昇大阪府大阪市阿倍野区長池町22番22号シャープ株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下部電極として非酸化性金属からなる膜
を塗布熱分解法により形成し、前記下部電極上に誘電体
薄膜を塗布熱分解法により形成し、前記誘電体薄膜上に
上部電極として低抵抗・非酸化性金属の単層又は低抵抗
・非酸化性金属／高融点金属／非酸化性金属からなる積
層膜をスパッタリング法又は真空蒸着法により形成する
ことを特徴とする高周波用容量可変素子の製造方法。
【請求項２】下部電極を形成した後であって、誘電体
薄膜を形成する前に、前記下部電極表面をＨＦを含む溶
液で処理する請求項１記載の高周波用容量可変素子の製
造方法。
【請求項３】非酸化性金属が金又は白金、低抵抗・非
酸化性金属が金、高融点金属がタンタル、チタン、タン
グステン及びモリブデンからなる群から選択される１種
又は２種以上である請求項１又は２記載の高周波用容量
可変素子の製造方法。
【請求項４】誘電体薄膜を、（Ｂａ_yＳｒ_1-y）ＴｉＯ
₃［０．５≦ｙ＜１］（チタン酸バリウムストロンチウ
ム）により形成する請求項１〜３のいずれか１つに記載
の高周波用容量可変素子の製造方法。
【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載の方法で
形成されてなる高周波用容量可変素子。