JPH11255593A - 原料溶解補助装置 - Google Patents
原料溶解補助装置Info
- Publication number
- JPH11255593A JPH11255593A JP8035398A JP8035398A JPH11255593A JP H11255593 A JPH11255593 A JP H11255593A JP 8035398 A JP8035398 A JP 8035398A JP 8035398 A JP8035398 A JP 8035398A JP H11255593 A JPH11255593 A JP H11255593A
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- Japan
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- raw material
- quartz crucible
- single crystal
- heating
- chamber
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 石英ルツボを必要以上に高温に加熱しなくて
も原料の溶解時間を短縮可能にする。 【解決手段】 補助加熱用チャンバ10の上方内面には
放物面の反射板11が取り付けられ、反射板11の焦点
位置には赤外線ランプ12が取り付けられている。補助
加熱用チャンバ10が下部チャンバ5の上に配置されて
連結され、2つのチャンバ5、10内が低圧に維持され
た状態で、石英ルツボ1内の単結晶の原料8が側方のグ
ラファイトヒータ2により加熱されるとともに、上方の
赤外線ランプ12及び反射板11からの赤外線12aに
より加熱される。赤外線ランプ12の代わりに、マイク
ロ波発生装置21による誘電加熱により原料8を補助加
熱するようにしてもよい。
も原料の溶解時間を短縮可能にする。 【解決手段】 補助加熱用チャンバ10の上方内面には
放物面の反射板11が取り付けられ、反射板11の焦点
位置には赤外線ランプ12が取り付けられている。補助
加熱用チャンバ10が下部チャンバ5の上に配置されて
連結され、2つのチャンバ5、10内が低圧に維持され
た状態で、石英ルツボ1内の単結晶の原料8が側方のグ
ラファイトヒータ2により加熱されるとともに、上方の
赤外線ランプ12及び反射板11からの赤外線12aに
より加熱される。赤外線ランプ12の代わりに、マイク
ロ波発生装置21による誘電加熱により原料8を補助加
熱するようにしてもよい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、引上げCZ(Czoc
hralski )法によりSi(シリコン)の無転位の単結晶
を製造するための単結晶引上げ装置の補助装置に関し、
特に石英ルツボ内の原料の加熱構造に関する。
hralski )法によりSi(シリコン)の無転位の単結晶
を製造するための単結晶引上げ装置の補助装置に関し、
特に石英ルツボ内の原料の加熱構造に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、引上げCZ法による単結晶製造
装置では、高耐圧気密チャンバ内を10torr程度に減圧
して新鮮なAr(アルゴン)ガスを流すとともに、チャ
ンバ内の下方に設けられた石英ルツボ内の多結晶を加熱
して溶融し、この融液の表面に種結晶を上から浸漬し、
種結晶と石英ルツボを回転、上下移動させながら種結晶
を引き上げることにより、種結晶の下に上端が突出した
円錐形の上部コーン部と、円筒形のボディ部と下端が突
出した円錐形の下部コーン部より成る単結晶(いわゆる
インゴット)を成長させるように構成されている。
装置では、高耐圧気密チャンバ内を10torr程度に減圧
して新鮮なAr(アルゴン)ガスを流すとともに、チャ
ンバ内の下方に設けられた石英ルツボ内の多結晶を加熱
して溶融し、この融液の表面に種結晶を上から浸漬し、
種結晶と石英ルツボを回転、上下移動させながら種結晶
を引き上げることにより、種結晶の下に上端が突出した
円錐形の上部コーン部と、円筒形のボディ部と下端が突
出した円錐形の下部コーン部より成る単結晶(いわゆる
インゴット)を成長させるように構成されている。
【0003】従来、石英ルツボ内の原料を加熱する構造
では、石英ルツボの上方は単結晶引き上げのために開放
する必要があるので、石英ルツボの側方、さらには石英
ルツボの底面にグラファイトヒータを配置してこのグラ
ファイトヒータに通電するようにしている。
では、石英ルツボの上方は単結晶引き上げのために開放
する必要があるので、石英ルツボの側方、さらには石英
ルツボの底面にグラファイトヒータを配置してこのグラ
ファイトヒータに通電するようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の加熱構造では、石英ルツボの上方が単結晶引き上げ
のために開放されているので、この上方に無駄な放熱が
発生し、したがって、石英ルツボを必要以上に高温に加
熱しないと原料を短時間で溶解することができないとい
う問題点がある。また、石英ルツボは必要以上に高温に
さらされると軟化して変形したり、重金属に起因した失
透によりクリストバライト化が促進されるという問題点
がある。
来の加熱構造では、石英ルツボの上方が単結晶引き上げ
のために開放されているので、この上方に無駄な放熱が
発生し、したがって、石英ルツボを必要以上に高温に加
熱しないと原料を短時間で溶解することができないとい
う問題点がある。また、石英ルツボは必要以上に高温に
さらされると軟化して変形したり、重金属に起因した失
透によりクリストバライト化が促進されるという問題点
がある。
【0005】また、石英ルツボには、気泡を含むルツボ
内表面に気泡が極めて少ない透明層が形成されている。
この透明層は溶融シリコン内に徐々に溶解し、最後には
透明層の下の、気泡を含む石英層が露出する。そして、
気泡を含む石英層が露出すると気泡部分から石英の破片
が溶融シリコン内に混入して育成中の単結晶に付着し、
その単結晶が転位するという問題点がある。また、石英
ルツボは必要以上に高温にさらされると、その溶解速度
が速くなって透明層の使用可能時間が短くなり、単結晶
を長時間にわたって製造することができなくなるという
問題点がある。
内表面に気泡が極めて少ない透明層が形成されている。
この透明層は溶融シリコン内に徐々に溶解し、最後には
透明層の下の、気泡を含む石英層が露出する。そして、
気泡を含む石英層が露出すると気泡部分から石英の破片
が溶融シリコン内に混入して育成中の単結晶に付着し、
その単結晶が転位するという問題点がある。また、石英
ルツボは必要以上に高温にさらされると、その溶解速度
が速くなって透明層の使用可能時間が短くなり、単結晶
を長時間にわたって製造することができなくなるという
問題点がある。
【0006】本発明は上記従来装置の問題点に鑑み、石
英ルツボを必要以上に高温に加熱しなくても原料の溶解
時間を短縮することができる原料溶解補助装置を提供す
ることを目的とする。
英ルツボを必要以上に高温に加熱しなくても原料の溶解
時間を短縮することができる原料溶解補助装置を提供す
ることを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、石英ルツボの上方から単結晶の原料を補助
加熱するようにしたものである。すなわち本発明によれ
ば、単結晶引上げ装置内の石英ルツボ内に装填された単
結晶の原料を前記石英ルツボの外部から加熱して溶解す
る構成の単結晶引上げ装置に組み合わせて用いる装置で
あって、前記石英ルツボの上方から前記石英ルツボ内に
ある前記単結晶の原料を加熱して、前記単結晶引上げ装
置固有の加熱手段と共に前記原料を加熱して溶解する補
助加熱手段を有する原料溶解補助装置が提供される。
するために、石英ルツボの上方から単結晶の原料を補助
加熱するようにしたものである。すなわち本発明によれ
ば、単結晶引上げ装置内の石英ルツボ内に装填された単
結晶の原料を前記石英ルツボの外部から加熱して溶解す
る構成の単結晶引上げ装置に組み合わせて用いる装置で
あって、前記石英ルツボの上方から前記石英ルツボ内に
ある前記単結晶の原料を加熱して、前記単結晶引上げ装
置固有の加熱手段と共に前記原料を加熱して溶解する補
助加熱手段を有する原料溶解補助装置が提供される。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は単結晶引上げ装置と組み合
わせて用いる本発明に係る原料溶解補助装置の一実施形
態を示す断面図である、図2はグラファイトヒータ電力
と赤外線ランプ電力の組み合わせによる原料溶解時間を
示す説明図、図3はグラファイトヒータ電力と赤外線ラ
ンプ電力の組み合わせによる石英ルツボ最高温度を示す
説明図である。
施の形態を説明する。図1は単結晶引上げ装置と組み合
わせて用いる本発明に係る原料溶解補助装置の一実施形
態を示す断面図である、図2はグラファイトヒータ電力
と赤外線ランプ電力の組み合わせによる原料溶解時間を
示す説明図、図3はグラファイトヒータ電力と赤外線ラ
ンプ電力の組み合わせによる石英ルツボ最高温度を示す
説明図である。
【0009】図1において、石英ルツボ1の周囲には円
筒状のグラファイトヒータ2が配置され、グラファイト
ヒータ2の周囲には円筒状の断熱材3が配置されてい
る。石英ルツボ1はカーボンルツボ、ルツボ軸などのサ
セプタ4により軸の周囲を回転可能に、上下方向に移動
可能に支持されている。これらの部材1〜4は下部チャ
ンバ5内に配置され、下部チャンバ5の上には本発明に
係る補助加熱用チャンバ10又は単結晶を収納するため
の不図示の上部チャンバが選択的に配置される。下部チ
ャンバ5の上方には真空を維持するためのゲートバルブ
6が開閉可能に配置され、また、Arガス導入口7が設
けられている。
筒状のグラファイトヒータ2が配置され、グラファイト
ヒータ2の周囲には円筒状の断熱材3が配置されてい
る。石英ルツボ1はカーボンルツボ、ルツボ軸などのサ
セプタ4により軸の周囲を回転可能に、上下方向に移動
可能に支持されている。これらの部材1〜4は下部チャ
ンバ5内に配置され、下部チャンバ5の上には本発明に
係る補助加熱用チャンバ10又は単結晶を収納するため
の不図示の上部チャンバが選択的に配置される。下部チ
ャンバ5の上方には真空を維持するためのゲートバルブ
6が開閉可能に配置され、また、Arガス導入口7が設
けられている。
【0010】補助加熱用チャンバ10の上方内面には放
物面の反射板11が取り付けられ、反射板11の焦点位
置には赤外線ランプ12が取り付けられている。また、
反射板11の下方には石英の仕切り板13が支持棒14
により水平方向に移動可能に取り付けられている。
物面の反射板11が取り付けられ、反射板11の焦点位
置には赤外線ランプ12が取り付けられている。また、
反射板11の下方には石英の仕切り板13が支持棒14
により水平方向に移動可能に取り付けられている。
【0011】このような構成において単結晶を製造する
場合には、まず、図1に示すように補助加熱用チャンバ
10が下部チャンバ5の上に配置され、また、2つのチ
ャンバ5、10内が低圧に維持された状態で、石英ルツ
ボ1内の単結晶の原料8が側方のグラファイトヒータ2
により加熱されるとともに、上方の赤外線ランプ12か
ら発せられ、反射板11で反射された赤外線12aによ
り加熱される。そして、石英ルツボ1内の単結晶の原料
8が溶融すると、ゲートバルブ6が閉じられた後、下部
チャンバ5の上には補助加熱用チャンバ10の代わりに
上部チャンバが配置される。次いでゲートバルブ6が開
かれて上部チャンバと下部チャンバ5が低圧に維持され
た状態で、石英ルツボ1内の融液の表面に図示省略の種
結晶を上から浸漬し、種結晶と石英ルツボ1を回転、上
下移動させながら種結晶を引き上げる。
場合には、まず、図1に示すように補助加熱用チャンバ
10が下部チャンバ5の上に配置され、また、2つのチ
ャンバ5、10内が低圧に維持された状態で、石英ルツ
ボ1内の単結晶の原料8が側方のグラファイトヒータ2
により加熱されるとともに、上方の赤外線ランプ12か
ら発せられ、反射板11で反射された赤外線12aによ
り加熱される。そして、石英ルツボ1内の単結晶の原料
8が溶融すると、ゲートバルブ6が閉じられた後、下部
チャンバ5の上には補助加熱用チャンバ10の代わりに
上部チャンバが配置される。次いでゲートバルブ6が開
かれて上部チャンバと下部チャンバ5が低圧に維持され
た状態で、石英ルツボ1内の融液の表面に図示省略の種
結晶を上から浸漬し、種結晶と石英ルツボ1を回転、上
下移動させながら種結晶を引き上げる。
【0012】次に図2、図3を参照して実施例と従来例
における原料溶解時間と石英ルツボ1の最高温度につい
て説明する。まず、従来例のようにグラファイトヒータ
2のみにより加熱した場合(グラファイトヒータ電力=
120kW、赤外線ランプ電力=0kW)、原料溶解時
間は図2に示すように6.3時間、石英ルツボ1の最高
温度は図3に示すように1580°Cであった。そし
て、グラファイトヒータ電力=120kWに設定すると
ともに赤外線ランプ電力を10kW、20kW、30k
W、4kW、50kWに設定して加熱した場合には、当
然に赤外線ランプ電力が増加するほど原料溶解時間は短
くなり、また、石英ルツボ1の最高温度は高くなった。
また、グラファイトヒータ電力=80kWに設定すると
ともに赤外線ランプ電力10kW、20kW、30k
W、40kW、50kWに設定して加熱した場合には、
原料溶解時間はより長くなり、また、石英ルツボ1の最
高温度はより低くなった。
における原料溶解時間と石英ルツボ1の最高温度につい
て説明する。まず、従来例のようにグラファイトヒータ
2のみにより加熱した場合(グラファイトヒータ電力=
120kW、赤外線ランプ電力=0kW)、原料溶解時
間は図2に示すように6.3時間、石英ルツボ1の最高
温度は図3に示すように1580°Cであった。そし
て、グラファイトヒータ電力=120kWに設定すると
ともに赤外線ランプ電力を10kW、20kW、30k
W、4kW、50kWに設定して加熱した場合には、当
然に赤外線ランプ電力が増加するほど原料溶解時間は短
くなり、また、石英ルツボ1の最高温度は高くなった。
また、グラファイトヒータ電力=80kWに設定すると
ともに赤外線ランプ電力10kW、20kW、30k
W、40kW、50kWに設定して加熱した場合には、
原料溶解時間はより長くなり、また、石英ルツボ1の最
高温度はより低くなった。
【0013】そして、グラファイトヒータ電力と赤外線
ランプ電力を組み合わせたところ、グラファイトヒータ
電力=110kW、赤外線ランプ電力=40kWの場合
に、原料溶解時間=6.0時間、石英ルツボ1の最高温
度=1563°Cであった。また、グラファイトヒータ
電力=100kW、赤外線ランプ電力=50kWの場合
に、原料溶解時間=6.1時間、石英ルツボ1の最高温
度=1533°Cであった。したがって、この近傍の組
み合わせが石英ルツボ1を必要以上に高温に加熱しなく
ても原料を短時間で溶解することができることが判明し
た。
ランプ電力を組み合わせたところ、グラファイトヒータ
電力=110kW、赤外線ランプ電力=40kWの場合
に、原料溶解時間=6.0時間、石英ルツボ1の最高温
度=1563°Cであった。また、グラファイトヒータ
電力=100kW、赤外線ランプ電力=50kWの場合
に、原料溶解時間=6.1時間、石英ルツボ1の最高温
度=1533°Cであった。したがって、この近傍の組
み合わせが石英ルツボ1を必要以上に高温に加熱しなく
ても原料を短時間で溶解することができることが判明し
た。
【0014】次に図4、図5を参照して第2の実施形態
について説明する。この第2の実施形態の補助加熱部2
0はマイクロ波発生装置21による誘電加熱により原料
8を補助加熱するように構成され、マイクロ波発生装置
21は移動台車22の上に配置されている。マイクロ波
発生装置21の上には導波管23が固定され、導波管2
3にはコの字形の導波管24が上下方向に移動可能に連
結されている。導波管24の開放先端24aが石英ルツ
ボ1の収納されているチャンバ5の内部に上方から挿入
されるように、導波管24が導波管23に対して昇降可
能であり、図示省略の駆動装置により矢印M1で示すよ
うに上下方向に移動可能である。導波管24の開放先端
24aはホーン状に形成され、開放先端24aを含む導
波管24の直線部には、ベローズ25が取り付けられて
いる。ベローズ25の両端はリング30A、30Bにそ
れぞれ取り付けられ、リング30Aは導波管24の外周
に固定されている。これらのリング30A、30Bはア
ーム28A、28Bに接続されていて、アーム28A、
28Bは移動台車22に取り付けられた棒26に対して
矢印M2で示すように摺動可能な部材27A、27Bを
介して昇降可能である。
について説明する。この第2の実施形態の補助加熱部2
0はマイクロ波発生装置21による誘電加熱により原料
8を補助加熱するように構成され、マイクロ波発生装置
21は移動台車22の上に配置されている。マイクロ波
発生装置21の上には導波管23が固定され、導波管2
3にはコの字形の導波管24が上下方向に移動可能に連
結されている。導波管24の開放先端24aが石英ルツ
ボ1の収納されているチャンバ5の内部に上方から挿入
されるように、導波管24が導波管23に対して昇降可
能であり、図示省略の駆動装置により矢印M1で示すよ
うに上下方向に移動可能である。導波管24の開放先端
24aはホーン状に形成され、開放先端24aを含む導
波管24の直線部には、ベローズ25が取り付けられて
いる。ベローズ25の両端はリング30A、30Bにそ
れぞれ取り付けられ、リング30Aは導波管24の外周
に固定されている。これらのリング30A、30Bはア
ーム28A、28Bに接続されていて、アーム28A、
28Bは移動台車22に取り付けられた棒26に対して
矢印M2で示すように摺動可能な部材27A、27Bを
介して昇降可能である。
【0015】このような構成において、石英ルツボ1内
の単結晶の原料8を溶融する場合には、ゲートバルブ6
が閉じて低圧が維持されている下部チャンバ5の上方に
対して導波管24の先端24aが位置決めされて下部チ
ャンバ5に連結される。連結が完了するとゲートバルブ
6を開いて導波管24の先端24aを石英ルツボ1の近
傍まで下降させる。すなわち、図5に示すように、リン
グ30Bをチャンバ5の上方部に一時取り付けて、28
A、28Bを下降させる。したがって、伸縮自在なベロ
ーズ25が圧縮されて、導波管24の開放先端24aが
チャンバ5内に挿入される。そして、この状態で石英ル
ツボ1内の単結晶の原料8がグラファイトヒータ2とマ
イクロ波発生装置21により加熱される。
の単結晶の原料8を溶融する場合には、ゲートバルブ6
が閉じて低圧が維持されている下部チャンバ5の上方に
対して導波管24の先端24aが位置決めされて下部チ
ャンバ5に連結される。連結が完了するとゲートバルブ
6を開いて導波管24の先端24aを石英ルツボ1の近
傍まで下降させる。すなわち、図5に示すように、リン
グ30Bをチャンバ5の上方部に一時取り付けて、28
A、28Bを下降させる。したがって、伸縮自在なベロ
ーズ25が圧縮されて、導波管24の開放先端24aが
チャンバ5内に挿入される。そして、この状態で石英ル
ツボ1内の単結晶の原料8がグラファイトヒータ2とマ
イクロ波発生装置21により加熱される。
【0016】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、石
英ルツボの上方から単結晶の原料を補助加熱するように
したので、石英ルツボを必要以上に高温に加熱しなくて
も原料の溶解時間を短縮することができる。
英ルツボの上方から単結晶の原料を補助加熱するように
したので、石英ルツボを必要以上に高温に加熱しなくて
も原料の溶解時間を短縮することができる。
【図1】本発明に係る原料溶解補助装置の一実施形態を
単結晶引上げ装置に組み合わせた状態を示す断面図であ
る。
単結晶引上げ装置に組み合わせた状態を示す断面図であ
る。
【図2】グラファイトヒータ電力と赤外線ランプ電力の
組み合わせによる原料溶解時間を示す説明図である。
組み合わせによる原料溶解時間を示す説明図である。
【図3】グラファイトヒータ電力と赤外線ランプ電力の
組み合わせによる石英ルツボ最高温度を示す説明図であ
る。
組み合わせによる石英ルツボ最高温度を示す説明図であ
る。
【図4】本発明の原料溶解補助装置の第2の実施形態を
単結晶引上げ装置に組み合わせる前の状態を示す断面図
である。
単結晶引上げ装置に組み合わせる前の状態を示す断面図
である。
【図5】図4の原料溶解補助装置を単結晶引上げ装置に
組み合わせて原料を加熱している状態を示す構成図であ
る。
組み合わせて原料を加熱している状態を示す構成図であ
る。
1 石英ルツボ 2 グラファイトヒータ 10 補助加熱用チャンバ 11 反射板 12 赤外線ランプ 21 マイクロ波発生装置 23、24 導波管
Claims (9)
- 【請求項1】 単結晶引上げ装置内の石英ルツボ内に装
填された単結晶の原料を前記石英ルツボの外部から加熱
して溶解する構成の単結晶引上げ装置に組み合わせて用
いる装置であって、 前記石英ルツボの上方から前記石英ルツボ内にある前記
単結晶の原料を加熱して、前記単結晶引上げ装置固有の
加熱手段と共に前記原料を加熱して溶解する補助加熱手
段を有する原料溶解補助装置。 - 【請求項2】 前記補助加熱手段は、前記石英ルツボを
収容するチャンバの上方に対して着脱自在に構成され、
原料の溶解後に前記チャンバから取り外すことが可能で
あることを特徴とする請求項1記載の原料溶解補助装
置。 - 【請求項3】 前記補助加熱手段は、赤外線により単結
晶の原料を加熱して溶解可能であることを特徴とする請
求項1又は2記載の原料溶解補助装置。 - 【請求項4】 前記補助加熱手段が、赤外線ランプと、
前記赤外線ランプから放出される赤外線を反射する反射
手段とを有することを特徴とする請求項3記載の原料溶
解補助装置。 - 【請求項5】 前記反射手段が、放物線曲面又はその近
似曲面を有し、前記赤外線ランプを移動させて、前記反
射手段の焦点位置に配置する手段を有することを特徴と
する請求項4記載の原料溶解補助装置。 - 【請求項6】 前記補助加熱手段は、マイクロ波による
誘導加熱により単結晶の原料を加熱して溶解可能である
ことを特徴とする請求項1又は2記載の原料溶解補助装
置。 - 【請求項7】 前記補助加熱手段が、マイクロ波発生手
段と、マイクロ波発生手段で発生したマイクロ波を導く
導波管とを有することを特徴とする請求項6記載の原料
溶解補助装置。 - 【請求項8】 前記導波管の開放先端が前記石英ルツボ
の収納されているチャンバの内部に上方から挿入される
ように、前記導波管を昇降させる手段をさらに有するこ
とを特徴とする請求項7記載の原料溶解補助装置。 - 【請求項9】 前記導波管を昇降させる手段がさらに、
前記導波管を前記チャンバ内に導くために、前記導波管
と前記チャンバの間で伸縮可能な手段を有することを特
徴とする請求項8記載の原料溶解補助装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8035398A JPH11255593A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 原料溶解補助装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8035398A JPH11255593A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 原料溶解補助装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11255593A true JPH11255593A (ja) | 1999-09-21 |
Family
ID=13715900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8035398A Withdrawn JPH11255593A (ja) | 1998-03-12 | 1998-03-12 | 原料溶解補助装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11255593A (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1997114A1 (en) * | 2006-03-16 | 2008-12-03 | Electromagnetics Corporation | Compositions of matter: system ii |
DE112009001202T5 (de) | 2008-05-20 | 2011-06-22 | Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. | Einkristallherstellungsvorrichtung |
CN102173832A (zh) * | 2011-01-10 | 2011-09-07 | 宜昌浩诚工贸有限公司 | 一种粘土石墨坩埚微波烧结方法 |
JP2012116691A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-21 | Sumco Corp | 単結晶原料の溶融装置 |
WO2012108618A2 (ko) * | 2011-02-09 | 2012-08-16 | 주식회사유니드 | 마이크로 웨이브를 이용한 단결정 성장장치 및 그 성장방법 |
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