JPH11254152A - 導体の溶接方法 - Google Patents

導体の溶接方法

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JPH11254152A
JPH11254152A JP10071196A JP7119698A JPH11254152A JP H11254152 A JPH11254152 A JP H11254152A JP 10071196 A JP10071196 A JP 10071196A JP 7119698 A JP7119698 A JP 7119698A JP H11254152 A JPH11254152 A JP H11254152A
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JP
Japan
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welding
conductor
filler material
groove
metal
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JP10071196A
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Masaki Tamura
雅貴 田村
Yoshinobu Makino
吉延 牧野
Seiichiro Kimura
盛一郎 木村
Kenji Tomota
憲次 友田
Hiroshi Hinataya
博 雛田谷
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K1/00Soldering, e.g. brazing, or unsoldering
    • B23K1/005Soldering by means of radiant energy
    • B23K1/0056Soldering by means of radiant energy soldering by means of beams, e.g. lasers, E.B.
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2101/00Articles made by soldering, welding or cutting
    • B23K2101/36Electric or electronic devices
    • B23K2101/38Conductors
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/08Non-ferrous metals or alloys
    • B23K2103/10Aluminium or alloys thereof

Abstract

(57)【要約】 【課題】 溶接金属中のSiまたはMgの分布を均一に
保って溶接割れが発生する防ぐこと。 【解決手段】 アルミニウム合金からなる導体パイプ6
の溶接開先8と、アルミニウム合金からなる端子部品7
の溶接開先9との間にアルミニウム合金からなるリング
状の溶加材11を挿入する。この溶加材11に電子ビー
ム12を照射して溶融させ、双方の部品を一体に溶接す
る。溶接金属に対する母材の希釈率を60%に満たない
値に制限することにより溶接金属中のSi量を5.35
〜12.0%(重量パーセント)に調節する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は電力用開閉器に組み
込む導体を高エネルギビームを用いて溶接する導体の溶
接方法に関する。
【0002】
【従来の技術】この種のアルミニウム合金からなる導体
の溶接法の一つに溶加材を使用するMIG溶接法があ
る。このMIG溶接法では図7に示すように、溶接電源
1と接続される溶接電流導体2に溶接ワイヤ3が保持さ
れ、溶接中、溶接ワイヤ3に安定に電気が供給される。
また、溶接中、溶接金属の酸化を防ぐために不活性ガス
4が溶接ワイヤ3を取り囲むノズル5を通して供給され
る。アルミニウム合金からなる導体パイプ6および端子
部品7には予め溶接開先8、9が加工され、同心を保っ
て突き合わせられた導体パイプ6および端子部品7が溶
接開先8、9部を埋める溶接金属10によって一体に溶
接される。この溶接開先8、9の心出しを容易にするた
めに導体パイプ6と端子部品7とはインローで嵌合して
いる。
【0003】この溶接中、溶接電流導体2に電気が供給
され、このとき、溶加材である溶接ワイヤ3に電流が流
れ、溶接ワイヤ3の先端に発生するアークで溶接ワイヤ
3が溶融し、連続して溶接ワイヤ3を送り出すことによ
り溶接金属10が生成して溶接開先8、9が埋まり、導
体パイプ6と端子部品7とが一体に接合される。
【0004】通常、導体パイプ6および端子部品7は導
電率の良好なAl−Mg−Si系合金が用いられている
が、この材料は溶接割れ感受性が高い。このため、溶接
割れを防ぐように溶接ワイヤ3には溶接性に優れたAl
−Si系合金またはAl−Mg系合金が使用されてい
る。
【0005】このMIG溶接に代えて、近年、電子ビー
ム溶接法も用いられている(特開平3−57575号公
報、特開平4−182078号公報など)。この電子ビ
ーム溶接では図8に示すように、導体パイプ6および端
子部品7には予め溶接開先8、9が形成され、この溶接
開先8、9の間に溶融金属量に応じて0.2〜2.0mm
のリング状の溶加材11が挿入される。溶接中は電子ビ
ーム12により溶加材11が溶融して溶接金属10が生
成し、溶接開先8、9が埋まって導体パイプ6と端子部
品7とが一体に接合される。
【0006】このとき、電子ビーム12は偏向コイル1
3によって溶接開先幅に合わせて振られる。なお、符号
14は電子ビームを集束させるための集束コイルを示し
ている。このような電子ビーム溶接はMIG溶接と比較
してエネルギ密度が高く、溶込み深さは同じであって
も、溶接金属10の幅は大幅に狭くすることができ、し
かも同じ溶加材を使用した場合でも、溶加材を母材によ
り多く希釈することが可能で、このため溶接金属10部
の組成がSi0.45〜5.35%、Mg0.15〜
0.87%となるように調節できる利点がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述した電子ビーム溶
接法による導体の溶接においては母材の希釈率が60%
(図9参照)と高いが、溶接速度も比較的高く、溶接金
属10中への溶加材11の撹拌が十分に行われず、Si
またはMgの分布に偏りが生じ易くなる。特に、溶接金
属/母材界面においてSi量またはMg量の低下が著し
く,この部分で溶接割れを引き起こす可能性がある。
【0008】そこで、本発明の目的は溶接金属中のSi
またはMgの分布を均一に保って溶接割れが発生するの
を防ぐようにした導体の溶接方法を提供することにあ
る。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決すべく本
発明者らは研究を行った結果、次の溶接方法が望ましい
ことを見出した。すなわち、アルミニウム合金からなる
導体パイプの溶接開先と、アルミニウム合金からなる端
子部品の溶接開先との間にアルミニウム合金からなる溶
加材を挿入し、電子ビームないしレーザビームを溶加材
に照射して双方の部品を一体に溶接するにあたり、溶接
金属に対する母材の希釈率を一定の範囲内に制限するよ
うに電子ビームないしレーザビームを照射し、溶接金属
中のSi量が重量パーセントで5.35〜12.0%と
なるようにしたものである。
【0010】この溶接方法においては溶接金属中のSi
量が増すことによりSi分布の偏りが少なくなり、溶接
金属/母材界面における溶接割れを減少させることが可
能になる。
【0011】また、この溶接方法において母材の希釈率
は60%に満たない値を保つようにすることが望まし
い。この希釈率を保つには溶加材の厚さが薄くてはSi
量が望ましい値とならないために厚さ0.5mmを超える
溶加材が必要である。
【0012】さらに、望ましくは、導体パイプの溶接開
先をステップ形状に形成し、また、端子部品の溶接開先
をステップ形状に形成し、双方のステップ形状の溶接開
先の間にそのステップ形状に合わせて作られた溶加材を
挿入して双方の部品を溶接する。
【0013】この溶接方法においては母材の希釈率がさ
らに低くなり、Siが大きく増すことによりSi分布の
偏りがより少なくなり、溶接金属/母材界面における溶
接割れを減少させることが可能になる。
【0014】さらに、望ましくは、導体パイプの溶接開
先を三角形状に形成し、また端子部品の溶接開先を三角
形状に形成し、双方の三角形状の溶接開先の間にその三
角形状に合わせて作られた溶加材を挿入して双方の部品
を溶接する。
【0015】この溶接方法においては母材の希釈率がさ
らに低くなり、Siが大きく増すことによりSi分布の
偏りがより少なくなり、溶接金属/母材界面における溶
接割れを減少させることができる。
【0016】さらに、発明者らはアルミニウム合金から
なる導体パイプの溶接開先と、アルミニウム合金からな
る端子部品の溶接開先との間にアルミニウム合金からな
る溶加材を挿入し、電子ビームないしレーザビームを溶
加材に照射して双方の部品を一体に溶接するにあたり、
溶接開先と接する溶加材の両縁端部を溶加材寄りにビー
ム中心を合わせて電子ないしレーザビームを照射する方
法が望ましいことを見出した。
【0017】この溶接方法においては母材の希釈率が低
くなり、溶接金属中のSiが増してSi分布の偏りが改
善される結果、溶接金属/母材界面における溶接割れを
減少させることが可能になる。
【0018】また、発明者らはアルミニウム合金からな
る導体パイプの溶接開先と、アルミニウム合金からなる
端子部品の溶接開先との間にAl−Mg系合金からなる
溶加材を挿入し、電子ビームないしレーザビームを溶加
材に照射して双方の部品を一体に溶接するにあたり、溶
接金属中のMg量が重量パーセントで0.87〜5.0
%となるように調節する方法が望ましいことを見出し
た。
【0019】この溶接方法においては溶接金属中のMg
量が増加することによりMg分布の偏りがより少なくな
り、溶接金属/母材界面における溶接割れを減少させる
ことができる。
【0020】さらに、アルミニウム合金からなる導体パ
イプの溶接開先と、アルミニウム合金からなる端子部品
の溶接開先との間にAl−Mg−Si系合金からなる溶
加材を挿入し、電子ビームないしレーザビームを溶加材
に照射して双方の部品を一体に溶接するにあたり、溶接
金属中のMg量およびSi量がそれぞれ重量パーセント
で0.87〜2.0%および1.2〜4.8%となるよ
うに調節する方法が望ましいことを見出した。
【0021】この溶接方法においては溶接金属中のMg
量およびSi量がそれぞれ増加することによりMg分布
およびSi分布の偏りがより少なくなり、溶接金属/母
材界面における溶接割れを減少させることが可能にな
る。
【0022】さらに、望ましくは、導体パイプの溶接開
先をステップ形状に形成し、また端子部品の溶接開先を
ステップ形状に形成し、双方のステップ形状の溶接開先
の間にそのステップ形状に合わせて作られた溶加材を挿
入して双方の部品を溶接する。
【0023】この溶接方法においては母材の希釈率がさ
らに低くなり、MgならびにMgおよびSiが大きく増
加することによりMg分布ならびにMgおよびSi分布
の偏りが少なくなり、溶接金属/母材界面における溶接
割れを減少させることが可能になる。
【0024】さらに、望ましくは導体パイプの溶接開先
を三角形状に形成し、また端子部品の溶接開先を三角形
状に形成し、双方の三角形状の溶接開先の間にその三角
形状に合わせて作られた溶加材を挿入して双方の部品を
溶接する。
【0025】この溶接方法においては母材の希釈率がさ
らに低くなり、MgならびにMgおよびSiが大きく増
加することによりMg分布ならびにMgおよびSi分布
の偏りが少なくなり、溶接金属/母材界面における溶接
割れを減少させることが可能になる。
【0026】また、発明者らは導体パイプおよび/また
は端子部品の溶接開先にアルミニウム合金からなる溶加
材もしくはAl−Mg系合金からなる溶加材またはAl
−Mg−Si系合金からなる溶加材を肉盛りあるいは溶
射によって形成する方法が有効であることを見出した。
【0027】この溶接方法においては溶加材の断面形状
が特定の形状に拘る必要がなくなり、自由な形状に決め
ることができる。溶加材の断面形状は開先形状により近
づけることができ、母材の希釈率をさらに低くすること
が可能になる。したがって、溶接金属中のSi量あるい
はMg量を増加させることができ、溶接割れを防止する
ことができる。
【0028】この溶加材の形成は様々な方法で実施する
ことができる。火炎溶射法、高速火炎溶射法、大気プラ
ズマ溶射法、減圧プラズマ溶射法のいずれを用いてもよ
く、望ましい形状の溶加材を形成することができる。
【0029】
【発明の実施の形態】(実施例)図1に溶接の施工で用
いられた装置の構成を示している。装置は溶接電源1を
備え、この溶接電源1にフィラメント15が接続されて
いる。電子ビーム12はこのフィラメント15を通して
照射するように構成されている。Al−Mg−Si系合
金からなる導体パイプ6および端子部品7に溶接開先
8、9を加工し、直線状の溶接開先8、9の間にリング
状の溶加材11を挿入して偏光コイル13で電子ビーム
12を振らせながら、溶加材11を溶融して溶接した。
【0030】この溶接中、溶接金属10に対する母材の
希釈率を制限して実施した。溶加材11の板厚が0.5
mm以下では希釈率が60%を超えたが、板厚が0.5mm
を超えたところから所望とする低い希釈率(図2参照)
が得られることが確認された。溶加材11の板厚を変化
させて溶接したときの溶接金属10中のSiおよびMg
の成分の変化する程度が表1に示されている。この表1
には比較のために従来の方法で得られた結果も示してい
る。
【0031】
【表1】
【0032】従来技術による方法と比べてSi量が増加
し、重量パーセントで5.35〜12.0%まで高めら
れることが確認された。Si量が増すことによりSi分
布の偏りはより少なくなり、溶接金属/母材界面におけ
る溶接割れが減少することが確かめられた。なお、溶接
部にはいずれの欠陥も生じていなかった。
【0033】(実施例2)実施例1よりもさらに母材の
希釈率を抑えるために図3に示すステップ形の溶接開先
16、17および図4に示す三角形の溶接開先18、1
9を加工し、溶接開先16、17および溶接開先18、
19の間にステップ形状に合わせて作られた溶加材20
および三角形状に合わせて作られた溶加材21を挿入し
て電子ビーム12を振らせながら、溶加材20および溶
加材21を溶融して溶接した。
【0034】リング状の溶加材11を用いた実施例1の
ものと比べてステップ形状の溶接開先16、17に合わ
せて作られた溶加材20および三角形状の溶接開先1
8、19に合わせて作られた溶加材21を用いる溶接
は、母材の希釈率がさらに低くなり、Si量が増してS
i分布を均一に保つうえでより望ましいものであること
が確認された。
【0035】また、リング状の溶加材11では難しかっ
た溶接金属10の小さい溶接でも十分な量のSiを確保
できることが判った。
【0036】(実施例3)母材の希釈率を抑えるために
溶加材の溶接開先と接する両縁端を溶接する方法を研究
した。図5に溶加材11の両縁端に電子ビーム12を照
射して得た溶接部を示している。導体パイプ6および端
子部品7には予めリング状の溶加材11に合わせて直線
状の溶接開先8、9が加工された。電子ビーム12は、
初めに、溶接開先8と接する溶加材11の縁端を溶加材
寄りにビーム中心を合わせて照射し、母材(導体パイプ
6)の溶融を抑えた。次いで、電子ビーム12は溶接開
先9と接する溶加材11の縁端を溶加材寄りにビーム中
心を合わせて照射し、母材(端子部品7)の溶融を抑え
た。
【0037】このような溶接方法においても母材の希釈
率が低くなることが確認された。この結果、溶接金属1
0中のSi量が増してSi分布が改善され、溶接割れを
減少させることが確かめられた。
【0038】(実施例4)実施例1の装置を用いてAl
−Mg系合金からなる溶加材11を導体パイプ6の溶接
開先8と端子部品7の溶接開先9との間に挿入し、電子
ビーム12を振らせながら、溶加材11を溶融して溶接
した。溶接金属10中のMg量が重量パーセントで0.
87〜5.0%となるように調節した。
【0039】また、Al−Mg−Si系合金からなる溶
加材11を導体パイプ6の溶接開先8と端子部品7の溶
接開先9との間に挿入し、電子ビーム12を振らせなが
ら、溶加材11を溶融して溶接した。溶接金属10中の
Mg量がいずれも重量パーセントで0.87〜2.0
%、Si量が1.2〜4.8%となるように調節した。
【0040】Mgの単独添加およびMgおよびSiの添
加により溶接金属10中のMg量ならびにMg量および
Si量を増加させることができ、溶接割れの防止に有効
であることが確認された。
【0041】(実施例5)添加材を様々に変えて行った
研究および高エネルギビームの照射位置を変える研究と
共に予め加工された溶接開先に肉盛りあるいは溶射法を
用いて溶加材を形成する方法も研究した。図6に大気プ
ラズマ溶射法で形成した溶加材の一例を示している。溶
接トーチ22からアーク23を発生させて溶加材である
粉末24を加熱し、溶射によって端子部品7の溶接開先
9に溶加材25を形成した。
【0042】この方法においては溶射によって溶加材を
形成するために溶接開先9の形状は自由に決めることが
できる。もちろん、実施例1、2、3の溶接方法で用い
られた溶接開先にも適用することが可能である。
【0043】この方法を用いることで、溶加材11は開
先形状により近づけることができ、母材の希釈率をさら
に低くすることが可能になる。たとえば、同じ断面積を
有するリング状の溶加材11と比べても溶接金属10中
のSi量を増加させることができ、溶接割れの防止に有
効であることが確かめられた。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように本発明は高エネルギ
ビームで溶加材を集中的に溶融させ、溶接金属に対する
母材の希釈率を一定の範囲内に制限するようにしたの
で、溶接金属中のSiまたはMgの分布を均一に保つこ
とができる。したがって、本発明によれば、アルミニウ
ム製の導体の接合部で溶接割れが発生するのを防ぐこと
が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の溶接方法における装置の構成を示す摸
式図。
【図2】本発明の溶接方法で得られる母材の希釈率を示
すための図。
【図3】本発明に係る溶接開先および溶加材を示す断面
図。
【図4】本発明に係る溶接開先および溶加材を示す断面
図。
【図5】本発明の溶接方法で得られる母材の溶融状態を
示す摸式図。
【図6】本発明に係る溶加材の形成方法を示す摸式図。
【図7】従来の導体のMIG溶接方法を示す摸式図。
【図8】従来の導体の電子ビーム溶接方法を示す摸式
図。
【図9】従来の溶接方法で得られる母材の希釈率を示す
ための図。
【符号の説明】
6 導体パイプ 7 端子部品 8、9、16、17、18、19 溶接開先 10 溶接金属 11、20、21、25 溶加材 22 溶接トーチ
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C22C 21/06 C22C 21/06 C23C 4/08 C23C 4/08 H01H 1/06 H01H 1/06 F (72)発明者 友田 憲次 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内 (72)発明者 雛田谷 博 神奈川県川崎市川崎区浮島町2番1号 株 式会社東芝浜川崎工場内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 アルミニウム合金からなる導体パイプの
    溶接開先と、アルミニウム合金からなる端子部品の溶接
    開先との間にアルミニウム合金からなる溶加材を挿入
    し、高エネルギビームを該溶加材し照射し、双方の部品
    を一体に溶接する導体の溶接方法において、溶接金属に
    対する母材の希釈率を一定の範囲内に制限するように高
    エネルギビームを照射し、溶接金属中のSi量が重量パ
    ーセントで5.35〜12.0%となるようにしたこと
    を特徴とする導体の溶接方法。
  2. 【請求項2】 前記溶着金属に対する母材の希釈率が6
    0%に満たない値を保つようにしたことを特徴とする請
    求項1記載の導体の溶接方法。
  3. 【請求項3】 前記導体パイプの溶接開先をステップ形
    状に形成し、また前記端子部品の溶接開先をステップ形
    状に形成し、双方の該ステップ形状の溶接開先の間にそ
    のステップに合わせて作られた溶加材を挿入して双方の
    部品を溶接することを特徴とする請求項1記載の導体の
    溶接方法。
  4. 【請求項4】 前記導体パイプの溶接開先を三角形状に
    形成し、また前記端子部品の溶接開先を三角形状に形成
    し、双方の該三角形状の溶接開先の間にその三角形状に
    合わせて作られた溶加材を挿入して双方の部品を溶接す
    ることを特徴とする請求項1記載の導体の溶接方法。
  5. 【請求項5】 アルミニウム合金からなる導体パイプの
    溶接開先と、アルミニウム合金からなる端子部品の溶接
    開先との間にアルミニウム合金からなる溶加材を挿入
    し、高エネルギビームを該溶加材に照射して双方の部品
    を一体に溶接する導体の溶接方法において、前記溶接開
    先と接する該溶加材の両縁端部を溶加材寄りにビーム中
    心を合わせて高エネルギビームを照射することを特徴と
    する導体の溶接方法。
  6. 【請求項6】 前記導体パイプおよび/または端子部品
    の溶接開先にアルミニウム合金からなる溶加材を肉盛り
    あるいは溶射によって形成することを特徴とする請求項
    1ないし5のいずれか1項に記載の導体の溶接方法。
  7. 【請求項7】 アルミニウム合金からなる導体パイプの
    溶接開先と、アルミニウム合金からなる端子部品の溶接
    開先との間にAl−Mg系合金からなる溶加材を挿入
    し、高エネルギビームを該溶加材に照射して双方の部品
    を一体に溶接する導体の溶接方法において、溶接金属中
    のMg量が重量パーセントで0.87〜5.0%となる
    ように調節することを特徴とする導体の溶接方法。
  8. 【請求項8】 Al−Mg系合金からなる該溶加材に代
    えてAl−Mg−Si系合金からなる溶加材を前記導体
    パイプおよび端子部品の溶接開先の間に挿入し、溶接金
    属中のMg量およびSi量がそれぞれ重量パーセントで
    0.87〜2.0%および1.2〜4.8%となるよう
    に調節することを特徴とする請求項7記載の導体の溶接
    方法。
  9. 【請求項9】 前記導体パイプの溶接開先をステップ形
    状に形成し、また前記端子部品の溶接開先をステップ形
    状に形成し、双方の該ステップ形状の溶接開先の間にそ
    のステップに合わせて作られた溶加材を挿入して双方の
    部品を溶接することを特徴とする請求項7または8記載
    の導体の溶接方法。
  10. 【請求項10】 前記導体パイプの溶接開先を三角形状
    に形成し、また前記端子部品の溶接開先を三角形状に形
    成し、双方の該三角形状の溶接開先の間にその三角形状
    に合わせて作られた溶加材を挿入して双方の部品を溶接
    することを特徴とする請求項7または8記載の導体の溶
    接方法。
  11. 【請求項11】 前記導体パイプおよび/または端子部
    品の溶接開先にAl−Mg系合金あるいはAl−Mg−
    Si系合金からなる溶加材を肉盛りあるいは溶射によっ
    て形成することを特徴とする請求項7ないし10のいず
    れか1項に記載の導体の溶接方法。
JP10071196A 1998-03-06 1998-03-06 導体の溶接方法 Pending JPH11254152A (ja)

Priority Applications (3)

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