JPH11251571A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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JPH11251571A
JPH11251571A JP10069454A JP6945498A JPH11251571A JP H11251571 A JPH11251571 A JP H11251571A JP 10069454 A JP10069454 A JP 10069454A JP 6945498 A JP6945498 A JP 6945498A JP H11251571 A JPH11251571 A JP H11251571A
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Tetsuo Toma
哲夫 笘
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Fujifilm Microdevices Co Ltd
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Fujifilm Microdevices Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】受光エレメントにおいて蓄積可能な信号電荷の
飽和電荷量を増加させる。 【解決手段】半導体基板3上のpウェル領域4内に、受
光エレメントとなるn型半導体層5とp+型半導体層
6、垂直転送路となるn型半導体層8、転送ゲートとな
るp型の隙間領域7が形成され、更に、n型半導体層8
と隙間領域7上に転送電極VG1が配設され、n型半導
体基板3に端子12が接続されている。露光時には、転
送電極VG1に所定電圧を印加することで、隙間領域7
のチャネル障壁を高くし、更に、端子12を介してn型
半導体基板3に所定の電圧VOFDを印加することで、受
光エレメント下に生じるポテンシャル障壁の高さをチャ
ネル障壁より高くする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、受光エレメントに
おいて蓄積可能な信号電荷の飽和電荷量を増加させた固
体撮像装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来の固体撮像装置として、電荷結合型
固体撮像デバイス(以下、CCD撮像デバイスという)
が知られている。一例として、インターライン転送方式
のCCD撮像デバイスでは、マトリクス状に配列された
多数のフォトダイオードと、各フォトダイオードに生じ
た信号電荷を垂直転送方向へ転送する垂直転送路と、垂
直転送路から転送されてくる信号電荷を水平転送方向へ
転送する水平転送路、及び水平転送路から転送されてく
る信号電荷を信号処理可能な電圧または電流の画素信号
に変換して出力する出力回路を備えて構成されている。
【0003】上記の各フォトダイオードは、入射光を信
号電荷に変換して蓄積する感光蓄積機能を有しており、
画素の基本単位となる受光エレメントを構成している。
【0004】また、各フォトダイオードと垂直転送路と
の間に転送ゲートが設けられており、転送ゲート下のチ
ャネル障壁の高さを制御することによって、各フォトダ
イオードにおける感光蓄積と、各フォトダイオードに蓄
積された信号電荷の垂直転送路への移送を可能にしてい
る。
【0005】すなわち、露光時には、転送ゲート下のチ
ャネル障壁を高くすることによって各フォトダイオード
中に被写体照度に応じた信号電荷を感光蓄積させ、露光
完了後に信号電荷を読み出すときには、まず転送ゲート
下のチャネル障壁を一時的に低くすることにより、各フ
ォトダイオード中に蓄積されている信号電荷を垂直転送
路へ移送させ、再びチャネル障壁を高い状態にして上記
の垂直転送路と水平転送路により信号電荷の読み出しを
行っている。
【0006】更に、転送ゲート下のチャネル障壁を制御
するだけでは、いわゆるセンサブルーミング現象が起き
る場合があるため、この現象を防止する手段として、各
フォトダイオードの隣に、転送ゲート下のチャネル障壁
とは異なるポテンシャル障壁を介してオーバーフロード
レインが形成されている。
【0007】すなわち、仮にオーバーフロードレインが
形成されていないものとすると、フォトダイオードに強
い(過大な)光が入射して過剰な電荷が発生した場合
に、この過剰電荷が転送ゲートのチャネル障壁を乗り越
えて垂直転送路へ漏れ込むという現象が生じる。この現
象がセンサブルーミング現象と呼ばれており、垂直・水
平転送路を通して読み出された画素信号に基づいて画像
再生を行うと、再生画像上に垂直方向の縦縞が生じて、
画質悪化の原因となる。
【0008】そこで、各フォトダイオードの隣に上記の
オーバーフロードレインを形成し、更に、各フォトダイ
オードとオーバーフロードレイン間に設けられた上記ポ
テンシャル障壁の高さHOFDを転送ゲート下のチャネル
障壁の高さHTGより低く設定して露光を行うことによ
り、過剰な電荷をオーバーフロードレン側へ流して、垂
直転送路には漏れ込まないようにしている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のインターライン転送方式のCCD撮像デバイスで
は、オーバーフロードレイン側のポテンシャル障壁の高
さHOFDを転送ゲート下のチャネル障壁の高さHTGより
低く設定した状態で露光が行われることによる問題があ
った。
【0010】すなわち、上記のチャネル障壁とポテンシ
ャル障壁の高さを、HTG>HOFDの関係に設定して露光
を行うことは、センサブルーミング現象の発生防止にと
って効果的ではあるが、ポテンシャル障壁の高さHOFD
とチャネル障壁の高さHTGとの間の信号電荷が常にオー
バーフロードレイン側へ廃棄されてしまうことから、フ
ォトダイオードにおいて蓄積可能な最大の信号電荷量
(以下、飽和電荷量という)がこれら障壁の高さの差|
TG−HOFD|の分だけ減ることとなり、結果的に飽和
電荷量が小さくなってしまう。このため、広ダイナミッ
クレンジで高感度等の、より特性の優れたCCD撮像デ
バイスを製造することが困難となっていた。
【0011】本発明は、上記従来技術の課題を克服する
ためになされたものであり、受光エレメントにおいて蓄
積可能な信号電荷の飽和電荷量を増加させた固体撮像装
置を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために本発明は、半導体基板上にすくなくとも、受光
エレメントと、前記受光エレメントに転送ゲートを介し
て隣接する垂直転送路と、前記受光エレメントに隣接す
るオーバーフロードレインとが形成され、前記受光エレ
メントと前記オーバーフロードレインとの間のポテンシ
ャル障壁及び前記転送ゲート下のチャネル障壁を共に高
い状態に設定して前記受光エレメントによる露光を行う
インターライントランスファ型CCDの固体撮像装置に
おいて、前記チャネル障壁より前記ポテンシャル障壁を
高い状態に設定して前記受光エレメントによる露光を行
わせる制御手段を備える構成とした。
【0013】かかる構成により、ポテンシャル障壁の高
さをチャネル障壁の高さより低くして露光を行う場合に
較べて、受光エレメントにおいて蓄積可能な信号電荷の
飽和電荷量が増加する。
【0014】また、半導体基板上にすくなくとも、受光
エレメントと、前記受光エレメントに転送ゲートを介し
て隣接する垂直転送路と、前記受光エレメントに隣接す
るオーバーフロードレインとが形成され、前記受光エレ
メントと前記オーバーフロードレインとの間のポテンシ
ャル障壁及び前記転送ゲート下のチャネル障壁を共に高
い状態に設定して前記受光エレメントによる露光を行う
インターライントランスファ型CCDの固体撮像装置に
おいて、被写体像を観察するためのモニターモードと、
被写体像を静止画撮影するための本撮影モードとを有
し、前記モニターモードでは、前記ポテンシャル障壁を
前記チャネル障壁より低い状態に設定して前記受光エレ
メントによる露光を行わせ、前記本撮影モードでは、前
記ポテンシャル障壁を前記モニターモードでの露光時よ
り高い状態に設定して前記受光エレメントによる露光を
行わせる制御手段を備える構成とした。
【0015】かかる構成によれば、モニターモード時に
おける露光では、ポテンシャル障壁の高さがチャネル障
壁の高さより低くなることにより、過大な光が受光エレ
メントに入射して過剰な電荷が発生しても、この過剰電
荷はオーバーフロードレインへ廃棄され、垂直転送路へ
は漏れ込まない。このため、ブルーミングやスメア等の
無い鮮明な画像再生が実現される。一方、本撮影モード
では、ポテンシャル障壁の高さをモニターモードでの露
光時より高くして露光を行うことで、受光エレメントに
おいて蓄積可能な信号電荷の飽和電荷量が増加する。
【0016】また、前記本撮影モードでは、前記チャネ
ル障壁を高くした状態で前記垂直転送路による不要電荷
の転送読み出しを行った後、前記露光により前記受光エ
レメントに感光蓄積された信号電荷を前記垂直転送路で
転送読み出しする構成とした。
【0017】かかる構成によれば、垂直転送路による不
要電荷の転送読み出しを行った後、本撮影モード時に受
光エレメントに感光蓄積された信号電荷を垂直転送路で
転送読み出しすることにより、ブルーミングやスメア等
の原因となる不要電荷が信号電荷に混入するのを防止し
て、鮮明な静止画像を再生することができる。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明の固体撮像装置をイ
ンターライン転送方式のCCD撮像デバイスに適用した
実施の形態について説明する。
【0019】(第1の実施の形態)第1の実施の形態に
係るインターライン転送方式のCCD撮像デバイス(以
下、ILCCDという)は、電子スチルカメラに適用さ
れるものであり、更にその電子スチルカメラに設けられ
ている光開閉手段(シャッター手段)の後方に配置され
て、撮像動作を行うものである。
【0020】光開閉手段の具体例としては、フォーカル
プレーンシャッター等の機械式シャッターや、入射光の
透過を電気的にオン・オフ制御する液晶シャッター等の
電気光学デバイスや、ILCCDの受光領域の前方に傾
倒自在に設けられた反射鏡等が適用されている。なお、
本実施の形態では、機械式シャッターを用いた場合につ
いて説明することとする。
【0021】図1は、本実施の形態に係るILCCDの
概略構成を示す図、図2は、受光エレメントと垂直転送
路の要部構造を示す図である。
【0022】図1(a)の平面図において、ILCCD
1は、半導体集積回路製造技術によって同一の半導体基
板上に一体に形成されており、その受光領域2には、垂
直転送方向iと水平転送方向jに沿ってマトリクス状に
配列されたI×J個のpn接合型フォトダイオードPD
1,1〜PDI,Jと、これらのフォトダイオードPD1,1
PDI,Jの横隣りに転送ゲートTG1,1〜TGI,Jを介し
て並設されたJ本の垂直転送路VCT1〜VCTJと、垂
直転送路VCT1〜VCTJの終端に配設された水平転送
路HCTと、水平転送路HCTの終端部に設けられた出
力回路OUTとが備えられている。また、ILCCD1
の裏面に基板電圧制御信号VOFDを印加するための端子
12が設けられている。また、フォトダイオードPD
1,1〜PDI ,Jの光入射面(受光面)を除いて、受光領域
2の全面がアルミ遮光膜で覆われることにより、不要な
光電荷の発生が抑えられている。
【0023】フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jと転送
ゲートTG1,1〜TGI,Jのうち、奇数列に位置するフォ
トダイオードと転送ゲートが奇数フィールド、偶数列に
位置するフォトダイオードと転送ゲートが偶数フィール
ドに属しており、露光時にフォトダイオードPD1,1
PDI,Jに蓄積した1フレーム画相当の信号電荷が、奇
数フィールド読み出しと偶数フィールド読み出しの2回
に分けて読み出されるようになっている。
【0024】すなわち、奇数フィールド読み出し期間で
は、奇数フィールドに属するフォトダイオードに蓄積さ
れた信号電荷を、垂直転送路VCT1〜VCTJが4相駆
動信号V1〜V4に同期して垂直転送方向iへ垂直転送
し、更に1列分ずつ垂直転送されてくる信号電荷を、水
平転送路HCTが2相駆動信号H1,H2に同期して水
平転送方向jへ水平転送し、これら垂直転送と水平転送
を繰り返しながら出力回路OUTから出力することによ
り、奇数フィールドの画素信号Voutを読み出す。
【0025】一方、偶数フィールド読み出し期間では、
偶数フィールドに該当するフォトダイオードに蓄積され
た信号電荷を、垂直転送路VCT1〜VCTJが4相駆動
信号V1〜V4に同期して垂直転送方向iへ垂直転送
し、更に1列分ずつ垂直転送されてくる信号電荷を、水
平転送路HCTが2相駆動信号H1,H2に同期して水
平転送方向jへ水平転送し、これら垂直転送と水平転送
を繰り返しながら出力回路OUTから出力することによ
り、偶数フィールドの画素信号Voutを読み出す。
【0026】図1(b)は、奇数フィールドに位置する
フォトダイオードPDi,jと偶数フィールドに位置する
フォトダイオードPDi+1,j及びそれらに隣接する垂直
転送路VCTjの構成を代表して示している。
【0027】同図(b)において、垂直転送路VCTj
には、4本を一組とするオーバーラッピングゲート構造
の転送電極VG1〜VG4が垂直転送方向iに沿って繰
り返して配設され、後述するタイミング発生回路13で
形成される4相駆動信号V1〜V4がそれぞれ対応付け
て印加されている。4相駆動信号V1〜V4が所定電圧
範囲内において所定タイミングに同期して変化すること
で、垂直転送路VCTj中にその電圧変化に応じたポテ
ンシャル井戸が形成され、更に、ポテンシャル井戸の変
化に乗じて信号電荷が画素単位に分離されて垂直転送方
向iへ転送されるようになっている。
【0028】フォトダイオードPDi,jと垂直転送路V
CTjの間に設けられた転送ゲートTGi,jは、第1の転
送電極VG1の一端部がゲート電極となって構成されて
いる。駆動信号V1に所定のしきい値電圧Vthより高い
移送パルスを重畳させて転送電極VG1に印加すること
で、転送ゲートTGi,j下のチャネル障壁が低くなり、
フォトダイオードPDi,jと垂直転送路VCTjとの間が
導通状態となる。
【0029】フォトダイオードPDi,jと垂直転送路V
CTjの間に設けられた転送ゲートTGi,jについても同
様に、第3の転送電極VG3の一端部がゲート電極とな
って構成されている。駆動信号V3に所定のしきい値電
圧Vthより高い移送パルスを重畳させて転送電極VG3
に印加することで、転送ゲートTGi,j下のチャネル障
壁が低くなり、フォトダイオードPDi,jと垂直転送路
VCTjとの間が導通状態となる。
【0030】図2(a)は、図1(b)中の一点鎖線X
−Xに沿った垂直転送路VCTjと転送ゲートTGi,j
フォトダイオードPDi,j及びそれらの周辺部分のコラ
ム構造を示す縦断面図である。
【0031】同図(a)において、n型半導体基板3上
に積層されたp型ウェル領域4内に、フォトダイオード
PDi,jとなるn型半導体層5とp+型半導体層6とが形
成されている。これらの半導体層5,6の横には、転送
ゲートTGi,jとなる隙間領域7を介して、垂直転送路
VCTjとなるn型半導体層8が形成されている。
【0032】更に、p型ウェル領域4内には、上記の半
導体層5,6,8と隙間領域7を囲むp型半導体から成
るチャンネルストッパ9が形成され、これによりフォト
ダイオードPDi,jと垂直転送路VCTj及び転送ゲート
TGi,j中に存在する信号電荷の漏れ防止が果されてい
る。
【0033】n型半導体層8と隙間領域7上には、層間
絶縁膜10を介して、ポリシリコンから成る転送電極V
G1が配設されると共に、p+型半導体層6の所定領域
を除く受光領域2の全面がアルミ遮光膜11で覆われ、
更に、n型半導体基板2の裏面に金属蒸着が施されて端
子12に接続されている。
【0034】図2(b)は、同図(a)中に示す一点鎖
線Y−Yに沿った部分のポテンシャルプロファイルを示
している。すなわち、垂直転送路VCTjと転送ゲート
TGi ,j及びフォトダイオードPDi,jの一部までの基板
水平方向と、フォトダイオードPDi,jからn型半導体
基板3までの基板深さ方向に沿ったポテンシャルプロフ
ァイルを示している。
【0035】同図(b)において、p型半導体のチャン
ネルストッパ9によって最も高く且つ固定化されたポテ
ンシャル障壁P1が形成され、フォトダイオードPD
i,j下のp型ウェル領域4によってポテンシャル障壁P
2が形成されている。これらのポテンシャル障壁P1,
P2の間に、垂直転送路VCTjのポテンシャル井戸P
3と、転送ゲートTGi,j下のチャネル障壁P4と、n
型半導体層5及びp+型半導体層6によるpn接合P5
が形成されている。
【0036】ここで、駆動信号V1が所定のしき値電圧
Vth以下のときは、転送ゲートTGi,j下のチャネル障
壁P4が図示のように高くなる。駆動信号V1にしき値
Vthより高い移送パルスが重畳したときには、図示の点
線で示すように、転送ゲートTGi,j下のチャネル障壁
P4がpn接合P5のポテンシャルより低くなり、フォ
トダイオードPDi,j中の信号電荷がこの低いチャネル
障壁P4を通って垂直転送路VCTjへ移送される。
【0037】また、ポテンシャル障壁P2の高さは、基
板電圧制御信号VOFDの電圧が高いほど低くなり、基板
電圧制御信号VOFDの電圧が低いほど高くなる。
【0038】また、駆動信号V1が上記のしき値電圧V
th以下の所定電圧範囲内で変化することにより、垂直転
送路VCTj内に信号電荷を転送するためのポテンシャ
ル井戸が形成される。
【0039】そして、フォトダイオードPDi,jと転送
ゲートTGi,jを除く他のフォトダイオードPD1,1〜P
I,Jと転送ゲートTG1,1〜TGI,J及び垂直転送路V
CT1〜VCTJも同様のポテンシャルプロファイルを有
している。
【0040】本実施の形態では、これらの駆動信号V1
〜V4と基板電圧制御信号VOFDの電圧を制御して、転
送ゲートTG1,1〜TGI,J下の各チャネル障壁P4とフ
ォトダイオードPD1,1〜PDI,Jに付随する各ポテンシ
ャル障壁P2の高さを調節することにより、フォトダイ
オードPD1,1〜PDI,Jに残存している不要電荷をn型
半導体基板3へ廃棄したり、フォトダイオードPD1,1
〜PDI,Jによる露光を行わせたり、露光時にフォトダ
イオードPD1,1〜PDI,J中に蓄積した信号電荷を垂直
転送路VCT1〜VCTJへ移送させたり、更に、垂直転
送路VCT1〜VCTJによる垂直転送動作を行わせる等
の処理を行っている。
【0041】次に、図3(a)を参照して、ILCCD
1に垂直・水平電荷転送を行わせるための回路と、基板
電圧制御信号VOFDを形成するための基板電圧制御回路
の構成を説明する。
【0042】図3(a)において、垂直・水平電荷転送
を行わせるための回路が、タイミング発生回路13と駆
動回路14で構成され、上記基板電圧制御回路が、電子
ボリウム調整器15と電子シャッター用タイミング発生
回路16、駆動回路17と整流ダイオード18及び結合
コンデンサ19で構成されている。
【0043】タイミング発生回路13からは、垂直転送
路VCT1〜VCTjを駆動するための4相駆動信号V1
〜V4と、水平転送路HCTを駆動するための2相駆動
信号H1,H2と、出力回路OUTのセット/リセット
動作を制御するためのタイミング信号SRSとが出力さ
れ、更に、駆動回路14が4相駆動信号V1〜V4を電
力増幅して垂直転送路VCT1〜VCTj上の転送電極V
G1〜VG4に供給している。
【0044】電子ボリウム調整回路15は、本電子スチ
ルカメラに内蔵されているマイクロプロセッサ(図示
略)の指示に従って、図3(b)に示すような直流電圧
OFD1またはVOFD2のいずれかの電圧からなる基準電圧
信号VBIASを出力する。
【0045】電子シャッター用タイミング発生回路16
は、上記マイクロプロセッサの指示に同期して、図3
(b)に示すような、3個の矩形波信号を1組とする電
子シャッター信号OFDを出力する。ここで、この矩形
波信号は、1水平期間(1H期間)に同期して高レベル
と低レベルに変化し、高レベルの振幅がφOFDに設定さ
れている。
【0046】駆動回路17は、タイミング発生回路13
から供給される開閉タイミング信号Wに同期して、電子
シャッター信号OFDを有効または無効にして出力する
ための切換え動作を行う。すなわち、本電子スチルカメ
ラに設けられた前記の機械式シャッターが開成状態のと
きには、開閉タイミング信号Wが論理“L”となり、機
械式シャッターが閉成状態のときには、開閉タイミング
信号Wが論理“H”となる。そして、駆動回路17に論
理“L”の開閉タイミング信号Wが供給されると、電子
シャッター信号OFD中の上記矩形波信号を有効にし、
論理“H”の開閉タイミング信号Wが供給されると、電
子シャッター信号OFD中の上記矩形波信号を無効にす
る。この切換え動作により、駆動回路17からは、前記
機械式シャッターの開成期間中だけ上記の矩形波信号が
含まれた電子シャッター信号OFDが出力されるように
なっている。
【0047】そして、電子ボリウム調整器15から出力
される基準電圧信号VBIASと駆動回路17から出力され
る電子シャッター信号OFDとが、整流ダイオード18
と結合コンデンサ19によって加算されることにより、
図3(b)に示すような基板電圧制御信号VOFDが形成
され、端子12に供給される。
【0048】なお、直流電圧VOFD1とVOFD2は、VOFD1
<VOFD2の電圧関係に設定され、電子シャッター信号O
FD中の矩形波信号の振幅φOFDは、φOFD>VOFD2−V
OFD1に設定されている。したがって、基準電圧信号V
BIASが直流電圧VOFD2に切り換えられた場合には、基板
電圧制御信号VOFDの基底電圧レベルがVOFD2となり、
電子シャッター信号OFDの重畳した部分での最大振幅
OFD3がVOFD2+φOFDとなる。また、基準電圧信号V
BIASが直流電圧VOFD1に切り換えられた場合には、基板
電圧制御信号VOFDの基底電圧レベルがVOFD1となり、
電子シャッター信号OFDの重畳した部分での最大振幅
OFD4がVOFD1+φOFD(ただし、VOFD2<VOFD1+φ
OFD<VOFD3)となる。
【0049】次に、図4に示すタイミングチャートを参
照して、ILCCD1を内蔵した電子スチルカメラの撮
影動作について説明する。
【0050】図4において、本電子スチルカメラには、
実際の撮影を行うことなく単に被写体を観察するための
モニターモードと、被写体像を静止画撮影するための本
撮影モードが備えられている。
【0051】モニターモード期間Tmonでは、前記の機
械式シャッターが開成状態のまま保持され、偶数フィー
ルド読み出しと奇数フィールド読み出しが交互に繰り返
されることにより、フィールド撮影が行われる。また、
機械式シャッターが開成状態となるのに伴って開閉タイ
ミング信号Wが論理“L”となり、電子スチルカメラに
設けられたシャッター釦スイッチが押下されるまでは電
子ボリウム調整器15の基準電圧信号VBIASが電圧V
OFD2となる。
【0052】更に、モニターモード期間Tmonにおける
偶数フィールド読み出し期間τEVENでは、まず垂直ブラ
ンキング期間において、水平4相駆動信号V1〜V4の
うちの駆動信号V3にしきい値電圧Vth以上の移送パル
スPL1が重畳され(時点t1参照)、その後、偶数フ
ィールド読み出し期間τEVENが終わるまでは、4相駆動
信号V1〜V4がしきい値電圧Vth以下の所定電圧範囲
内で変化することにより、垂直転送路VCT1〜VCTJ
の垂直転送が行われ、更にこの垂直転送と共に水平転送
路HCTによる水平転送が行われて画素信号Voutが出
力される。
【0053】また、上記時点t1の経過後の一定期間τ
ST内において電子シャッター用タイミング発生回路16
から電子シャッター信号OFDが出力される。したがっ
て、基板電圧制御信号VOFDが、電圧VOFD2に電子シャ
ッター信号OFDが重畳した波形となる。
【0054】かかる状態で偶数フィールド読み出し期間
τEVENにおける読み出し処理が行われると、まず時点t
1では、図5(a)に示すように、しきい値電圧Vthよ
り高電圧の移送パルスPL3により、偶数フィールドに
属する転送ゲート下のチャネル障壁P4が低くなり、偶
数フィールドのフォトダイオードに蓄積された信号電荷
が垂直転送路VCT1〜VCTJへ移送される。
【0055】次に、この信号電荷の移送後、しきい値電
圧Vth以下の4相駆動信号V1〜V4に同期して垂直転
送路VCT1〜VCTJが垂直転送を開始する。この垂直
転送時には全ての転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャ
ネル障壁P4が高くなるため、フォトダイオードPD
1,1〜PDI,Jと垂直転送路VCT1〜VCTJの間が完全
に遮断された状態となる。
【0056】次に、期間τSTにおいて、基板電圧制御信
号VOFD中の電子シャッター信号OFDがn型半導体基
板3に印加される。これにより、図5(b)に示すよう
に、その電圧VOFD3に応じてフォトダイオードPD1,1
〜PDI,Jに付随する全てのポテンシャル障壁P2が低
くなり、フォトダイオードPD1,1〜PDI,J中に残留し
ている不要電荷がn型半導体基板3へ廃棄される。
【0057】次に、期間τST後、基板電圧制御信号V
OFDが再び電圧VOFD2になり、図6(a)に示すよう
に、ポテンシャル障壁P2が電圧VOFD2に応じた高さと
なる。ここで、ポテンシャル障壁P2の高さは、転送ゲ
ートTG1,1〜TGI,J下のチャネル障壁P4より若干低
くなる。そして、偶数フィールド読み出し期間τEVEN
終わるまでの期間τPD中、図6(a)に示すポテンシャ
ルプロファイルが保持される。
【0058】このように、偶数フィールド読み出し期間
τEVENでは、フォトダイオードPD1,1〜PDI,J中に感
光蓄積された信号電荷のうち偶数フィールドに属する信
号電荷が時点t1で垂直転送路VCT1〜VCTJへ移送
されて偶数フィールド読み出しが開始され、次に、n型
半導体基板3に電子シャッター信号OFDが印加される
ことにより不要電荷が廃棄された後の期間τPDが露光期
間となる。
【0059】ここで、露光期間τPDでは、図6(a)に
示したように、チャネル障壁P4よりポテンシャル障壁
P2の方が低くなるため、強い(過大な)光が入射して
フォトダイオードPD1,1〜PDI,J中に過剰な電荷が発
生しても、その過剰電荷はポテンシャル障壁P2を超え
てn型半導体基板3側へ流出する。このため、垂直電荷
転送路VCT1〜VCTJへ過剰電荷が漏れることがな
く、センサブルーミング現象の発生が防止される。
【0060】一方、モニターモード期間Tmonにおける
奇数フィールド読み出し期間τODDにおいても偶数フィ
ールド読み出し期間τEVENと同様の処理が行われる。す
なわち、まず偶数フィールド読み出し期間τEVENの開始
時点t2で、図5(a)に示すのと同様に、駆動信号V
1に重畳した移送パルスPL1により奇数フィールドに
属する転送ゲート下のチャネル障壁P4が低くなり、奇
数フィールドのフォトダイオードに蓄積された信号電荷
が垂直転送路VCT1〜VCTJへ移送される。
【0061】次に、この信号電荷の移送後、しきい値電
圧Vth以下の電圧範囲内で変化する4相駆動信号V1〜
V4に同期して、垂直転送路VCT1〜VCTJが垂直転
送を開始する。この垂直転送時には全ての転送ゲートT
1,1〜TGI,J下のチャネル障壁P4が高くなるため、
フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jと垂直転送路VCT
1〜VCTJの間は完全に遮断された状態となる。
【0062】次に、期間τSTにおいて、基板電圧制御信
号VOFD中の電子シャッター信号OFDがn型半導体基
板3に印加され、これにより、図5(b)に示すのと同
様に、その電圧VOFD3に応じてフォトダイオードPD
1,1〜PDI,Jに付随する全てのポテンシャル障壁P2が
低くなり、フォトダイオードPD1,1〜PDI,J中に残留
していた不要電荷がn型半導体基板3へ廃棄される。
【0063】そして、基板電圧制御信号VOFDが再び電
圧VOFD2になり、図6(a)に示すのと同様に、ポテン
シャル障壁P2が電圧VOFD2に応じた高さとなる。ここ
で、電圧VOFD2によって生じるポテンシャル障壁P2の
高さは、転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャネル障壁
P4の高さより若干低くなり、奇数フィールド読み出し
期間τODDが終わるまでの期間τPD中、図6(a)に示
すポテンシャルプロファイルが保持される。
【0064】ここで、期間τPDが露光期間となり、図6
(a)に示したように、チャネル障壁P4よりポテンシ
ャル障壁P2の方が低くなる。したがって、強い(過大
な)光が入射してフォトダイオードPD1,1〜PDI,J
に過剰な電荷が発生しても、その過剰電荷はポテンシャ
ル障壁P2を超えてn型半導体基板3側へ流出し、垂直
電荷転送路VCT1〜VCTJへ漏れることがないため、
センサブルーミング現象の発生が防止される。
【0065】このように、モニターモード期間Tmonで
は、各フィールド読み出し期間τEVE N,τODDにおい
て、電子シャッター信号OFDによる不要電荷の廃棄を
行った後に露光期間τSPが設定されるので雑音成分の抑
えられた信号電荷が得られ、この信号電荷に基づいて出
力される画素信号Voutを本電子スチルカメラに設けら
れた液晶モニター等に供給することにより、高品質の再
生画像をモニター表示させることができる。
【0066】更に、露光期間τSP中は、チャネル障壁P
4よりポテンシャル障壁P2が若干低く設定されている
ので、過剰電荷が垂直転送路VCT1〜VCTJへ漏れ込
むことがないため、上記液晶モニター等に再生画像を表
示した場合に、再生画像中に縦縞が生じるセンサブルー
ミング現象が生じることがなく、高品質の再生画像をモ
ニター表示することができる。
【0067】次に、上記モニターモード期間Tmon中の
任意の時点、たとえば図4中の時点t3において、電子
スチルカメラに設けられているシャッター釦スイッチが
押下されると、それに同期して電子ボリウム調整器15
の基準電圧信号VBIASが電圧VOFD1に切り替えられた
後、次のフィールド読み出し期間τEXPに同期して、本
撮影モード期間TEXとなる。
【0068】なお、このフィールド読み出し期間τEXP
は、前記シャッター釦スイッチが押下された時点t3が
奇数フィールド読み出し期間τODD内であれば、偶数フ
ィールド読み出し期間が該当し、逆に、前記シャッター
釦スイッチが押下された時点t3が偶数フィールド読み
出し期間τEVEN内であれば、奇数フィールド読み出し期
間が該当することになる。
【0069】このフィールド読み出し期間τEXPでは、
基板電圧制御信号VOFDの基底電圧レベルがVOFD1とな
り、これに電子シャッター信号OFDが重畳した部分の
最大振幅VOFD4が、VOFD1+φOFDとなる。更に、電子
シャッター信号OFDは、前記モニターモード期間Tmo
nの各フィールド読み出し期間τEVEN,τODDの場合と同
じタイミングで電子シャッター用タイミング回路16か
ら出力される。
【0070】この電子シャッター信号OFDがn型半導
体基板3に印加されると、図5(a)に示したのと同様
に、フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jに付随する全て
のポテンシャル井戸P2が低くなり、フォトダイオード
PD1,1〜PDI,J中に残存する不要な電荷がn型半導体
基板3側へ廃棄される。
【0071】そして、電子シャッター信号ODFの終了
後、本電子スチルカメラに設定されているシャッター速
度に対応する期間τONの経過直後に、前記機械式シャッ
ターが閉成される。したがって、期間τONが静止画撮影
のための露光期間となる。
【0072】なお、この露光期間τONでは、基板電圧制
御信号VOFDが電圧VOFD1となっているため、図6
(b)に示すのと同様に、ポテンシャル障壁P2が高く
なる。ただし、このときのポテンシャル障壁P2の高さ
は、転送ゲートTG1,1〜TGi,j下のチャネル障壁P4
よりも高くなるため、フォトダイオードPD1,1〜PD
I,J中に蓄積可能な最大電荷量、すなわち飽和電荷量が
転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャネル障壁P4の高
さによって決まる。したがって、ポテンシャル障壁P2
の高さを転送ゲートTG1,1〜TGi,j下のチャネル障壁
P4よりも低く設定した場合と較べて、飽和電荷量の増
加が実現される。
【0073】次に、所定期間τBにおいて、4相駆動信
号V1〜V4及び2相駆動信号をH1,H2を通常の読
み出し期間のときより高速化させることにより、垂直転
送路VCT1〜VCTJ及び水平転送路HCTによる高速
読み出しを行う。また、4相駆動信号V1〜V4に代え
て、2相の駆動信号に同期して垂直転送路VCT1〜V
CTjを駆動することにより、高速読み出しを行わせ
る。
【0074】かかる高速読み出しを行うと、露光期間τ
ON中に垂直転送路VCT1〜VCTJに漏れ込んだ不要電
荷等が外部へ掃き出され、図6(c)に示すように、垂
直転送路VCT1〜VCTJ及び水平転送路HCTから不
要電荷が一掃される。
【0075】次に、この不要電荷の掃き出し処理の後、
奇数フィールド読み出し期間τODDとなり、フォトダイ
オードPD1,1〜PDI,Jのうち奇数フィールドに属する
フォトダイオードに蓄積されている信号電荷が読み出さ
れる。
【0076】次に、奇数フィールド読み出し期間τODD
後、再び不要電荷の掃き出し期間τBとなり、垂直転送
路VCT1〜VCTJ及び水平転送路HCTによる高速読
み出しが行われることにより、垂直転送路VCT1〜V
CTJ及び水平転送路HCT中の不要電荷が一掃され
る。
【0077】次に、偶数フィールド読み出し期間τEVEN
となり、フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jのうち偶数
フィールドに属するフォトダイオードに蓄積されている
信号電荷が読み出される。
【0078】そして、これら奇数フィールド読み出しと
偶数フィールド読み出しが完了すると、本撮影モード期
間TEXが終了(時点t4参照)し、それと同時に機械式
シャッターが開成されて、再びモニターモード期間Tmo
nの処理に移行する。
【0079】このように、本実施の形態のILCCD1
によれば、本撮影モード期間TEX中の露光期間τONにお
いて、ポテンシャル障壁P2の高さを転送ゲートTG
1,1〜TGI,J下のチャネル障壁P4より高くしたので、
フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jにおいて蓄積可能な
飽和電荷量を増加させることができる。
【0080】なお、図7は、基板電圧制御信号VOFD
対する飽和電荷量Vsatの実験結果を示しており、基板
電圧制御信号VOFDを電圧VOFD1にすることでポテンシ
ャル障壁P2をチャネル障壁P2より高くして露光を行
った場合の飽和電荷量の方が、基板電圧制御信号VOFD
を電圧VOFD2にすることでポテンシャル障壁P2をチャ
ネル障壁P2より低くして露光を行った場合の飽和電荷
量に比べて、明らかにΔVsatの電荷量の増加が達成さ
れることが確認された。
【0081】また、露光期間τONにおいて蓄積された信
号電荷を読み出す前に、垂直転送路VCT1〜VCTJ
び水平転送路HCT中に残存する不要電荷を掃き出す
(期間τB参照)ので、ブルーミングやスメアの原因と
なる雑音成分が抑えられた高品質な静止画像を提供する
ことができる。
【0082】また、露光期間τONにおいて、ポテンシャ
ル障壁P2を転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャネル
障壁P4より高くして露光を行うこととした結果、過大
な光の入射に伴って生じる過剰電荷が垂直転送路VCT
1〜VCTJへ漏れ込む場合があるが、前記不要電荷の掃
き出し期間τBにおいて不要電荷を一掃した後に、フォ
トダイオードPD1,1〜PDI,J中の信号電荷を読み出す
ので、雑音成分の抑えられ静止画像を得ることができ
る。
【0083】このように、本実施の形態によれば、モニ
ターモードでは、ポテンシャル障壁P2よりチャネル障
壁P4の方を高くして露光することでセンサブルーミン
グ現象の発生を防止することができるので、鮮明なモニ
ター表示用の画像が得られる。一方、静止画撮影のとき
には、チャネル障壁P4よりポテンシャル障壁P2の方
を高くして露光することで飽和電荷量を増加させること
ができるので、広ダイナミックレンジの静止画像が得ら
れる。更に、静止画撮影のときには、垂直転送路中の不
要電荷を一掃した後、信号電荷を転送読み出しするの
で、ブルーミングやスメアの無い鮮明な静止画像が得ら
れる。
【0084】(第2の実施の形態)次に、第2の実施の
形態のILCCDについて、図8と図9を参照して説明
する。なお、図8、図9において、図1〜図7と同一ま
たは相当する部分を同一符号で示している。
【0085】本実施の形態は、他の構成の基板電圧制御
回路を備えたILCCDに関するものであり、基板電圧
制御回路を除く部分は第1の実施の形態と同様の構成と
なっている。
【0086】図8において、本実施の形態に係る基板電
圧制御回路は、電子ボリウム調整器20と、アナログス
イッチ21、電子シャッター用タイミング発生回路2
2、駆動回路23、D型フリップフロップ(以下、DF
Fという)24、整流ダイオード25,26及び結合コ
ンデンサ27を備えて構成されている。
【0087】電子ボリウム調整器20は、電子スチルカ
メラに内蔵されているマイクロプロセッサ(図示略)で
指定された値の直流電圧VOFD2を出力する可変電圧源で
構成されている。
【0088】電子シャッター用タイミング発生回路22
は、図8(b)に示すように、電子スチルカメラに設け
られているシャッター釦スイッチが押下された時点t3
と、機械式シャッターが開成状態から閉成状態に切り替
わった時点t4で論理“H”となるタイミングパルス信
号XONを発生する。
【0089】また、電子シャッター用タイミング発生回
路22は、上記マイクロプロセッサからの指示に同期し
て、図8(b)に示すような、3個の矩形波信号を1組
とする電子シャッター信号OFDを出力する。ここで、
この矩形波信号は、1水平期間(1H期間)に同期して
高レベルと低レベルに変化し、高レベルの振幅がφOF D
に設定されている。また、駆動回路23は、電子シャッ
ター用タイミング発生回路22から出力される電子シャ
ッター信号OFDを電力増幅して結合コンデンサ27へ
供給する。
【0090】DFF24は、タイミングパルス信号XON
に同期して出力Qの論理レベルを交互に反転させ、整流
ダイオード26を介してアナログスイッチ21に切り替
え制御信号として供給する。なお、上記マイクロプロセ
ッサからDFF24のリセット端子Rに、機械式シャッ
ターが開成状態から閉成状態に切り替わった時点t4に
同期したリセット信号RESが供給されることで、機械
式シャッターの開閉動作に同期した出力Qが発生する。
【0091】アナログスイッチ21は、2入力1出力の
アナログスイッチからなり、一方の入力接点には固定化
された直流電圧VOFD1、他方の入力接点には電子ボリウ
ム調整器20の直流電圧VOFD2がそれぞれ供給されてい
る。そして、DFF24から供給される上記出力Qに同
期してアナログスイッチ21が切り替え動作することに
より、図8(b)に示すような、電圧VOFD1又はVOFD2
のいずれかの電圧からなる基準電圧信号VBIASを出力す
る。
【0092】そして、アナログスイッチ21から出力さ
れる基準電圧信号VBIASと駆動回路23から出力される
電子シャッター信号OFDとが、整流ダイオード25と
結合コンデンサ27によって加算されることにより、図
8(b)に示すような基板電圧制御信号VOFDが形成さ
れ、ILCCD1の基板電圧制御用の端子12に供給さ
れる。
【0093】なお、基準電圧信号VBIASが直流電圧V
OFD2に切り換えられた場合には、基板電圧制御信号V
OFDの基底電圧レベルがVOFD2となり、電子シャッター
信号OFDの重畳した部分での最大振幅VOFD3がVOFD2
+φOFDとなる。また、基準電圧信号VBIASが直流電圧
OFD1に切り換えられた場合には、電子シャッター信号
OFDが無効となって重畳しないため、基準電圧信号V
BIASは直流電圧VOFD1と等しくなる。
【0094】次に、図9に示すタイミングチャートを参
照して、本実施の形態のILCCDを内蔵した電子スチ
ルカメラの動作を説明する。本電子スチルカメラも第1
の実施の形態と同様に、モニターモードと本撮影モード
が備えられている。
【0095】モニターモード期間Tmonでは、電子スチ
ルカメラに設けられている機械式シャッターが開成状態
に設定されると共に、基板電圧制御信号VOFDと4相駆
動信号V1〜V4及び2相駆動信号H1,H2が第1の
実施の形態と同様のタイミングで発生することにより、
偶数フィールド読み出し期間τEVENと奇数フィールド読
み出し期間τODDが繰り返される。
【0096】各々の読み出し期間τEVEN,τODDにおい
ては、フォトダイオードPD1,1〜PDI,J中に感光蓄積
されていた信号電荷を、各垂直ブランキング期間中に、
所定のしき値電圧Vthより高い電圧の移送パルスPL
1,PL3に同期して垂直転送路VCT1〜VCTJへ移
送した後、垂直・水平転送による読み出しが行われる。
更に、期間τST中に、直流電圧VOFD2に振幅φOFDの電
子シャッター信号OFDの重畳した基板電圧制御信号V
OFDがILCCD1のn型半導体基板3に印加されるこ
とにより不要電荷の廃棄が行われ、更に、期間τPD
に、フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jによる露光が行
われる。
【0097】ここで、モニターモード期間Tmon中の露
光期間τPDでは、基板電圧制御信号VOFDが電圧VOFD2
になるため、図6(a)に示したのと同様に、転送ゲー
トTG1,1〜TGI,J下のチャネル障壁P4よりポテンシ
ャル障壁P2が若干低くなり、過大な光がフォトダイオ
ードPD1,1〜PDI,Jに入射して過剰な電荷が発生した
としても、過剰電荷はポテンシャル障壁P2を通してn
型半導体基板3側へ廃棄され、垂直転送路VCT1〜V
CTJへ漏れ込むことがない。このため、電子スチルカ
メラに設けられている液晶モニター等に再生画像を表示
した場合に、再生画像中に縦縞が生じるセンサブルーミ
ング現象が生じることがなく、高品質の再生画像をモニ
ター表示することができる。
【0098】モニターモード期間Tmon中の任意の時点
に、電子スチルカメラに設けられているシャッター釦ス
イッチが押下されると、そのシャッター釦スイッチが押
されたときのフィールド読み出し期間の次のフィールド
読み出し期間τEXPにおいて、電子シャッター信号OF
Dに同期した不要電荷の廃棄処理(期間τST)が行わ
れ、その廃棄処理完了直後(時点t3参照)にタイミン
グパルス信号XONが発生する。
【0099】そして、本電子スチルカメラに設定されて
いるシャッター速度に対応する期間τONの経過直後に、
前記機械式シャッターが閉成される。したがって、期間
τONが静止画撮影のための露光期間となる。
【0100】なお、この露光期間τONでは、基板電圧制
御信号VOFDが電圧VOFD1となり、この電圧VOFD1によ
り、図6(b)に示すのと同様に、ポテンシャル障壁P
2が高くなる。ただし、このポテンシャル障壁P2の高
さは、転送ゲートTG1,1〜TGi,j下のチャネル障壁P
4よりも高くなる。したがって、フォトダイオードPD
1,1〜PDI,J中に蓄積可能な最大電荷量、すなわち飽和
電荷量は転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャネル障壁
P4の高さによって決まるため、飽和電荷量の増加が実
現される。
【0101】そして、露光期間τONが完了すると、期間
τBにおいて垂直転送路VCT1〜VCTJ及び水平転送
路HCT中の不要電荷が一掃された後、偶数フィールド
読み出し期間τODDにおいて偶数フィールド読み出しが
行われ、更に次の期間τBにおいて垂直転送路VCT1
VCTJ及び水平転送路HCT中の不要電荷が一掃され
た後、偶数フィールド読み出し期間τEVENに偶数フィー
ルド読み出しが行われることにより、静止画撮影が完了
する。
【0102】静止画撮影が完了すると(時点t4参
照)、再び機械式シャッターが開成され、これと同時に
タイミングパルス信号XONが発生して、再びモニターモ
ード期間Tmonの処理に移行する。
【0103】このように、本実施の形態のILCCD1
によれば、本撮影モード期間TEX中の露光期間τONにお
いて、ポテンシャル障壁P2の高さを転送ゲートTG
1,1〜TGI,J下のチャネル障壁P4より高くしたので、
フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jにおいて蓄積可能な
飽和電荷量を増加させることができる。
【0104】また、露光期間τONにおいて蓄積された信
号電荷を読み出す前に、垂直転送路VCT1〜VCTJ
び水平転送路HCTによる不要電荷の掃き出し処理を行
うので、雑音成分の抑えられた高品質な静止画像を提供
することができる。
【0105】また、露光期間τONにおいて、ポテンシャ
ル障壁P2を転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャネル
障壁P4より高くして露光を行うと、過大な光の入射に
伴って生じる過剰電荷が垂直転送路VCT1〜VCTJ
漏れ込む場合があるが、前記不要電荷の掃き出し期間τ
Bにおいて不要電荷を一掃した後に、フォトダイオード
PD1,1〜PDI,J中の信号電荷を読み出すので、雑音成
分の抑えられた静止画像が得られる。
【0106】(第3の実施の形態)次に、第3の実施の
形態のILCCDについて、図10と図11を参照して
説明する。なお、図10において、図1及び図2と同一
または相当する部分を同一符号で示している。
【0107】上記第1,第2の実施の形態のILCCD
では、図2に示したように、基板電圧制御信号VOFD
n型半導体基板3に印加して、フォトダイオードPD
1,1〜PDI,J下のポテンシャル障壁P2の高さを制御す
ることにより、不要な電荷をn型半導体基板3側へ廃棄
する縦方向のオーバーフロードレイン構造が採用されて
いる。
【0108】これに対し、本実施の形態のILCCDで
は、半導体基板に制御電圧を印加するのではなく、図1
0(a)に示すように、フォトダイオードPD1,1〜P
I,Jの横隣りに、垂直転送方向iに延びる転送ゲート
TD1〜TDJとオーバーフロードレインOD1〜ODJ
設けることにより、不要な電荷をオーバーフロードレイ
ンOD1〜ODJ側へ廃棄する横方向のオーバーフロード
レイン構造が採用されている。また、半導体基板に制御
電圧を印加するための端子は設けられていない。
【0109】そして、転送ゲートTD1〜TDJに印加す
る制御電圧VODを可変制御することによって、転送ゲー
トTD1〜TDJ下のポテンシャル障壁の高さを調節し、
これにより、フォトダイオードPD1,1〜PDI,J中の不
要電荷をオーバーフロードレインOD1〜ODJへ廃棄し
たり、フォトダイオードPD1,1〜PDI,J中に蓄積可能
な飽和電荷量を設定する。
【0110】図10(b)は、任意のフォトダイオード
PDi,jとそれに隣接する垂直転送路VCTj、転送ゲー
トTGi,j,TDj及びオーバーフロードレンODjのセ
ル構造を代表して示す縦断面図である。
【0111】同図(b)において、p型半導体基板28
内に、フォトダイオードPDi,jとなるn型半導体層2
9と、垂直転送路VCTjとなるn型半導体層30が形
成され、これらn型半導体層29,30の間に、転送ゲ
ートTGi,jとなる隙間領域31が設けられている。n
型半導体層29の横には、転送ゲートODjとなる薄い
n型半導体領域32と、オーバーフロードレインODj
となるn+型半導体層33が形成されている。更に、n
型半導体層30とn+型半導体層33の両側には、p型
半導体から成るチャンネルストッパ34が形成されてい
る。
【0112】n型半導体層30と隙間領域31上には、
4相駆動信号V1〜V4が印加される転送電極36が層
間絶縁膜35を介して配設され、n型半導体領域32上
には、制御電圧VODが印加される転送電極37が層間絶
縁膜35を介して配設されている。n型半導体層29の
所定領域を除く受光領域2の全面がアルミ遮光膜39で
覆われている。また、転送電極37とn+型半導体層3
3が電気的に接続されて、制御電圧VODを印加するた
めの端子39に接続されている。
【0113】そして、フォトダイオードPDi,jとそれ
に隣接する垂直転送路VCTj、転送ゲートTGi,j,T
j及びオーバーフロードレンODjを除く他の部分につ
いても、同様の構造となっている。
【0114】なお、端子38には、図3(a)又は図8
(a)に示した基板電圧制御回路と同様の回路構成から
成るドレイン電圧制御回路(図示略)が接続されてお
り、前記基板電圧制御回路から出力される基板電圧制御
信号VOFDと同じ波形のドレイン電圧制御信号VODが端
子38に印加されている。
【0115】次に、本実施の形態のILCCD1を電子
スチルカメラに適用した場合の動作を説明する。本実施
の形態の電子スチルカメラにおいても、図4または図9
に示したのと同様のタイミングに基づいて、モニターモ
ードと静止画撮影が行われる。ただし、図4または図9
において、基板電圧制御信号VOFDはドレイン電圧制御
信号VODとなっている。
【0116】これらの図4、図9のタイミングにおい
て、モニターモード期間Tmon中の露光期間τPDでは、
電圧VOFD2のドレイン電圧制御信号VODが転送ゲートT
1〜TDJに印加されることにより、図11(a)に示
すように、オーバーフロードレインOD1〜ODJ側の転
送ゲートTD1〜TDJ下のポテンシャル障壁が、垂直転
送路VCT1〜VCTJ側の転送ゲートTG1,1〜TGI,J
下のチャネル障壁より若干低くなる。このため、この露
光期間τPD中に過大な光がフォトダイオードPD1,1
PDI,Jに入射することによる過剰電荷が発生した場合
には、この過剰電荷はポテンシャル障壁を通してオーバ
ーフロードレインOD1〜ODJへ廃棄されることとな
り、垂直転送路VCT1〜VCTJへ漏れ込むことがな
い。よって、電子スチルカメラに設けられている液晶モ
ニター等に再生画像を表示した場合に、再生画像中に縦
縞が生じるセンサブルーミング現象が生じることがな
く、高品質の再生画像をモニター表示することができ
る。
【0117】また、本撮影モード期間TEX中の静止画撮
影のための露光期間τONでは、電圧VOFD1のドレイン電
圧制御信号VODが転送ゲートTD1〜TDJに印加される
ことにより、図11(b)に示すように、オーバーフロ
ードレインOD1〜ODJ側の転送ゲートTD1〜TDJ
のポテンシャル障壁が、垂直転送路VCT1〜VCTJ
の転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャネル障壁よりも
高くなる。このため、フォトダイオードPD1,1〜PD
I,Jにおいて蓄積可能な飽和電荷量を増加させることが
できる。
【0118】また、露光期間τONにおいて蓄積された信
号電荷を読み出す前に、垂直転送路VCT1〜VCTJ
び水平転送路HCTによる不要電荷の掃き出し処理(期
間τB参照)を行うことにより、図11(c)に示すよ
うに、不要電荷を一掃した後に、フォトダイオードPD
1,1〜PDI,J中の信号電荷を読み出すので、雑音成分の
抑えられた静止画像を得ることができる。
【0119】このように本実施の形態によれば、フォト
ダイオードPD1,1〜PDI,Jの横に転送ゲートTD1
TDJを介してオーバーフロードレインOD1〜ODJ
設け、転送ゲートTD1〜TDJ下のポテンシャル障壁の
高さを転送ゲートTG1,1〜TGI,J下のチャネル障壁よ
り高くして静止画撮影のための露光を行うようにしたの
で、フォトダイオードPD1,1〜PDI,Jにおける信号電
荷の飽和蓄積量を増加させることができる。
【0120】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、チ
ャネル障壁よりポテンシャル障壁を高い状態に設定して
露光を行うので、ポテンシャル障壁の高さをチャネル障
壁の高さより低くして露光を行う従来の技術に較べて、
受光エレメントにおいて蓄積可能な信号電荷の飽和電荷
量を増加させることができる。この結果、広ダイナミッ
クレンジで高感度等の、より特性の優れた固体撮像装置
を製造することができる。
【0121】特に、より画素数の多い固体撮像装置を製
造することとすると、各受光エレメントの受光面が小さ
くなり信号電荷量が小さくなるという問題が生じること
となるが、本発明により、飽和電荷量を増加させること
ができるため、画素数の多い固体撮像装置の実現に大き
な効果を発揮する。
【0122】また、モニターモードと本撮影モードを備
える固体撮像装置においては、モニターモードでは、ポ
テンシャル障壁をチャネル障壁の高さより低くして露光
を行うので、過大な光が受光エレメントに入射して過剰
な電荷が発生しても、その過剰電荷はオーバーフロード
レインへ廃棄されて、垂直転送路へは漏れ込まない。こ
のため、受光エレメントで感光蓄積された信号電荷を垂
直転送路で転送読み出しする際に、この信号電荷にブル
ーミングやスメア等の原因となる上記過剰電荷に起因す
る不要電荷が混入することは無く、鮮明なモニター表示
用の再生画像を得ることができる。一方、本撮影モード
では、モニターモードでの露光時よりもポテンシャル障
壁を高い状態に設定して露光を行うので、受光エレメン
トにおいて蓄積可能な信号電荷の飽和電荷量が増加して
鮮明な画像が得られる。よって、鮮明なモニター表示と
高品質な静止画撮像との両者を巧みに実現する固体撮像
装置を提供することができる。
【0123】また、モニターモードと本撮影モードを備
える固体撮像装置において、垂直転送路による不要電荷
の転送読み出しを行った後、本撮影モード時に受光エレ
メントに感光蓄積された信号電荷を垂直転送路で転送読
み出しすることとしたので、ブルーミングやスメア等の
原因となる不要電荷が信号電荷に混入するのを防止し
て、鮮明な静止画像を再生することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態に係るILCCDの構成を示
す説明図である。
【図2】図1のILCCDのコラム構造及びポテンシャ
ルプロファイルを示す説明図である。
【図3】図1のILCCDに接続する基板電圧制御回路
の構成及び動作を示す説明図である。
【図4】第1の実施の形態のILCCDを適用した電子
スチルカメラの動作を説明するタイミングチャートであ
る。
【図5】第1の実施の形態のILCCDの動作を説明す
るためのポテンシャルプロファイルを示す説明図であ
る。
【図6】第1の実施の形態のILCCDの動作を更に説
明するためのポテンシャルプロファイルを示す説明図で
ある。
【図7】飽和電荷量が増加することを示す特性図であ
る。
【図8】第2の実施の形態に係る基板電圧制御回路の構
成及び動作を示す説明図である。
【図9】第2の実施の形態のILCCDを適用した電子
スチルカメラの動作を説明するタイミングチャートであ
る。
【図10】第3の実施の形態に係るILCCDの構成及
びコラム構造を示す説明図である。
【図11】第3の実施の形態のILCCDの動作を説明
するためのポテンシャルプロファイルを示す説明図であ
る。
【符号の説明】
PD1,1〜PDI,J…フォトダイオード TG1,1〜TGI,J…転送ゲート VCT1〜VCTJ…垂直転送路 HCT…水平転送路 TD1〜TDJ…転送ゲート OD1〜ODJ…オーバーフロードレイン 12,38…端子 15,20…電子ボリウム調整器 16,22…電子シャッター用タイミング発生回路 17,23…駆動回路 18,25,26…整流ダイオード 19,27…結合コンデンサ

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体基板上にすくなくとも、受光エレ
    メントと、前記受光エレメントに転送ゲートを介して隣
    接する垂直転送路と、前記受光エレメントに隣接するオ
    ーバーフロードレインとが形成され、 前記受光エレメントと前記オーバーフロードレインとの
    間のポテンシャル障壁及び前記転送ゲート下のチャネル
    障壁を共に高い状態に設定して前記受光エレメントによ
    る露光を行うインターライントランスファ型CCDの固
    体撮像装置において、 前記チャネル障壁より前記ポテンシャル障壁を高い状態
    に設定して前記受光エレメントによる露光を行わせる制
    御手段を備えたことを特徴とする固体撮像装置。
  2. 【請求項2】 半導体基板上にすくなくとも、受光エレ
    メントと、前記受光エレメントに転送ゲートを介して隣
    接する垂直転送路と、前記受光エレメントに隣接するオ
    ーバーフロードレインとが形成され、 前記受光エレメントと前記オーバーフロードレインとの
    間のポテンシャル障壁及び前記転送ゲート下のチャネル
    障壁を共に高い状態に設定して前記受光エレメントによ
    る露光を行うインターライントランスファ型CCDの固
    体撮像装置において、 被写体像を観察するためのモニターモードと、被写体像
    を静止画撮影するための本撮影モードとを有し、 前記モニターモードでは、前記ポテンシャル障壁を前記
    チャネル障壁より低い状態に設定して前記受光エレメン
    トによる露光を行わせ、前記本撮影モードでは、前記ポ
    テンシャル障壁を前記モニターモードでの露光時より高
    い状態に設定して前記受光エレメントによる露光を行わ
    せる制御手段を備えたことを特徴とする固体撮像装置。
  3. 【請求項3】前記制御手段は、前記ポテンシャル障壁を
    前記チャネル障壁より高い状態に設定して、前記本撮影
    モードでの前記受光エレメントによる露光を行わせるこ
    とを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置。
  4. 【請求項4】前記固体撮像装置は、入射光を通過又は遮
    断させる切換え制御を行う光開閉手段と共に、前記入射
    光の光路上に併設され、 前記本撮影モードでは、前記光開閉手段が入射光を通過
    させるように切換わった状態下で前記受光エレメントに
    よる露光を行った後、前記光開閉手段が入射光を遮断さ
    せるように切換わった状態下で、前記露光により受光エ
    レメントに感光蓄積された信号電荷を前記垂直転送路で
    転送読み出しすることを特徴とする請求項2又は請求項
    3に記載の固体撮像装置。
  5. 【請求項5】前記本撮影モードでは、前記チャネル障壁
    を高くした状態で前記垂直転送路による不要電荷の転送
    読み出しを行った後、前記露光により前記受光エレメン
    トに感光蓄積された信号電荷を前記垂直転送路で転送読
    み出しすることを特徴とする請求項2ないし請求項4の
    いずれか1項に記載の固体撮像装置。
  6. 【請求項6】 前記オーバーフロードレインが前記半導
    体基板の深さ方向に形成され、前記制御手段が前記半導
    体基板への印加電圧を制御することにより前記ポテンシ
    ャル障壁の高さを設定することを特徴とする請求項1な
    いし請求項5のいずれか1項に記載の固体撮像装置。
  7. 【請求項7】 前記オーバーフロードレインが前記半導
    体基板の横方向に形成され、前記オーバーフロードレイ
    ンと前記受光エレメント間のポテンシャル障壁の高さを
    調節する制御電圧が印加される転送ゲートが、前記オー
    バーフロードレインと前記受光エレメントとの間に形成
    されていることを特徴とする請求項1ないし請求項5の
    いずれか1項に記載の固体撮像装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009302349A (ja) * 2008-06-13 2009-12-24 Sharp Corp 増幅型固体撮像素子および電子情報機器
JP2021177522A (ja) * 2020-05-08 2021-11-11 浜松ホトニクス株式会社 光検出装置、及び光センサの駆動方法

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