JPH11248212A - クリーンルーム - Google Patents

クリーンルーム

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JPH11248212A
JPH11248212A JP5175698A JP5175698A JPH11248212A JP H11248212 A JPH11248212 A JP H11248212A JP 5175698 A JP5175698 A JP 5175698A JP 5175698 A JP5175698 A JP 5175698A JP H11248212 A JPH11248212 A JP H11248212A
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air
room
clean room
return
ceiling
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JP5175698A
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Masayuki Kaiho
真行 海保
Masahiro Hamamoto
雅啓 浜本
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Abstract

(57)【要約】 【課題】清浄室内の高精度な温度制御と、低コスト化を
実現できるクリーンルームを提供する。 【解決手段】空調された空気を供給するための給気口9
を、戻り流路12内または戻り流路下方の床下室3内に
設けて構成する。また、気流の混合を促進するための開
口板17を戻り流路内に設けて構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体工場などの
生産設備を設置する清浄な室を形成するためのクリーン
ルームに関するものである。
【0002】
【従来の技術】半導体工場においては、半導体の高集積
化に伴い、清浄度や温湿度などの環境条件をより高度な
レベルに制御することが要求されている。さらに、近年
の半導体の価格競争の激化から、クリーンルームの建設
コストすなわちイニシャルコスト、及び、クリーンルー
ム自体のランニングコストを低減することが要求されて
いる。
【0003】このような清浄度の高いクリーンルームを
実現する方式としては、図11に示すような全面ダウン
フロー方式がある。この方式では、天井室2内の空気
は、清浄室1の天井に設置されたファンフィルタユニッ
ト4の空気取入口7からファンフィルタユニット4内に
流入し、ファンフィルタユニット4内に設置された送風
機5によって昇圧され、高性能フィルタ6によって除塵
された後、清浄室1内に鉛直下向きに流れる。次に、清
浄室1のグレーチング床13を通って床下室3に流れ込
み、戻り流路12を経て天井室2に戻るという、循環流
を形成する。このような循環により、同じ空気が何度も
高性能フィルタ6により除塵されるため、クリーンルー
ムの運転を開始してからある一定時間を経過した後は清
浄室1内は高清浄度が保たれることになる。
【0004】清浄室1内には、様々な生産設備14が設
置されている。生産設備14においては、有毒なガスな
どを使用するため、安全のため、清浄室1内の空気を吸
入し処理の終わった有毒ガスとともに排気案内流路15
によりクリーンルーム外部に排気している。清浄室1内
の温度を所定の値に制御するために、外部への排気流量
にほぼ等しい流量の空気を複数の給気案内流路8により
天井室2内に搬送し、給気案内流路8に設置された給気
口9から供給空気10として供給する。各給気口9から
の流量を等しくするために、各給気口9にはダンパが設
置され各給気口からの流量を調整するのが一般的であ
る。クリーンルーム内の循環流は、清浄室1内の生産設
備14や床下室3内に設置された真空ポンプなどの補機
の熱負荷のため暖められるため、戻り空気11の温度は
清浄室1内の温度より若干高くなる。それを所定の温度
に戻すのに必要な温度に供給空気10の温度を制御する
ことにより、清浄室1内の温度は一定に保たれることに
なる。供給空気10の温度制御は、クリーンルーム外部
に設置された空調機で行われる。また、図11に示すよ
うに、暖かい戻り空気11と冷たい供給空気10の天井
室内での混合を促進するため、給気口9から天井室2内
に流れ込む供給空気10の向きを鉛直上向きにしたり各
給気口ごとに向きを変えたりするなどの工夫を凝らすの
が一般的である。
【0005】このような従来技術の一つとして、特開平
1−312338号公報が挙げられる。この従来技術で
は、天井室2内の給気案内流路8及び給気口9の位置
を、天井室2内の気流が旋回流を形成するように設定し
ており、その旋回流により戻り空気11と供給空気10
の混合を促進しようとしている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】天井室2の空間の有効
利用という観点から、従来は給気案内流路8を天井室2
内に設置するのが一般的であった。
【0007】つまり、図11に示したようなクリーンル
ームでは、戻り流路12とクリーンルームの中央部との
距離が長く、戻り流路12から天井室2へ流れ込む暖か
い空気がクリーンルーム中央部に届きにくいため、天井
室2内に温度むらが生じ、中央部に位置する給気案内流
路8から供給された冷たい供給空気10は、戻り流路1
2からの暖かい戻り空気11との混合が十分になされな
いまま、ファンフィルタユニット4の空気取入口7から
吸入され、清浄室1内へ放出されてしまう。逆に、戻り
流路12の近傍は混合は十分に行われるものの、暖かい
空気の割合が大きくなるため、所定の温度より高い温度
の空気が清浄室1内へ放出される。したがって、清浄室
1内の平均温度は所定の温度になると考えられるが、清
浄室1の中央部と戻り流路12の近傍とで温度むらが発
生し、例えば23℃±1℃などの清浄室1内の温度管理
範囲に制御できなくなってしまうという問題点がある。
【0008】上記特開平1−312338号公報に開示
されるクリーンルームでは、給気口9の位置と供給空気
10の流入方向に工夫を凝らし、供給空気10と戻り空
気11との混合が促進されるように、給気口9から天井
室2内へ流入した供給空気10が天井室2内で旋回流を
形成するようにしている。小・中規模のクリーンルーム
の場合、このような天井室2全体をカバーする大きな旋
回流を形成できる可能性があるが、大規模クリーンルー
ムのように、天井室2の大きさが大きいと、天井室2全
体をカバーするために、このような大きな旋回流を少な
い数の給気口9で形成するのは困難であり、給気口9の
数を増やし比較的小さい規模の旋回流を天井室2内に複
数形成する必要がある。さらに、図11に示したクリー
ンルームの場合と同様に暖かい戻り空気11が天井室2
の中央部に届きにくいため、天井室2の中央部付近では
供給空気10と戻り空気11との混合が十分でなく、天
井室2内に温度むらが生じる可能性が高い。
【0009】また、一つの給気口9により供給空気10
と天井室2内の空気とを混合できる範囲は、流入流速に
もよるがせいぜい周囲数mに限られるため、図11に示
した給気案内流路8の設置方法の場合、天井室2の体積
が大きい大規模クリーンルームでは、戻り空気11と供
給空気10の混合を十分に行なうのに、天井室2内へ設
置する給気案内流路8の本数が多くなってしまうという
問題点がある。特開平1−312338号公報にあるよ
うな天井室2内に旋回流を形成するものにおいても、前
述したように、大規模クリーンルームの場合、複数の旋
回流を天井室2内に形成することが必要となり、給気案
内流路8及び給気口9の数が多くなってしまうという問
題点がある。
【0010】さらに、図11に示すクリーンルームにお
いては、冷たい空気が下向きに流れやすいという自然対
流の効果を利用するため、冷たい供給空気10を上向き
に流入させているが、この場合、天井室2の高さが高い
方が大きな渦を形成できるため混合効果は大きく、戻り
空気11と供給空気10の混合を十分に行うには、天井
室2の高さを十分に取る必要がある。そのため、クリー
ンルームの建設コストが高くなってしまうという問題点
がある。
【0011】特に、近年、クリーンルームで製造される
半導体のコストを低減するため、半導体ウェハの面積が
大きくなっており、これに伴って製造装置も大型化して
装置の高さが高くなってきている。このため、クリーン
ルームも大型化せざるを得ず、天井の高いクリーンルー
ムが望まれるが、建設コストの上昇を招く結果となる。
一方で、コストを抑えるため天井室を小さくすると、従
来技術では、天井室で充分な空気の混合を行うことがで
きなくなる。
【0012】なお、特開平1−312338号公報に記
載されたクリーンルーム、特に水平方向に旋回流を形成
させる場合には、天井室2の高さが低い方が旋回流を形
成しやすいため、このような問題は生じないが、鉛直方
向に旋回流を形成させる場合には同様の問題が生じるこ
とが考えられる。
【0013】本発明の目的は、低コストで清浄室内の温
度を均一に制御できるクリーンルームを提供することに
ある。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、内部をそ
の天井側から床側へ向かい空気が流れる清浄室と、この
清浄室の下方に位置してグレーチング床により前記清浄
室と仕切られた床下室と、前記清浄室の上方に位置して
流れる空気を除塵するフィルタまたは天井板で前記清浄
室と仕切られた天井室と、前記床下室から前記天井室へ
連通し前記清浄室内の空気が前記天井室に流れる戻り流
路とを有するクリーンルームにおいて、前記戻り流路内
に設置され予め定められた条件に空気調和された空気を
供給する給気口を備えたことにより達成される。
【0015】さらに、給気口より下流の位置に、気流の
混合を促進するための開口板を設置することにより達成
される。
【0016】給気口から流す空調された空気の流れ方向
を水平方向または水平方向より上向きにすることにより
達成される。
【0017】給気口から流す空調された空気の流速を前
記戻り通路を流れる空気流の前記給気口の位置での流速
よりも速くすることにより達成される。
【0018】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図1から図10
を用いて説明する。
【0019】先ず、本発明の第1の実施例を図1及び図
2を参照して説明する。図1は、本発明に係るクリーン
ルームの第1の実施例を示す縦断面図である。図2は、
図1に示すクリーンルームの供給空気と戻り空気の混合
を模式的に説明する図である。
【0020】図1において、天井室2内の空気は、清浄
室1の天井に設置されたファンフィルタユニット4の空
気取入口7からファンフィルタユニット4内に流入し、
ファンフィルタユニット4内に設置された送風機5によ
って昇圧される。そして、高性能フィルタ6によって除
塵された後、清浄室1内に鉛直下向きに流れて、清浄室
1のグレーチング床13を通って床下室3に流れ込む。
床下室3に流入した空気は、戻り流路12を経て天井室
2に戻るという循環流を形成する。この空気の循環流の
温度は、清浄室1から床下室3にかけて生産設備や真空
ポンプなどの補機の熱負荷により暖められて、戻り流路
12内に戻り空気11として流入する。清浄室1内の温
度をある一定の温度に保つように空調された冷たい空気
は、戻り流路12内に設置された給気案内流路8により
搬送され給気口9から供給空気10として、戻り流路1
2内に水平方向より上向きに、且つ戻り空気11よりも
速い流速で放出される。そこで戻り空気11と供給空気
10との混合が起こる。
【0021】暖かい戻り空気11と冷たい供給空気10
との混合は、給気口9を戻り流路12の下部に設けてあ
るため、戻り流路12内を空気が流れる間にほぼ終了
し、天井室2内に流れ込むときには気流の温度はほぼ均
一で、ほぼ設定値通りになる。したがって、天井室2内
には温度むらは生じず、全てのファンフィルタユニット
4は等しい温度の空気を吸入し清浄室1内へ放出するこ
とになり、清浄室1内の温度も均一になる。戻り空気1
1が天井室2に流れ込む時点で温度が均一になっている
ことから、この効果は小・中・大規模クリーンルームの
いずれにおいても生じることになる。
【0022】また、図11に示したような従来技術で
は、天井室2内で供給空気10と戻り空気11の混合を
行なっていたため、天井室2内に大規模な渦を形成し混
合を促進するのに天井室2の高さを十分高くとる必要が
あった。しかし、本実施例では、戻り空気11が天井室
2に達した時点で温度が均一になっているため、天井室
2内に大規模な渦を形成する必要がなく、天井室2の高
さをファンフィルタユニット4のメンテナンスができる
程度の最小限の高さに低く抑えられ、クリーンルーム建
屋全体の高さを低減でき、低コストなクリーンルームを
実現できる。
【0023】さらに、本実施例によれば、戻り流路12
内に1本の給気案内流路8を設置すれば良く、給気案内
流路の本数は戻り通路の数に等しくなり、図1の場合に
は、左右合わせて2本となる。図11の従来技術による
実施例では、1本の給気案内流路8の周囲への影響範囲
の狭さから、給気案内流路本数は6本となっている。こ
の2例を比較すると4本の低減となり、給気案内流路そ
のもの及び給気案内流路工事費に関して低コスト化を実
現できる。この低減効果は、クリーンルームの規模が大
きい程大きくなる。
【0024】ここで、本実施例において、供給空気10
と戻り空気11との混合が戻り流路12内で終了する点
に関し、図2を用いて説明する。◆図2は、図1に示す
クリーンルームの供給空気と戻り空気の混合を模式的に
説明する図である。上述したように、供給空気10の流
速を戻り空気11の流速より速くすることにより、戻り
流路12内には図2に模式的に示した様な混合層19が
形成される。混合層19内では、供給空気10と戻り空
気11の流速が異なることに起因する乱流渦が発生する
ため、冷たい供給空気10と暖かい戻り空気11との混
合が促進される。したがって、給気案内流路8を戻り流
路12内のなるべく下方に設置することによって、戻り
空気11が天井室2に達するまでに、戻り空気11と供
給空気10との混合はほぼ終了することになる。
【0025】戻り流路12内へ給気案内流路8を設置し
たことによって、戻り流路12内の循環流の圧損が増加
しないかどうかという点である。この圧損が増加してし
まうと、ファンフィルタユニット4の必要動力が増大し
ファンフィルタユニットに要するランニングコストが増
加してしまうため、この点には注意を払う必要がある。
本発明において、戻り流路12内の循環流の圧損及びフ
ァンフィルタユニット4の動力を従来技術と比較して増
加させないようにするには、供給空気10を戻り流路1
2内に吹き込む角度を、図2に示したように、水平方向
より上向きにする必要がある。吹き込み角度を水平方向
より下にすると、戻り空気11に対向してしまうため、
戻り空気11に対して供給空気10が抵抗となり循環流
の圧損が増加し、ファンフィルタユニット4内の送風機
5の動力が増大するだけでなく、供給空気10にとって
も戻り空気11が抵抗となり、供給空気10を給気案内
流路8内に搬送するための動力が増大してしまう可能性
がある。
【0026】次に、本発明の第2の実施例を図3を用い
て説明する。ただし、図1に示す構成と同一である部分
については、その説明を省略する。
【0027】図1に示した本発明の第1実施例によれ
ば、戻り空気11が天井室2に達するまでに気流の温度
はぼぼ均一な値になると考えられるが、第1実施例では
給気案内流路8を戻り流路12の壁面の片側にしか設置
していないため、戻り流路12の長さにもよるが、反対
側の壁面に近い領域の温度が若干不均一になる可能性が
ある。それを防ぐための工夫を、図3に示す本発明の第
2実施例によるクリーンルームの縦断面図を用いて説明
する。本実施例では、戻り空気11と供給空気10との
混合を第1実施例よりもさらに確実に行うために、図1
に示す第1実施例における給気案内流路8と同じ位置の
他に、それと反対側の戻り流路12の壁面の、給気案内
流路8aの下流の位置に、2本めの給気案内流路8b及
び給気口9bを設けている。1本めの給気案内流路8a
からの供給空気10aのみでは、給気案内流路8aから
離れた領域の温度が若干高めになる可能性があるが、2
本めの給気案内流路8bからの供給空気10bにより、
その不均一を解消することができる。また、本実施例の
場合、第1実施例よりも給気案内流路8の本数が増えて
しまうという欠点がある。しかし、給気案内流路の数は
戻り流路12の数の倍であり、本実施例の場合には、図
11の従来方式と比べて2本の低減となる。この第2実
施例によれば、本発明の第2の課題である給気案内流路
本数の低減効果に関しては、第1実施例と比べて小さく
なるが、第1の課題である清浄室1内の温度の均一化に
対しては第1実施例よりも大きな効果を期待できる。
【0028】図3に示す第2実施例と同様に温度の均一
化に対する手段として、さらに図4乃至7に示すような
ものが考えられる。図4は、本発明に係るクリーンルー
ムに用いられる開口板の例を示す縦断面図である。本実
施例では、戻り空気11と供給空気10との混合を促進
するために、戻り流路12内に開口板17を設置してい
る。図5及び図6は、図4に示すクリーンルームの開口
板17の例を示す上面あるいは下面図である。図のよう
に、開口板17に開けられた穴は角状でも円状でも任意
の形状でよい。図の例では角状または円状の穴が規則的
に並んでいるが、必ずしも規則的である必要はない。た
だし、この開口板17は流速が大きい戻り流路12内に
設置されるので、圧損を少なくするため開口率は50%
以上あることが望ましい。この開口板17については、
特別なものを用意する必要はなく、清浄室1のグレーチ
ング床13を用いればよい。
【0029】図7を用いて本発明のクリーンルームにお
いて、戻り流路12内に設置される開口板17の効果の
説明をする。図7は開口板17近傍の戻り流路12内の
戻り空気11の流れを模式的に示す縦断面図で、解りや
すく拡大したものである。流れの様子を簡単のため2次
元的に描いてある。図に示すように気流は下から上に向
かって流れ、開口板17の部材を通り過ぎる。その際、
開口板17の下流側にカルマン渦18と呼ばれる渦が発
生する。実際の形状は3次元であるため、発生する渦は
カルマン渦とは呼べないが、それに相当する渦が発生す
る。開口板17の上流側に戻り空気11と供給空気10
の混合が十分でない領域があったとしても、この渦によ
り混合が促進されるので、開口板17の下流側で気流の
温度を均一にすることができる。このように、第3実施
例によれば、第2実施例と同様、清浄室1内の温度の均
一化に対して第1実施例よりも大きな効果が期待でき、
かつ、給気案内流路8の本数の低減に関しても第1実施
例と等しい効果がある。ただし、開口板17の費用分だ
けイニシャルコストが増加することになる。
【0030】次に、図8を用いて、本発明の第4の実施
例を説明する。図8は、本発明に係るクリーンルームの
第4の実施例を示す縦断面図である。
【0031】本実施例では、給気案内流路8の下流に2
枚の開口板17a・17bを設置している。2枚の開口
板17a・17bの戻り流路12内への設置方法として
は、図9の戻り流路内縦断面拡大図に示すように、開口
板17a・17bの部材が流れと垂直方向に同じ位置に
くるように設置してもよいし、図10に示すように、開
口板17a・17bの部材が流れと垂直方向に互い違い
の位置にくるように設置してもよい。この場合、上流側
からみて1枚目の開口板17aによって乱された流れ
が、2枚目の開口板17bによってさらに乱されるた
め、より良い供給空気10と戻り空気11の混合が得ら
れ、第1〜第3実施例よりも戻り空気11が天井室2に
達したときの温度の均一度は増し、清浄室1内のより一
層の温度の均一化を図ることができる。ただし、開口板
17の枚数は多いほど混合の度合は良くなるがコストは
上昇するので、総合的にコストを勘案して適切な枚数が
決定されるのが望ましい。
【0032】以上、本発明の実施例について説明した。
第2実施例に1枚または複数枚の開口板17を設置する
実施例も考えられ、さらに良好な供給空気10と戻り空
気11の混合を行なうことができる。また、上記実施例
では、給気案内流路8を戻り流路12内に設置したが、
供給空気10と戻り空気11の混合を促進する効果は、
給気案内流路8を、戻り流路12及び戻り流路12の下
方に位置する床下室3内からなる領域の任意の位置に設
置しても得られるものである。ただし、混合の効果は、
給気案内流路10を極力下方に設置するのが望ましい。
本発明の以上の実施例はいずれも、戻り流路12内に従
来よりも少ない本数の給気案内流路8を設置するだけ
で、天井室2に達したときの戻り空気11の温度の均一
化、さらには天井室2内全体及び清浄室1内全体の温度
の均一化を実現するもので、天井室2の高さの低減に関
しては、天井室2内の温度の均一化を図るために天井室
2の高さを高くする必要がある従来技術との比較におい
て生じる効果である。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、低コストで清浄室内の
温度を均一に制御できるクリーンルームを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例によるクリーンルームの縦
断面図。
【図2】本発明の供給空気と戻り空気の混合に関する説
明図。
【図3】本発明の第2実施例によるクリーンルームの縦
断面図。
【図4】本発明の第3実施例によるクリーンルームの縦
断面図。
【図5】本発明の第3実施例において用いる開口板の拡
大図。
【図6】本発明の第3実施例において用いる他の開口板
の拡大図。
【図7】本発明の第3実施例において用いる開口板の効
果の説明図。
【図8】本発明の第4実施例によるクリーンルームの縦
断面図。
【図9】本発明の第4実施例における開口板設置方法を
示す戻り流路内縦断面拡大図。
【図10】本発明の第4実施例における他の開口板設置
方法を示す戻り流路内縦断面拡大図。
【図11】従来技術によるクリーンルームの縦断面図。
【符号の説明】
1…清浄室、2…天井室、3…床下室、4…ファンフィ
ルタユニット、5…送風機、6…高性能フィルタ、7…
空気取入口、8・8a・8b…給気案内流路、9,9
a,9b…給気口、10,10a,10b…供給空気、
11…戻り空気、12…戻り流路、13…グレーチング
床、14…生産設備、15…排気案内流路、16…補
機、17,17a,17b…開口板、18…カルマン
渦、19…混合層。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】内部をその天井側から床側へ向かい空気が
    流れる床上室と、この床上室の下方に位置してグレーチ
    ング床により前記床上室と仕切られた床下室と、前記床
    上室の上方に位置して流れる空気を除塵するフィルタま
    たは天井板で前記床上室と仕切られた天井室と、前記床
    下室から前記天井室へ連通し前記床上室内の空気が前記
    天井室に流れる戻り流路とを有するクリーンルームにお
    いて、前記戻り流路内に設置され予め定められた条件に
    空気調和された空気を供給する給気口を備えたクリーン
    ルーム。
  2. 【請求項2】請求項1記載のクリーンルームにおいて、
    前記給気口より前記戻り通路を流れる空気の流れ方向下
    流の位置に設けられた複数の開口を有する開口板を備え
    たクリーンルーム。
  3. 【請求項3】請求項1に記載のクリーンルームにおい
    て、前記給気口から流す空気調和された空気の流れ方向
    を水平方向または水平方向より上向きにしたクリーンル
    ーム。
  4. 【請求項4】請求項1に記載のクリーンルームにおい
    て、前記給気口から流す空気調和された空気の流速を前
    記戻り通路を流れる空気の前記給気口の位置での流速よ
    りも速くしたクリーンルーム。
JP5175698A 1998-03-04 1998-03-04 クリーンルーム Pending JPH11248212A (ja)

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