JPH11242114A - 多層膜フィルタ - Google Patents
多層膜フィルタInfo
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- JPH11242114A JPH11242114A JP4318898A JP4318898A JPH11242114A JP H11242114 A JPH11242114 A JP H11242114A JP 4318898 A JP4318898 A JP 4318898A JP 4318898 A JP4318898 A JP 4318898A JP H11242114 A JPH11242114 A JP H11242114A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 入射角度が大きい場合においても偏光の発生
が抑制され、良好な光学特性が得られる多層膜フィルタ
を提供する。 【解決手段】 平板状の透光性ガラス基板１２の平坦な
主面上に二酸化チタンで構成された高屈折率薄膜１５H
と、二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合物質で構成
された低屈折率薄膜１５L とを、それぞれ制御波長の１
／４の膜厚で交互に積層して形成した誘電体多層膜１４
を被着してなるフィルタで、ガラス基板１２と誘電体多
層膜１４の間に、誘電体多層膜１４と同じ材料で形成し
た高屈折率薄膜１５H と低屈折率薄膜１５L とを、それ
ぞれ所定の膜厚で交互に積層して形成した接合層１３を
設けており、これにより、誘電体多層膜１４に光が斜入
射した場合でも偏光の発生が抑制され、光学特性が良好
なものとなる。
が抑制され、良好な光学特性が得られる多層膜フィルタ
を提供する。 【解決手段】 平板状の透光性ガラス基板１２の平坦な
主面上に二酸化チタンで構成された高屈折率薄膜１５H
と、二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合物質で構成
された低屈折率薄膜１５L とを、それぞれ制御波長の１
／４の膜厚で交互に積層して形成した誘電体多層膜１４
を被着してなるフィルタで、ガラス基板１２と誘電体多
層膜１４の間に、誘電体多層膜１４と同じ材料で形成し
た高屈折率薄膜１５H と低屈折率薄膜１５L とを、それ
ぞれ所定の膜厚で交互に積層して形成した接合層１３を
設けており、これにより、誘電体多層膜１４に光が斜入
射した場合でも偏光の発生が抑制され、光学特性が良好
なものとなる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、誘電体多層膜を設
けてなる多層膜フィルタに関する。
けてなる多層膜フィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】周知の通り、誘電体多層膜は眼鏡レンズ
表面に反射防止膜として被着して用いられたり、ガラス
基板上に被着してＴＶの色分解フィルタ等として一般に
用いられていた。一方、近年の機器のコンパクト化等の
観点から、例えば液晶プロジェクタやカメラなどに用い
られる色分解フィルタ、あるいはＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａ
ｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｋ）装置等に用いられ
るレーザー検出用ミラーとしてプリズム形状の２つのガ
ラス基板の間に誘電体多層膜を挟持し、誘電体多層膜に
光が角度を持って入射するような構成のものが必要にな
ってきている。
表面に反射防止膜として被着して用いられたり、ガラス
基板上に被着してＴＶの色分解フィルタ等として一般に
用いられていた。一方、近年の機器のコンパクト化等の
観点から、例えば液晶プロジェクタやカメラなどに用い
られる色分解フィルタ、あるいはＤＶＤ（Ｄｉｇｉｔａ
ｌ Ｖｅｒｓａｔｉｌｅ Ｄｉｓｋ）装置等に用いられ
るレーザー検出用ミラーとしてプリズム形状の２つのガ
ラス基板の間に誘電体多層膜を挟持し、誘電体多層膜に
光が角度を持って入射するような構成のものが必要にな
ってきている。
【０００３】これに対し、従来の多層膜フィルタとして
は、例えば図９に示すような特公昭５２−２４４１７号
公報の多層膜干渉フィルタがある。この多層膜干渉フィ
ルタは、蛍光顕微鏡用の紫外線発光光源を得るための構
成の１つとして、２枚のガラス基板１（屈折率ｎ＝１．
５２）の間にＺｎＳ（屈折率ｎ＝２．３３）の中間層２
を設け、この中間層２と両ガラス基板１との間にそれぞ
れ所定の光学膜厚を有する高屈折率層３（屈折率ｎ＝
２．３３）と低屈折率層４（屈折率ｎ＝１．３５）とを
交互に積層したものである。このように構成されたフィ
ルタは、高屈折率層３と低屈折率層４の多層膜に対して
光の入射角度が０度で用いられ、斜入射光に用いた場合
には偏光が発生する。
は、例えば図９に示すような特公昭５２−２４４１７号
公報の多層膜干渉フィルタがある。この多層膜干渉フィ
ルタは、蛍光顕微鏡用の紫外線発光光源を得るための構
成の１つとして、２枚のガラス基板１（屈折率ｎ＝１．
５２）の間にＺｎＳ（屈折率ｎ＝２．３３）の中間層２
を設け、この中間層２と両ガラス基板１との間にそれぞ
れ所定の光学膜厚を有する高屈折率層３（屈折率ｎ＝
２．３３）と低屈折率層４（屈折率ｎ＝１．３５）とを
交互に積層したものである。このように構成されたフィ
ルタは、高屈折率層３と低屈折率層４の多層膜に対して
光の入射角度が０度で用いられ、斜入射光に用いた場合
には偏光が発生する。
【０００４】また、図示しないが特開昭６３−１１６１
０６号公報に記載された光学多層膜がある。この光学多
層膜は、屈折率ｎ＝１．５１のＢＫ７（商標）のプリズ
ムの表面に二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）を蒸着源とし、イ
オンビームアシスト蒸着法で蒸着した高屈折率層と電子
ビーム法で蒸着した低屈折率層とを交互に２９層積層し
た赤反射フィルタである。そして、第１層と第２９層
は、イオンビームアシスト蒸着法で中心波長をλ0 とし
て光学膜厚が１．３×λ0 ／４となっており、第２層か
ら第２８層までの偶数層は、電子ビーム法で蒸着され光
学膜厚がλ0 ／４であり、第３層から第２７層までの奇
数層は、イオンビームアシスト蒸着法で蒸着され光学膜
厚がλ0 ／４であり、光学多層膜への入射角度θが１３
°となっている。また、この光学多層膜によれば、物体
から反射した光を青・緑・赤に分解する三色分解プリズ
ムに用いた場合にグリーンヘアー現象が起こりにくくな
り、さらにＴＶ画面上でプリズム系に角度依存性がある
場合に生じる色シェーディング現象が起こりにくいとし
ている。
０６号公報に記載された光学多層膜がある。この光学多
層膜は、屈折率ｎ＝１．５１のＢＫ７（商標）のプリズ
ムの表面に二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）を蒸着源とし、イ
オンビームアシスト蒸着法で蒸着した高屈折率層と電子
ビーム法で蒸着した低屈折率層とを交互に２９層積層し
た赤反射フィルタである。そして、第１層と第２９層
は、イオンビームアシスト蒸着法で中心波長をλ0 とし
て光学膜厚が１．３×λ0 ／４となっており、第２層か
ら第２８層までの偶数層は、電子ビーム法で蒸着され光
学膜厚がλ0 ／４であり、第３層から第２７層までの奇
数層は、イオンビームアシスト蒸着法で蒸着され光学膜
厚がλ0 ／４であり、光学多層膜への入射角度θが１３
°となっている。また、この光学多層膜によれば、物体
から反射した光を青・緑・赤に分解する三色分解プリズ
ムに用いた場合にグリーンヘアー現象が起こりにくくな
り、さらにＴＶ画面上でプリズム系に角度依存性がある
場合に生じる色シェーディング現象が起こりにくいとし
ている。
【０００５】しかし、このような構成のものでは、斜入
射した光を透過光と反射光に分離する場合、光の入射角
度が大きくなるにしたがい偏光が発生し、ｐ波、ｓ波が
分離して現れ透過帯幅が広くなり、入射角度が大きい場
合には使えない。またプリズムを用いたものでは、通
常、ｐ波またはｓ波の一方を使用するが、上記の光学多
層膜ではガラスと空気の媒質の違いが考慮された構成と
なっておらず、光学特性、特に透過率が一部で悪くなる
虞がある。
射した光を透過光と反射光に分離する場合、光の入射角
度が大きくなるにしたがい偏光が発生し、ｐ波、ｓ波が
分離して現れ透過帯幅が広くなり、入射角度が大きい場
合には使えない。またプリズムを用いたものでは、通
常、ｐ波またはｓ波の一方を使用するが、上記の光学多
層膜ではガラスと空気の媒質の違いが考慮された構成と
なっておらず、光学特性、特に透過率が一部で悪くなる
虞がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記のような状況に鑑
みて本発明はなされたもので、斜入射した光の入射角度
が大きい場合においても偏光の発生が抑制され、また媒
質がガラスあるいは空気であっても、所望の波長域での
透過特性のリップル（脈状変動）が小さくなる等の良好
な光学特性を有する多層膜フィルタを提供することを目
的とする。
みて本発明はなされたもので、斜入射した光の入射角度
が大きい場合においても偏光の発生が抑制され、また媒
質がガラスあるいは空気であっても、所望の波長域での
透過特性のリップル（脈状変動）が小さくなる等の良好
な光学特性を有する多層膜フィルタを提供することを目
的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の多層膜フィルタ
は、ガラス基板の平坦面に誘電体多層膜を被着してなる
多層膜フィルタにおいて、ガラス基板と誘電体多層膜の
間に高屈折率薄膜と低屈折率薄膜を交互に積層した接合
層を設けると共に、誘電体多層膜への光の入射角が１０
度以上４５度以下であることを特徴とするものであり、
さらに、接合層の高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の交互積
層した総層数が、２層以上１０層以下であることを特徴
とするものであり、また、第１のガラス基板の平坦面と
第２のガラス基板の平坦面の間に誘電体多層膜を挟持し
てなる多層膜フィルタにおいて、第１のガラス基板と誘
電体多層膜の間及び第２のガラス基板と誘電体多層膜の
間にそれぞれ高屈折率薄膜と低屈折率薄膜を交互に積層
した第１の接合層及び第２の接合層を設けたことを特徴
とするものであり、さらに、第１の接合層と第２の接合
層の交互積層した高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の総層数
が、２層以上１０層以下であることを特徴とするもので
あり、さらに、第１の接合層と第２の接合層とは、高屈
折率薄膜と低屈折率薄膜の交互積層数が同じであり、か
つ誘電体多層膜に対して対称となるように設けられてい
ることを特徴とするものであり、さらにまた、誘電体多
層膜への光の入射角が１０度以上４５度以下であること
を特徴とするものである。
は、ガラス基板の平坦面に誘電体多層膜を被着してなる
多層膜フィルタにおいて、ガラス基板と誘電体多層膜の
間に高屈折率薄膜と低屈折率薄膜を交互に積層した接合
層を設けると共に、誘電体多層膜への光の入射角が１０
度以上４５度以下であることを特徴とするものであり、
さらに、接合層の高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の交互積
層した総層数が、２層以上１０層以下であることを特徴
とするものであり、また、第１のガラス基板の平坦面と
第２のガラス基板の平坦面の間に誘電体多層膜を挟持し
てなる多層膜フィルタにおいて、第１のガラス基板と誘
電体多層膜の間及び第２のガラス基板と誘電体多層膜の
間にそれぞれ高屈折率薄膜と低屈折率薄膜を交互に積層
した第１の接合層及び第２の接合層を設けたことを特徴
とするものであり、さらに、第１の接合層と第２の接合
層の交互積層した高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の総層数
が、２層以上１０層以下であることを特徴とするもので
あり、さらに、第１の接合層と第２の接合層とは、高屈
折率薄膜と低屈折率薄膜の交互積層数が同じであり、か
つ誘電体多層膜に対して対称となるように設けられてい
ることを特徴とするものであり、さらにまた、誘電体多
層膜への光の入射角が１０度以上４５度以下であること
を特徴とするものである。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
を参照して説明する。
【０００９】先ず第１の実施形態を図１乃至図４により
説明する。図１は層構成を示す図で、図１（ａ）は模式
的に示す拡大断面図、図１（ｂ）は層構成を説明するた
めの図であり、図２は特性図であり、図３は第１の比較
例の層構成を示す図で、図３（ａ）は模式的に示す拡大
断面図、図３（ｂ）は層構成を説明するための図であ
り、図４は比較例の特性図である。
説明する。図１は層構成を示す図で、図１（ａ）は模式
的に示す拡大断面図、図１（ｂ）は層構成を説明するた
めの図であり、図２は特性図であり、図３は第１の比較
例の層構成を示す図で、図３（ａ）は模式的に示す拡大
断面図、図３（ｂ）は層構成を説明するための図であ
り、図４は比較例の特性図である。
【００１０】図１及び図２において、１１は多層膜フィ
ルタで、これは屈折率ｎ＝１．５２の透光性青板ガラス
でなる平板状のガラス基板１２の平坦な主面上に接合層
１３が被着されており、さらに接合層１３の上にダイク
ロイックミラー（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｍｉｒｒｏｒ；以
下、ダイクロミラーと記す）である誘電体多層膜１４が
被着された構成となっている。接合層１３は、二酸化チ
タン（ＴｉＯ2 ）で構成された高屈折率薄膜１５H と、
屈折率ｎ＝１．７０の二酸化チタンと酸化アルミニウム
（Ａｌ2 Ｏ3 ）の混合物質からなる低屈折率薄膜１５L
を、それぞれ図１（ｂ）に示す所定の膜厚を有するよう
成膜して交互に積層した構成となっている。すなわち、
接合層１３は、ガラス基板１２上に膜厚１．３６Ｌの低
屈折率薄膜１５L を成層し、さらにその上に膜厚１．３
６Ｈの高屈折率薄膜１５H 、膜厚１．０４Ｌの低屈折率
薄膜１５L 、膜厚１．１２Ｈの高屈折率薄膜１５H を成
層した４層の交互積層膜である。
ルタで、これは屈折率ｎ＝１．５２の透光性青板ガラス
でなる平板状のガラス基板１２の平坦な主面上に接合層
１３が被着されており、さらに接合層１３の上にダイク
ロイックミラー（ｄｉｃｈｒｏｉｃ ｍｉｒｒｏｒ；以
下、ダイクロミラーと記す）である誘電体多層膜１４が
被着された構成となっている。接合層１３は、二酸化チ
タン（ＴｉＯ2 ）で構成された高屈折率薄膜１５H と、
屈折率ｎ＝１．７０の二酸化チタンと酸化アルミニウム
（Ａｌ2 Ｏ3 ）の混合物質からなる低屈折率薄膜１５L
を、それぞれ図１（ｂ）に示す所定の膜厚を有するよう
成膜して交互に積層した構成となっている。すなわち、
接合層１３は、ガラス基板１２上に膜厚１．３６Ｌの低
屈折率薄膜１５L を成層し、さらにその上に膜厚１．３
６Ｈの高屈折率薄膜１５H 、膜厚１．０４Ｌの低屈折率
薄膜１５L 、膜厚１．１２Ｈの高屈折率薄膜１５H を成
層した４層の交互積層膜である。
【００１１】また、誘電体多層膜１４も接合層１３と同
様に、二酸化チタンで構成された高屈折率薄膜１５
H と、屈折率ｎ＝１．７０の二酸化チタンと酸化アルミ
ニウムの混合物質からなる低屈折率薄膜１５L を、それ
ぞれ所定の膜厚Ｈ，Ｌを有するよう成膜して交互に積層
した構成となっている。すなわち、誘電体多層膜１４
は、接合層１３の上に先ず膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L
を成層し、さらにその上に膜厚Ｈの高屈折率薄膜１
５H 、膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層し、その後、
膜厚Ｈの高屈折率薄膜１５H と膜厚Ｌの低屈折率薄膜１
５L とを交互に積層した２５層の交互積層膜である。
様に、二酸化チタンで構成された高屈折率薄膜１５
H と、屈折率ｎ＝１．７０の二酸化チタンと酸化アルミ
ニウムの混合物質からなる低屈折率薄膜１５L を、それ
ぞれ所定の膜厚Ｈ，Ｌを有するよう成膜して交互に積層
した構成となっている。すなわち、誘電体多層膜１４
は、接合層１３の上に先ず膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L
を成層し、さらにその上に膜厚Ｈの高屈折率薄膜１
５H 、膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層し、その後、
膜厚Ｈの高屈折率薄膜１５H と膜厚Ｌの低屈折率薄膜１
５L とを交互に積層した２５層の交互積層膜である。
【００１２】高屈折率薄膜１５H の膜厚Ｈと低屈折率薄
膜１５L の膜厚Ｌは、例えば６６０ｎｍの制御波長の１
／４の値である。また高屈折率薄膜１５H 、低屈折率薄
膜１５L の成膜は、二酸化チタン及び二酸化チタンと酸
化アルミニウムの混合物質をそれぞれ蒸着源とした公知
の真空蒸着法により行われているが、ＣＶＤ法やスパッ
タ法、イオンプレーティング法により成膜するようにし
てもよい。
膜１５L の膜厚Ｌは、例えば６６０ｎｍの制御波長の１
／４の値である。また高屈折率薄膜１５H 、低屈折率薄
膜１５L の成膜は、二酸化チタン及び二酸化チタンと酸
化アルミニウムの混合物質をそれぞれ蒸着源とした公知
の真空蒸着法により行われているが、ＣＶＤ法やスパッ
タ法、イオンプレーティング法により成膜するようにし
てもよい。
【００１３】そして、このようにガラス基板１２上に接
合膜１３とダイクロミラーの誘電体多層膜１４を成膜し
た多層膜フィルタ１１に対し、光を３０度の入射角で入
射させたときの透過率特性は図２に実線で示した特性線
Ｐの通りで、所要とする５６０ｎｍ以下の波長領域での
透過特性はリップルが小さく、透過率は安定した高い値
となっている。また、図示しないが、入射角が０度から
１０度までの偏光が少ない範囲及び１０度以上約４５度
まででも透過特性はリップルが小さく透過率も安定的に
高くなる。なお、上記の実施形態では５６０ｎｍ以下の
波長領域での透過率が高いフィルタを得ようとしてお
り、５６０ｎｍから６００ｎｍの波長の間で透過率が急
激に減少したものとなっている。
合膜１３とダイクロミラーの誘電体多層膜１４を成膜し
た多層膜フィルタ１１に対し、光を３０度の入射角で入
射させたときの透過率特性は図２に実線で示した特性線
Ｐの通りで、所要とする５６０ｎｍ以下の波長領域での
透過特性はリップルが小さく、透過率は安定した高い値
となっている。また、図示しないが、入射角が０度から
１０度までの偏光が少ない範囲及び１０度以上約４５度
まででも透過特性はリップルが小さく透過率も安定的に
高くなる。なお、上記の実施形態では５６０ｎｍ以下の
波長領域での透過率が高いフィルタを得ようとしてお
り、５６０ｎｍから６００ｎｍの波長の間で透過率が急
激に減少したものとなっている。
【００１４】一方、上記の第１の実施形態に対し、図３
に示すような接合層１３を有しない第１の比較例を形成
した。以下、本比較例について、第１の実施形態と同一
部分には同一符号を付して説明を省略し、異なる構成に
ついて説明する。すなわち、図３において、本比較例の
多層膜フィルタ１６は、ガラス基板１２の平坦な主面上
にダイクロミラーである誘電体多層膜１４が被着されて
いる。誘電体多層膜１４は、二酸化チタンで構成された
高屈折率薄膜１５H と、屈折率ｎ＝１．７０の二酸化チ
タンと酸化アルミニウムの混合物質からなる低屈折率薄
膜１５L を、それぞれ膜厚Ｈ，Ｌを有するよう成膜して
交互に２５層積層した構成となっている。この膜厚Ｈ，
Ｌは、上記したものと同様に６６０ｎｍの制御波長の１
／４の値である。
に示すような接合層１３を有しない第１の比較例を形成
した。以下、本比較例について、第１の実施形態と同一
部分には同一符号を付して説明を省略し、異なる構成に
ついて説明する。すなわち、図３において、本比較例の
多層膜フィルタ１６は、ガラス基板１２の平坦な主面上
にダイクロミラーである誘電体多層膜１４が被着されて
いる。誘電体多層膜１４は、二酸化チタンで構成された
高屈折率薄膜１５H と、屈折率ｎ＝１．７０の二酸化チ
タンと酸化アルミニウムの混合物質からなる低屈折率薄
膜１５L を、それぞれ膜厚Ｈ，Ｌを有するよう成膜して
交互に２５層積層した構成となっている。この膜厚Ｈ，
Ｌは、上記したものと同様に６６０ｎｍの制御波長の１
／４の値である。
【００１５】そして、このようにガラス基板１２上に誘
電体多層膜１４のみを成膜したものに対し、光を３０度
の入射角で入射させたときの透過率特性は図４に実線で
示した特性線Ｑの通りで、波長が５６０ｎｍ以下の領域
での透過特性はリップルが大きく、また透過率は比較的
低い値となっている。さらに、図示しないが本比較例で
は、入射角が偏光がない０度から１０度未満の範囲で透
過特性のリップルは小さいが、入射角が１０度以上にな
るとリップルが大きくなる。
電体多層膜１４のみを成膜したものに対し、光を３０度
の入射角で入射させたときの透過率特性は図４に実線で
示した特性線Ｑの通りで、波長が５６０ｎｍ以下の領域
での透過特性はリップルが大きく、また透過率は比較的
低い値となっている。さらに、図示しないが本比較例で
は、入射角が偏光がない０度から１０度未満の範囲で透
過特性のリップルは小さいが、入射角が１０度以上にな
るとリップルが大きくなる。
【００１６】この結果、本実施形態のようにガラス基板
１２と誘電体多層膜１４の間に４層構成の接合層１３を
設けることにより、光が斜め方向から入射した場合にお
いても所要の波長領域５６０ｎｍ以下で、透過特性はリ
ップルが小さく高い透過率を得ることができ、入射角の
広い範囲で良好な光学特性が得られる。また、この接合
層１３を設けることによる透過特性のリップルが小さく
なる効果は入射角が１０度以上になった場合に現れ、さ
らに入射角が約４５度までの範囲で同様の効果が十分に
得られる。そして入射角が１０度未満の偏光が少ない場
合には、接合層１３の有無にかかわらず透過率のリップ
ルが小さい。このため、１０度以上の入射角で用いるも
のに対し本実施形態は特に有効である。なお、接合層１
３を４層で構成したが、２層以上設けることによって効
果が得られ、さらに層数を多く設けることによって効果
が増大するが、層数が多いとコストが上昇するため、実
用的には２層から最大１０層程度設けるのが最適であ
る。
１２と誘電体多層膜１４の間に４層構成の接合層１３を
設けることにより、光が斜め方向から入射した場合にお
いても所要の波長領域５６０ｎｍ以下で、透過特性はリ
ップルが小さく高い透過率を得ることができ、入射角の
広い範囲で良好な光学特性が得られる。また、この接合
層１３を設けることによる透過特性のリップルが小さく
なる効果は入射角が１０度以上になった場合に現れ、さ
らに入射角が約４５度までの範囲で同様の効果が十分に
得られる。そして入射角が１０度未満の偏光が少ない場
合には、接合層１３の有無にかかわらず透過率のリップ
ルが小さい。このため、１０度以上の入射角で用いるも
のに対し本実施形態は特に有効である。なお、接合層１
３を４層で構成したが、２層以上設けることによって効
果が得られ、さらに層数を多く設けることによって効果
が増大するが、層数が多いとコストが上昇するため、実
用的には２層から最大１０層程度設けるのが最適であ
る。
【００１７】次に、第２の実施形態を図５及び図６と、
上記した図２及び図４により説明する。なお、第１の実
施形態と同一部分には同一符号を付して説明を省略し、
異なる本実施形態の構成について説明する。図５は層構
成を示す図で、図５（ａ）は模式的に示す拡大断面図、
図５（ｂ）は層構成を説明するための図であり、図６は
第２の比較例の層構成を示す図で、図６（ａ）は模式的
に示す拡大断面図、図６（ｂ）は層構成を説明するため
の図である。
上記した図２及び図４により説明する。なお、第１の実
施形態と同一部分には同一符号を付して説明を省略し、
異なる本実施形態の構成について説明する。図５は層構
成を示す図で、図５（ａ）は模式的に示す拡大断面図、
図５（ｂ）は層構成を説明するための図であり、図６は
第２の比較例の層構成を示す図で、図６（ａ）は模式的
に示す拡大断面図、図６（ｂ）は層構成を説明するため
の図である。
【００１８】図５において、１７は多層膜フィルタで、
これは屈折率ｎ＝１．５２の透光性青板ガラスでなる平
板状の２枚の第１及び第２のガラス基板１２ａ，１２ｂ
の間に、第１の接合層１３ａ、ダイクロミラーである誘
電体多層膜１４、第２の接合層１３ｂを設けた構成とな
っている。そして、詳しくは第１のガラス基板１２ａの
平坦な主面上に第１の接合層１３ａが被着されており、
さらに第１の接合層１３ａの上に誘電体多層膜１４が被
着され、さらに誘電体多層膜１４の上に第２の接合層１
３ｂが被着され、第２の接合層１３ｂの上に第２のガラ
ス基板１２ｂが接着剤１８により接着された構成となっ
ている。なお、接着剤１８は、屈折率ｎ＝１．５２程度
の紫外線で硬化するアクリル樹脂系のもので、接着厚さ
が約１μｍとなっている。
これは屈折率ｎ＝１．５２の透光性青板ガラスでなる平
板状の２枚の第１及び第２のガラス基板１２ａ，１２ｂ
の間に、第１の接合層１３ａ、ダイクロミラーである誘
電体多層膜１４、第２の接合層１３ｂを設けた構成とな
っている。そして、詳しくは第１のガラス基板１２ａの
平坦な主面上に第１の接合層１３ａが被着されており、
さらに第１の接合層１３ａの上に誘電体多層膜１４が被
着され、さらに誘電体多層膜１４の上に第２の接合層１
３ｂが被着され、第２の接合層１３ｂの上に第２のガラ
ス基板１２ｂが接着剤１８により接着された構成となっ
ている。なお、接着剤１８は、屈折率ｎ＝１．５２程度
の紫外線で硬化するアクリル樹脂系のもので、接着厚さ
が約１μｍとなっている。
【００１９】そして第１の接合層１３ａ、誘電体多層膜
１４、第２の接合層１３ｂは、それぞれ二酸化チタンで
構成された高屈折率薄膜１５H と、屈折率ｎ＝１．７０
の二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合物質からなる
低屈折率薄膜１５L を、それぞれ図５（ｂ）に示す所定
の膜厚を有するよう成膜して交互に積層した構成となっ
ている。すなわち、第１の接合層１３ａは、第１のガラ
ス基板１２ａ上に膜厚１．３６Ｌの低屈折率薄膜１５L
を成層し、さらにその上に膜厚１．３６Ｈの高屈折率薄
膜１５H 、膜厚１．０４Ｌの低屈折率薄膜１５L 、膜厚
１．１２Ｈの高屈折率薄膜１５H を成層した４層の交互
積層膜である。
１４、第２の接合層１３ｂは、それぞれ二酸化チタンで
構成された高屈折率薄膜１５H と、屈折率ｎ＝１．７０
の二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合物質からなる
低屈折率薄膜１５L を、それぞれ図５（ｂ）に示す所定
の膜厚を有するよう成膜して交互に積層した構成となっ
ている。すなわち、第１の接合層１３ａは、第１のガラ
ス基板１２ａ上に膜厚１．３６Ｌの低屈折率薄膜１５L
を成層し、さらにその上に膜厚１．３６Ｈの高屈折率薄
膜１５H 、膜厚１．０４Ｌの低屈折率薄膜１５L 、膜厚
１．１２Ｈの高屈折率薄膜１５H を成層した４層の交互
積層膜である。
【００２０】また誘電体多層膜１４は、第１の接合層１
３ａの上に膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L 、膜厚Ｈの高屈
折率薄膜１５H 、膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、その後、膜厚Ｈの高屈折率薄膜１５H と膜厚Ｌの低
屈折率薄膜１５L とを交互に積層した２５層の交互積層
膜である。さらに、第２の接合層１３ｂは、誘電体多層
膜１４上に第１の接合層１３ａとは構成が対称となるよ
う成膜がなされていて、膜厚１．１２Ｈの高屈折率薄膜
１５H 、膜厚１．０４Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、さらにその上に膜厚１．３６Ｈの高屈折率薄膜１５
H 、膜厚１．３６Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層した４
層の交互積層膜である。また、ここで高屈折率薄膜１５
H の膜厚Ｈと低屈折率薄膜１５L の膜厚Ｌは、例えば６
６０ｎｍの制御波長の１／４の値で、第１の実施形態と
同様、例えば公知の真空蒸着法により各膜が成膜されて
いる。
３ａの上に膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L 、膜厚Ｈの高屈
折率薄膜１５H 、膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、その後、膜厚Ｈの高屈折率薄膜１５H と膜厚Ｌの低
屈折率薄膜１５L とを交互に積層した２５層の交互積層
膜である。さらに、第２の接合層１３ｂは、誘電体多層
膜１４上に第１の接合層１３ａとは構成が対称となるよ
う成膜がなされていて、膜厚１．１２Ｈの高屈折率薄膜
１５H 、膜厚１．０４Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、さらにその上に膜厚１．３６Ｈの高屈折率薄膜１５
H 、膜厚１．３６Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層した４
層の交互積層膜である。また、ここで高屈折率薄膜１５
H の膜厚Ｈと低屈折率薄膜１５L の膜厚Ｌは、例えば６
６０ｎｍの制御波長の１／４の値で、第１の実施形態と
同様、例えば公知の真空蒸着法により各膜が成膜されて
いる。
【００２１】そして、このように第１及び第２のガラス
基板１２ａ，１２ｂの間に、第１の接合層１３ａ、誘電
体多層膜１４、第２の接合層１３ｂを設けた構成の多層
膜フィルタ１７に対し、光を３０度の入射角で入射させ
たときの透過率特性は図２に破線で示した特性線Ｒの通
りで、所要とする５４０ｎｍ以下の波長領域での透過特
性はリップルが上記の第１の実施形態におけるよりもさ
らに小さく、より安定した高い値となっている。また、
図示しないが、本実施形態においても入射角が０度から
１０度までの偏光が少ない範囲及び１０度以上約４５度
まででも透過特性のリップルが小さく透過率も安定的に
高くなる。なお、上記の実施形態では５４０ｎｍ以下の
波長領域での透過率が高いフィルタを得ようとしてお
り、５４０ｎｍから５８０ｎｍの波長の間で透過率が急
激に減少したものとなっている。
基板１２ａ，１２ｂの間に、第１の接合層１３ａ、誘電
体多層膜１４、第２の接合層１３ｂを設けた構成の多層
膜フィルタ１７に対し、光を３０度の入射角で入射させ
たときの透過率特性は図２に破線で示した特性線Ｒの通
りで、所要とする５４０ｎｍ以下の波長領域での透過特
性はリップルが上記の第１の実施形態におけるよりもさ
らに小さく、より安定した高い値となっている。また、
図示しないが、本実施形態においても入射角が０度から
１０度までの偏光が少ない範囲及び１０度以上約４５度
まででも透過特性のリップルが小さく透過率も安定的に
高くなる。なお、上記の実施形態では５４０ｎｍ以下の
波長領域での透過率が高いフィルタを得ようとしてお
り、５４０ｎｍから５８０ｎｍの波長の間で透過率が急
激に減少したものとなっている。
【００２２】一方、上記の第２の実施形態に対し、図６
に示すような第１及び第２の接合膜１３ａ，１３ｂを有
しない第２の比較例を形成した。以下、本比較例につい
て、第２の実施形態と同一部分には同一符号を付して説
明を省略し、異なる構成について説明する。すなわち、
図６において、本比較例の多層膜フィルタ１９は、第１
のガラス基板１２ａの平坦な主面上にダイクロミラーで
ある誘電体多層膜１４が被着されていて、誘電体多層膜
１４の上に第２のガラス基板１２ｂが接着剤１８により
接着された構成となっている。誘電体多層膜１４は、二
酸化チタンで構成された高屈折率薄膜１５H と、屈折率
ｎ＝１．７０の二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合
物質からなる低屈折率薄膜１５L を、それぞれ膜厚Ｈ，
Ｌを有するよう成膜して交互に２５層積層した構成とな
っている。この膜厚Ｈ，Ｌは、上記したものと同様に６
６０ｎｍの制御波長の１／４の値である。
に示すような第１及び第２の接合膜１３ａ，１３ｂを有
しない第２の比較例を形成した。以下、本比較例につい
て、第２の実施形態と同一部分には同一符号を付して説
明を省略し、異なる構成について説明する。すなわち、
図６において、本比較例の多層膜フィルタ１９は、第１
のガラス基板１２ａの平坦な主面上にダイクロミラーで
ある誘電体多層膜１４が被着されていて、誘電体多層膜
１４の上に第２のガラス基板１２ｂが接着剤１８により
接着された構成となっている。誘電体多層膜１４は、二
酸化チタンで構成された高屈折率薄膜１５H と、屈折率
ｎ＝１．７０の二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合
物質からなる低屈折率薄膜１５L を、それぞれ膜厚Ｈ，
Ｌを有するよう成膜して交互に２５層積層した構成とな
っている。この膜厚Ｈ，Ｌは、上記したものと同様に６
６０ｎｍの制御波長の１／４の値である。
【００２３】そして、このように第１及び第２のガラス
基板１２ａ，１２ｂの間に誘電体多層膜１４のみを設け
た多層膜フィルタ１９に対し、光を３０度の入射角で入
射させたときの透過率特性は図４に破線で示した特性線
Ｓの通りで、波長が５４０ｎｍ以下の領域での透過特性
はリップルが大きく、また透過率も比較的低い値となっ
ている。さらに、図示しないが本比較例では、入射角が
偏光がない０度から１０度未満の範囲でリップルは小さ
いが、入射角が１０度以上になるとリップルが大きくな
る。
基板１２ａ，１２ｂの間に誘電体多層膜１４のみを設け
た多層膜フィルタ１９に対し、光を３０度の入射角で入
射させたときの透過率特性は図４に破線で示した特性線
Ｓの通りで、波長が５４０ｎｍ以下の領域での透過特性
はリップルが大きく、また透過率も比較的低い値となっ
ている。さらに、図示しないが本比較例では、入射角が
偏光がない０度から１０度未満の範囲でリップルは小さ
いが、入射角が１０度以上になるとリップルが大きくな
る。
【００２４】この結果、本実施形態のように第１及び第
２のガラス基板１２ａ，１２ｂの間に第１の接合層１３
ａ、誘電体多層膜１４、第２の接合層１３ｂを、第１の
接合層１３ａと第２の接合層１３ｂが誘電体多層膜１４
に対し対称に配置されるように設けることにより、光が
斜め方向から入射した場合においても所要の波長領域５
４０ｎｍ以下で、リップルがより小さく高い透過率を得
ることができ、入射角の広い範囲でより良好な光学特性
が得られる。
２のガラス基板１２ａ，１２ｂの間に第１の接合層１３
ａ、誘電体多層膜１４、第２の接合層１３ｂを、第１の
接合層１３ａと第２の接合層１３ｂが誘電体多層膜１４
に対し対称に配置されるように設けることにより、光が
斜め方向から入射した場合においても所要の波長領域５
４０ｎｍ以下で、リップルがより小さく高い透過率を得
ることができ、入射角の広い範囲でより良好な光学特性
が得られる。
【００２５】また、この第１及び第２の接合膜１３ａ，
１３ｂを誘電体多層膜１４に対し対称となるようそれぞ
れ設けることによる透過特性のリップルが小さくなる効
果は入射角が１０度以上になった場合に現れ、さらに入
射角が約４５度までの範囲で同様の効果が十分に得られ
る。そして入射角が１０度未満の偏光が少ない場合に
は、第１及び第２の接合膜１３ａ，１３ｂの有無にかか
わらず透過率のリップルが小さい。このため、１０度以
上の入射角で用いるものに対し本実施形態は特により有
効である。なお、第１及び第２の接合膜１３ａ，１３ｂ
を合計８層の構成としたが、２層以上設けることによっ
て効果が得られ、さらに層数を多く設けることによって
効果が増大するが、層数が多いとコストが上昇するた
め、実用的には２層から最大１０層程度設けるのが最適
である。
１３ｂを誘電体多層膜１４に対し対称となるようそれぞ
れ設けることによる透過特性のリップルが小さくなる効
果は入射角が１０度以上になった場合に現れ、さらに入
射角が約４５度までの範囲で同様の効果が十分に得られ
る。そして入射角が１０度未満の偏光が少ない場合に
は、第１及び第２の接合膜１３ａ，１３ｂの有無にかか
わらず透過率のリップルが小さい。このため、１０度以
上の入射角で用いるものに対し本実施形態は特により有
効である。なお、第１及び第２の接合膜１３ａ，１３ｂ
を合計８層の構成としたが、２層以上設けることによっ
て効果が得られ、さらに層数を多く設けることによって
効果が増大するが、層数が多いとコストが上昇するた
め、実用的には２層から最大１０層程度設けるのが最適
である。
【００２６】次に、第３の実施形態を図７及び図８によ
り説明する。図７は概略構成を示す図で、図７（ａ）は
斜視図、図７（ｂ）は部分断面図であり、図８は層構成
を示す図で、図８（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図
８（ｂ）は層構成を説明するための図である。
り説明する。図７は概略構成を示す図で、図７（ａ）は
斜視図、図７（ｂ）は部分断面図であり、図８は層構成
を示す図で、図８（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図
８（ｂ）は層構成を説明するための図である。
【００２７】図７及び図８において、２０は多層膜フィ
ルタで、これは屈折率ｎ＝１．５１のＢＫ７（商標）で
形成された４５度の三角プリズムである２つの第１及び
第２のガラス基板２１ａ，２１ｂの間に、第１の接合層
２２ａ、青反射ミラーである誘電体多層膜２３、第２の
接合層２２ｂを設けた構成となっている。そして、詳し
くは第１のガラス基板２１ａの平坦な最大面上に第１の
接合層２２ａが被着されており、さらに第１の接合層２
２ａの上に誘電体多層膜２３が被着され、さらに誘電体
多層膜２３の上に第２の接合層２２ｂが被着され、第２
の接合層２２ｂの上に第２のガラス基板２１ｂが接着剤
２４により接着された構成となっている。なお、接着剤
２４は、屈折率ｎ＝１．５２程度の紫外線で硬化するア
クリル樹脂系のもので、接着厚さが約１μｍとなってい
る。
ルタで、これは屈折率ｎ＝１．５１のＢＫ７（商標）で
形成された４５度の三角プリズムである２つの第１及び
第２のガラス基板２１ａ，２１ｂの間に、第１の接合層
２２ａ、青反射ミラーである誘電体多層膜２３、第２の
接合層２２ｂを設けた構成となっている。そして、詳し
くは第１のガラス基板２１ａの平坦な最大面上に第１の
接合層２２ａが被着されており、さらに第１の接合層２
２ａの上に誘電体多層膜２３が被着され、さらに誘電体
多層膜２３の上に第２の接合層２２ｂが被着され、第２
の接合層２２ｂの上に第２のガラス基板２１ｂが接着剤
２４により接着された構成となっている。なお、接着剤
２４は、屈折率ｎ＝１．５２程度の紫外線で硬化するア
クリル樹脂系のもので、接着厚さが約１μｍとなってい
る。
【００２８】そして第１の接合層２２ａ、誘電体多層膜
２３、第２の接合層２２ｂは、それぞれ二酸化チタンで
構成された高屈折率薄膜１５H と、屈折率ｎ＝１．７０
の二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合物質からなる
低屈折率薄膜１５L を、それぞれ図８（ｂ）に示す所定
の膜厚を有するよう成膜して交互に積層した構成となっ
ている。すなわち、第１の接合層２２ａは、第１のガラ
ス基板２１ａ上に膜厚０．４８Ｈの高屈折率薄膜１５H
を成層し、さらにその上に膜厚０．９２Ｌの低屈折率薄
膜１５L 、膜厚０．８８Ｈの高屈折率薄膜１５H を成層
した３層の交互積層膜である。
２３、第２の接合層２２ｂは、それぞれ二酸化チタンで
構成された高屈折率薄膜１５H と、屈折率ｎ＝１．７０
の二酸化チタンと酸化アルミニウムの混合物質からなる
低屈折率薄膜１５L を、それぞれ図８（ｂ）に示す所定
の膜厚を有するよう成膜して交互に積層した構成となっ
ている。すなわち、第１の接合層２２ａは、第１のガラ
ス基板２１ａ上に膜厚０．４８Ｈの高屈折率薄膜１５H
を成層し、さらにその上に膜厚０．９２Ｌの低屈折率薄
膜１５L 、膜厚０．８８Ｈの高屈折率薄膜１５H を成層
した３層の交互積層膜である。
【００２９】また誘電体多層膜２３は、第１の接合層２
２ａの上に膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L 、膜厚Ｈの高屈
折率薄膜１５H 、膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、その後、膜厚Ｈの高屈折率薄膜１５H と膜厚Ｌの低
屈折率薄膜１５L とを交互に積層した２５層の交互積層
膜である。さらに、第２の接合層２２ｂは、誘電体多層
膜２３上に第１の接合層２２ａとは構成が対称となるよ
う成膜がなされていて、膜厚０．８８Ｈの高屈折率薄膜
１５H 、膜厚０．９２Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、さらにその上に膜厚０．４８Ｈの高屈折率薄膜１５
H を成層した３層の交互積層膜である。また、ここで高
屈折率薄膜１５H の膜厚Ｈと低屈折率薄膜１５L の膜厚
Ｌは、例えば４５０ｎｍの制御波長の１／４の値で、第
１の実施形態と同様、例えば公知の真空蒸着法により各
膜が成膜されている。
２ａの上に膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L 、膜厚Ｈの高屈
折率薄膜１５H 、膜厚Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、その後、膜厚Ｈの高屈折率薄膜１５H と膜厚Ｌの低
屈折率薄膜１５L とを交互に積層した２５層の交互積層
膜である。さらに、第２の接合層２２ｂは、誘電体多層
膜２３上に第１の接合層２２ａとは構成が対称となるよ
う成膜がなされていて、膜厚０．８８Ｈの高屈折率薄膜
１５H 、膜厚０．９２Ｌの低屈折率薄膜１５L を成層
し、さらにその上に膜厚０．４８Ｈの高屈折率薄膜１５
H を成層した３層の交互積層膜である。また、ここで高
屈折率薄膜１５H の膜厚Ｈと低屈折率薄膜１５L の膜厚
Ｌは、例えば４５０ｎｍの制御波長の１／４の値で、第
１の実施形態と同様、例えば公知の真空蒸着法により各
膜が成膜されている。
【００３０】そして、このように第１及び第２のガラス
基板２１ａ，２１ｂの間に、第１の接合層２２ａ、誘電
体多層膜２３、第２の接合層２２ｂを設けた構成の多層
膜フィルタ２０に対し、誘電体多層膜２３に光が４５度
の入射角で入射するようにしたとき、その透過率特性は
図示しないが上記の各実施形態と同様に所定の波長領域
での透過特性はリップルが小さく、透過率は安定した高
い値となり、本実施形態においても入射角の広い範囲で
良好な光学特性が得られた。なお、第１及び第２の接合
膜２２ａ，２２ｂを合計６層の構成としたが、２層以上
設けることによって効果が得られ、さらに層数を多く設
けることによって効果が増大するが、層数が多いとコス
トが上昇するため、実用的には２層から最大１０層程度
設けるのが最適である。
基板２１ａ，２１ｂの間に、第１の接合層２２ａ、誘電
体多層膜２３、第２の接合層２２ｂを設けた構成の多層
膜フィルタ２０に対し、誘電体多層膜２３に光が４５度
の入射角で入射するようにしたとき、その透過率特性は
図示しないが上記の各実施形態と同様に所定の波長領域
での透過特性はリップルが小さく、透過率は安定した高
い値となり、本実施形態においても入射角の広い範囲で
良好な光学特性が得られた。なお、第１及び第２の接合
膜２２ａ，２２ｂを合計６層の構成としたが、２層以上
設けることによって効果が得られ、さらに層数を多く設
けることによって効果が増大するが、層数が多いとコス
トが上昇するため、実用的には２層から最大１０層程度
設けるのが最適である。
【００３１】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、入射角度が大きい場合においても偏光の発生
が抑制され、また媒質にかかわらず所望波長域での透過
特性のリップルが小さくなるなど入射角度の広い範囲で
良好な光学特性を有する等の効果を奏する。
によれば、入射角度が大きい場合においても偏光の発生
が抑制され、また媒質にかかわらず所望波長域での透過
特性のリップルが小さくなるなど入射角度の広い範囲で
良好な光学特性を有する等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態の層構成を示す図で、
図１（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図１（ｂ）は層
構成を説明するための図である。
図１（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図１（ｂ）は層
構成を説明するための図である。
【図２】本発明の実施形態の特性図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に対し比較のために示
す第１の比較例の層構成を示す図で、図３（ａ）は模式
的に示す拡大断面図、図３（ｂ）は層構成を説明するた
めの図である。
す第１の比較例の層構成を示す図で、図３（ａ）は模式
的に示す拡大断面図、図３（ｂ）は層構成を説明するた
めの図である。
【図４】本発明の実施形態に対し比較のために示す比較
例の特性図である。
例の特性図である。
【図５】本発明の第２の実施形態の層構成を示す図で、
図５（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図１（ｂ）は層
構成を説明するための図である。
図５（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図１（ｂ）は層
構成を説明するための図である。
【図６】本発明の第２の実施形態に対し比較のために示
す第２の比較例の層構成を示す図で、図６（ａ）は模式
的に示す拡大断面図、図６（ｂ）は層構成を説明するた
めの図である。
す第２の比較例の層構成を示す図で、図６（ａ）は模式
的に示す拡大断面図、図６（ｂ）は層構成を説明するた
めの図である。
【図７】本発明の第３の実施形態の概略構成を示す図
で、図７（ａ）は斜視図、図７（ｂ）は部分断面図であ
る。
で、図７（ａ）は斜視図、図７（ｂ）は部分断面図であ
る。
【図８】本発明の第３の実施形態の層構成を示す図で、
図８（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図８（ｂ）は層
構成を説明するための図である。
図８（ａ）は模式的に示す拡大断面図、図８（ｂ）は層
構成を説明するための図である。
【図９】従来の多層膜干渉フィルタの構成を示す図であ
る。
る。
１２…ガラス基板 １２ａ，２１ａ…第１のガラス基板 １２ｂ，２１ｂ…第２のガラス基板 １３…接合層 １３ａ，２２ａ…第１の接合層 １３ｂ，２２ｂ…第２の接合層 １４，２３…誘電体多層膜 １５H …高屈折率薄膜 １５L …低屈折率薄膜
Claims (6)
- 【請求項１】 ガラス基板の平坦面に誘電体多層膜を被
着してなる多層膜フィルタにおいて、前記ガラス基板と
前記誘電体多層膜の間に高屈折率薄膜と低屈折率薄膜を
交互に積層した接合層を設けると共に、前記誘電体多層
膜への光の入射角が１０度以上４５度以下であることを
特徴とする多層膜フィルタ。 - 【請求項２】 接合層の高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の
交互積層した総層数が、２層以上１０層以下であること
を特徴とする請求項１記載の多層膜フィルタ。 - 【請求項３】 第１のガラス基板の平坦面と第２のガラ
ス基板の平坦面の間に誘電体多層膜を挟持してなる多層
膜フィルタにおいて、前記第１のガラス基板と前記誘電
体多層膜の間及び前記第２のガラス基板と前記誘電体多
層膜の間にそれぞれ高屈折率薄膜と低屈折率薄膜を交互
に積層した第１の接合層及び第２の接合層を設けたこと
を特徴とする多層膜フィルタ。 - 【請求項４】 第１の接合層と第２の接合層の交互積層
した高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の総層数が、２層以上
１０層以下であることを特徴とする請求項３記載の多層
膜フィルタ。 - 【請求項５】 第１の接合層と第２の接合層とは、高屈
折率薄膜と低屈折率薄膜の交互積層数が同じであり、か
つ誘電体多層膜に対して対称となるように設けられてい
ることを特徴とする請求項３記載の多層膜フィルタ。 - 【請求項６】 誘電体多層膜への光の入射角が１０度以
上４５度以下であることを特徴とする請求項３記載の多
層膜フィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4318898A JPH11242114A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | 多層膜フィルタ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4318898A JPH11242114A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | 多層膜フィルタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11242114A true JPH11242114A (ja) | 1999-09-07 |
Family
ID=12656955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4318898A Pending JPH11242114A (ja) | 1998-02-25 | 1998-02-25 | 多層膜フィルタ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11242114A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006023471A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 多層膜マイナスフィルター及び蛍光顕微鏡 |
| WO2020179282A1 (ja) * | 2019-03-06 | 2020-09-10 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光検出装置、光検出システム、およびフィルタアレイ |
-
1998
- 1998-02-25 JP JP4318898A patent/JPH11242114A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006023471A (ja) * | 2004-07-07 | 2006-01-26 | Olympus Corp | 多層膜マイナスフィルター及び蛍光顕微鏡 |
| WO2020179282A1 (ja) * | 2019-03-06 | 2020-09-10 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光検出装置、光検出システム、およびフィルタアレイ |
| JPWO2020179282A1 (ja) * | 2019-03-06 | 2021-09-30 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光検出装置、光検出システム、およびフィルタアレイ |
| JP2022058424A (ja) * | 2019-03-06 | 2022-04-12 | パナソニックＩｐマネジメント株式会社 | 光検出装置、光検出システム、およびフィルタアレイ |
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