JPH11241948A - 分光測定装置 - Google Patents
分光測定装置Info
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- JPH11241948A JPH11241948A JP4485898A JP4485898A JPH11241948A JP H11241948 A JPH11241948 A JP H11241948A JP 4485898 A JP4485898 A JP 4485898A JP 4485898 A JP4485898 A JP 4485898A JP H11241948 A JPH11241948 A JP H11241948A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】装置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長分解能等の
基本性能を常時、最大限に引き出すことのできる分光測
定装置を提供する。 【解決手段】光分散素子により分散された光の光強度を
検出する光検出素子とを有する分光測定装置において、
前記スリット部材の配置位置に応じて得られる複数の前
記光検出素子の出力を比較する比較手段と、当該比較手
段の結果に基づき前記位置駆動手段によって前記スリッ
ト部材の配置位置を変更する制御手段とを備えた。 【効果】分光測定装置内のスリットの保持位置を最適な
位置に自動調整することで、装置自身が本来持つＳ／Ｎ
比や波長分解能等の基本性能を常時、最大限に引き出す
ことができ、高い測定精度を長期に渡って維持できる。
基本性能を常時、最大限に引き出すことのできる分光測
定装置を提供する。 【解決手段】光分散素子により分散された光の光強度を
検出する光検出素子とを有する分光測定装置において、
前記スリット部材の配置位置に応じて得られる複数の前
記光検出素子の出力を比較する比較手段と、当該比較手
段の結果に基づき前記位置駆動手段によって前記スリッ
ト部材の配置位置を変更する制御手段とを備えた。 【効果】分光測定装置内のスリットの保持位置を最適な
位置に自動調整することで、装置自身が本来持つＳ／Ｎ
比や波長分解能等の基本性能を常時、最大限に引き出す
ことができ、高い測定精度を長期に渡って維持できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は分光測定装置に関
し、特に、分光測定装置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長
分解能等の基本性能を常時、最大限に引き出すために、
特定波長の輝線を用いて分光測定装置内のスリットの保
持位置を最適な位置に自動調整できる分光測定装置に関
する。
し、特に、分光測定装置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長
分解能等の基本性能を常時、最大限に引き出すために、
特定波長の輝線を用いて分光測定装置内のスリットの保
持位置を最適な位置に自動調整できる分光測定装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】近年、計測器分野におけるユーザーのニ
ーズは多種多様化してきており、各ニーズに対応できる
汎用性の高い装置の開発が、資源を有効活用する上でも
重要な課題となっている。
ーズは多種多様化してきており、各ニーズに対応できる
汎用性の高い装置の開発が、資源を有効活用する上でも
重要な課題となっている。
【０００３】分光測定装置の分野においても、Ｓ／Ｎ比
の良い信号を得たい場合には波長分解能を犠牲にして幅
の広いスリットを使用したり、逆に、波長分解能の良い
信号を得たい場合にはＳ／Ｎ比を犠牲にして幅の狭いス
リットを使用する等の、ユーザー側の目的用途に応じて
スリット幅を可変にできる汎用型の装置の開発が取り組
まれている。
の良い信号を得たい場合には波長分解能を犠牲にして幅
の広いスリットを使用したり、逆に、波長分解能の良い
信号を得たい場合にはＳ／Ｎ比を犠牲にして幅の狭いス
リットを使用する等の、ユーザー側の目的用途に応じて
スリット幅を可変にできる汎用型の装置の開発が取り組
まれている。
【０００４】分光測定装置のスリット幅を変える方式に
は、スリット刃を動かしてスリット幅を変える方式と、
幅の異なる固定幅のスリットを複数種用意しておいて切
り換える方式とがあるが、固定幅のスリットを切り換え
る後者の方式の方が、スリット幅の再現性において優れ
ている。
は、スリット刃を動かしてスリット幅を変える方式と、
幅の異なる固定幅のスリットを複数種用意しておいて切
り換える方式とがあるが、固定幅のスリットを切り換え
る後者の方式の方が、スリット幅の再現性において優れ
ている。
【０００５】上記の固定幅スリットの切り換え方式にお
いては、切り換え後のスリット位置が分光測定装置自身
の基本性能を左右するため、スリットの切り換えは極め
て正確に、且つ再現性良く行われる必要がある。スリッ
ト位置の正確さは、加工精度の向上、高分解能パルスモ
ータの使用、および切り換えに要するパルス数の十分な
調査と実験により高めることができる。また、スリット
位置の再現性は、パルスモータの回転方向とスタート位
置検出時の回転方向とを常に等しくすることで向上させ
ることができる。
いては、切り換え後のスリット位置が分光測定装置自身
の基本性能を左右するため、スリットの切り換えは極め
て正確に、且つ再現性良く行われる必要がある。スリッ
ト位置の正確さは、加工精度の向上、高分解能パルスモ
ータの使用、および切り換えに要するパルス数の十分な
調査と実験により高めることができる。また、スリット
位置の再現性は、パルスモータの回転方向とスタート位
置検出時の回転方向とを常に等しくすることで向上させ
ることができる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
固定幅スリットの切り換え方式においては、切り換える
際のスリットの移動量が、あらかじめスリット位置に合
わせて定められた量しか移動することはなく、長期間使
用したことによる駆動部の摩耗や劣化、輸送時等の振動
による部品のゆるみ、加工不良や加工精度不足、切り換
えに要する移動量の調査不足や誤り、その他何らかの要
因によってスリット切り換え時におけるスリット位置に
ずれが生ずると、何ら対策ができず、スリット通過後の
光量が減少してＳ／Ｎ比が低下したり、実質上のスリッ
ト幅が広がって波長分解能が悪化してしまい、装置本来
の性能が保証できなくなるという致命的な問題を抱えて
いた。
固定幅スリットの切り換え方式においては、切り換える
際のスリットの移動量が、あらかじめスリット位置に合
わせて定められた量しか移動することはなく、長期間使
用したことによる駆動部の摩耗や劣化、輸送時等の振動
による部品のゆるみ、加工不良や加工精度不足、切り換
えに要する移動量の調査不足や誤り、その他何らかの要
因によってスリット切り換え時におけるスリット位置に
ずれが生ずると、何ら対策ができず、スリット通過後の
光量が減少してＳ／Ｎ比が低下したり、実質上のスリッ
ト幅が広がって波長分解能が悪化してしまい、装置本来
の性能が保証できなくなるという致命的な問題を抱えて
いた。
【０００７】ここで、従来のスリット切り換え型の分光
測定装置において、スリット位置にずれが生じた場合の
悪影響について、図６，図７を用いて更に詳しく説明す
る。図６（ａ）はスリット切り換えの際、所定のスリッ
トが正しい位置に保持された例であり、スリットに集光
された光２１の中心とスリット１９の中心が一致してい
る。この場合は図７に示すように、スリットを通過する
光の強度は、最大のＩａ、スペクトル半値幅は最小のΔ
λａとなり、分光測定装置が本来持つ性能は最大限に引
き出される。
測定装置において、スリット位置にずれが生じた場合の
悪影響について、図６，図７を用いて更に詳しく説明す
る。図６（ａ）はスリット切り換えの際、所定のスリッ
トが正しい位置に保持された例であり、スリットに集光
された光２１の中心とスリット１９の中心が一致してい
る。この場合は図７に示すように、スリットを通過する
光の強度は、最大のＩａ、スペクトル半値幅は最小のΔ
λａとなり、分光測定装置が本来持つ性能は最大限に引
き出される。
【０００８】これに対し、図６(ｂ)は所定のスリットが
正しい位置からずれて保持されてしまった例であり、正
しい位置に保持された場合に比べ、スリットを通過でき
る光の面積（斜線部）はＳａからＳｂに減少し、実質上
のスリット幅はＷａからＷｂに広がってしまう。その結
果、図７に示すように、スリットを通過する光の強度は
ＩａからＩｂに減少し、またスペクトル半値幅はΔλａ
からΔλｂに広がってしまい、装置は本来の性能を満足
することができない。
正しい位置からずれて保持されてしまった例であり、正
しい位置に保持された場合に比べ、スリットを通過でき
る光の面積（斜線部）はＳａからＳｂに減少し、実質上
のスリット幅はＷａからＷｂに広がってしまう。その結
果、図７に示すように、スリットを通過する光の強度は
ＩａからＩｂに減少し、またスペクトル半値幅はΔλａ
からΔλｂに広がってしまい、装置は本来の性能を満足
することができない。
【０００９】本発明の目的は、上記の問題点を解決する
ために、特定波長の輝線を用いて、分光測定装置内のス
リット位置を最適な位置に自動調整することにより、装
置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長分解能等の基本性能を
常時最大限に引き出すことのできる分光測定装置を提供
することにある。
ために、特定波長の輝線を用いて、分光測定装置内のス
リット位置を最適な位置に自動調整することにより、装
置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長分解能等の基本性能を
常時最大限に引き出すことのできる分光測定装置を提供
することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明の特徴は、特定波長の輝線を含んだ光を発する
測定用光源と、測定試料を保持する試料室と、固定幅の
スリットを設けたスリット部材と、前記スリット部材の
配置を変化させる位置駆動手段と、前記スリット部材を
通過した前記光を波長毎に分散する光分散素子と、当該
光分散素子により分散された前記光の光強度を検出する
光検出素子とを有する分光測定装置において、前記スリ
ット部材の配置位置に応じて得られる複数の前記光検出
素子の出力を比較する比較手段と、当該比較手段の結果
に基づき前記位置駆動手段によって前記スリット部材の
配置位置を変更する制御手段とを備えたことである。
の本発明の特徴は、特定波長の輝線を含んだ光を発する
測定用光源と、測定試料を保持する試料室と、固定幅の
スリットを設けたスリット部材と、前記スリット部材の
配置を変化させる位置駆動手段と、前記スリット部材を
通過した前記光を波長毎に分散する光分散素子と、当該
光分散素子により分散された前記光の光強度を検出する
光検出素子とを有する分光測定装置において、前記スリ
ット部材の配置位置に応じて得られる複数の前記光検出
素子の出力を比較する比較手段と、当該比較手段の結果
に基づき前記位置駆動手段によって前記スリット部材の
配置位置を変更する制御手段とを備えたことである。
【００１１】本発明では、スリット部材の配置位置に応
じて得られる複数の前記光検出素子の出力を比較するこ
とで、分光測定装置内のスリットの保持位置を最適な位
置に自動調整し、装置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長分
解能等の基本性能を常時、最大限に引き出すことができ
る。従って、定期的な点検および調整を行わなくとも、
高い測定精度を長期に渡って維持することを可能とする
ものである。
じて得られる複数の前記光検出素子の出力を比較するこ
とで、分光測定装置内のスリットの保持位置を最適な位
置に自動調整し、装置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長分
解能等の基本性能を常時、最大限に引き出すことができ
る。従って、定期的な点検および調整を行わなくとも、
高い測定精度を長期に渡って維持することを可能とする
ものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例について説
明する。
明する。
【００１３】図１は分光測定装置の構成例の一例であ
る。
る。
【００１４】重水素ランプ１から発せられた光は、レン
ズ２で測定試料を保持するセル３に集光され、レンズ４
で再び入射スリット５に集光された後、凹面回折格子６
上に投影され、回折光が出射スリット２５を透過して単
色光として取り出された後、フォトダイオード７に導か
れる。凹面ミラー１７はパルスモータ９によって回転可
能であって、水銀ランプ８から発せられた光は凹面ミラ
ー１７にて反射され、入射スリット５に集光される。パ
ルスモータ９，１０，１１，２６は制御部（ＣＰＵ，メ
モリを含む）１３からの信号によって制御され、ＣＲＴ
表示装置１５，プリンタ１６等の出力装置に結果が出力
される。
ズ２で測定試料を保持するセル３に集光され、レンズ４
で再び入射スリット５に集光された後、凹面回折格子６
上に投影され、回折光が出射スリット２５を透過して単
色光として取り出された後、フォトダイオード７に導か
れる。凹面ミラー１７はパルスモータ９によって回転可
能であって、水銀ランプ８から発せられた光は凹面ミラ
ー１７にて反射され、入射スリット５に集光される。パ
ルスモータ９，１０，１１，２６は制御部（ＣＰＵ，メ
モリを含む）１３からの信号によって制御され、ＣＲＴ
表示装置１５，プリンタ１６等の出力装置に結果が出力
される。
【００１５】図２は、上記構成例の入射スリット５にお
けるスリット部材の一例である。尚、図２のスリット部
材の構成は、出射スリット２５においても適用されるも
のであるが、これらのスリット部材の構成は、以下図２
を用いて入射スリット側の例で説明する。
けるスリット部材の一例である。尚、図２のスリット部
材の構成は、出射スリット２５においても適用されるも
のであるが、これらのスリット部材の構成は、以下図２
を用いて入射スリット側の例で説明する。
【００１６】スリット部材は、図２に示すような、幅の
異なる複数のスリット１９が周辺部に配置された円板で
あり、スリット円板１８をパルスモータ１０を用いて回
転させることによって所定のスリットを選択することが
できる。スリット円板１８の外周上には一箇所切り掻き
２０が設けられており、スリット円板１８を挟んでフォ
トカプラ１２が配置してあって、このフォトカプラ１２
により切り掻き２０のエッヂが検出される位置が、パル
スモータ１０のスタート位置となる。スリット切り換え
時には、入射スリット５および出射スリット２５の各々
に対して、指定されたスリットに対するスタート位置か
らのパルス数が制御部（ＣＰＵ，メモリを含む）１３の
メモリから読み出され、スリット円板１８がスタート位
置検出時と同じ方向に読み出したパルス数だけ回転した
ところで、パルスモータが停止する。
異なる複数のスリット１９が周辺部に配置された円板で
あり、スリット円板１８をパルスモータ１０を用いて回
転させることによって所定のスリットを選択することが
できる。スリット円板１８の外周上には一箇所切り掻き
２０が設けられており、スリット円板１８を挟んでフォ
トカプラ１２が配置してあって、このフォトカプラ１２
により切り掻き２０のエッヂが検出される位置が、パル
スモータ１０のスタート位置となる。スリット切り換え
時には、入射スリット５および出射スリット２５の各々
に対して、指定されたスリットに対するスタート位置か
らのパルス数が制御部（ＣＰＵ，メモリを含む）１３の
メモリから読み出され、スリット円板１８がスタート位
置検出時と同じ方向に読み出したパルス数だけ回転した
ところで、パルスモータが停止する。
【００１７】上記の構成におけるスリット位置の自動調
整を行う際の動作概要を示したフローチャートを図１３
に示す。
整を行う際の動作概要を示したフローチャートを図１３
に示す。
【００１８】まず、キーボード１４から制御部１３へ特
定のスリットを指定した切り換え信号が入力されると、
制御部１３は、凹面ミラー１７をパルスモータ９により
回転させ、水銀ランプ８から発せられる光を入射スリッ
ト５へ導く（１３１）。
定のスリットを指定した切り換え信号が入力されると、
制御部１３は、凹面ミラー１７をパルスモータ９により
回転させ、水銀ランプ８から発せられる光を入射スリッ
ト５へ導く（１３１）。
【００１９】次に、フォトダイオード７が水銀ランプ８
の２５３.７ｎｍ の輝線の光強度を検出できる角度に凹
面回折格子６を回転させる（１３２）。
の２５３.７ｎｍ の輝線の光強度を検出できる角度に凹
面回折格子６を回転させる（１３２）。
【００２０】次に、指定されたスリットに対するパルス
数を制御部１３から読み出し、パルスモータ２６の回転
によって出射スリット２５を規定位置に固定する（１３
３）。
数を制御部１３から読み出し、パルスモータ２６の回転
によって出射スリット２５を規定位置に固定する（１３
３）。
【００２１】次に、入射スリット５について、指定スリ
ットに対する最適位置自動調整を行う（１３４）。
ットに対する最適位置自動調整を行う（１３４）。
【００２２】最後に、入射スリット５を最適位置に固定
した状態で、出射スリット２５の最適位置自動調整を行
う（１３５）。
した状態で、出射スリット２５の最適位置自動調整を行
う（１３５）。
【００２３】次に、上記各スリットにおける最適位置自
動調整の制御動作について詳細に説明する。尚、ここで
は図１の構成例における自動調整について、以下に３つ
の実施例を説明するが、何れも入射スリット及び出射ス
リットにおいて共通して用いられる動作である。
動調整の制御動作について詳細に説明する。尚、ここで
は図１の構成例における自動調整について、以下に３つ
の実施例を説明するが、何れも入射スリット及び出射ス
リットにおいて共通して用いられる動作である。
【００２４】図３は、スリット最適位置自動調整の第１
の実施例について示したフローチャートである。
の実施例について示したフローチャートである。
【００２５】各スリットの自動調整段階では、まず、ス
リット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基にスター
ト位置を検出する。
リット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基にスター
ト位置を検出する。
【００２６】そして、キーボード１４からの指定スリッ
トに対するパルス数を制御部１３内のメモリ上から読み
出し、スタート位置から読み出したパルス数だけパルス
モータ１０を右回転させ、あらかじめ指定スリット位置
として規定された位置へスリット円板１８を回転させ
る。この時、flag＝０とする。そして、フォトダイオー
ド７により出力電圧を検出を行い、この段階でのフォト
ダイオード７の出力電圧Ｖf を初期値として変数Ｖmax
に代入する。
トに対するパルス数を制御部１３内のメモリ上から読み
出し、スタート位置から読み出したパルス数だけパルス
モータ１０を右回転させ、あらかじめ指定スリット位置
として規定された位置へスリット円板１８を回転させ
る。この時、flag＝０とする。そして、フォトダイオー
ド７により出力電圧を検出を行い、この段階でのフォト
ダイオード７の出力電圧Ｖf を初期値として変数Ｖmax
に代入する。
【００２７】その後、パルスモータ１０を１パルス数だ
け右回転させてフォトダイオード７の出力電圧Ｖｆを求
め、Ｖmax と比較を行い、Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax
＝Ｖf，flag＝１とし、１パルス数だけ右回転させてＶ
ｆを求め、再びＶmax との比較を行う。尚、１パルスの
回転によるスリット円板１８の回転角は、約０.３° 程
度である。
け右回転させてフォトダイオード７の出力電圧Ｖｆを求
め、Ｖmax と比較を行い、Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax
＝Ｖf，flag＝１とし、１パルス数だけ右回転させてＶ
ｆを求め、再びＶmax との比較を行う。尚、１パルスの
回転によるスリット円板１８の回転角は、約０.３° 程
度である。
【００２８】Ｖmax≧Ｖfとなれば、バックラッシュ補正
(パルスモータのギアの遊びの補正)を行い、１パルス数
だけ左回転させ、flagの確認を行う。flag＝１であれ
ば、その時のＶmax がフォトダイオード７の最大出力電
圧であるとし、この時点でのパルスモータのスタート位
置からのパルス数がメモリ上に記憶される。
(パルスモータのギアの遊びの補正)を行い、１パルス数
だけ左回転させ、flagの確認を行う。flag＝１であれ
ば、その時のＶmax がフォトダイオード７の最大出力電
圧であるとし、この時点でのパルスモータのスタート位
置からのパルス数がメモリ上に記憶される。
【００２９】また、flag＝０であれば、パルスモータ１
０を１パルス数だけ左回転させる。そして、フォトダイ
オード７の出力電圧Ｖｆを求め、Ｖmaxと比較を行い、
Ｖmax＜Ｖf であれば、Ｖmax＝Ｖfとし、１パルス数だ
け左回転させてＶf を求め、再びＶmax との比較を行
う。
０を１パルス数だけ左回転させる。そして、フォトダイ
オード７の出力電圧Ｖｆを求め、Ｖmaxと比較を行い、
Ｖmax＜Ｖf であれば、Ｖmax＝Ｖfとし、１パルス数だ
け左回転させてＶf を求め、再びＶmax との比較を行
う。
【００３０】最終的にＶmax≧Ｖfとなれば、バックラッ
シュ補正を行い、１パルス数だけ右回転させ、この時点
でのパルスモータのスタート位置からのパルス数がメモ
リ上に記憶される。
シュ補正を行い、１パルス数だけ右回転させ、この時点
でのパルスモータのスタート位置からのパルス数がメモ
リ上に記憶される。
【００３１】本実施例の特徴は、メモリ上のパルス数と
フォトダイオードの出力電圧が最大となるパルス数、即
ち輝線の光強度が最大となるパルス数とがほぼ一致して
いれば、制御時間が極めて短く済むことにある。即ち、
経時変化等による位置ずれの量に比例した制御時間で調
整が行えるものである。
フォトダイオードの出力電圧が最大となるパルス数、即
ち輝線の光強度が最大となるパルス数とがほぼ一致して
いれば、制御時間が極めて短く済むことにある。即ち、
経時変化等による位置ずれの量に比例した制御時間で調
整が行えるものである。
【００３２】図４は、図１の構成例におけるスリット最
適位置自動調整の第２の実施例を示したフローチャート
である。
適位置自動調整の第２の実施例を示したフローチャート
である。
【００３３】スリットの自動調整段階では、まず、スリ
ット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基にスタート
位置を検出する。ただし、本実施例においては、スター
ト位置検出は右回転のみで行う。そして、指定スリット
のパルス数（ここでは“ｎ”とする）をメモリから読み
出し、検出範囲を決定づける任意のパルス数ｍを減算、
即ちパルス数（ｎ−ｍ）を算出し、（ｎ−ｍ）だけパル
スモータを右回転させる。ここで、任意のパルス数ｍ
は、元々規定されているスリット位置の前後の光強度を
検出する範囲を定めるための数値であり、パルス数“２
ｍ”分の移動量の範囲が検出範囲とされる。“ｍ”の数
値は、少なくとも１つのスリット高さ分の移動量乃至ス
リット高さの半分の移動量となるパルス数であれば十分
である。
ット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基にスタート
位置を検出する。ただし、本実施例においては、スター
ト位置検出は右回転のみで行う。そして、指定スリット
のパルス数（ここでは“ｎ”とする）をメモリから読み
出し、検出範囲を決定づける任意のパルス数ｍを減算、
即ちパルス数（ｎ−ｍ）を算出し、（ｎ−ｍ）だけパル
スモータを右回転させる。ここで、任意のパルス数ｍ
は、元々規定されているスリット位置の前後の光強度を
検出する範囲を定めるための数値であり、パルス数“２
ｍ”分の移動量の範囲が検出範囲とされる。“ｍ”の数
値は、少なくとも１つのスリット高さ分の移動量乃至ス
リット高さの半分の移動量となるパルス数であれば十分
である。
【００３４】その後、各変数Ｖmax，ｃｎｔ，ｃｎｔmax
に初期値として０を代入する。そして、フォトダイオー
ド７の出力電圧Ｖｆを求め、Ｖmax と比較を行う。
に初期値として０を代入する。そして、フォトダイオー
ド７の出力電圧Ｖｆを求め、Ｖmax と比較を行う。
【００３５】比較の結果Ｖmax≧Ｖfであれば、Ｖmax，
ｃｎｔmaxは変化させず、ｃｎｔをインクリメントす
る。Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax＝Ｖf ，ｃｎｔmax＝ｃ
ｎｔとして、ｃｎｔをインクリメントする。
ｃｎｔmaxは変化させず、ｃｎｔをインクリメントす
る。Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax＝Ｖf ，ｃｎｔmax＝ｃ
ｎｔとして、ｃｎｔをインクリメントする。
【００３６】その後、１パルス数だけ右回転を行い、ｃ
ｎｔと２ｍ(任意のパルス数の２倍)の比較を行う。比較
の結果、ｃｎｔ≦２ｍであれば、再びフォトダイオード
７の出力電圧Ｖf を求め、Ｖmax と比較を行う処理に戻
る。ｃｎｔ＞２ｍであれば、パルスモータを回転させ、
切り掻き２０を基に再びスタート位置を検出する。そし
て、ｃｎｔmax 分のパルス数だけモータを右回転させ、
スタート位置からのパルス数、即ちｃｎｔmax と同一の
パルス数が、輝線の光強度が最大となる位置としてメモ
リに記憶される。
ｎｔと２ｍ(任意のパルス数の２倍)の比較を行う。比較
の結果、ｃｎｔ≦２ｍであれば、再びフォトダイオード
７の出力電圧Ｖf を求め、Ｖmax と比較を行う処理に戻
る。ｃｎｔ＞２ｍであれば、パルスモータを回転させ、
切り掻き２０を基に再びスタート位置を検出する。そし
て、ｃｎｔmax 分のパルス数だけモータを右回転させ、
スタート位置からのパルス数、即ちｃｎｔmax と同一の
パルス数が、輝線の光強度が最大となる位置としてメモ
リに記憶される。
【００３７】本実施例の特徴は、スリット円板１８の回
転方向は、スタート位置検出時も含めて右方向のみと
し、指定スリットのパルス数ｎに対して±ｍパルスの範
囲で輝線の光強度をサーチし、その検出範囲内で光強度
が最大となる位置を検出するようにしていることであ
る。
転方向は、スタート位置検出時も含めて右方向のみと
し、指定スリットのパルス数ｎに対して±ｍパルスの範
囲で輝線の光強度をサーチし、その検出範囲内で光強度
が最大となる位置を検出するようにしていることであ
る。
【００３８】本実施例においては、スリットの位置ずれ
量に依らず常に一定の制御時間で調整が行われるため、
調整に要する時間をあらかじめ知ることができる。ま
た、バックラッシュ補正も行わないため（バックラッシ
ュ補正は、完全な補正を行うことが難しい。）、スリッ
ト円板１８の回転方向が常に同一であり、スリット位置
の再現性に優れた調整を実現することが可能となる。
量に依らず常に一定の制御時間で調整が行われるため、
調整に要する時間をあらかじめ知ることができる。ま
た、バックラッシュ補正も行わないため（バックラッシ
ュ補正は、完全な補正を行うことが難しい。）、スリッ
ト円板１８の回転方向が常に同一であり、スリット位置
の再現性に優れた調整を実現することが可能となる。
【００３９】図５は、図１の構成例におけるスリット最
適位置自動調整の第３の実施例を示したフローチャート
である。
適位置自動調整の第３の実施例を示したフローチャート
である。
【００４０】スリットの自動調整段階では、まず、スリ
ット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基にスタート
位置を検出する。次に、指定スリットのパルス数をメモ
リから読み出し、スリット円板１８を読み出したパルス
数だけ右回転させる。
ット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基にスタート
位置を検出する。次に、指定スリットのパルス数をメモ
リから読み出し、スリット円板１８を読み出したパルス
数だけ右回転させる。
【００４１】そして、パルスモータ１１により、凹面回
折格子６を回転させることにより、図１２に示すよう
に、水銀ランプの輝線波長２５３.７ｎｍ 前後付近の波
長走査を行ってフォトダイオード７の出力電圧を検出
し、最大出力電圧Ｖmax の半分の出力、即ちＶmax／２
となる波長λ1，λ2を求め、λ1からλ2の波長範囲（半
値幅）を算出し、初期値として変数Δλに代入する（Δ
λ＝λ2−λ1）。
折格子６を回転させることにより、図１２に示すよう
に、水銀ランプの輝線波長２５３.７ｎｍ 前後付近の波
長走査を行ってフォトダイオード７の出力電圧を検出
し、最大出力電圧Ｖmax の半分の出力、即ちＶmax／２
となる波長λ1，λ2を求め、λ1からλ2の波長範囲（半
値幅）を算出し、初期値として変数Δλに代入する（Δ
λ＝λ2−λ1）。
【００４２】その後、１パルス数だけパルスモータ１０
を右回転し、再び凹面回折格子６を回転させることで水
銀ランプの輝線波長２５３.７ｎｍ 前後付近の走査を行
ってフォトダイオード７の出力電圧Ｖr を検出し、走査
範囲内での最大出力電圧の半分の出力となる時の波長λ
1r，λ2rを求め、λ1ｒからλ2ｒの半値幅を算出し、変
数Δλｒに代入する（Δλr ＝λ2r−λ1r）。
を右回転し、再び凹面回折格子６を回転させることで水
銀ランプの輝線波長２５３.７ｎｍ 前後付近の走査を行
ってフォトダイオード７の出力電圧Ｖr を検出し、走査
範囲内での最大出力電圧の半分の出力となる時の波長λ
1r，λ2rを求め、λ1ｒからλ2ｒの半値幅を算出し、変
数Δλｒに代入する（Δλr ＝λ2r−λ1r）。
【００４３】そして、変数ΔλとΔλr を比較し、Δλ
＞Δλr であれば、Δλ＝Δλr として、１パルス数だ
けパルスモータ１０を右回転し、再びΔλr ＝λ2r−λ
1rを算出するようにする。
＞Δλr であれば、Δλ＝Δλr として、１パルス数だ
けパルスモータ１０を右回転し、再びΔλr ＝λ2r−λ
1rを算出するようにする。
【００４４】Δλ≦Δλr であれば、バックラッシュ補
正を行い、２パルス数だけパルスモータを左回転する。
そして、凹面回折格子６を回転させることで水銀ランプ
の輝線波長２５３.７ｎｍ 前後付近の走査を行ってフォ
トダイオード７の出力電圧Ｖl を検出し、最大出力電圧
の半分の出力となる波長λ1l，λ2lを求め、λ1lからλ
2lの半値幅を算出し、変数Δλl に代入する（Δλl＝
λ2l−λ1l）。
正を行い、２パルス数だけパルスモータを左回転する。
そして、凹面回折格子６を回転させることで水銀ランプ
の輝線波長２５３.７ｎｍ 前後付近の走査を行ってフォ
トダイオード７の出力電圧Ｖl を検出し、最大出力電圧
の半分の出力となる波長λ1l，λ2lを求め、λ1lからλ
2lの半値幅を算出し、変数Δλl に代入する（Δλl＝
λ2l−λ1l）。
【００４５】そして、変数ΔλとΔλl を比較し、Δλ
＞Δλlであれば、Δλ＝Δλlとして、１パルス数だけ
パルスモータ１０を左回転し、再びΔλl ＝λ2l−λ1l
を算出するようにする。
＞Δλlであれば、Δλ＝Δλlとして、１パルス数だけ
パルスモータ１０を左回転し、再びΔλl ＝λ2l−λ1l
を算出するようにする。
【００４６】Δλ≦Δλl であれば、バックラッシュ補
正を行い、１パルス数だけパルスモータ１０を左回転
し、この時のスタート位置からのパルス数をメモリに記
憶させ、処理を終了する。
正を行い、１パルス数だけパルスモータ１０を左回転
し、この時のスタート位置からのパルス数をメモリに記
憶させ、処理を終了する。
【００４７】本実施例の特徴は、スリット円板１８の回
転時に、波長走査を行って水銀ランプの輝線波長２５
３.７ｎｍ 付近のスペクトルを求め、輝線のスペクトル
半値幅Δλが最小となる位置にパルスモータを静止させ
ている点であり、第１の実施例に比べて多少の時間を必
要とするが、スリット位置の正確さにおいて優れた調整
を行うことができる。
転時に、波長走査を行って水銀ランプの輝線波長２５
３.７ｎｍ 付近のスペクトルを求め、輝線のスペクトル
半値幅Δλが最小となる位置にパルスモータを静止させ
ている点であり、第１の実施例に比べて多少の時間を必
要とするが、スリット位置の正確さにおいて優れた調整
を行うことができる。
【００４８】上記の図１に示す構成例における各実施例
において、特定波長の輝線を含んだ光を発する水銀ラン
プ８を光源に用いる理由は、輝線を含まない連続スペク
トル光源では、光強度が極大となる波長が逐次変化して
いるため、スリットの保持位置は最適位置からずれる恐
れがあるため、特定波長の輝線であれば、その波長で光
強度が極大値を持ち、且つ常時不変であること、また、
輝線の波長が特定であれば、スリット切り換え時に何ら
かの波長走査を合わせて実施できるためである。
において、特定波長の輝線を含んだ光を発する水銀ラン
プ８を光源に用いる理由は、輝線を含まない連続スペク
トル光源では、光強度が極大となる波長が逐次変化して
いるため、スリットの保持位置は最適位置からずれる恐
れがあるため、特定波長の輝線であれば、その波長で光
強度が極大値を持ち、且つ常時不変であること、また、
輝線の波長が特定であれば、スリット切り換え時に何ら
かの波長走査を合わせて実施できるためである。
【００４９】また、特定波長の輝線を含んだ光を発する
光源を装置内に内蔵することにより、スリット位置の最
適自動調整時における光源の取り換え作業は不要とな
り、装置の電源投入後なら任意にスリット位置の最適自
動調整が実施できる。さらに、同様の特定波長の輝線を
用いて、装置自身の波長校正も行えるものである。
光源を装置内に内蔵することにより、スリット位置の最
適自動調整時における光源の取り換え作業は不要とな
り、装置の電源投入後なら任意にスリット位置の最適自
動調整が実施できる。さらに、同様の特定波長の輝線を
用いて、装置自身の波長校正も行えるものである。
【００５０】また更に、特定波長の輝線を含んだ光を試
料室を通さずにスリットに入射する構成により、試料室
内に何らかの物質が存在していても、輝線が物質に吸収
されることなく、また吸収に伴う燐光，蛍光の悪影響を
受けることなく、スリット位置の最適自動調整を実施す
ることができる。従って、スリット位置の最適自動調整
時に、試料室から試料を撤去する必要がない。
料室を通さずにスリットに入射する構成により、試料室
内に何らかの物質が存在していても、輝線が物質に吸収
されることなく、また吸収に伴う燐光，蛍光の悪影響を
受けることなく、スリット位置の最適自動調整を実施す
ることができる。従って、スリット位置の最適自動調整
時に、試料室から試料を撤去する必要がない。
【００５１】さらに、規定値としてスリットの基準位置
からのパルス数を、あらかじめ任意に調査してメモリ上
に記憶する際、最適位置とは異なるパルス数を誤ってメ
モリ上に記憶してしまった場合でも、本実施例の調整を
行うことにより、スリット位置を最適な位置に調整可能
である。
からのパルス数を、あらかじめ任意に調査してメモリ上
に記憶する際、最適位置とは異なるパルス数を誤ってメ
モリ上に記憶してしまった場合でも、本実施例の調整を
行うことにより、スリット位置を最適な位置に調整可能
である。
【００５２】図８に、図１の分光測定装置とは異なる構
成例について示す。
成例について示す。
【００５３】本構成例においては、図１におけるフォト
ダイオード７の代わりにフォトダイオードアレイ２３を
使用し、重水素ランプ１から発せられる光の一部を光フ
ァイバ２２中を伝搬させて凹面ミラー１７に導く構成と
している。
ダイオード７の代わりにフォトダイオードアレイ２３を
使用し、重水素ランプ１から発せられる光の一部を光フ
ァイバ２２中を伝搬させて凹面ミラー１７に導く構成と
している。
【００５４】図９は、図８の構成例におけるスリット切
り換え時の入射スリット円板１８の回転制御を示したフ
ローチャートである。
り換え時の入射スリット円板１８の回転制御を示したフ
ローチャートである。
【００５５】スリットの自動調整段階では、まず、パル
スモータ９により凹面ミラー１７を回転させる。そし
て、スリット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基に
スタート位置を検出する。
スモータ９により凹面ミラー１７を回転させる。そし
て、スリット円板１８を回転させ、切り掻き２０を基に
スタート位置を検出する。
【００５６】そして、キーボード１４からの指定スリッ
トに対するパルス数をメモリ上から読み出し、スタート
位置から読み出したパルス数だけパルスモータ１０を右
回転させ、あらかじめ指定スリット位置として規定され
た位置へスリット円板１８を回転させる。この時、flag
＝０とする。そして、フォトダイオードアレイ２３によ
り重水素ランプ１の輝線波長６５６.３ｎｍ に対応する
出力を検出を行い、この段階でのフォトダイオードアレ
イ２３の出力電圧Ｖf を初期値として変数Ｖmax に代入
する。
トに対するパルス数をメモリ上から読み出し、スタート
位置から読み出したパルス数だけパルスモータ１０を右
回転させ、あらかじめ指定スリット位置として規定され
た位置へスリット円板１８を回転させる。この時、flag
＝０とする。そして、フォトダイオードアレイ２３によ
り重水素ランプ１の輝線波長６５６.３ｎｍ に対応する
出力を検出を行い、この段階でのフォトダイオードアレ
イ２３の出力電圧Ｖf を初期値として変数Ｖmax に代入
する。
【００５７】その後、パルスモータ１０を１パルス数だ
け右回転させて、重水素ランプ１の輝線波長に対応する
フォトダイオードアレイ２３の出力電圧Ｖf を求め、Ｖ
maxと比較を行い、Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax＝Ｖf，f
lag＝１とし、１パルス数だけ右回転させてＶf を求
め、再び出力電圧Ｖｆを検出しＶmax との比較を行う。
尚、本構成例においても１パルスの回転によるスリット
円板１８の回転角は、約０.３°程度である。
け右回転させて、重水素ランプ１の輝線波長に対応する
フォトダイオードアレイ２３の出力電圧Ｖf を求め、Ｖ
maxと比較を行い、Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax＝Ｖf，f
lag＝１とし、１パルス数だけ右回転させてＶf を求
め、再び出力電圧Ｖｆを検出しＶmax との比較を行う。
尚、本構成例においても１パルスの回転によるスリット
円板１８の回転角は、約０.３°程度である。
【００５８】Ｖmax≧Ｖfとなれば、バックラッシュ補正
を行い、１パルス数だけ左回転させ、flagの確認を行
う。flag＝１であれば、その時のＶmax がフォトダイオ
ード７の最大の出力電圧であるとし、この時点でのパル
スモータのスタート位置からのパルス数がメモリ上に記
憶される。
を行い、１パルス数だけ左回転させ、flagの確認を行
う。flag＝１であれば、その時のＶmax がフォトダイオ
ード７の最大の出力電圧であるとし、この時点でのパル
スモータのスタート位置からのパルス数がメモリ上に記
憶される。
【００５９】また、flag＝０であれば、パルスモータ１
０を１パルス数だけ左回転させる。そして、フォトダイ
オードアレイ２３の出力電圧Ｖf を求め、Ｖmax と比較
を行い、Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax＝Ｖfとし、１パル
ス数だけ左回転させて出力電圧Ｖf を求め、再びＶmax
との比較を行う。
０を１パルス数だけ左回転させる。そして、フォトダイ
オードアレイ２３の出力電圧Ｖf を求め、Ｖmax と比較
を行い、Ｖmax＜Ｖfであれば、Ｖmax＝Ｖfとし、１パル
ス数だけ左回転させて出力電圧Ｖf を求め、再びＶmax
との比較を行う。
【００６０】最終的にＶmax≧Ｖfとなれば、バックラッ
シュ補正を行い、１パルス数だけ右回転させ、この時点
でのパルスモータのスタート位置からのパルス数がメモ
リ上に記憶される。
シュ補正を行い、１パルス数だけ右回転させ、この時点
でのパルスモータのスタート位置からのパルス数がメモ
リ上に記憶される。
【００６１】本構成例の特徴は、スリット切り換え時に
は重水素ランプ１の６５６.３ｎｍの輝線を用いてスリ
ット位置の制御を行うことで水銀ランプを不要とし、ま
た、フォトダイオードアレイ２３の各フォトダイオード
毎に検出波長を対応させることで凹面回折格子６の回転
制御部，出射スリットおよび出射スリットの回転制御部
は不要となり、更に迅速な最適位置調整が安価で実現で
きることにある。また、凹面回折格子６の代わりにプリ
ズムを用いても良い。
は重水素ランプ１の６５６.３ｎｍの輝線を用いてスリ
ット位置の制御を行うことで水銀ランプを不要とし、ま
た、フォトダイオードアレイ２３の各フォトダイオード
毎に検出波長を対応させることで凹面回折格子６の回転
制御部，出射スリットおよび出射スリットの回転制御部
は不要となり、更に迅速な最適位置調整が安価で実現で
きることにある。また、凹面回折格子６の代わりにプリ
ズムを用いても良い。
【００６２】図１０，図１１に、上記２つの分光分析装
置で用いられたスリット部材の他の例を示したものであ
る。図１０の例では、図２で示したスリット１９の幅，
高さ方向を入れ替えた例である。また、図１１の例は、
スリット１９の数を減らし、スリット円板２４を扇形に
形成した例である。
置で用いられたスリット部材の他の例を示したものであ
る。図１０の例では、図２で示したスリット１９の幅，
高さ方向を入れ替えた例である。また、図１１の例は、
スリット１９の数を減らし、スリット円板２４を扇形に
形成した例である。
【００６３】上記の図１０，図１１の２つのスリット部
材においても前述の拡張性処理において、問題なく使用
することが可能である。
材においても前述の拡張性処理において、問題なく使用
することが可能である。
【００６４】以上に示した本発明の分光測定装置におい
ては、スリット切り換え時における分光測定装置内のス
リット位置を常に最適な位置に保持できるため、装置自
体の性能は最大限に引き出される。従って、定期的な点
検および調整を行わなくとも、高い測定精度を長期に渡
って維持できるため、アフターサービス作業を容易にす
ることができる。
ては、スリット切り換え時における分光測定装置内のス
リット位置を常に最適な位置に保持できるため、装置自
体の性能は最大限に引き出される。従って、定期的な点
検および調整を行わなくとも、高い測定精度を長期に渡
って維持できるため、アフターサービス作業を容易にす
ることができる。
【００６５】また、本発明は、最適自動調整後のスリッ
ト位置を記憶し、再度、同スリットの最適位置自動調整
を行う際は、その記憶位置に基づいて実施することで調
整時間を短縮できる。さらに、装置のイニシャルセット
時に、全スリットに対して最適位置自動調整を行って各
々の位置を記憶すれば、更なる調整時間の短縮化を図る
ことが可能となる。
ト位置を記憶し、再度、同スリットの最適位置自動調整
を行う際は、その記憶位置に基づいて実施することで調
整時間を短縮できる。さらに、装置のイニシャルセット
時に、全スリットに対して最適位置自動調整を行って各
々の位置を記憶すれば、更なる調整時間の短縮化を図る
ことが可能となる。
【００６６】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、分光測定
装置内のスリットの保持位置を最適な位置に自動調整す
ることができ、装置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長分解
能等の基本性能を常時、最大限に引き出すことができ、
高い測定精度を長期に渡って維持できる。
装置内のスリットの保持位置を最適な位置に自動調整す
ることができ、装置自身が本来持つＳ／Ｎ比や波長分解
能等の基本性能を常時、最大限に引き出すことができ、
高い測定精度を長期に渡って維持できる。
【図１】本発明の一実施例による分光測定装置のブロッ
ク構成図である。
ク構成図である。
【図２】複数の固定幅スリットを有したスリット部材の
一実施例である。
一実施例である。
【図３】本発明の一実施例によるスリット位置を最適調
整する制御方法を説明するフローチャートである。
整する制御方法を説明するフローチャートである。
【図４】本発明の一実施例によるスリット位置を最適調
整する制御方法を説明するフローチャートである。
整する制御方法を説明するフローチャートである。
【図５】本発明の一実施例によるスリット位置を最適調
整する制御方法を説明するフローチャートである。
整する制御方法を説明するフローチャートである。
【図６】スリット切り換え時に位置ずれが生じた例であ
る。
る。
【図７】スリット切り換え時に生じた位置ずれによる影
響を示した例である。
響を示した例である。
【図８】本発明の一実施例による分光測定装置のブロッ
ク構成図である。
ク構成図である。
【図９】本発明の一実施例によるスリット切り換え時の
スリット位置を最適調整する制御方法を説明するフロー
チャートである。
スリット位置を最適調整する制御方法を説明するフロー
チャートである。
【図１０】複数の固定幅スリットを有したスリット部材
の一実施例である。
の一実施例である。
【図１１】複数の固定幅スリットを有したスリット部材
の一実施例である。
の一実施例である。
【図１２】水銀ランプの輝線波長２５３.７ｎｍ 付近の
スペクトルである。
スペクトルである。
【図１３】本発明の一実施例によるスリット切り換え時
の制御方法を説明するフローチャートである。
の制御方法を説明するフローチャートである。
１…重水素ランプ、２，４…レンズ、３…セル、５…入
射スリット、６…凹面回折格子、７…フォトダイオー
ド、８…水銀ランプ、９，１０，１１，２６…パルスモ
ータ、１２，２７…フォトカプラ、１３…制御部、１４
…キーボード、１５…ＣＲＴ表示装置、１６…プリン
タ、１７…凹面ミラー、２５…出射スリット。
射スリット、６…凹面回折格子、７…フォトダイオー
ド、８…水銀ランプ、９，１０，１１，２６…パルスモ
ータ、１２，２７…フォトカプラ、１３…制御部、１４
…キーボード、１５…ＣＲＴ表示装置、１６…プリン
タ、１７…凹面ミラー、２５…出射スリット。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 丸岡 幹太郎 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器事業部内
Claims (10)
- 【請求項１】測定試料に照射される光を発する第１の光
源と、測定試料を保持する試料室と、固定幅のスリット
を有するスリット部材と、当該スリット部材の配置位置
を変化させる位置駆動手段と、前記スリット部材を通過
した前記光を波長毎に分散する光分散素子と、当該光分
散素子により分散された前記光の光強度を検出する光検
出素子とを有する分光測定装置において、 前記スリット部材の配置位置に応じて得られる複数の前
記光検出素子の出力を比較する比較手段と、当該比較手
段の結果に基づき前記位置駆動手段によって前記スリッ
ト部材の配置位置を変更する制御手段とを備えたことを
特徴とする分光測定装置。 - 【請求項２】請求項１記載の分光測定装置において、 前記スリット部材の配置位置情報を格納する記憶手段を
備え、測定を行う際に当該記憶手段に格納された配置位
置情報に基づく位置に前記スリット部材を移動すること
を特徴とする分光測定装置。 - 【請求項３】請求項１記載の分光測定装置において、 特定波長の輝線を含む光を発する第２の光源と、前記試
料室と前記スリット部材間に配置され前記第２の光源の
光を前記スリット部材へと導く光路切り換え手段とを備
えたことを特徴とする分光測定装置。 - 【請求項４】請求項１記載の分光測定装置において、 前記第１の光源の光を前記試料室を通さずに前記スリッ
ト部材へと導く導入手段を備えたことを特徴とする分光
測定装置。 - 【請求項５】請求項３または４記載の分光測定装置にお
いて、 前記位置駆動手段はパルスモータであり、前記比較手段
は前記パルスモータが１パルス分移動する毎に比較を行
うことを特徴とする分光測定装置。 - 【請求項６】請求項３記載の分光測定装置において、 前記位置駆動手段はパルスモータであり、前記比較手段
は少なくとも前記パルスモータが前記スリットの高さ分
移動する範囲において比較を行うことを特徴とする分光
測定装置。 - 【請求項７】請求項３記載の分光測定装置において、 前記比較手段が比較を行う毎に、前記光分散素子によっ
て前記第２の光源の特定波長近傍の光強度を検出するこ
とを特徴とする分光測定装置。 - 【請求項８】請求項７記載の分光測定装置において、 前記調整用光源の特定波長近傍の光強度を検出する毎
に、検出範囲内での半値幅を算出し、半値幅が最小の位
置に前記スリット部材を配置することを特徴とする分光
測定装置。 - 【請求項９】請求項１記載の分光測定装置において、 前記スリット部材は固定幅の異なる複数のスリットを設
けていることを特徴とする分光測定装置。 - 【請求項１０】請求項９記載の分光測定装置において、 前記スリット部材は円板形状であり、周辺部に前記複数
のスリットを配置することを特徴とする分光測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04485898A JP4032483B2 (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 分光測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP04485898A JP4032483B2 (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 分光測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11241948A true JPH11241948A (ja) | 1999-09-07 |
| JP4032483B2 JP4032483B2 (ja) | 2008-01-16 |
Family
ID=12703191
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP04485898A Expired - Fee Related JP4032483B2 (ja) | 1998-02-26 | 1998-02-26 | 分光測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4032483B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2010261861A (ja) * | 2009-05-08 | 2010-11-18 | Ricoh Co Ltd | 分光特性取得装置、画像評価装置、及び画像形成装置 |
| JP2011513717A (ja) * | 2008-02-26 | 2011-04-28 | ビィウルケルト ヴェルケ ゲーエムベーハー | 顕微分光計 |
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| WO2018185954A1 (ja) * | 2017-04-05 | 2018-10-11 | Ckd株式会社 | 検査装置、ｐｔｐ包装機及びｐｔｐシートの製造方法 |
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-
1998
- 1998-02-26 JP JP04485898A patent/JP4032483B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| WO2018185954A1 (ja) * | 2017-04-05 | 2018-10-11 | Ckd株式会社 | 検査装置、ｐｔｐ包装機及びｐｔｐシートの製造方法 |
| JP2018179568A (ja) * | 2017-04-05 | 2018-11-15 | Ckd株式会社 | 検査装置、ｐｔｐ包装機及びｐｔｐシートの製造方法 |
| US11338950B2 (en) | 2017-04-05 | 2022-05-24 | Ckd Corporation | Inspection device, PTP packaging machine and PTP sheet manufacturing method |
| CN107131954A (zh) * | 2017-05-16 | 2017-09-05 | 中国电子科技集团公司第四十研究所 | 一种光栅光谱仪可变分辨带宽实现与调试系统及方法 |
| WO2019069526A1 (ja) * | 2017-10-04 | 2019-04-11 | 株式会社島津製作所 | 分光測定装置 |
| US10386232B2 (en) | 2017-12-15 | 2019-08-20 | Horiba Instruments Incorporated | Compact spectroscopic optical instrument |
| US10571334B2 (en) | 2017-12-15 | 2020-02-25 | Horiba Instruments Incorporated | System and method for selective resolution for concave grating spectrometer |
| WO2019118618A1 (en) * | 2017-12-15 | 2019-06-20 | Horiba Instrument Incorporated | System and method for selective resolution for concave grating spectrometer |
| CN111141722A (zh) * | 2020-02-19 | 2020-05-12 | 吴玉珍 | 激光拉曼光谱仪 |
| CN116429959A (zh) * | 2023-06-14 | 2023-07-14 | 山东悟空仪器有限公司 | 检测器用多狭缝切换结构 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4032483B2 (ja) | 2008-01-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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|
| RD01 | Notification of change of attorney |
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|
| A977 | Report on retrieval |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| RD01 | Notification of change of attorney |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061219 |
|
| A521 | Written amendment |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
| A521 | Written amendment |
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|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
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|
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|
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