JPH11238471A - 陰極線管 - Google Patents
陰極線管Info
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- JPH11238471A JPH11238471A JP10354752A JP35475298A JPH11238471A JP H11238471 A JPH11238471 A JP H11238471A JP 10354752 A JP10354752 A JP 10354752A JP 35475298 A JP35475298 A JP 35475298A JP H11238471 A JPH11238471 A JP H11238471A
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- Japan
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- frame
- ray tube
- shadow mask
- cathode ray
- electron beam
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
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- H—ELECTRICITY
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
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- H01J29/02—Electrodes; Screens; Mounting, supporting, spacing or insulating thereof
- H01J29/06—Screens for shielding; Masks interposed in the electron stream
- H01J29/07—Shadow masks for colour television tubes
- H01J29/073—Mounting arrangements associated with shadow masks
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0722—Frame
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2229/00—Details of cathode ray tubes or electron beam tubes
- H01J2229/07—Shadow masks
- H01J2229/0727—Aperture plate
- H01J2229/0766—Details of skirt or border
- H01J2229/0772—Apertures, cut-outs, depressions, or the like
Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フレームに及ぶ地磁界の影響を除去できる構
造の改善された陰極線管を提供する。 【解決手段】 多数の電子ビーム通過孔が形成された孔
部と前記孔部の縁部から延長されたスカート部を有する
シャドーマスク１１２と、前記シャドーマスク１１２を
支持するようにシャドーマスク１１２のスカート部が固
定される支持部１２０ａと前記支持部１２０ａから延び
るフランジ部１２０ｂを有し、前記支持部１２０ａ及び
フランジ部１２０ｂに多数の貫通孔１２１ａが形成され
たフレーム１２０と、前記フレーム１２０に対して支持
されたインナーシールド１２２とを具備する。これによ
り、磁界の遮蔽効率が向上され、電子ビームの軌跡を設
計値通り保ち、かつ画質を向上させうる。
造の改善された陰極線管を提供する。 【解決手段】 多数の電子ビーム通過孔が形成された孔
部と前記孔部の縁部から延長されたスカート部を有する
シャドーマスク１１２と、前記シャドーマスク１１２を
支持するようにシャドーマスク１１２のスカート部が固
定される支持部１２０ａと前記支持部１２０ａから延び
るフランジ部１２０ｂを有し、前記支持部１２０ａ及び
フランジ部１２０ｂに多数の貫通孔１２１ａが形成され
たフレーム１２０と、前記フレーム１２０に対して支持
されたインナーシールド１２２とを具備する。これによ
り、磁界の遮蔽効率が向上され、電子ビームの軌跡を設
計値通り保ち、かつ画質を向上させうる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は陰極線管に係り、特
にシャドーマスクを支持するフレーム及びインナーシー
ルドの構造が改善された陰極線管に関する。
にシャドーマスクを支持するフレーム及びインナーシー
ルドの構造が改善された陰極線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】陰極線管は、パネルの表面に塗布された
蛍光体に対して電子ビームを走査することで所定の画像
を表示する画像表示装置であって、テレビセット、コン
ピュータ用モニター、オシロスコープ等に多様に適用さ
れている。
蛍光体に対して電子ビームを走査することで所定の画像
を表示する画像表示装置であって、テレビセット、コン
ピュータ用モニター、オシロスコープ等に多様に適用さ
れている。
【０００３】図４は従来の陰極線管の断面を示す断面図
である。
である。
【０００４】図面を参照すれば、従来の陰極線管１は、
内側表面に蛍光膜１１が形成されたパネル１０と、前記
パネル１０に封着されるファンネル３０と、前記蛍光膜
１１から所定間隔に離隔されたシャドーマスク１２と、
前記シャードウマスク１２を支持するフレーム２０と、
前記フレーム２０を前記パネル１０に対して支持するフ
ックスプリング２３と、スタッドピン２４とを具備して
いる。
内側表面に蛍光膜１１が形成されたパネル１０と、前記
パネル１０に封着されるファンネル３０と、前記蛍光膜
１１から所定間隔に離隔されたシャドーマスク１２と、
前記シャードウマスク１２を支持するフレーム２０と、
前記フレーム２０を前記パネル１０に対して支持するフ
ックスプリング２３と、スタッドピン２４とを具備して
いる。
【０００５】また、従来の陰極線管１は、ファンネル３
０のネック部３１に設けられた電子銃３３と、ファンネ
ル３０のコーン部３２に設けられた偏向ヨーク３４とを
具備している。
０のネック部３１に設けられた電子銃３３と、ファンネ
ル３０のコーン部３２に設けられた偏向ヨーク３４とを
具備している。
【０００６】図５は図４の一部抜粋断面図である。
【０００７】図面を参照すれば、フレーム２０は支持部
２０ａとフランジ部２０ｂとがＬ字状の断面をなしてい
る。シャドーマスク１２はその縁部がフレーム２０の支
持部２０ａの内側に支持されている。インナーシールド
２２はフレーム２０のフランジ部２０ｂの外側に固定さ
れる周縁部２２ａを有している。
２０ａとフランジ部２０ｂとがＬ字状の断面をなしてい
る。シャドーマスク１２はその縁部がフレーム２０の支
持部２０ａの内側に支持されている。インナーシールド
２２はフレーム２０のフランジ部２０ｂの外側に固定さ
れる周縁部２２ａを有している。
【０００８】前述した従来の陰極線管では、前記電子銃
３３から放出された電子ビームは偏向ヨーク３４により
偏向され、この偏向した電子ビームがシャドーマスク１
２に形成された電子ビーム通過孔を通過して蛍光膜１１
に走査される。蛍光膜１１にランディングされた電子ビ
ームは、蛍光体を発光させ、それにより所定の画像が表
示される。
３３から放出された電子ビームは偏向ヨーク３４により
偏向され、この偏向した電子ビームがシャドーマスク１
２に形成された電子ビーム通過孔を通過して蛍光膜１１
に走査される。蛍光膜１１にランディングされた電子ビ
ームは、蛍光体を発光させ、それにより所定の画像が表
示される。
【０００９】フレーム２０は、その強度を保つため通常
０．８ｍｍ乃至１．６ｍｍの厚さを有する純鉄材料を使
用する。従って、フレーム２０には地磁界による着磁量
が増加することになり、これは特に陰極線管の駆動時に
電子ビームの軌跡に否定的な影響を及ぼす。
０．８ｍｍ乃至１．６ｍｍの厚さを有する純鉄材料を使
用する。従って、フレーム２０には地磁界による着磁量
が増加することになり、これは特に陰極線管の駆動時に
電子ビームの軌跡に否定的な影響を及ぼす。
【００１０】従来、これを防止するため地磁界の影響を
除去するためのディガウシングコイル（図示せず）に高
い電圧を印加すべきあった。即ち、ディガウシングコイ
ルに印加される電圧を高めることによって強力な磁界を
発生させ、これを用いてフレーム２０に着磁される地磁
界を消磁させるようにしている。
除去するためのディガウシングコイル（図示せず）に高
い電圧を印加すべきあった。即ち、ディガウシングコイ
ルに印加される電圧を高めることによって強力な磁界を
発生させ、これを用いてフレーム２０に着磁される地磁
界を消磁させるようにしている。
【００１１】しかし、このような方式では、磁界の影響
を完全に除去できず、地磁界により電子ビームの軌跡が
影響を受け画質が劣化される。
を完全に除去できず、地磁界により電子ビームの軌跡が
影響を受け画質が劣化される。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記問題点を
解決するために創出されたものであって、本発明の目的
は、フレームに着磁される地磁界の影響を除去できる構
造の改善された陰極線管を提供することにある。
解決するために創出されたものであって、本発明の目的
は、フレームに着磁される地磁界の影響を除去できる構
造の改善された陰極線管を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明は、多数の電子ビーム通過孔が形成された孔
部と前記孔部の縁部から延長されたスカート部を有する
シャドーマスクと、前記シャドーマスクを支持するよう
に前記シャドーマスクのスカート部が固定される支持部
と前記支持部から延びるフランジ部とを有し、前記支持
部及びフランジ部に多数の貫通孔が形成されたフレーム
と、前記フレームに対して支持されたインナーシールド
とを具備するようにする。
に、本発明は、多数の電子ビーム通過孔が形成された孔
部と前記孔部の縁部から延長されたスカート部を有する
シャドーマスクと、前記シャドーマスクを支持するよう
に前記シャドーマスクのスカート部が固定される支持部
と前記支持部から延びるフランジ部とを有し、前記支持
部及びフランジ部に多数の貫通孔が形成されたフレーム
と、前記フレームに対して支持されたインナーシールド
とを具備するようにする。
【００１４】また、前記フレームの剛性が向上できるよ
うに前記フレームの一部を湾曲させた補強部が形成され
るようにする。
うに前記フレームの一部を湾曲させた補強部が形成され
るようにする。
【００１５】本発明の一特徴によれば、前記フレームの
剛性が向上できるように前記フレームに対して補強板が
付着されるようにする。
剛性が向上できるように前記フレームに対して補強板が
付着されるようにする。
【００１６】本発明の他の特徴によれば、前記インナー
シールドは、前記フレームの支持部とフランジ部の少な
くとも一部分を取囲むようにそれに対応して折曲げられ
た周縁部と、それから延長された傾斜延長部とを有する
ようにする。
シールドは、前記フレームの支持部とフランジ部の少な
くとも一部分を取囲むようにそれに対応して折曲げられ
た周縁部と、それから延長された傾斜延長部とを有する
ようにする。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、添付された図面に基づき本
発明に係る陰極線管の一実施形態を詳しく説明する。
発明に係る陰極線管の一実施形態を詳しく説明する。
【００１８】図１は本発明に係るシャドーマスク支持体
が装着された陰極線管の一実施形態の構成を示す断面図
である。
が装着された陰極線管の一実施形態の構成を示す断面図
である。
【００１９】図面を参照すれば、陰極線管１００は内側
表面に蛍光膜１１１が形成されたパネル１１０と、前記
パネル１１０に封着されるファンネル１３０と、前記蛍
光膜１１１から所定間隔に離隔されるように設けられた
シャドーマスク１１２と、前記シャドーマスク１１２を
支持するフレーム１２０と、前記フレーム１２０を前記
パネル１１０に対して支持するフックスプリング１２３
と、スタッドピン１２４とを具備する。
表面に蛍光膜１１１が形成されたパネル１１０と、前記
パネル１１０に封着されるファンネル１３０と、前記蛍
光膜１１１から所定間隔に離隔されるように設けられた
シャドーマスク１１２と、前記シャドーマスク１１２を
支持するフレーム１２０と、前記フレーム１２０を前記
パネル１１０に対して支持するフックスプリング１２３
と、スタッドピン１２４とを具備する。
【００２０】また、陰極線管１００はファンネル１３０
のネック部１３１に設けられた電子銃１３３と、ファン
ネル１３０のコーン部１３２に設けられた偏向ヨーク１
３４とを具備する。
のネック部１３１に設けられた電子銃１３３と、ファン
ネル１３０のコーン部１３２に設けられた偏向ヨーク１
３４とを具備する。
【００２１】図２は図１の一部抜粋断面図である。
【００２２】図面を参照すれば、シャドーマスク１１２
は、多数の電子ビーム通過孔が形成された孔部１１２ａ
と、孔部１１２ａの縁部から延長されたスカート部１１
２ｂとを有している。
は、多数の電子ビーム通過孔が形成された孔部１１２ａ
と、孔部１１２ａの縁部から延長されたスカート部１１
２ｂとを有している。
【００２３】フレーム１２０は、シャドーマスク１１２
のスカート部１１２ｂに固定され前記シャドーマスク１
１２を支持する支持部１２０ａと、支持部１２０ａから
直角に延長されるフランジ部１２０ｂを有している。
のスカート部１１２ｂに固定され前記シャドーマスク１
１２を支持する支持部１２０ａと、支持部１２０ａから
直角に延長されるフランジ部１２０ｂを有している。
【００２４】前記シャドーマスク１１２は、その種類に
よってフレーム１２０の支持部１２０ａに対して内側ま
たは外側に支持されうるが、図面に示されたこの実施形
態では支持部１２０ａの内側に支持されて構成されてい
る。
よってフレーム１２０の支持部１２０ａに対して内側ま
たは外側に支持されうるが、図面に示されたこの実施形
態では支持部１２０ａの内側に支持されて構成されてい
る。
【００２５】インナーシールド１２２の周縁部１２２ａ
は、フレーム１２０の支持部１２０ａとフランジ部１２
０ｂの一部とを外側から完全に取囲むように延びてい
る。
は、フレーム１２０の支持部１２０ａとフランジ部１２
０ｂの一部とを外側から完全に取囲むように延びてい
る。
【００２６】図３は図２のフレームの一部を概略的に示
す部分斜視図である。
す部分斜視図である。
【００２７】図面を参照すれば、フレーム１２０には支
持部１２０ａとフランジ部１２０ｂに多数の貫通孔１２
１ａとが形成されている。公知の如く、貫通孔１２１ａ
は磁界の影響を相殺する効果を有する。
持部１２０ａとフランジ部１２０ｂに多数の貫通孔１２
１ａとが形成されている。公知の如く、貫通孔１２１ａ
は磁界の影響を相殺する効果を有する。
【００２８】即ち、フレーム１２０に貫通孔１２１ａを
形成することにより、フレーム１２０に対する地磁界の
影響を減少させることができる。
形成することにより、フレーム１２０に対する地磁界の
影響を減少させることができる。
【００２９】また、前記フレーム１２０の周りには補強
部１２１ｂを形成する。補強部１２１ｂは、例えば図面
に示されたように、フレーム１２０の支持部１２０ａま
たはフランジ部１２０ｂの一部平面を変形させることで
形成される。他の例では補強板（図示せず）を支持部１
２０ａまたはフランジ部１２０ｂに付着させることで所
期の補強効果が得られる。
部１２１ｂを形成する。補強部１２１ｂは、例えば図面
に示されたように、フレーム１２０の支持部１２０ａま
たはフランジ部１２０ｂの一部平面を変形させることで
形成される。他の例では補強板（図示せず）を支持部１
２０ａまたはフランジ部１２０ｂに付着させることで所
期の補強効果が得られる。
【００３０】このような補強部１２１ｂはフレーム１２
０の剛性を強化させ、よってフレーム１２０を薄く設定
しても正常な機能を実行可能にする。補強部１２１ｂは
フレーム１２０の内側または外側の何れか一方に形成す
ることができる。
０の剛性を強化させ、よってフレーム１２０を薄く設定
しても正常な機能を実行可能にする。補強部１２１ｂは
フレーム１２０の内側または外側の何れか一方に形成す
ることができる。
【００３１】また、図２を参照すれば、フレーム１２０
にはインナーシールド１２２が固定されている。インナ
ーシールド１２２は、フレーム１２０の支持部１２０ａ
とフランジ部１２０ｂの一部に接触して固定される周縁
部１２２ａと、前記周縁部１２２ａから延びる傾斜延長
部１２２ｂとを具備する。
にはインナーシールド１２２が固定されている。インナ
ーシールド１２２は、フレーム１２０の支持部１２０ａ
とフランジ部１２０ｂの一部に接触して固定される周縁
部１２２ａと、前記周縁部１２２ａから延びる傾斜延長
部１２２ｂとを具備する。
【００３２】周縁部１２２ａは、フレーム１２０の支持
部１２０ａとフランジ部１２０ｂとの形状に対応可能に
折曲げられている。
部１２０ａとフランジ部１２０ｂとの形状に対応可能に
折曲げられている。
【００３３】図２より分かるように、インナーシールド
１２２はフレーム１２０の外表面を完全に取囲んで延び
ている。このようなインナーシールド１２２とフレーム
１２０との相互関係は、地磁界による影響を減少させる
に有効である。
１２２はフレーム１２０の外表面を完全に取囲んで延び
ている。このようなインナーシールド１２２とフレーム
１２０との相互関係は、地磁界による影響を減少させる
に有効である。
【００３４】即ち、電子ビームがフレーム１２０により
形成される空間を通じて進行する間、地磁界によってフ
レーム１２０を通して及ぶ地磁界を、インナーシールド
１２２が遮蔽しうることができる。
形成される空間を通じて進行する間、地磁界によってフ
レーム１２０を通して及ぶ地磁界を、インナーシールド
１２２が遮蔽しうることができる。
【００３５】インナーシールド１２２は０．１５ｍｍの
厚さを有し、またその材質特性は透磁率（μ）の高いも
のが望ましい。
厚さを有し、またその材質特性は透磁率（μ）の高いも
のが望ましい。
【００３６】本発明による陰極線管１００は次の通り作
動する。
動する。
【００３７】電子銃１３３から放出された電子ビーム、
即ち熱電子はその一部のみがシャドーマスク１１２の電
子ビーム通過孔を通過するので、シャドーマスク１１２
にランディングされた電子ビームは熱によって損失され
る。
即ち熱電子はその一部のみがシャドーマスク１１２の電
子ビーム通過孔を通過するので、シャドーマスク１１２
にランディングされた電子ビームは熱によって損失され
る。
【００３８】従って、陰極線管１００の駆動初期にフレ
ーム１２０に支持されたシャドーマスク１１２は、フレ
ーム１２０に比べて相対的に短時間内に熱膨張されて急
激なドーミング現象が発生する。
ーム１２０に支持されたシャドーマスク１１２は、フレ
ーム１２０に比べて相対的に短時間内に熱膨張されて急
激なドーミング現象が発生する。
【００３９】次いで、シャドーマスク１１２から伝えら
れた熱によりフレーム１２０が膨脹されることによっ
て、シャドーマスク１１２のドーミング現象が解消さ
れ、シャドーマスク１１２が平滑化される。この際、前
記シャドーマスク１１２と蛍光膜１１１との間隔が広く
なるが、このような間隔の変化はフレーム１２０を支持
するスプリング１２３により補正される。
れた熱によりフレーム１２０が膨脹されることによっ
て、シャドーマスク１１２のドーミング現象が解消さ
れ、シャドーマスク１１２が平滑化される。この際、前
記シャドーマスク１１２と蛍光膜１１１との間隔が広く
なるが、このような間隔の変化はフレーム１２０を支持
するスプリング１２３により補正される。
【００４０】フレーム１２０には補強部１２１ｂが形成
されているので、フレーム１２０の厚さは相対的に薄く
設定されうる。所定の剛性を保ちながらもフレーム１２
０の厚さを薄く設定できるなら、シャドーマスク１１２
から伝えられる熱がフレーム１２０を膨脹させる時間が
短縮され、よってシャドーマスク１１２とフレーム１２
０はさらに短時間内にドーミング現象を解消して熱的平
衡状態に到達しうる。
されているので、フレーム１２０の厚さは相対的に薄く
設定されうる。所定の剛性を保ちながらもフレーム１２
０の厚さを薄く設定できるなら、シャドーマスク１１２
から伝えられる熱がフレーム１２０を膨脹させる時間が
短縮され、よってシャドーマスク１１２とフレーム１２
０はさらに短時間内にドーミング現象を解消して熱的平
衡状態に到達しうる。
【００４１】一方、前記フレーム１２０は支持部１２０
ａとフランジ部１２０ｂの全面に亙って多数の貫通孔１
２１ｂが形成されているので、地磁界による影響をあま
り受けない。
ａとフランジ部１２０ｂの全面に亙って多数の貫通孔１
２１ｂが形成されているので、地磁界による影響をあま
り受けない。
【００４２】また、高透磁率特性を有するインナーシー
ルド１２２の周縁部１２２ａもフレーム１２０を完全に
取囲んでいるので、地磁界をさらに効率よく遮蔽する。
ルド１２２の周縁部１２２ａもフレーム１２０を完全に
取囲んでいるので、地磁界をさらに効率よく遮蔽する。
【００４３】
【発明の効果】以上本発明による陰極線管によれば、シ
ャドーマスクを支持するフレーム及びインナーシールド
の構造を改善させることにより、磁界の遮蔽効率が向上
され、電子ビームの軌跡を設計値通り保ち、かつ画質を
向上させることができる。
ャドーマスクを支持するフレーム及びインナーシールド
の構造を改善させることにより、磁界の遮蔽効率が向上
され、電子ビームの軌跡を設計値通り保ち、かつ画質を
向上させることができる。
【００４４】本発明は図面に示された一実施形態に基づ
き説明されたが、これは例示的なものに過ぎなく、当業
者ならこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可
能なのは明白である。従って、本発明の真の技術的保護
範囲は特許請求の範囲に限定すべきである。
き説明されたが、これは例示的なものに過ぎなく、当業
者ならこれより多様な変形及び均等な他の実施形態が可
能なのは明白である。従って、本発明の真の技術的保護
範囲は特許請求の範囲に限定すべきである。
【図１】本発明による陰極線管の概略的な縦断面図。
【図２】図１の一部抜粋断面図。
【図３】図２のフレームの一部を示す部分斜視図。
【図４】従来の陰極線管の概略的な縦断面図。
【図５】図４の一部抜粋断面図。
１００ 陰極線管 １１０ パネル １１１ 蛍光膜 １１２ シャドーマスク １１２ｂ スカート部 １２０ フレーム １２０ａ 支持部 １２０ｂ フランジ部 １２１ａ 貫通孔 １２１ｂ 補強部 １２２ インナーシールド １２２ａ 終縁部 １２２ｂ 傾斜延長部 １２３ フックスプリング １２４ スタッドピン １３０ ファンネル １３１ ネック部 １３２ コーン部 １３３ 電子銃 １３４ 偏向ヨーク
Claims (4)
- 【請求項１】 多数の電子ビーム通過孔が形成された孔
部と前記孔部の縁部から延長されたスカート部を有する
シャドーマスクと、 前記シャドーマスクを支持するように前記シャドーマス
クのスカート部が固定される支持部と前記支持部から延
びるフランジ部とを有し、前記支持部及びフランジ部に
多数の貫通孔が形成されたフレームと、 前記フレームに対して支持されたインナーシールドとを
具備することを特徴とする陰極線管。 - 【請求項２】 前記フレームの剛性が向上できるように
前記フレームの一部を湾曲させた補強部が形成されてい
ることを特徴とする請求項１に記載の陰極線管。 - 【請求項３】 前記フレームの剛性が向上できるように
前記フレームに対して補強板を付着させたことを特徴と
する請求項１に記載の陰極線管。 - 【請求項４】 前記インナーシールドは、前記フレーム
の支持部とフランジ部の少なくとも一部分を取囲むよう
にそれに対応して折曲げられた周縁部と、それから延長
された傾斜延長部とを有することを特徴とする請求項１
に記載の陰極線管。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019970068879A KR100243255B1 (ko) | 1997-12-15 | 1997-12-15 | 새도우 마스크 지지체 |
| KR1997-68879 | 1997-12-15 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11238471A true JPH11238471A (ja) | 1999-08-31 |
Family
ID=19527339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10354752A Withdrawn JPH11238471A (ja) | 1997-12-15 | 1998-12-14 | 陰極線管 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6144149A (ja) |
| JP (1) | JPH11238471A (ja) |
| KR (1) | KR100243255B1 (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3468344B2 (ja) * | 1998-02-26 | 2003-11-17 | 松下電器産業株式会社 | カラー受像管 |
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