JPH1123830A - カラーフィルター - Google Patents

カラーフィルター

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JPH1123830A
JPH1123830A JP17377297A JP17377297A JPH1123830A JP H1123830 A JPH1123830 A JP H1123830A JP 17377297 A JP17377297 A JP 17377297A JP 17377297 A JP17377297 A JP 17377297A JP H1123830 A JPH1123830 A JP H1123830A
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JP
Japan
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lens
pixel
weight
refractive index
color filter
Prior art date
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Pending
Application number
JP17377297A
Other languages
English (en)
Inventor
Seiichiro Hayakawa
誠一郎 早川
Mikio Suzuki
幹夫 鈴木
Hideyori Fujiwara
英資 藤原
Jiro Kamimura
次郎 上村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光の透過率の低下を伴わず、カラーフィルタ
ーの広視野角化を容易に実現する。 【解決手段】 画素をレンズ状に形成する、或いは画素
上または画素内に樹脂からなるレンズ部を設けることを
特徴とする、カラーフィルター。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示パネルや液
晶プロジェクター等に使用されるカラーフィルターに関
する。更に詳しくは、高視野角化が達成されたカラーフ
ィルターに関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示パネルは、低電圧駆動、高精細
等種々の特徴を有しており、種々の表示パネルのなかで
も注目されている。中でも、カラーフィルターと組み合
わせたカラー液晶表示パネルは、カラー表示パネルのな
かで最も生産量が増加している。しかし、液晶表示パネ
ルの欠点として、液晶分子の配向を利用して、光の透過
のON−OFFを行うため、視野角が小さい点が指摘さ
れており、従来より液晶表示パネルの広視野角化(広角
化)に関しては、数多くの提案がなされている。例え
ば、画素分割法やマルチドメイン法のように、液晶およ
び配向膜を改良したもの(特開平8−2203)あるい
は、液晶パネルの前面(観察者に近い側)に位相差フィ
ルムやプリズムシートを張り付ける手法(特開平7−7
2808)、透明基板を凹状、曲面状にしたもの(特開
平5−19117、特開平7−318914)などがあ
る。しかしながらこれらの技術は、製造上かなりの困難
を伴うものであり、製品の均一性、歩留まり、コスト、
透過率の低下など実用上の問題点が多く、液晶表示パネ
ルとして、十分な性能を持つものができていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、液晶
表示パネルや液晶プロジェクターに適用した場合、透過
率などの性能を維持したまま、容易に広視野角化を達成
できるカラーフィルターを提供することである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記問題点
を解決するために鋭意検討をおこなった結果、カラーフ
ィルター内部にレンズ機能を持たせることにより、透過
率等の性能低下を伴うことなく、広視野角化を達成でき
ることを見いだし、本発明に到達した。即ち本発明の第
1は、基板上に画素がレンズ状に形成されていることを
特徴とするカラーフィルターに存する。本発明の第2
は、画素上に樹脂から成るレンズ部を形成することを特
徴とするカラーフィルターに存する。また本発明の第3
は、基板上に樹脂から成るレンズ部、および該レンズ部
とは屈折率の異なるバインダー樹脂による画素が、この
順で形成されており、該レンズ部と該画素が、レンズ面
を介して接する構造であることを特徴とするカラーフィ
ルターに存する。
【0005】尚、本発明の第1および第2に於いては、
レンズ部またはレンズ状に形成された画素とは屈折率が
異なり、かつレンズ面を介してこれらのレンズ部または
レンズ状に形成された画素と接する層を有する場合、更
に高い広視野角効果が得られる。レンズ面を介して、レ
ンズ部またはレンズ状画素と接する層とは、液晶表示素
子の構造により様々であるが、例えばオーバーコート
層、配向膜、電極膜などが挙げられる。
【0006】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
従来の液晶表示パネルは、例えば図1に示されるような
構成である。バックライトから出射した光は第一の偏光
フィルム、液晶、カラーフィルター、第二の偏光フィル
ムを透過して、指向性を持った光として出射する。ここ
で、カラーフィルターは図2に示されるように、透明基
板上に赤(R)、緑(G)、青(B)の画素が所望のパ
ターンでブラックマトリックスに仕切られて配置されて
いるが、各画素の上面は平面となるように形成されてお
り、通常は更にその上部に、画素の保護及び平滑性の目
的でオーバーコート層が設けられている。
【0007】このように従来の液晶表示パネルでは、バ
ックライトからの光が、最終的には指向性を持った光と
して出射されるため、パネル正面には輝度の高い光が出
射し、パネル正面にいる観察者には、画像が良く認識で
きるが、パネルに対し斜めあるいは上下方向には輝度の
低い光しか出射せず、この方向から見ると画面が暗く、
画像を認識できない。
【0008】それに対し本発明は、カラーフィルターを
図3〜図8に示されるようにレンズ機能を有する構造と
することにより、出射光を広角化するものである。図3
及び図4に示されるように画素そのものをレンズ形状化
する場合には、画素を形成する樹脂と、レンズ面を介し
て画素と接する層、この場合はオーバーコート層、に使
用される樹脂の屈折率差を少なくとも0.01以上とる
ことにより、より有効なレンズ効果を得ることができ
る。この場合どちらの樹脂の屈折率が高くてもよい。例
えば図3のように画素が凸レンズ状に形成される場合、
画素を形成する樹脂の屈折率がオーバーコート層を形成
する樹脂の屈折率より低い時には出射光は拡散される
し、高い時には入射光が一旦集光されたのち、観察者に
むけて広がって出射される。図4のように画素が凹レン
ズ状に形成される場合はこの拡散、集光が逆になるだけ
であり、いずれにしても出射光を広角化することができ
る。
【0009】図5および図6は通常の画素上に球面状あ
るいは回折格子状のレンズ部を形成したものであるが、
この場合はレンズ部の屈折率とオーバーコート層に使用
される樹脂の屈折率差が少なくとも0.01以上あれば
同様により有効なレンズ効果、すなわち広視野角化が達
成される。なお図10のように微小な球面状レンズを、
多数個、1つの画素上に形成してもよいし、図6におい
てピッチや向きの異なる複数の回折格子を1つの画素上
に形成しても良い。
【0010】図7および図8は画素内部に球面状あるい
は回折格子状のレンズを形成したものであるが、この場
合にはレンズ部の屈折率と画素を形成する樹脂の屈折率
差が上記同様0.01以上であれば広視野角化が達成さ
れる。なお図11のように微小な球面状レンズを多数個
1つの画素内に形成してもよいし、図8においてはピッ
チや向きの異なる複数の回折格子を1つの画素内に形成
しても良い。
【0011】図6および図8は回折格子による回折光、
特に高次回折光を利用して広視野角を達成しようとする
ものである。球面状レンズにより光の集光、拡散を行う
場合、すなわち画素を球面状にレンズ化したり(図3、
図4)、画素上に球面状レンズを作製したり(図5)、
画素内に球面状レンズを作製した(図7)場合の光の集
光、拡散は、入射光を平行光と仮定すると次式1により
近似的に表される。
【0012】
【数1】f=r/(n2−n1) 式1
【0013】ここでfはレンズの焦点距離であり、rは
レンズの曲率半径である。n2、n1は球面を形成する
2媒質の屈折率である。図3、図4に示されるように画
素自体をレンズ化する場合は、n2がオーバーコートの
屈折率、n1が画素の屈折率であり、図5に示されるよ
うに画素上にレンズが形成される場合は、n2がオーバ
ーコートの屈折率、n1がレンズ部の屈折率であり、図
7に示されるように画素内部にレンズが形成される場合
は、n2が画素の屈折率、n1がレンズ部の屈折率であ
る。
【0014】図3、図5の場合においては、n2がn1
より大きい時入射光は拡散し、n2がn1より小さい場
合は一旦集光した後拡散される。図4の場合には逆であ
る。適切なレンズ部の曲率半径rおよび屈折率n1、n
2を選ぶことにより式1に従いレンズの焦点距離を求
め、出射光の広がりを設定することができる。レンズ部
の曲率半径rが小さいほど、かつ屈折率n1、n2の差
が大きいほど広視角化に有効である。回折格子により光
の拡散を行う場合、すなわち画素上に回折格子を作製し
たり(図6)、画素内に回折格子を作製した(図8)場
合には、入射光がカラーフィルターに垂直に入射すると
仮定すると次式2に従い入射光が回折される。
【0015】
【数2】sin(θN )=±Nλ/P 式2
【0016】ここでθN は出射光の0次回折光とN次回
折光のなす角度である。またλは入射光の波長であり、
Pは回折格子のピッチである。更にN次光の回折光強度
は、例えば図9に示されるように回折格子が矩形の場
合、隣接する回折格子間の距離をWとすると、回折格子
の1ピッチ中のデューティー比ε(=W/P)と、次式
3に従って発生する位相差とにより求めることができ
る。
【0017】
【数3】 位相差δ=2(n2−n1)πd/λ 式3
【0018】ここでn2はオーバーコート層を、n1は
回折格子を形成する2媒質の屈折率であり、dは回折格
子の高さ、λは入射光の波長である。例えばデューティ
ー比εで位相差δを発生する回折格子を作製した場合、
0次光と1次光の強度比I1/I0および1次光と2次
光の強度比I2/I1は次式4、5により求めることが
できる。
【0019】
【数4】 I1/I0=2[{sin(πε) }2(1-cos δ)]/[π2 {1-2 ε(1−ε)(1-cos δ) }] 式4 I2/I1=cos2(πε) 式5
【0020】われわれは式2および式3における回折格
子のピッチP、デューティー比ε、回折格子の高さd、
屈折率n2、n1、を調節することにより、式4、5、
あるいは更に高次光に関する強度式に従い、出射光の広
がりや強度を設定することができる。回折格子のピッチ
Pおよびデューティー比εは要求される出射光分布によ
るが、屈折率n2、n1はその差は大きいほど回折格子
の高さdが小さくてすむので、回折格子の形成が容易に
なり生産性は向上する。また式2に示されるように回折
角は波長に依存するが、R、G、B各画素ごとに回折格
子のピッチを変えれば、どの画素でも同じ回折角すなわ
ち視野角が得られる。
【0021】本発明におけるカラーフィルターの、基板
材料、画素またはレンズ部の材料(画素のバインダー樹
脂またはレンズ部の樹脂)、オーバーコート層材料には
特に限定なく、公知のものを使用することができる。基
板としては、上面部にブラックマトリックスが形成され
たガラス製、樹脂製のものが通常使用される。しかし、
場合によってはブラックマトリックスを省略した基板も
使用することができる。画素またはレンズ部の材料とし
ては、光重合性樹脂組成物が挙げられる。光重合性樹脂
としては、エチレン性二重結合を分子内に有する光重合
化合物が挙げられる。更に光重合性樹脂組成物の代わり
に、ジアゾ化合物等の光架橋性化合物、キノンジアジド
化合物等のポジ型感光性組成物を使用することもでき
る。
【0022】ただし、樹脂によるレンズ部が画素内に形
成される場合は(図7、8)、画素を形成する画素材料
とレンズ部を形成する樹脂の屈折率の差が少なくとも
0.01以上なければならない。この場合は例えば、高
屈折率樹脂として、スチレンなどのベンゼン環を多く含
んだアクリル系の光重合性化合物(nが1.60前後)
または、フェノールノボラック樹脂よりなるポジ型光分
解性化合物(nが1.60前後)が挙げられる。また、
低屈折率用樹脂としてベンゼン環を含まないアクリル系
の光重合性化合物(nが1.50前後)または、ベンゼ
ン環を含まないポリビニルアルコールなどよりなるポジ
型光分解性化合物(nが1.50前後)などが挙げられ
る。
【0023】オーバーコート層材料としては、公知のも
のが使用されるが、生産工程上からは、紫外線硬化でき
る光硬化性樹脂が好ましい。オーバーコート層がレンズ
部に接する媒質である場合には(図3、4、5、6)、
このオーバーコート樹脂の屈折率と画素またはレンズ部
の屈折率の差が0.01以上なければならないが、オー
バーコート層樹脂として、通常のフォトレジストの屈折
率1.50〜1.55よりも高屈折率であるp−ビス
〔β−(メタ)アクリロイルオキシエチルチオ〕キシリ
レン(屈折率1.60)、4,4′−ビス〔β−(メ
タ)アクリロイルオキシエチルチオ〕ジフェニルスルフ
ォン(屈折率1.64)などの(メタ)アクリル系モノ
マーを光硬化して得られる樹脂が好適である。
【0024】基板上にブラックマトリックスを形成する
には、基板にクロム等のブラックマトリックス層が全面
に形成された基板材料を用い、フォトレジストを塗布・
乾燥後、露光を行い、その後不要部分のブラックマトリ
ックス材料をエッチングで除去する通常のフォトリソ技
術が使用される。フォトリソ法による樹脂ブラックマト
リックス形成の場合には、黒色の色素含有の光重合性組
成物を基板上にスピンコート法等で塗布・乾燥後、遮光
マスクを用いた選択的光露光を行い、ブラックマトリッ
クス部分のみを光重合させ、遮光部に対応する未露光部
(未重合部)をアルカリ水、有機溶剤等の現像液で現像
することにより、ブラックマトリックスを形成する。
【0025】R、G、Bの画素の形成方法についても特
に限定されることなく、従来から公知の方法、例えば、
印刷法、電着法、フォトリソ法等を採用することができ
る。通常は上記フォトリソ法による樹脂ブラックマトリ
ックス形成方法と同様の方法が採用される。ブラックマ
トリックスならびにR、G、Bの画素を連続的に形成す
るには、両方とも通常のフォトリソ技術により行うこと
が製造工程上有利である。R、G、Bの画素を形成する
際、ブラックマトリックスの厚みが薄い場合は、図2に
示されるように画素部は矩形状となるが、厚い場合は下
層のブラックマトリックスの影響を受けて、各画素は図
4に示されるように周辺部が盛り上がった下凸のレンズ
形状となる。
【0026】図3に示されるような上凸のレンズ状画素
を作製する方法は、特に限定されないが、例えば、まず
フォトリソ法により矩形状の画素を形成し、次いで画素
のバインダー樹脂のガラス転移温度以上に全体を加熱す
ることにより、画素のバインダー樹脂の熱だれを起こ
し、図12に示されるように各画素の形状を球面化す
る。また、粘度を調整した印刷インクを使用した印刷法
により各画素をレンズ形状に形成する方法も採用可能で
ある。
【0027】図7および図8に示されるように画素内部
にレンズ部を作製する場合には、上記同様のフォトリソ
技術を用いてまずレンズ部を作製した後、ブラックマト
リックスならびにR、G、Bの各画素を作製する。図7
に示されるようにレンズ部を上凸の球面レンズ状に形成
する手法も、前述したレンズ部樹脂の熱だれを利用する
ことができる。
【0028】図5および図6に示されるように画素上に
レンズ部を作製する場合には、ブラックマトリックス、
各画素を形成した後、上記同様のフォトリソ技術を用い
てレンズ部を作製する。図5に示されるようにレンズ部
を上凸の球面レンズ状に形成する手法も、前述したレン
ズ部樹脂の熱だれを利用するとよい。画素自身をレンズ
状に形成する場合、その形状設計は前述の出射光の広が
りの計算式から決定されるが、球面状レンズの場合は各
画素の形、大きさに対応して、径が数十ミクロンから数
百ミクロン、レンズの中心高が数ミクロンから数十ミク
ロンのレンズになっていることが好ましい。画素が長方
形状の場合レンズ部は図12に示されるように長方形で
あることが好ましいし、画素が正方形状の場合は正方形
状であることが好ましい。レンズの中心高が小さい場合
には広視野角化に対する効果が少ないし、大きい場合は
カラーフィルターの厚さが増えるため表示パネル自体が
分厚くなってしまう。
【0029】画素内部または画素上部にレンズ部を形成
する場合も、その形状設計は前述の出射光の広がりの計
算式から決定されるが、球面状レンズの場合は各画素の
形、大きさに対応して、径が数十ミクロンから数百ミク
ロン、レンズの中心高が数ミクロンから数十ミクロンの
レンズが少なくとも1個以上形成されていることが好ま
しい。回折格子状レンズの場合はピッチが数ミクロンか
ら数十ミクロン、格子高がサブミクロンから数ミクロン
であることが好ましい。ピッチが小さすぎる場合は出射
回折光の間隔が広すぎるし、ピッチが大きすぎると広視
野角化に対する効果が少ない。また格子高が小さすぎる
と必要な位相差を得ることができず、高次回折光強度が
弱くなり、広視野角化の効果が少ない。格子高が大きす
ぎるとカラーフィルターの厚さが増えるため表示パネル
自体が分厚くなってしまう。
【0030】
【実施例】以下実施例により本発明を説明するが、本発
明はこれら実施例に限定されるものではない。実施例中
で用いたエリプソメーターと表面粗さ計は下記のものを
使用した。 エリプソメーター:ミワオプト株式会社製 L115C 表面粗さ計 :東京精密製サーフコム710 有効視野角測定は、図13の光学系によりレーザーを用
いて下記の輝度計により測定した。入射レーザー光の強
度(10mw)がカラーフィルターを通過して出射する
際、出射光の強度が1/10(1mw)になる角度θを
有効視野角とした。 輝度計:ミノルタ製分光放射輝度計CS−1000
【0031】[実施例1]図3に対応 バインダー樹脂としてスチレン−アクリル酸共重合体の
グリシジルアクリレート変性物を29重量部、モノマー
としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを2
9重量部、光重合開始剤としてビイミダゾール1重量部
とミヒラーケトン1重量部を含む光重合性組成物を調合
し、さらに溶媒としてメトキシ−2−アセトキシプロパ
ン49重量部とカーボンブラック7重量部を配合して、
ブラックマトリックス形成用液とした。ガラス基板とし
て0.7mm厚の無アルカリガラスを用いて、このブラ
ックマトリックス形成用液をスピンコートにより基板上
に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を
遮光マスクを介して照射した。その後アルカリ現像を行
い、膜厚2μmのブラックマトリックスを形成した。
【0032】次いで、ベンゼン環を含まないポジ型レジ
ストであるキノンジアジド縮合ポリビニルアルコール1
00重量部と、溶剤として1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパンを46重量部を調合し、R(日本チバガイギ
ー(株)製CRφMφ−PHTAL−RED−A2
B)、G(東洋インキ(株)製LIφNφL−Gree
n−6Y−501)、B(東洋インキ(株)製LIφN
φL−Blue−ES)の各顔料をそれぞれ22重量部
分散させて、R画素形成用液、G画素形成用液、B画素
形成用液とした。まずブラックマトリックスが形成され
た基板上に、R画素形成用液をスピンコートにより基板
上に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線
を遮光マスクを通して照射しその後アルカリ現像を行
い、表面が平らな矩形状のR画素を作製した。次いでG
画素形成用液、B画素形成用液を用いて順次同様の手法
で表面が平らな矩形状のG画素およびB画素を作製し
た。画素の膜厚と屈折率をエリプソメーターにより測定
したところ膜厚5μm、屈折率1.50であった。
【0033】この基板全体をオーブン中で200℃で3
0分加熱し、画素樹脂に熱だれを起こすことにより凸レ
ンズ化した。できた各画素は、底面が100μm×30
0μmの長方形で、高さが5μmの球面レンズ状であっ
た。この表面にオーバーコート用モノマーとして4,
4′−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエチルチ
オ]ジフェニルスルフォンを30重量部と、光重合開始
剤としてベンゾフェノンを0.1重量部、溶剤として1
−メトキシ−2−アセトキシプロパン70重量部よりな
るオーバーコート液をスピンコートした後、基板全体を
100℃で10分加熱し、溶剤である1−メトキシ−2
−アセトキシプロパンをオーバーコート層から乾燥除去
した。この基板全体に6kwのメタルハライドランプを
用いて、高さ50cmの距離から10Jの紫外線を照射
し、オーバーコート層を硬化させた。表面粗さ計でオー
バーコート層の表面を測定したところ、Ra(表面粗
さ)は0.01μmであり平滑であった。別途、ガラス
基板上に上記と同様の手法でオーバーコートモノマーの
みを硬化させ、エリプソメーターでオーバーコート層の
屈折率を測定したところ、屈折率1.64であった。こ
のカラーフィルターの有効視野角は表1に示す通りであ
った。
【0034】[実施例2]図4に対応 バインダー樹脂としてスチレン−アクリル酸共重合体の
グリシジルアクリレート変性物を29重量部、モノマー
としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを2
9重量部、光重合開始剤としてビイミダゾール1重量部
とミヒラーケトン1重量部を含む光重合性組成物を調合
し、さらに溶媒としてメトキシ−2−アセトキシプロパ
ン49重量部とカーボンブラック7重量部を配合して、
ブラックマトリックス形成用液とした。ガラス基板とし
て0.7mm厚の無アルカリガラスを用いて、このブラ
ックマトリックス形成用液をスピンコートにより基板上
に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を
遮光マスクを通して照射した。その後アルカリ現像を行
い、膜厚10μmのブラックマトリックスを形成した。
【0035】次いで、ベンゼン環を含まないポジ型レジ
ストであるキノンジアジド縮合ポリビニルアルコール1
00重量部と、溶剤として1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパンを46重量部を調合し、R、G、Bの各顔料
をそれぞれ22重量部分散させて、R画素形成用液、G
画素形成用液、B画素形成用液とした。まずブラックマ
トリックスが形成された基板上に、R画素形成用液をス
ピンコートにより基板上に塗布し、乾燥した後、超高圧
水銀灯を用いて紫外線を遮光マスクを通して照射し、そ
の後アルカリ現像を行いR画素を作製した。次いでG画
素形成用液、B画素形成用液を用いて順次同様の手法で
G画素およびB画素を作製した。
【0036】画素の表面形状を表面粗さ計で測定したと
ころ、画素中央部の厚さは5μmすなわちガラス基板か
ら5μmの高さであるのに対し、ブラックマトリックス
上の画素周辺部は基板より10μmの高さにあり、各画
素は底面が100μm×300μmの長方形で、深さが
5μmの凹状の球面レンズ状であった。画素の屈折率を
エリプソメーターにより測定したところ、屈折率1.5
0であった。この表面にオーバーコート用モノマーとし
て4,4′−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエ
チルチオ]ジフェニルスルフォンを30重量部と、光重
合開始剤としてベンゾフェノンを0.1重量部、溶剤と
して1−メトキシ−2−アセトキシプロパン70重量部
よりなるオーバーコート液をスピンコートした後、基板
全体を100℃で10分加熱し、溶剤である1−メトキ
シ−2−アセトキシプロパンをコーティング層から乾燥
除去した。この基板全体に6kwのメタルハライドラン
プを用いて、高さ50cmの距離から10Jの紫外線を
照射し、オーバーコートモノマーを硬化させた。表面粗
さ計でオーバーコート層の表面を測定したところ、Ra
は0.01μmであり平滑であった。別途、ガラス基板
上に上記と同様の手法でオーバーコート層のみを硬化さ
せ、エリプソメーターでオーバーコート層の屈折率を測
定したところ、屈折率1.64であった。このカラーフ
ィルターの有効視野角は表1に示す通りであった。
【0037】[実施例3]図5に対応 バインダー樹脂としてスチレン−アクリル酸共重合体の
グリシジルアクリレート変性物を29重量部、モノマー
としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを2
9重量部、光重合開始剤としてビイミダゾール1重量部
とミヒラーケトン1重量部を含む光重合性組成物を調合
し、さらに溶媒としてメトキシ−2−アセトキシプロパ
ン49重量部とカーボンブラック7重量部を配合して、
ブラックマトリックス形成用液とした。ガラス基板とし
て0.7mm厚の無アルカリガラスを用いて、このブラ
ックマトリックス形成用液をスピンコートにより基板上
に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を
遮光マスクを通して照射した。その後アルカリ現像を行
い、膜厚2μmのブラックマトリックスを形成した。
【0038】次いで、ベンゼン環を含まないポジ型レジ
ストであるキノンジアジド縮合ポリビニルアルコール1
00重量部と、溶剤として1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパンを46重量部を調合し、R、G、Bの各顔料
をそれぞれ22重量部分散させて、R画素形成用液、G
画素形成用液、B画素形成用液とした。まずブラックマ
トリックスが形成された基板上に、R画素形成用液をス
ピンコートにより基板上に塗布し、乾燥した後、超高圧
水銀灯を用いて紫外線を遮光マスクを通して照射しその
後アルカリ現像を行い、表面が平らな矩形状のR画素を
作製した。次いでG画素形成用液、B画素形成用液を用
いて順次同様の手法で表面が平らな矩形状のG画素およ
びB画素を作製した。
【0039】さらに、ベンゼン環を含まないポジ型レジ
ストであるキノンジアジド縮合ポリビニルアルコール1
00重量部と、溶剤として1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパンを46重量部を調合し、レンズ部形成用液と
した。レンズ部形成用液をスピンコートにより、ブラッ
クマトリックスとR、G、B画素が形成された基板上に
塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を遮
光マスクを通して照射し、その後アルカリ現像を行うこ
とにより、各画素上に表面が平らな矩形状のレンズ部前
駆体を作製した。基板全体をオーブン中で200℃で3
0分加熱し、レンズ部前駆体樹脂に熱だれを起こすこと
により凸レンズ化した。できたレンズ部は、底面が10
0μm×300μmの長方形で、高さが5μmの球面レ
ンズ状であった。
【0040】別途、ガラス基板上に上記と同様の手法で
レンズ部前駆体のみを形成し、エリプソメーターでこの
樹脂の屈折率を測定したところ、屈折率1.50であっ
た。この表面にオーバーコート用モノマーとして4,
4′−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエチルチ
オ]ジフェニルスルフォンを30重量部と、光重合開始
剤としてベンゾフェノンを0.1重量部、溶剤として1
−メトキシ−2−アセトキシプロパン70重量部よりな
るオーバーコート液をスピンコートした後、基板全体を
100℃で10分加熱し、溶剤である1−メトキシ−2
−アセトキシプロパンをコーティング層から乾燥除去し
た。この基板全体に6kwのメタルハライドランプを用
いて、高さ50cmの距離から10Jの紫外線を照射
し、オーバーコート層を硬化させた。表面粗さ計でオー
バーコート層の表面を測定したところ、Raは0.01
μmであり平滑であった。別途、ガラス基板上に上記と
同様の手法でオーバーコート層のみを硬化させ、エリプ
ソメーターでオーバーコート層の屈折率を測定したとこ
ろ、屈折率1.64であった。このカラーフィルターの
有効視野角は表1に示す通りであった。
【0041】[実施例4]図6に対応 バインダー樹脂としてスチレン−アクリル酸共重合体の
グリシジルアクリレート変性物を29重量部、モノマー
としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを2
9重量部、光重合開始剤としてビイミダゾール1重量部
とミヒラーケトン1重量部を含む光重合性組成物を調合
し、さらに溶媒としてメトキシ−2−アセトキシプロパ
ン49重量部とカーボンブラック7重量部を配合して、
ブラックマトリックス形成用液とした。ガラス基板とし
て0.7mm厚の無アルカリガラスを用いて、このブラ
ックマトリックス形成用液をスピンコートにより基板上
に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を
遮光マスクを通して照射した。その後アルカリ現像を行
い、膜厚2μmのブラックマトリックスを形成した。
【0042】次いで、ベンゼン環を含まないポジ型レジ
ストであるキノンジアジド縮合ポリビニルアルコール1
00重量部と、溶剤として1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパンを46重量部を調合し、R、G、Bの各顔料
をそれぞれ22重量部分散させて、R画素形成用液、G
画素形成用液、B画素形成用液とした。まずブラックマ
トリックスが形成された基板上に、R画素形成用液をス
ピンコートにより基板上に塗布し、乾燥した後、超高圧
水銀灯を用いて紫外線を遮光マスクを通して照射しその
後アルカリ現像を行い、表面が平らな矩形状のR画素を
作製した。次いでG画素形成用液、B画素形成用液を用
いて順次同様の手法で表面が平らな矩形状のG画素およ
びB画素を作製した。
【0043】さらに、ベンゼン環を含まないポジ型レジ
ストであるキノンジアジド縮合ポリビニルアルコール1
00重量部と、溶剤として1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパンを46重量部を調合し、レンズ部形成用液と
した。レンズ部形成用液をスピンコートにより、ブラッ
クマトリックスとR、G、B画素が形成された基板上に
塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を遮
光マスクを通して照射し、その後アルカリ現像を行うこ
とにより、各画素上にピッチ20μm、デューティー比
0.5、凹凸差3μmの回折格子を作製した。別途、ガ
ラス基板上に上記と同様の手法でレンズ部前駆体のみを
形成し、エリプソメーターでこの樹脂の屈折率を測定し
たところ、屈折率1.50であった。
【0044】この表面にオーバーコート用モノマーとし
て4,4′−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエ
チルチオ]ジフェニルスルフォンを30重量部と、光重
合開始剤としてベンゾフェノンを0.1重量部、溶剤と
して1−メトキシ−2−アセトキシプロパン70重量部
よりなるオーバーコート液をスピンコートした後、基板
全体を100℃で10分加熱し、溶剤である1−メトキ
シ−2−アセトキシプロパンをコーティング層から乾燥
除去した。この基板全体に6kwのメタルハライドラン
プを用いて、高さ50cmの距離から10Jの紫外線を
照射し、オーバーコート層を硬化させた。表面粗さ計で
オーバーコート層の表面を測定したところ、Raは0.
01μmであり平滑であった。別途、ガラス基板上に上
記と同様の手法でオーバーコートモノマーのみを硬化さ
せ、エリプソメーターでオーバーコート層の屈折率を測
定したところ、屈折率1.64であった。このカラーフ
ィルターの有効視野角は表1に示す通りであった。
【0045】[実施例5]図8に対応 バインダー樹脂としてスチレン−アクリル酸共重合体の
グリシジルアクリレート変性物を29重量部、モノマー
としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを2
9重量部、光重合開始剤としてビイミダゾール1重量部
とミヒラーケトン1重量部を含む光重合性組成物を調合
し、さらに溶媒としてメトキシ−2−アセトキシプロパ
ン49重量部とカーボンブラック7重量部を配合して、
ブラックマトリックス形成用液とした。ガラス基板とし
て0.7mm厚の無アルカリガラスを用いて、このブラ
ックマトリックス形成用液をスピンコートにより基板上
に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を
遮光マスクを通して照射した。その後アルカリ現像を行
い、膜厚2μmのブラックマトリックスを形成した。
【0046】次にバインダー樹脂としてスチレン−アク
リル酸共重合体のグリシジルアクリレート変性物を29
重量部、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ
アクリレートを29重量部、光重合開始剤としてビイミ
ダゾール1重量部とミヒラーケトン1重量部を含む光重
合性組成物を調合し、さらに溶媒としてメトキシ−2−
アセトキシプロパン49重量部を配合して、レンズ形成
用液とした。レンズ形成用液をスピンコートにより基板
上に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線
を遮光マスクを通して照射した。その後アルカリ現像を
行い、ブラックマトリックス間にピッチ20μm、デュ
ーティー比0.5、凹凸差3μmの回折格子を作製し
た。
【0047】別途、ガラス基板上に上記と同様の手法で
レンズ部のみを形成し、エリプソメーターでこの樹脂の
屈折率を測定したところ、屈折率1.50であった。次
いで、ベンゼン環を含まないポジ型レジストであるキノ
ンジアジド縮合ポリビニルアルコール100重量部と、
溶剤として1−メトキシ−2−アセトキシプロパンを4
6重量部を調合し、R、G、Bの各顔料をそれぞれ22
重量部分散させて、R画素形成用液、G画素形成用液、
B画素形成用液とした。まずブラックマトリックスとレ
ンズ部が形成された基板上に、R画素形成用液をスピン
コートにより基板上に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀
灯を用いて紫外線を遮光マスクを通して照射しその後ア
ルカリ現像を行い、表面が平らな矩形状のR画素を作製
した。次いでG画素形成用液、B画素形成用液を用いて
順次同様の手法で表面が平らな矩形状のG画素およびB
画素を作製した。
【0048】この表面にオーバーコート用モノマーとし
て4,4′−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエ
チルチオ]ジフェニルスルフォンを30重量部と、光重
合開始剤としてベンゾフェノンを0.1重量部、溶剤と
して1−メトキシ−2−アセトキシプロパン70重量部
よりなるオーバーコート液をスピンコートした後、基板
全体を100℃で10分加熱し、溶剤である1−メトキ
シ−2−アセトキシプロパンをコーティング層から乾燥
除去した。この基板全体に6kwのメタルハライドラン
プを用いて、高さ50cmの距離から10Jの紫外線を
照射し、オーバーコート層を硬化させた。表面粗さ計で
オーバーコート層の表面を測定したところ、Raは0.
01μmであり平滑であった。別途、ガラス基板上に上
記と同様の手法でオーバーコートモノマーのみを硬化さ
せ、エリプソメーターでオーバーコート層の屈折率を測
定したところ、屈折率1.64であった。このカラーフ
ィルターの有効視野角は表1に示す通りであった。
【0049】[比較例1]図2に対応 バインダー樹脂としてスチレン−アクリル酸共重合体の
グリシジルアクリレート変性物を29重量部、モノマー
としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを2
9重量部、光重合開始剤としてビイミダゾール1重量部
とミヒラーケトン1重量部を含む光重合性組成物を調合
し、さらに溶媒としてメトキシ−2−アセトキシプロパ
ン49重量部とカーボンブラック7重量部を配合して、
ブラックマトリックス形成用液とした。ガラス基板とし
て0.7mm厚の無アルカリガラスを用いて、このブラ
ックマトリックス形成用液をスピンコートにより基板上
に塗布し、乾燥した後、超高圧水銀灯を用いて紫外線を
遮光マスクを通して照射した。その後アルカリ現像を行
い、膜厚2μmのブラックマトリックスを形成した。
【0050】次いで、ベンゼン環を含まないポジ型レジ
ストであるキノンジアジド縮合ポリビニルアルコール1
00重量部と、溶剤として1−メトキシ−2−アセトキ
シプロパンを46重量部を調合し、R、G、Bの各顔料
をそれぞれ22重量部分散させて、R画素形成用液、G
画素形成用液、B画素形成用液とした。まずブラックマ
トリックスが形成された基板上に、R画素形成用液をス
ピンコートにより基板上に塗布し、乾燥した後、超高圧
水銀灯を用いて紫外線を遮光マスクを通して照射しその
後アルカリ現像を行い、表面が平らな矩形状のR画素を
作製した。次いでG画素形成用液、B画素形成用液を用
いて順次同様の手法で表面が平らな矩形状のG画素およ
びB画素を作製した。画素の膜厚と屈折率をエリプソメ
ーターにより測定したところ膜厚5μm、屈折率1.5
0であった。
【0051】この表面にオーバーコート用モノマーとし
て4,4′−ビス[β−(メタ)アクリロイルオキシエ
チルチオ]ジフェニルスルフォンを30重量部と、光重
合開始剤としてベンゾフェノンを0.1重量部、溶剤と
して1−メトキシ−2−アセトキシプロパン70重量部
よりなるオーバーコート液をスピンコートした後、基板
全体を100℃で10分加熱し、溶剤である1−メトキ
シ−2−アセトキシプロパンをコーティング層から乾燥
除去した。この基板全体に6kwのメタルハライドラン
プを用いて、高さ50cmの距離から10Jの紫外線を
照射し、オーバーコート層を硬化させた。表面粗さ計で
オーバーコート層の表面を測定したところ、Raは0.
01μmであり平滑であった。別途、ガラス基板上に上
記と同様の手法でオーバーコート層のみを硬化させ、エ
リプソメーターでオーバーコート層の屈折率を測定した
ところ、屈折率1.64であった。このカラーフィルタ
ーの有効視野角は表1に示す通りであった。
【0052】
【表1】
【0053】
【発明の効果】本発明は別途フィルムやシートを重ねな
いことから、透過率等の性能を低下させることなく広視
角化が達成されたカラーフィルターを製造することがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 従来のカラーフィルターを使用した液晶表示
パネルの例(断面図)
【図2】 従来のカラーフィルターの例(断面図)
【図3】 本発明のカラーフィルター(画素がレンズ状
に成形されたもの)の例(断面図)
【図4】 本発明のカラーフィルター(画素がレンズ状
に成形されたもの)の例(断面図)
【図5】 本発明のカラーフィルター(画素上にレンズ
部を形成したもの)の例(断面図)
【図6】 本発明のカラーフィルター(画素上にレンズ
部を形成したもの)の例(断面図)
【図7】 本発明のカラーフィルター(画素中にレンズ
部を形成したもの)の例(断面図)
【図8】 本発明のカラーフィルター(画素中にレンズ
部を形成したもの)の例(断面図)
【図9】 本発明のカラーフィルターに於いて、レンズ
部が回折格子状で矩形である場合の例(断面図)
【図10】 本発明のカラーフィルター(画素上にレン
ズ部を形成したもの)の例(断面図)
【図11】 本発明のカラーフィルター(画素中にレン
ズ部を形成したもの)の例(断面図)
【図12】 本発明のカラーフィルターに於ける、球面
レンズ化した画素の例。
【図13】 本願実施例に於いて、有効視野角を測定す
る光学系。
【符号の説明】
1 偏光フィルム 2 画素電極 3 配向膜 4 液晶 5 透明電極 6 カラーフィルター 7 バックライト 8 入射光 8a レーザー(633nm)による入射光 8b レーザー(543nm)による入射光 8c レーザー(487nm)による入射光 9 出射光 9a 明るい出射光 9b 暗い出射光 9c 入射光の1/10強度(1mw)の出射光 10 ブラックマトリックス 11 オーバーコート 12 画素 13 基板 14 レンズ部 15 φ100μmスリット 16 輝度計 P 回折格子のピッチ W 隣接する回折格子間の距離 d 回折格子の高さ n1 回折格子を形成する媒質の屈折率 n2 オーバーコート層を形成する媒質の屈折率
フロントページの続き (72)発明者 上村 次郎 神奈川県横浜市青葉区鴨志田町1000番地 三菱化学株式会社横浜総合研究所内

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に、画素がレンズ状に形成されて
    いることを特徴とするカラーフィルター。
  2. 【請求項2】 画素上に、樹脂から成るレンズ部が形成
    されていることを特徴とするカラーフィルター。
  3. 【請求項3】 基板上に、樹脂から成るレンズ部、およ
    び該レンズ部とは屈折率の異なるバインダー樹脂による
    画素がこの順に形成されており、該レンズ部と該画素が
    レンズ面を介して接する構造であることを特徴とするカ
    ラーフィルター。
  4. 【請求項4】 レンズ部またはレンズ状に形成された画
    素と、レンズ面を介して、レンズ部またはレンズ状に形
    成された画素と接する層を有する、請求項1または2記
    載のカラーフィルター。
  5. 【請求項5】 レンズ部またはレンズ状に形成された画
    素と、レンズ面を介してこれらと接する層との屈折率の
    差が0.01以上である、請求項3または4記載のカラ
    ーフィルター。
  6. 【請求項6】 レンズ部またはレンズ状に形成された画
    素とレンズ面を介して接する層の、屈折率が1.55以
    上である、請求項3または4記載のカラーフィルター。
  7. 【請求項7】 レンズ部が回折格子状である、請求項2
    または3記載のカラーフィルター。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006058711A (ja) * 2004-08-20 2006-03-02 Seiko Epson Corp カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置および電子機器
JP2010122665A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法
US8049805B2 (en) 2006-04-03 2011-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Color imaging device and color imaging device manufacturing method

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JP2006058711A (ja) * 2004-08-20 2006-03-02 Seiko Epson Corp カラーフィルタ基板、カラーフィルタ基板の製造方法、電気光学装置および電子機器
US8049805B2 (en) 2006-04-03 2011-11-01 Toppan Printing Co., Ltd. Color imaging device and color imaging device manufacturing method
JP2010122665A (ja) * 2008-11-19 2010-06-03 Samsung Electronics Co Ltd 液晶表示装置及びその製造方法

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