JPH11233832A - 発光ダイオードの形成方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 16
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 99
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 22
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 19
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 48
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 18
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 18
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 15
- 229910002601 GaN Inorganic materials 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 10
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N Gallium nitride Chemical compound [Ga]#N JMASRVWKEDWRBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 6
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 5
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 3
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 3
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 3
- DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 5-(5-carboxythiophen-2-yl)thiophene-2-carboxylic acid Chemical compound S1C(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)S1 DDFHBQSCUXNBSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910005793 GeO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N aluminum gallium Chemical compound [Al].[Ga] RNQKDQAVIXDKAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N aluminum;oxygen(2-);yttrium(3+) Chemical class [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Y+3] JNDMLEXHDPKVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce][Ce] ZMIGMASIKSOYAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000295 complement effect Effects 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 2
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N trimethylgallium Chemical compound C[Ga](C)C XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002704 AlGaN Inorganic materials 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015868 MSiO Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000000295 emission spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000000695 excitation spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 230000006355 external stress Effects 0.000 description 1
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- -1 iO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N lawrencium atom Chemical compound [Lr] CNQCVBJFEGMYDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000002488 metal-organic chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910003465 moissanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011029 spinel Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N trimethylindium Chemical compound C[In](C)C IBEFSUTVZWZJEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910019901 yttrium aluminum garnet Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
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- H01L2224/45099—Material
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- H01L2224/48091—Arched
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- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
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- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48257—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a die pad of the item
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Abstract
蛍光体を有する発光ダイオードの発光方位、色調ムラを
改善した形成方法を提供するものである。 【解決手段】基体上に配された発光素子と、発光素子上
に発光素子からの発光波長の少なくとも一部を吸収し蛍
光を発する蛍光体を配置してある発光ダイオードの形成
方法である。特に、基体上に配された発光素子202と
間隙を介して対向する帯電部211に正又は負に帯電さ
せた蛍光体201を保持させる工程と、基体上に配され
た発光素子202と帯電部211との間に電圧を印加
し、発光素子側を前記蛍光体の帯電と異なる負極又は正
極にさせる工程を持つ。これにより蛍光体を発光素子上
に配置させる発光ダイオードの形成方法である。
Description
イ、バックライト光源、信号機、照光式スイッチ、各種
センサーや各種インジケータなどに利用される発光ダイ
オードに係わり、特に発光素子からの発光波長を変換し
て蛍光を発する蛍光体を有する発光ダイオードにおい
て、発光方位、色調ムラや発光ダイオード間における発
光特性のバラツキを改善した発光ダイオードの形成方法
に関する。
ぶ。)は、小型で効率が良く鮮やかな色の発光をする。
また、半導体素子であるため球切れなどの心配がない。
初期駆動特性が優れ、振動やON/OFF点灯の繰り返しに
強いという特徴を有する。そのため各種インジケータや
種々の光源として利用されている。しかしながら、LE
Dは優れた単色性ピーク波長を有するが故に白色系など
の発光波長を発光することができない。
より発光素子からの発光を色変換させて他の色などが発
光可能な発光ダイオードとして、特開平5−15260
9号公報、特開平7−99345号公報などに記載され
た発光ダイオードを開発した。これらの発光ダイオード
によって、1種類の発光チップを用いて白色系や青色が
発光可能な発光チップを用いた緑色など他の発光色を発
光させることができる。
ームの先端に設けられたカップ上などに配置する。発光
チップはメタルステムやメタルポストとそれぞれ電気的
に接続させる。そして、発光チップを被覆する樹脂モー
ルド部材中などに発光チップからの光を吸収し波長変換
する蛍光物質を含有させて発光ダイオードを形成させて
ある。蛍光物質が含有された樹脂は混合しながら発光チ
ップ上に塗布することで比較的簡単に蛍光物質が含有の
発光ダイオードを形成することができる。特に、青色系
を発光するLEDチップと、その発光を吸収し黄色系を
発光する蛍光体を選択することにより、これらの発光の
混色を利用して白色系を発光させることができる。この
ような発光ダイオードは、白色系を発光する発光ダイオ
ードとして利用した場合においても十分な輝度を発光す
る発光ダイオードとして利用することができる。
れた各発光ダイオードの色が所望通りに観測されにくい
傾向にある。すなわち、発光ダイオードを複数量産させ
た場合、各発光ダイオードがそれぞれ所望の色度範囲に
形成させることが難しく歩留りが低下する傾向にある。
また、発光ダイオードに用いられるマウント・リード上
に単に、LEDチップ及び蛍光物質が含有された樹脂を
塗布しモールド部材を形成させると、発光ダイオードの
発光観測面において色むらを生じる場合がある。具体的
には、発光観測面側から見て発光素子であるLEDチッ
プが配置された中心部が青色ぽく、その周囲方向にリン
グ状に黄、緑や赤色ぽい部分が観測される場合がある。
人間の色調感覚は、白色において特に敏感である。その
ため、わずかな色調差でも赤ぽい白、緑色ぽい白、黄色
っぽい白等と感じる。
って生ずる色むらは、品質上好ましくないばかりでなく
表示装置に利用したときの表示面における色むらや、光
センサーなど精密機器における誤差を生ずることにもな
る。本発明は上記問題点を解決し発光観測面における色
むら、発光むらや発光ダイオードごとのバラツキが極め
て少なく、量産性の良い発光ダイオードの形成方法を提
供することにある。
た発光素子と、発光素子上に発光素子からの発光波長の
少なくとも一部を吸収し蛍光を発する蛍光体を配置して
ある発光ダイオードの形成方法である。特に、蛍光体の
発光素子上への配置に際し、基体上に配された発光素子
と間隙を介して対向する帯電部に正又は負に帯電させた
蛍光体を保持する工程と、基体上に配された発光素子と
帯電部との間に電圧を印加し、発光素子側を前記蛍光体
の帯電と異なる負極又は正極にさせることにより、蛍光
体を発光素子上に配置させる工程とを有する発光ダイオ
ードの形成方法である。
と帯電部との距離、帯電部と対向する塗布面との印加電
圧(電界の強さ)を変えて付着量を制御することができ
る。帯電量や印加電圧を定めてしまえば付着量を一定に
させることができ、色むら、発光むらや発光ダイオード
ごとのバラツキを減少させ歩留まりを向上させることが
できる。
光素子上に予め設けられた結着剤上に蛍光体を飛翔させ
る。即ち、蛍光体を発光素子に積載させる前に予め発光
素子の上に結着剤を形成させる工程を追加させるもので
ある。これにより蛍光体の飛翔時に発光素子上に設けら
れたワイヤなどへの損傷を防ぐことができると共に蛍光
体を固着させることができる。さらに、結着剤表面にお
いては帯電を略均一にさせることができるため蛍光体の
付着量バラツキを低減させることができる。また、予め
形成された結着剤の形状に沿って蛍光体の付着を制御で
きるため発光素子の形状によらず蛍光体の分布を均一に
することができる。
電させた蛍光体を電界により飛翔させ発光素子上に配置
させることによって発光観測面における色調むらや発光
ダイオードごとのバラツキを改善できることを見出し本
発明を成すに到った。
光体の帯電量と、付着面となる発光素子等及び帯電部間
の印加電圧の電圧により付着量を簡便に制御することが
できるため発光素子上に蛍光体を均一に配置できる。そ
のため特性が安定できると考えられる。
ダイオードごとのバラツキは、蛍光体を所望量塗布する
ことが難しいことに起因している。具体的には、発光素
子上に厚さ約120μm程度の蛍光体含有した樹脂の膜
を形成させることで蛍光体含有の発光ダイオードを形成
させることができる。しかし、蛍光体を樹脂中に混合さ
せて発光素子上に塗布させる場合、蛍光体の混合量を適
宜調整し適量塗布することが極めて難しいだけでなく、
蛍光体と樹脂の比重、粘度(温度変化や硬化による粘度
変化)など種々のパラメータがあり一定の発光特性を持
った発光ダイオードを量産性よく形成させることが難し
い。
る時のパラメータを簡略化させると共に蛍光体を保持硬
化させる樹脂とは別体に配置させることができる。その
ため、蛍光体の配置時に生じる蛍光体のバラツキから生
ずる悪影響を極力抑えることができ均一発光することが
できると考えられる。
ュ上に帯電させた蛍光体を配置させる一方、金属メッシ
ュと対向して配置させたチップタイプLEDの電極とを
電圧印加手段に接続させる。帯電させた蛍光体と逆極性
をLED側に印加させることにより帯電させた蛍光体を
チップタイプLED側に付着させることができる。以
下、本発明の構成部材や工程について詳述する。
に用いられる蛍光体としては、少なくとも発光素子10
2の半導体発光層からの発光波長で励起され蛍光を発す
る蛍光体101をいう。窒化物半導体を用いた発光素子
から発光した光と、蛍光体が発する蛍光が補色関係など
にある場合や発光素子からの発光波長とそれによって励
起され発光する蛍光体の光とがそれぞれ光の3原色(赤
色系、緑色系、青色系)に相当する場合、それらの光を
混色表示させると白色系の発光表示を行うことができ
る。そのため発光ダイオードの外部には、発光素子から
の発光や蛍光体からの発光が効率よく取り出せることが
好ましい。
ードとして得られる所望の光によって種々の蛍光体が挙
げられる。発光素子から放出される発光波長が紫外線の
場合、窒化物半導体を発光層に用いた発光素子からの発
光波長を受けて青色が発光可能な具体的な蛍光体として
は、Sr2P2O7:Eu、Sr5(PO4)3Cl:Eu、
(SrCaBa)3(PO4)6Cl:Eu、BaMg2A
l16O27:Eu、SrO・P2O5・B2O5:Eu、(B
aCa)5(PO4)3Cl:Euなどが好適に挙げられ
る。同様に緑色が発光可能な蛍光体としてZnSi
O4:Mn、Zn2SiO4:Mn、LaPO4:Tb、S
rAl2O4:Euなどが好適に挙げられる。同様に赤色
が発光可能な蛍光体としては3.5MgO・0.5Mg
F2・GeO2:Mn、CaTiO3:Pr、Y(PV)
O4:Eu、Y2O2S:Eu、Y2O3:Euなどが好適
に挙げられる。同様に白色が発光可能な蛍光体としてY
VO4:Dyなどが好適に挙げられる。
可視光の場合、ペリレン系の誘導体、Mg5Li6Sb2
O13:Mn、Mg2TiO4:Mn、3.5MgO・0.
5MgF2・GeO2:MnやY3Al5O12:Ceなどの
セリウムで付活されたイットリウム・アルミニウム・ガ
ーネット系蛍光体が挙げられる。特に、混色により白色
系を高輝度かつ長時間の発光させる場合においてはセリ
ウムで付活されたイットリウム・アルミニウム・ガーネ
ット系蛍光体である(Re1-xSmx)3(Al1 -yG
ay)5O12:Ce(0≦x<1、0≦y≦1、ただし、
Reは、Y、Gd、Laからなる群より選択される少な
くとも一種の元素である。)を用いることが好ましい。
(RE1-xSmx)3(Al1-yGay)5O12:Ceを用い
た場合には、発光素子であるLEDチップと接する或い
は近接して配置され放射照度として(Ee)=3W・c
m-2以上10W・cm-2以下においても高効率に十分な
耐光性を有する発光ダイオードとすることができる。
5O12:Ce蛍光体は、ガーネット構造のため、熱、光
及び水分に強く、励起スペクトルのピークが470nm
付近などにさせることができる。また、発光ピークも5
30nm付近にあり720nmまで裾を引くブロードな
発光スペクトルを持たせることができる。しかも、組成
のAlの一部をGaで置換することで発光波長が短波長
にシフトし、また組成のYの一部をGdで置換すること
で、発光波長が長波長へシフトする。このように組成を
変化することで発光色を連続的に調節することが可能で
ある。したがって、長波長側の強度がGdの組成比で連
続的に変えられるなど窒化物半導体の青色系発光を利用
して白色系発光に変換するための理想条件を備えてい
る。
m、Al、La及びGaの原料として酸化物、又は高温
で容易に酸化物になる化合物を使用し、それらを化学量
論比で十分に混合して原料を得る。又は、Y、Gd、C
e、Smの希土類元素を化学量論比で酸に溶解した溶解
液を蓚酸で共沈したものを焼成して得られる共沈酸化物
と、酸化アルミニウム、酸化ガリウムとを混合して混合
原料を得る。これにフラックスとしてフッ化アンモニウ
ム等のフッ化物を適量混合して坩堝に詰め、空気中13
50〜1450°Cの温度範囲で2〜5時間焼成して焼
成品を得る。次に焼成品を水中でボールミルして、洗
浄、分離、乾燥、最後に篩を通すことで所望の蛍光体を
得ることができる。
い。即ち、Al、Ga、Y、La及びGdやSmの含有
量が異なる2種類以上の(RE1-xSmx)3(Al1-yG
ay)5O12:Ce蛍光体を混合させてRGBの波長成分
を増やすことができる。これに、カラーフィルターを用
いることによりフルカラー液晶表示装置用としても利用
できる。また、2種類以上の蛍光体を混合調整させて所
望の白色系光などを得ることができる。具体的には、発
光素子の発光波長に合わせて色度点の異なる蛍光体量を
調整し含有させることでその蛍光体間と発光素子で結ば
れる色度図上の任意点を発光させることができる。
き、装置により発光素子上に配置させることができる。
図2は本発明の装置の概略を説明する模式的上面図であ
る。図2において、発光素子202がマウント・リード
上に配置されタイバー206などによりインナー・リー
ドと同電位で電圧印加手段209と接続されている。電
圧印加手段209の他方は、帯電された蛍光体201が
保持される帯電部211となるローラと接続されてい
る。図3は図2のxxにおける模式的断面図である。こ
の装置の内部では、撹拌ローラ321が回転撹拌するこ
とにより蛍光体301を比較的容易に摩擦帯電させるこ
とができる。帯電させた蛍光体301はローラ311に
付着して回転され装置外部に露出される。なお、ローラ
311の回転中にブラシ322などを利用してローラに
付着している蛍光体の量を一定に制御させることができ
る。露出されたローラ311は帯電部として構成する一
方、帯電させた蛍光体が保持された帯電部と空間を介し
て発光素子が対向配置されている。また、ローラ311
と発光素子が配置された基板(リード端子)304との
間に電圧印加手段309により電圧を印加する。これに
より矢印の如き、電界が生じ帯電させた蛍光体が電界に
沿って発光素子側に飛翔する。印加される電圧は蛍光体
等の帯電系列により正極側とするか負極側とするかを判
断すればよい。また、印加される電圧の印加時間や電圧
の高さにより蛍光体の飛翔量を制御することができる。
飛翔した蛍光体はそのままの状態で発光素子側に付着し
ているが、固着をより強固のものにするために結着剤と
なる種々のバインダーを予め塗布させた発光素子上に蛍
光体を固定させることもできる。
に保持させたが、樹脂中に鉄粉を含有させた磁性体等を
利用してマグネットローラに一定量付着させることもで
きる。図3と同様、マグネットローラ(不示図)に磁性
体で付着された蛍光体を装置外部に露出させ帯電部を構
成することもできる。
電量、印加電圧や印加時間や蛍光体と電圧が印加される
表面の帯電系列を種々調整すること及び発光素子の発光
波長を選択することにより白色を含め電球色など任意の
色調を提供させることができる。また、蛍光体の帯電量
が少ない場合などは、有機樹脂や無機材料で蛍光体をコ
ーティングさせることもできる。
られる発光素子とは、蛍光体を励起し蛍光を発光可能な
ものである。発光素子は、MOCVD法やHDVPE法
等により基板上にInP、InN、AlN、GaN、G
aAs、GaAlAs、InGaN、AlGaN、In
GaAlP、InGaAlN等の半導体を発光層として
形成させたものが挙げられる。蛍光体を効率良く励起で
きる比較的短波長が効率よく発光可能な半導体としては
窒化物半導体(InxGayAl1-x-yN、0≦x、0≦
y、x+y≦1)が好適に用いられる。半導体の構造と
しては、MIS接合、PIN接合やpn接合などを有す
るホモ構造、ヘテロ構造あるいはダブルへテロ構成のも
のが挙げられる。半導体層の材料やその混晶度によって
発光波長を種々選択することができる。また、半導体活
性層を量子効果が生ずる薄膜に形成させた単一量子井戸
構造や多重量子井戸構造とすることもできる。
にはサファイヤ、スピネル、SiC、Si、ZnO、G
aN等の材料が好適に用いられる。結晶性の良い窒化物
半導体を量産性よく形成させるためにはサファイヤ基板
を用いることがより好ましい。サファイヤ基板上に半導
体膜を成長させる場合、GaN、AlN、GaAlN等
のバッファ層を形成しその上にpn接合を有する窒化物
半導体を形成させることが好ましい。また、サファイア
基板上にSiO2などをマスクとして選択成長させたG
aN単結晶自体を基板として利用することもできる。こ
の場合、各半導体層を形成後SiO2をエッチング除去
させることによって発光素子とサファイア基板とを分離
させることもできる。窒化物半導体は、不純物をドープ
しない状態でn型導電性を示す。発光効率を向上させる
など所望のn型窒化物半導体を形成させる場合は、n型
ドーパントとしてSi、Ge、Se、Te、C等を適宜
導入することが好ましい。一方、p型窒化物半導体を形
成させる場合は、p型ドーパントであるZn、Mg、B
e、Ca、Sr、Ba等をドープさせる。
しただけでは低抵抗なp型とし難いためp型ドーパント
導入後に、炉による加熱、低速電子線照射やプラズマ照
射等により低抵抗化させることが好ましい。具体的な発
光素子の層構成としては、窒化ガリウム、窒化アルミニ
ウムなどを低温で形成させたバッファ層を有するサファ
イア基板や炭化珪素上に、窒化ガリウム半導体であるn
型コンタクト層、窒化アルミニウム・ガリウム半導体で
あるn型クラッド層、Zn及びSiをドープさせた窒化
インジウム・ガリウム半導体である活性層、窒化アルミ
ニウム・ガリウム半導体であるp型クラッド層、窒化ガ
リウム半導体であるp型コンタクト層を積層させたもの
が好適に挙げられる。
サファイア基板が絶縁性であるためエッチングなどによ
り同一面側からp型半導体及びn型半導体の露出面を形
成させた後、p型及びn型半導体層上にスパッタリング
法や真空蒸着法などを用いて所望の形状のp型電極及び
n型電極を形成させることができる。SiC基板やGa
N単結晶基板の場合、基板自体の導電性を利用して一対
の電極を形成させることもできる。
モンド製の刃先を有するブレードが回転するダイシング
ソーにより直接フルカットするか、又は刃先幅よりも広
い幅の溝を切り込んだ後(ハーフカット)、外力によっ
て半導体ウエハを割る。或いは、先端のダイヤモンド針
が往復直線運動するスクライバーにより半導体ウエハに
極めて細いスクライブライン(経線)を例えば碁盤目状
に引いた後、外力によって半導体ウエハを割り半導体ウ
エハからチップ状にカットする。このようにして窒化物
半導体である発光素子を形成させることができる。
発光させる場合は、蛍光体との補色等を考慮して発光素
子の主発光波長は400nm以上530nm以下が好ま
しく、420nm以上490nm以下がより好ましい。
発光素子と蛍光体との効率をそれぞれより向上させるた
めには、450nm以上475nm以下がさらに好まし
い。
3としては、発光素子の電極とのオーミック性、密着
性、電気伝導性及び熱伝導性がよいものが求められる。
熱伝導度としては0.01cal/cm2/cm/℃以
上が好ましく、より好ましくは0.5cal/cm2/
cm/℃以上である。また、作業性などを考慮して導電
性ワイヤの直径は、好ましくは、Φ10μm以上、Φ4
5μm以下である。このような導電性ワイヤとして具体
的には、金、銅、白金、アルミニウム等の金属及びそれ
らの合金を用いた導電性ワイヤが挙げられる。このよう
な導電性ワイヤは、各発光素子の電極と、インナー・リ
ード及びマウント・リードなどとをワイヤボンディング
機器によって容易に接続させることができる。
ード104としては、発光素子を配置させるものであ
り、ダイボンド機器などで積載するのに十分な大きさが
あれば良い。また、発光素子を複数設置しマウント・リ
ードを発光素子の共通電極として利用する場合において
は、十分な電気伝導性とボンディングワイヤ等との接続
性が求められる。また、マウント・リード上のカップ内
に発光素子を配置すると共に蛍光体を内部に充填させる
場合は、近接して配置させた別の発光ダイオードからの
光により疑似点灯することを防止することができる。
接着は熱硬化性樹脂などによって行うことができる。具
体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂やイミド樹脂な
どが挙げられる。また、フリップチップ型の発光素子に
よりマウント・リードと接着させると共に電気的に接続
させるためにはAgペースト、Cuペースト、カーボン
ペースト、金属バンプや金属酸化物が含有された樹脂等
を用いることができる。また、マウント・リードの具体
的な電気抵抗としては300μΩ・cm以下が好まし
く、より好ましくは、3μΩ・cm以下である。また、
マウント・リード上に複数の発光素子を積載する場合
は、発光素子からの発熱量が多くなるため熱伝導度がよ
いことが求められる。具体的には、0.01cal/c
m2/cm/℃以上が好ましくより好ましくは 0.5c
al/cm2/cm/℃以上である。これらの条件を満
たす材料としては、鉄、銅、鉄入り銅、錫入り銅、メタ
ライズパターン付きセラミック等が挙げられる。
ードとしては、マウント・リード上に配置された発光素
子と導電性ワイヤなどを介して電気的に接続を図るもの
である。
等との接続性及び電気伝導性が良いことが求められる。
具体的な電気抵抗としては、300μΩ・cm以下が好
ましく、より好ましくは3μΩ・cm以下である。これ
らの条件を満たす材料としては、鉄、銅、鉄入り銅、錫
入り銅及び銅、金、銀をメッキしたアルミニウム、鉄、
銅等が挙げられる。
ード105は平板金属を打ち抜き、マウント・リードの
カップを加圧することで比較的簡単に形成することがで
きる。本発明においては、発光素子102が積載された
リード端子に電圧を印加させ蛍光体を付着させる。その
ため、印加電圧で発光素子が破壊されないようにマウン
ト・リード104及びインナー・リード105をタイバ
ー106、206などが接続され同電位に保持された状
態で蛍光体を付着させることが好ましい。したがって、
蛍光体を付着させた後にタイバーを切断させることによ
り量産性よく個々の発光ダイオードを形成させることが
できる。
7は、発光ダイオードの使用用途に応じて発光素子10
2、導電性ワイヤ103、蛍光体101などを外部から
保護するために設けることができる。モールド部材は、
一般には樹脂を用いて形成させることができる。また、
蛍光体を含有させることによって視野角を増やすことが
できるが、樹脂モールドに拡散剤を含有させることによ
って発光素子からの指向性を緩和させ視野角をさらに増
やすことができる。更にまた、モールド部材を所望の形
状にすることによって発光素子からの発光を集束させた
り拡散させたりするレンズ効果を持たせることができ
る。したがって、モールド部材は複数積層した構造でも
よい。具体的には、凸レンズ形状、凹レンズ形状さらに
は、発光観測面から見て楕円形状やそれらを複数組み合
わせた物である。モールド部材の具体的材料としては、
主としてエポキシ樹脂、ユリア樹脂、シリコーン樹脂な
どの耐候性に優れた透明樹脂や硝子などが好適に用いら
れる。また、拡散剤としては、チタン酸バリウム、酸化
チタン、酸化アルミニウム、酸化珪素等が好適に用いら
れる。また、屈折率差を考慮してモールド部材と結着剤
とを同じ材質のものを用いて形成させても良い。
る結着剤108とは、発光素子102上に設けられ発光
素子からの発光波長を変換する蛍光体を好適に保持させ
る樹脂や硝子などである。結着剤の表面は、LEDチッ
プの形状や厚みに係わらず基体上に一定の平滑面を形成
することができる。そのため、結着剤上には帯電された
蛍光体を均一量付着させることができる。
iO2、Al2O3、MSiO3などの透光性無機部材やエ
ポキシ樹脂、ユリア樹脂、シリコーン樹脂などの耐候性
に優れた透光性有機樹脂が好適に用いられる。また、結
着剤では発光素子が配置された基板により発光素子から
放出される高エネルギー光が反射もされるため高密度に
なる。さらに、蛍光体によっても反射散乱される。その
ため結着剤が高密度の高エネルギー光にさらされる場合
がある。なお、結着剤中に、フィルター効果を持つ着色
剤、指向角を増加させる拡散剤や樹脂劣化を低減させる
紫外線吸収剤などを含有させても良い。以下、本発明の
実施例について説明するが、本発明は具体的実施例のみ
に限定されるものではないことは言うまでもない。
460nmのIn0.2Ga0.8N半導体である発光層のL
EDチップを用いた。LEDチップは、洗浄させたサフ
ァイヤ基板上にTMG(トリメチルガリウム)ガス、T
MI(トリメチルインジウム)ガス、窒素ガス及びドー
パントガスをキャリアガスと共に流し、MOCVD法で
窒化物半導体を成膜させることにより形成させた。ドー
パントガスとしてSiH4とCp2Mgとを切り替えるこ
とによってn型導電性を有する窒化物半導体とp型導電
性を有する窒化物半導体を形成しpn接合を形成させ
る。半導体発光素子としては、n型導電性を有する窒化
ガリウム半導体であるコンタクト層と、p型導電性を有
する窒化ガリウムアルミニウム半導体であるクラッド
層、p型導電性を有する窒化ガリウム半導体であるコン
タクト層を形成させた。n型導電性を有するコンタクト
層とp型導電性を有するクラッド層との間に厚さ約3n
mであり、単一量子井戸構造とされるアンドープInG
aNの活性層を形成させた。(なお、サファイア基板上
には低温で窒化ガリウム半導体を形成させバッファ層と
させてある。また、p型不純物を有する半導体は、成膜
後400℃以上でアニールさせてある。)エッチングに
よりサファイア基板上のpn各半導体表面を露出させた
後、スパッタリングにより各コンタクト層上に電極をそ
れぞれ形成させた。こうして出来上がった半導体ウエハ
をスクライブラインを引いた後、外力により分割させ発
光素子として350μm角のLEDチップを形成させ
た。
接続されたリード端子を加圧してLEDチップが配置さ
れるマウント・リードのカップを形成させた。カップ内
にLEDチップをエポキシ樹脂を用いてマウント固定さ
せてる。導電性ワイヤとして金線をLEDチップの各電
極とマウント・リード及びインナー・リードにそれぞれ
ワイヤボンディングさせ電気的に接続させてある。
化学量論比で酸に溶解した溶解液を蓚酸で共沈させた。
これを焼成して得られる共沈酸化物と、酸化アルミニウ
ムと混合して混合原料を得る。これにフラックスとして
フッ化アンモニウムを混合して坩堝に詰め、空気中14
00°Cの温度で3時間焼成して焼成品を得た。焼成品
を水中でボールミルして、洗浄、分離、乾燥、最後に篩
を通して形成させた。こうして(Y0.8Gd0.2)3Al5
O12:Ce蛍光体が形成される。
ポキシ樹脂を塗布させて発光素子上が平滑面にとなる結
着剤を配置させた。マウント・リード及びインナー・リ
ードがタイバーで接続された状態で電源の負極に接続さ
せる一方、帯電部となる蛍光体が保持されるローラを電
源の正極と接続させてある。
蛍光体を帯電装置内部に入れ撹拌ローラで撹拌させるこ
とにより蛍光体を帯電させることができる。帯電された
蛍光体は静電気により撹拌ローラとは別のローラに付着
し装置外部の表面に露出され帯電部を構成する。この
時、タイバーで接続されたリード端子及び蛍光体が付着
されたローラ間に電圧を印加させると蛍光体が飛翔して
LEDチップが配置された結着剤上に付着される。
力、水分及び塵芥などから保護する目的で蛍光体が積載
されたリード端子を内部が空洞で砲弾型のキャスティン
グケース中に配置させる。キャスティングケース中に透
光性エポシキ樹脂を注型後、150℃5時間にて硬化さ
せた。こうして図1の如き発光装置である発光ダイオー
ドを3341個形成させた。
供給させることによって白色系を発光させることができ
る。CIE色度図上のx,y=(0.305,0.31
5)±0.03で囲まれた範囲内に、3174個の各発
光ダイオードが配置されており歩留りは、約95%であ
った。なお、本発明は砲弾型の発光ダイオードについて
示したがチップタイプLEDにおいても同様に形成でき
ることは言うまでもない。
d0.2)3Al5O12:Ce蛍光体を混合させてノズルか
ら突出させ結着剤を形成させた以外は、実施例1と同様
にして発光ダイオードを形成させた。形成された発光ダ
イオードの断面は、結着剤の端面がはい上がっていると
共に蛍光体の量が不均一であった。こうして形成された
発光ダイオードの色度点を実施例1と同様に測定した。
形成された発光ダイオードの色度点は、発光素子の発光
波長と蛍光体の発光波長を結んだ線上に略位置していた
が実施例と同一の色度範囲では歩留りが約61%にしか
過ぎなかった。
な構成で量産性よく発光むら、輝度むらや発光ダイオー
ド間のバラツキが少ない発光ダイオードを形成できる。
特に、本発明の請求項1に記載の方法は、量産性よく発
光特性の優れた発光ダイオードを形成することができ
る。
と、バインダーとして機能する結着剤とを別工程で発光
素子上に配置させる。これにより、バラツキの少ない発
光ダイオードを提供することができる。
る。
の模式的上面図である。
の原理を示した図2のxx断面における模式的断面図で
ある。
Claims (2)
- 【請求項1】 基体上に配された発光素子と、該発光素
子上に発光素子からの発光波長の少なくとも一部を吸収
し蛍光を発する蛍光体を配置してある発光ダイオードの
形成方法であって、 前記基体上に配された発光素子(202)と間隙を介して対
向する帯電部(211)に正又は負に帯電させた蛍光体(201)
を保持する工程と、 前記基体上に配された発光素子(202)と帯電部(211)との
間に電圧を印加し、発光素子側を前記蛍光体の帯電と異
なる負極又は正極にさせることにより、前記蛍光体を発
光素子上に配置させる工程とを有することを特徴とする
発光ダイオードの形成方法。 - 【請求項2】 蛍光体を発光素子上に配置させる前に、
予め前記発光素子の上に結着剤を形成させる工程を有す
る請求項1に記載の発光ダイオードの形成方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3527298A JPH11233832A (ja) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | 発光ダイオードの形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3527298A JPH11233832A (ja) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | 発光ダイオードの形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11233832A true JPH11233832A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=12437164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3527298A Pending JPH11233832A (ja) | 1998-02-17 | 1998-02-17 | 発光ダイオードの形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11233832A (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-02-17 JP JP3527298A patent/JPH11233832A/ja active Pending
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US9537063B2 (en) | 2012-07-30 | 2017-01-03 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Method for producing an optoelectronic component |
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