JPH11231254A - ビーム走査装置 - Google Patents
ビーム走査装置Info
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- JPH11231254A JPH11231254A JP10141508A JP14150898A JPH11231254A JP H11231254 A JPH11231254 A JP H11231254A JP 10141508 A JP10141508 A JP 10141508A JP 14150898 A JP14150898 A JP 14150898A JP H11231254 A JPH11231254 A JP H11231254A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 電子写真方式印刷器等において偏向ディスク
を用いることによりコンパクトな構成で感光媒体に光を
走査するビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 光源と、前記光源から出射されたビーム
を回折させるパターンが形成された複数のセクターより
なり、その下面には入射ビームを反射させる反射層を具
備する偏向ディスクと、前記偏向ディスクを回転させる
駆動源を含むビーム偏向器と、前記ビーム偏向器から偏
向されたビームを補正するビーム補正手段とを含む。こ
れにより、体積が小さく光源の設置空間を縮小しうる。
また、ビーム走査装置は少なくとも２個の光源から出射
されたビームを同時に偏向走査できる。前記ビーム走査
装置は入射ビームを回折反射させる偏向ディスクを採用
するので、従来の回転多面鏡方式に比べて偏向ビームが
安定的に走査できる。
を用いることによりコンパクトな構成で感光媒体に光を
走査するビーム走査装置を提供する。 【解決手段】 光源と、前記光源から出射されたビーム
を回折させるパターンが形成された複数のセクターより
なり、その下面には入射ビームを反射させる反射層を具
備する偏向ディスクと、前記偏向ディスクを回転させる
駆動源を含むビーム偏向器と、前記ビーム偏向器から偏
向されたビームを補正するビーム補正手段とを含む。こ
れにより、体積が小さく光源の設置空間を縮小しうる。
また、ビーム走査装置は少なくとも２個の光源から出射
されたビームを同時に偏向走査できる。前記ビーム走査
装置は入射ビームを回折反射させる偏向ディスクを採用
するので、従来の回転多面鏡方式に比べて偏向ビームが
安定的に走査できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子写真方式印刷機
等において感光媒体に光を走査するビーム走査装置に関
する。
等において感光媒体に光を走査するビーム走査装置に関
する。
【０００２】
【従来の技術】一般的に印刷機等に採用されるビーム走
査装置はビーム偏向器による主走査と感光媒体の移送ま
たは回転を通した副走査により感光媒体を感光させる。
従来のビーム走査装置の光学的な配置を示す図１を参照
すると、ビーム走査装置は光源１と、この光源１から出
射されたビームを偏向させるビーム偏向器４と、前記ビ
ーム偏向器４から偏向された光の誤差を補正するエフ−
シータレンズ７とを含む。
査装置はビーム偏向器による主走査と感光媒体の移送ま
たは回転を通した副走査により感光媒体を感光させる。
従来のビーム走査装置の光学的な配置を示す図１を参照
すると、ビーム走査装置は光源１と、この光源１から出
射されたビームを偏向させるビーム偏向器４と、前記ビ
ーム偏向器４から偏向された光の誤差を補正するエフ−
シータレンズ７とを含む。
【０００３】また、前記光源１から出射された発散ビー
ムを集束させるように前記光源１とビーム偏向器４の間
に集束レンズ３が備えられている。そして、前記ビーム
偏向器４により偏向されたビームは反射鏡８から反射さ
れて感光ベルトのような感光媒体（図示せず）に向か
う。前記ビーム偏向器４はモータ５と、このモータ５に
より回転する回転多面鏡６よりなる。前記光源１から出
射されたビームは前記回転する回転多面鏡６の反射面と
成す角により偏向される。従って、ビームの偏向が回転
多面鏡６の回転時に発生するゆらぎに敏感に影響を受け
る。
ムを集束させるように前記光源１とビーム偏向器４の間
に集束レンズ３が備えられている。そして、前記ビーム
偏向器４により偏向されたビームは反射鏡８から反射さ
れて感光ベルトのような感光媒体（図示せず）に向か
う。前記ビーム偏向器４はモータ５と、このモータ５に
より回転する回転多面鏡６よりなる。前記光源１から出
射されたビームは前記回転する回転多面鏡６の反射面と
成す角により偏向される。従って、ビームの偏向が回転
多面鏡６の回転時に発生するゆらぎに敏感に影響を受け
る。
【０００４】また、カラー印刷機の場合、特定カラーに
対応するビーム走査装置を別個に具備しなくてはいけな
いので装置が複雑で大型化する問題がある。
対応するビーム走査装置を別個に具備しなくてはいけな
いので装置が複雑で大型化する問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は前記したよう
な問題点を解決するために案出されたことであり、回転
多面鏡の代りに偏向ディスクを採用することによりコン
パクトな構成を有するビーム走査装置を提供することに
その目的がある。
な問題点を解決するために案出されたことであり、回転
多面鏡の代りに偏向ディスクを採用することによりコン
パクトな構成を有するビーム走査装置を提供することに
その目的がある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
の本発明によるビーム走査装置は、光源と、前記光源か
ら出射されたビームを回折させるパターンが形成された
複数のセクターよりなり、その下面には入射ビームを反
射させる反射層を具備する偏向ディスクと、前記偏向デ
ィスクを回転させる駆動源とを含むビーム偏向器と、前
記ビーム偏向器から偏向されたビームを補正するビーム
補正手段とを含む。 前記偏向ディスクのセクターは前
記光源から出射されたビームが入射される入射領域と前
記反射層から反射されたビームが出射される出射領域を
有し、前記パターンは前記入射領域または出射領域中少
なくとも一つに形成される。
の本発明によるビーム走査装置は、光源と、前記光源か
ら出射されたビームを回折させるパターンが形成された
複数のセクターよりなり、その下面には入射ビームを反
射させる反射層を具備する偏向ディスクと、前記偏向デ
ィスクを回転させる駆動源とを含むビーム偏向器と、前
記ビーム偏向器から偏向されたビームを補正するビーム
補正手段とを含む。 前記偏向ディスクのセクターは前
記光源から出射されたビームが入射される入射領域と前
記反射層から反射されたビームが出射される出射領域を
有し、前記パターンは前記入射領域または出射領域中少
なくとも一つに形成される。
【０００７】また前記入射領域と前記出射領域に形成さ
れたパターンは相異なることが望ましい。
れたパターンは相異なることが望ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下、添付した図面を参照して本
発明の望ましい実施例に対して詳細に説明する。図２を
参照するに、本発明の一実施例によるビーム走査装置は
光源１０と、前記光源１０から出射されたビームを偏向
走査させるビーム偏向器２０と、前記偏向されたビーム
を補正するビーム補正手段３０を含んでなる。前記光源
１０はレーザー光を出射する半導体レーザーである。
発明の望ましい実施例に対して詳細に説明する。図２を
参照するに、本発明の一実施例によるビーム走査装置は
光源１０と、前記光源１０から出射されたビームを偏向
走査させるビーム偏向器２０と、前記偏向されたビーム
を補正するビーム補正手段３０を含んでなる。前記光源
１０はレーザー光を出射する半導体レーザーである。
【０００９】前記ビーム偏向器２０は駆動モータ２１
と、前記駆動モータ２１の回転軸２１ａに設けられ入射
ビームを回折偏向させる複数のセクター２４よりなる偏
向ディスク２３とを含む。前記偏向ディスク２３は各セ
クター２４に等分される。前記セクター２４には示した
ように、前記偏向ディスク２３の回転によって入射ビー
ムを回折させて一走査ライン単位で偏向走査させるよう
にパターンが形成されている。前記偏向ディスク２３の
下面には図３（Ｂ）に示したように、入射ビームを反射
させる反射層２５が備わる。
と、前記駆動モータ２１の回転軸２１ａに設けられ入射
ビームを回折偏向させる複数のセクター２４よりなる偏
向ディスク２３とを含む。前記偏向ディスク２３は各セ
クター２４に等分される。前記セクター２４には示した
ように、前記偏向ディスク２３の回転によって入射ビー
ムを回折させて一走査ライン単位で偏向走査させるよう
にパターンが形成されている。前記偏向ディスク２３の
下面には図３（Ｂ）に示したように、入射ビームを反射
させる反射層２５が備わる。
【００１０】また、図３（Ａ）及び図３（Ｂ）に示した
ように、前記セクター２４は前記光源１０から出射され
たビームが入射される入射領域２６ａに形成された第１
パターン２７と、前記反射層２５から反射されたビーム
が出射される出射領域２６ｂに形成された第２パターン
２８よりなる。本実施例で入射領域２６ａが出射領域２
６ｂの半径方向の内側に形成されているが、これに限ら
ず外側に形成される場合もある。
ように、前記セクター２４は前記光源１０から出射され
たビームが入射される入射領域２６ａに形成された第１
パターン２７と、前記反射層２５から反射されたビーム
が出射される出射領域２６ｂに形成された第２パターン
２８よりなる。本実施例で入射領域２６ａが出射領域２
６ｂの半径方向の内側に形成されているが、これに限ら
ず外側に形成される場合もある。
【００１１】前記第１及び第２パターン２７、２８は相
異なるパターン間隔を有するように形成できる。この場
合、偏向ディスク２３に対する入射ビームと出射ビーム
の回折角は相異なる。即ち、前記光源１０から入射領域
２６ａに所定角度で入射されたビームは前記第１パター
ン２７を回折透過し、前記反射層２５により反射されて
出射領域２６ｂを通して前記入射ビームの入射角度と違
う角度で出射される。
異なるパターン間隔を有するように形成できる。この場
合、偏向ディスク２３に対する入射ビームと出射ビーム
の回折角は相異なる。即ち、前記光源１０から入射領域
２６ａに所定角度で入射されたビームは前記第１パター
ン２７を回折透過し、前記反射層２５により反射されて
出射領域２６ｂを通して前記入射ビームの入射角度と違
う角度で出射される。
【００１２】この時、前記第１及び第２パターン２７、
２８を回折透過したビームの回折角、即ち屈折角は前記
第１及び第２パターン２７、２８のパターン間隔により
多様に変化できる。本発明の他の実施例によると、図４
（Ａ）及び図４（Ｂ）、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示
したように、前記偏向ディスク２３の出射領域２６ｂま
たは入射領域２６ａにだけパターン２９または２９’が
形成できる。この場合にも、前記偏向ディスク２３に対
する入射角と反射層２５から反射されたビームの出射角
は相異なる。
２８を回折透過したビームの回折角、即ち屈折角は前記
第１及び第２パターン２７、２８のパターン間隔により
多様に変化できる。本発明の他の実施例によると、図４
（Ａ）及び図４（Ｂ）、図５（Ａ）及び図５（Ｂ）に示
したように、前記偏向ディスク２３の出射領域２６ｂま
たは入射領域２６ａにだけパターン２９または２９’が
形成できる。この場合にも、前記偏向ディスク２３に対
する入射角と反射層２５から反射されたビームの出射角
は相異なる。
【００１３】前述したように、前記偏向ディスク２３は
入射ビームを少なくとも一度回折させ、その回転により
前記光源１０から出射されたビームを一走査ライン単位
で偏向走査する。図２に示した前記ビーム補正手段３０
は光経路上に設けられ前記ビーム偏向器２０により偏向
されたビームを補正する。前記ビーム補正手段３０とし
ては入射ビーム焦点位置及び走査幅を補正するエフ−シ
ータレンズが備わる。このエフ−シータレンズは前記偏
向ディスク２３の回転によって主走査方向に走査される
ビームの収差を補正し、ビームを整形する。
入射ビームを少なくとも一度回折させ、その回転により
前記光源１０から出射されたビームを一走査ライン単位
で偏向走査する。図２に示した前記ビーム補正手段３０
は光経路上に設けられ前記ビーム偏向器２０により偏向
されたビームを補正する。前記ビーム補正手段３０とし
ては入射ビーム焦点位置及び走査幅を補正するエフ−シ
ータレンズが備わる。このエフ−シータレンズは前記偏
向ディスク２３の回転によって主走査方向に走査される
ビームの収差を補正し、ビームを整形する。
【００１４】前記ビーム走査装置は偏向ディスク２３を
回転させることにより光源１０から出射されたビームを
映像面（図示せず）上に一走査ライン単位で偏向走査で
きる。本発明によるビーム走査装置の更に他の実施例を
図６を参照して説明する。ビーム走査装置は少なくとも
２個の光源１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄと、前記光
源１０ａ乃至１０ｄから出射されたビームを偏向走査さ
せる第１及び第２ビーム偏向器４０、５０と、前記ビー
ム偏向器４０、５０から偏向されたビームを補正するビ
ーム補正手段３０を含んでなる。ここで、図２と同一参
照符号は同一機能をする部材を示す。前記光源１０ａ乃
至１０ｄは各々選択的に駆動される。
回転させることにより光源１０から出射されたビームを
映像面（図示せず）上に一走査ライン単位で偏向走査で
きる。本発明によるビーム走査装置の更に他の実施例を
図６を参照して説明する。ビーム走査装置は少なくとも
２個の光源１０ａ、１０ｂ、１０ｃ、１０ｄと、前記光
源１０ａ乃至１０ｄから出射されたビームを偏向走査さ
せる第１及び第２ビーム偏向器４０、５０と、前記ビー
ム偏向器４０、５０から偏向されたビームを補正するビ
ーム補正手段３０を含んでなる。ここで、図２と同一参
照符号は同一機能をする部材を示す。前記光源１０ａ乃
至１０ｄは各々選択的に駆動される。
【００１５】前記第１ビーム偏向器４０は光源１０ａ、
１０ｂから出射されたビームを偏向走査させ、前記第２
ビーム偏向器５０は光源１０ｃ、１０ｄから出射された
ビームを偏向走査させる。前記第１及び第２ビーム偏向
器４０、５０は各々入射ビームが回折透過する少なくと
も２個のセクター２４（図２参照）を具備する第１及び
第２偏向ディスク４３、５３と、この第１及び第２偏向
ディスク４３、５３を回転させる第１及び第２駆動モー
タ４１、５１とを含む。前記第１及び第２偏向ディスク
４３、５３の構造は前述した実施例と同一である。
１０ｂから出射されたビームを偏向走査させ、前記第２
ビーム偏向器５０は光源１０ｃ、１０ｄから出射された
ビームを偏向走査させる。前記第１及び第２ビーム偏向
器４０、５０は各々入射ビームが回折透過する少なくと
も２個のセクター２４（図２参照）を具備する第１及び
第２偏向ディスク４３、５３と、この第１及び第２偏向
ディスク４３、５３を回転させる第１及び第２駆動モー
タ４１、５１とを含む。前記第１及び第２偏向ディスク
４３、５３の構造は前述した実施例と同一である。
【００１６】前記光源１０ａ乃至１０ｄはそれより出射
されたビームが前記第１及び第２偏向ディスク４３、５
３の相異なるセクター２４に入射するように配置され
る。即ち、光源１０ａ、１０ｂから出射されたビームは
第１偏向ディスク４３の相異なるセクターに入射して反
射され、光源１０ｃ、１０ｄから出射されたビームは第
２偏向ディスク５３の相異なるセクターに入射して反射
される。
されたビームが前記第１及び第２偏向ディスク４３、５
３の相異なるセクター２４に入射するように配置され
る。即ち、光源１０ａ、１０ｂから出射されたビームは
第１偏向ディスク４３の相異なるセクターに入射して反
射され、光源１０ｃ、１０ｄから出射されたビームは第
２偏向ディスク５３の相異なるセクターに入射して反射
される。
【００１７】前記光源１０ａ乃至１０ｄから各々出射さ
れたビームは前記第１及び第２偏向ディスク４３、５３
を回転させることにより映像面（図示せず）上に相異な
る走査ラインを形成する。従って、少なくとも２つ以上
のビームを同時に走査できる。本発明の更に他の実施例
を示す図７を参照するに、光源１０ａ乃至１０ｄから出
射されたビームは第１及び第２ビーム偏向器４０、５０
から反射されてビーム補正手段１３０、１４０、１５
０、１６０を経て感光ベルトのような感光媒体６１に走
査される。ここで、図６と同じ参照符号は同一機能をす
る部材を示す。
れたビームは前記第１及び第２偏向ディスク４３、５３
を回転させることにより映像面（図示せず）上に相異な
る走査ラインを形成する。従って、少なくとも２つ以上
のビームを同時に走査できる。本発明の更に他の実施例
を示す図７を参照するに、光源１０ａ乃至１０ｄから出
射されたビームは第１及び第２ビーム偏向器４０、５０
から反射されてビーム補正手段１３０、１４０、１５
０、１６０を経て感光ベルトのような感光媒体６１に走
査される。ここで、図６と同じ参照符号は同一機能をす
る部材を示す。
【００１８】前記ビーム補正手段１３０、１４０、１５
０、１６０は光経路上に設けられ第１及び第２偏向ディ
スク４３、５３の回転によって主走査方向に偏向される
ビームの収差を補正し、ビームを整形する。このビーム
補正手段１３０、１４０、１５０、１６０の各々は入射
ビームを集束反射させる反射部材１３１、１４１、１５
１、１６１と、前記反射部材１３１、１４１、１５１、
１６１から反射されたビームを回折透過させるホログラ
ム素子１３３、１４３、１５３、１６３とを含む。
０、１６０は光経路上に設けられ第１及び第２偏向ディ
スク４３、５３の回転によって主走査方向に偏向される
ビームの収差を補正し、ビームを整形する。このビーム
補正手段１３０、１４０、１５０、１６０の各々は入射
ビームを集束反射させる反射部材１３１、１４１、１５
１、１６１と、前記反射部材１３１、１４１、１５１、
１６１から反射されたビームを回折透過させるホログラ
ム素子１３３、１４３、１５３、１６３とを含む。
【００１９】前記反射部材１３１、１４１、１５１、１
６１は平行ビームを集束させうる湾曲したミラーである
ことが望ましい。前記ホログラム素子１３３、１４３、
１５３、１６３は前記反射部材１３１、１４１、１５
１、１６１から反射されたビームを前記感光媒体６１の
副走査方向、即ち感光媒体６１の進行方向に対して垂直
の方向に回折透過させる。
６１は平行ビームを集束させうる湾曲したミラーである
ことが望ましい。前記ホログラム素子１３３、１４３、
１５３、１６３は前記反射部材１３１、１４１、１５
１、１６１から反射されたビームを前記感光媒体６１の
副走査方向、即ち感光媒体６１の進行方向に対して垂直
の方向に回折透過させる。
【００２０】
【発明の効果】本発明によるビーム走査装置はビーム偏
向手段として反射型偏向ディスクを採用するので体積が
小さくて光源の設置空間を縮める。また、ビーム走査装
置は少なくとも２個の光源から出射されたビームを同時
に偏向走査できる。尚、前記ビーム走査装置は入射ビー
ムを回折反射させる偏向ディスクを採用するので、従来
の回転多面鏡方式に比べて偏向ビームが安定的に走査で
きる。
向手段として反射型偏向ディスクを採用するので体積が
小さくて光源の設置空間を縮める。また、ビーム走査装
置は少なくとも２個の光源から出射されたビームを同時
に偏向走査できる。尚、前記ビーム走査装置は入射ビー
ムを回折反射させる偏向ディスクを採用するので、従来
の回転多面鏡方式に比べて偏向ビームが安定的に走査で
きる。
【図１】従来のビーム走査装置を概略的に示す斜視図で
ある。
ある。
【図２】本発明の一実施例によるビーム走査装置を概略
的に示す斜視図である。
的に示す斜視図である。
【図３】本発明のビーム走査装置に採用された偏向ディ
スクの例を概略的に示す平面図及び部分拡大断面図であ
る。
スクの例を概略的に示す平面図及び部分拡大断面図であ
る。
【図４】偏向ディスクの他の実施例の平面図及び拡大断
面図である。
面図である。
【図５】偏向ディスクの更に他の実施例の平面図及び拡
大断面図である。
大断面図である。
【図６】本発明の他の実施例によるビーム走査装置を概
略的に示す図である。
略的に示す図である。
【図７】本発明の更に他の実施例によるビーム走査装置
を概略的に示す図である。
を概略的に示す図である。
１０ 光源 ２０ ビーム偏向器 ２１ 駆動モータ ２１ａ 回転軸 ２３ 偏向ディスク ２４ セクター ３０ ビーム補正手段
【手続補正書】
【提出日】平成１１年５月２１日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項２】 前記入射領域と前記出射領域に形成され
たパターンは相異なることを特徴とする請求項１に記載
のビーム走査装置。
たパターンは相異なることを特徴とする請求項１に記載
のビーム走査装置。
【請求項３】 前記入射領域は前記偏向ディスクの半径
方向の内側に形成され、前記出射領域は前記偏向ディス
クの半径方向の外側に形成されたことを特徴とする請求
項２に記載のビーム走査装置。
方向の内側に形成され、前記出射領域は前記偏向ディス
クの半径方向の外側に形成されたことを特徴とする請求
項２に記載のビーム走査装置。
【請求項４】 前記光源は前記偏向ディスクの相異なる
セクターにビームを出射する複数の光源よりなることを
特徴とする請求項１に記載のビーム走査装置。
セクターにビームを出射する複数の光源よりなることを
特徴とする請求項１に記載のビーム走査装置。
【請求項５】 前記偏向ディスクは並列に設けられた第
１及び第２偏向ディスクよりなり、 前記光源は前記第１偏向ディスクの相異なるセクターに
ビームを出射する二つの光源と前記第２偏向ディスクの
相異なるセクターにビームを出射する二つの光源を含む
ことを特徴とする請求項４に記載のビーム走査装置。
１及び第２偏向ディスクよりなり、 前記光源は前記第１偏向ディスクの相異なるセクターに
ビームを出射する二つの光源と前記第２偏向ディスクの
相異なるセクターにビームを出射する二つの光源を含む
ことを特徴とする請求項４に記載のビーム走査装置。
【請求項６】 前記ビーム補正手段は、 光経路上に設けられて入射ビームの焦点位置及び走査幅
を補正するエフ−シータレンズであることを特徴とする
請求項１に記載のビーム走査装置。
を補正するエフ−シータレンズであることを特徴とする
請求項１に記載のビーム走査装置。
【請求項７】 前記ビーム補正手段は、 光経路上に設けられ前記ビーム偏向器により偏向された
ビームを集束反射させる反射部材と、 前記反射部材から反射されたビームを回折透過させるホ
ログラム素子とを含むことを特徴とする請求項１に記載
のビーム走査装置。
ビームを集束反射させる反射部材と、 前記反射部材から反射されたビームを回折透過させるホ
ログラム素子とを含むことを特徴とする請求項１に記載
のビーム走査装置。
Claims (8)
- 【請求項１】 光源と、 前記光源から出射されたビームを回折させるパターンが
形成された複数のセクターよりなり、その下面には入射
ビームを反射させる反射層を具備する偏向ディスクと、
前記偏向ディスクを回転させる駆動源を含むビーム偏向
器と、 前記ビーム偏向器から偏向されたビームを補正するビー
ム補正手段とを含むことを特徴とするビーム走査装置。 - 【請求項２】 前記偏向ディスクのセクターは前記光源
から出射されたビームが入射される入射領域と前記反射
層から反射されたビームが出射される出射領域を有し、
前記パターンは前記入射領域または出射領域中少なくと
も一つに形成されることを特徴とする請求項１に記載の
ビーム走査装置。 - 【請求項３】 前記入射領域と前記出射領域に形成され
たパターンは相異なることを特徴とする請求項２に記載
のビーム走査装置。 - 【請求項４】 前記入射領域は前記偏向ディスクの半径
方向の内側に形成され、前記出射領域は前記偏向ディス
クの半径方向の外側に形成されたことを特徴とする請求
項３に記載のビーム走査装置。 - 【請求項５】 前記光源は前記偏向ディスクの相異なる
セクターにビームを出射する複数の光源よりなることを
特徴とする請求項１に記載のビーム走査装置。 - 【請求項６】 前記偏向ディスクは並列に設けられた第
１及び第２偏向ディスクよりなり、 前記光源は前記第１偏向ディスクの相異なるセクターに
ビームを出射する二つの光源と前記第２偏向ディスクの
相異なるセクターにビームを出射する二つの光源を含む
ことを特徴とする請求項５に記載のビーム走査装置。 - 【請求項７】 前記ビーム補正手段は、 光経路上に設けられて入射ビームの焦点位置及び走査幅
を補正するエフ−シータレンズであることを特徴とする
請求項１に記載のビーム走査装置。 - 【請求項８】 前記ビーム補正手段は、 光経路上に設けられ前記ビーム偏向器により偏向された
ビームを集束反射させる反射部材と、 前記反射部材から反射されたビームを回折透過させるホ
ログラム素子とを含むことを特徴とする請求項１に記載
のビーム走査装置。
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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