JPH11230846A - 半導体力学量センサの製造方法 - Google Patents

半導体力学量センサの製造方法

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JPH11230846A
JPH11230846A JP2733098A JP2733098A JPH11230846A JP H11230846 A JPH11230846 A JP H11230846A JP 2733098 A JP2733098 A JP 2733098A JP 2733098 A JP2733098 A JP 2733098A JP H11230846 A JPH11230846 A JP H11230846A
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JP
Japan
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adhesive
diaphragm
package
sensor
sensor chip
Prior art date
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Pending
Application number
JP2733098A
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English (en)
Inventor
Mineichi Sakai
峰一 酒井
Ineo Toyoda
稲男 豊田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Denso Corp
Original Assignee
Denso Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 接着剤の柔軟性に関わらずセンサ温度特性が
良好である圧力センサが製造できるようにする。 【解決手段】 ダイヤフラム1aのうち凹部1b側の面
に昇華材5を付ける。そして、センサチップ1のうち凹
部1bが形成された側の一面を接着面として、接着剤4
によってパッケージ2に直接接着させる。その後、接着
剤4を硬化させたのち、昇華材5を昇華させる。このよ
うに、接着剤4でセンサチップ1とパッケージ2とを接
着する前に、ダイヤフラム1aの裏面、つまり凹部1b
が形成された側の面に昇華材5を付けておけば、接着時
に接着剤5が凹部1b内を這い上がってきてもダイヤフ
ラム1aの裏面には接着剤が付着しないようにすること
ができる。そして、昇華材5を昇華して消失させれば、
接着剤4の柔軟性に関わらずセンサ温度特性が良好な圧
力センサを製造できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体力学量セン
サの製造方法に関し、特に半導体圧力センサに適用して
好適である。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体圧力センサが実用化されて
いる。この半導体圧力センサのコストダウンを図るべ
く、特開平6−120527号公報では、接着材を用い
てダイヤフラムが形成されたチップをパッケージ(ケー
ス)に直接接着するようにしている。すなわち、チップ
とパッケージ間に配されていた台座を無くすことにより
コストダウンを図るようにしている。
【0003】また、このように台座を無くした場合に
は、ダイヤフラム裏面まで接着剤が這い上って付着し、
半導体圧力センサの温度特性に影響を与えてしまうこと
から、上記公報では柔軟性のある接着剤を用いることで
温度特性への影響が少なくなるようにしている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、接着剤
のヤング率が高いもの(例えば104 Pa以上のもの)
であると適用することができない等、接着剤の選択自由
度が小さいという問題がある。本発明は上記問題に鑑み
てなされ、ダイヤフラムが形成されたチップをパッケー
ジに直接接着した場合においても、接着剤の柔軟性に関
わらずセンサ温度特性が良好である半導体力学量センサ
が製造できる方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、以下の技術的手段を採用する。請求項1に記
載の発明においては、ダイヤフラム(1a)が形成され
たセンサチップ(1)を用意し、ダイヤフラム(1a)
のうち凹部(1b)側の面に昇華材(5)を付ける工程
と、センサチップ(1)のうち凹部(1b)が形成され
た側の一面を接着面として、接着剤(4)によってパッ
ケージ(2)に直接接着させる工程と、接着剤(4)を
硬化させたのち、昇華材(5)を昇華させる工程とを有
することを特徴としている。
【0006】このように、接着剤(4)でセンサチップ
(1)とパッケージ(2)とを接着する前に、ダイヤフ
ラム(1a)の裏面、つまり凹部(1b)が形成された
側の面に昇華材(5)を付けておけば、接着時に接着剤
(5)が凹部(1b)内を這い上がってきてもダイヤフ
ラム(1a)の裏面には接着剤(5)が付着しないよう
にすることができる。
【0007】そして、後で昇華材(5)を昇華させて消
失させてしまえば、ダイヤフラム(1a)の裏面に接着
剤(4)が付着していず、温度特性の良好な圧力センサ
を製造することができる。従って、接着剤(4)の柔軟
性に関わらずセンサ温度特性が良好である半導体力学量
センサを製造することができる。なお、昇華材(5)と
しては、請求項2に示すように、パラジクロロベンゼ
ン、シクロヘキサン、NH4 HF2 等を用いることがで
きる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示す実施形態
に基づいて説明する。図1に、圧力センサの断面模式図
を示し、圧力センサの構造について説明する。図1に示
すように、圧力センサは、ダイヤフラム1aが形成され
たセンサチップ1と、圧力導入孔2aが形成されたパッ
ケージ2とを備えている。
【0009】センサチップ1は、N- 型シリコン基板か
らなり、この基板の所定領域を凹部1bとして薄膜形成
したダイヤフラム1aが備えられている。このダイヤフ
ラム1aの表層部には、P+ 型拡散層からなるピエゾ抵
抗(歪みゲージ)1cが形成されている。また、センサ
チップ1の表面には酸化膜1dを介してピエゾ抵抗1c
と電気的に接続された配線パターン1eが形成されてお
り、この配線パターン1eにワイヤ3がボンディングさ
れて外部出力が成されるようになっている。
【0010】パッケージ3は、外形が略碗型をしてお
り、この略碗型の内部にセンサチップ1が配置できるよ
うになっている。また、略碗型の中央部において、パッ
ケージ2は略碗型の底面から下方に向けて突出した形状
となっている。そして、この突出した部分及び略碗型の
底面が貫通されて管状の圧力導入孔2aが形成されてい
る。
【0011】センサチップ1はパッケージ2上に、ダイ
ヤフラム1aが圧力導入孔2aに位置するように位置決
め搭載されて、パッケージ2の内面側に塗布された接着
剤4によって気密を確保された状態で固定されている。
また、図では接着剤4がダイヤフラム1aが形成された
凹部1bに這い上がっているが、後述する昇華材によっ
てダイヤフラム1aの裏面には付着していない状態にさ
れている。
【0012】このように構成された圧力センサは、ダイ
ヤフラム1aの表面側(紙面上側)における圧力と、圧
力導入孔2aを介して伝達される圧力との差圧に応じて
変位するダイヤフラム1aに形成されたピエゾ抵抗1c
が、その抵抗値を変化させるため、この抵抗値変化に基
づいて圧力検出信号を外部出力する。次に、図2
(a)、(b)を用いて圧力センサの製造手順について
説明する。
【0013】まず、図2(a)に示すように、センサチ
ップ1を用意し、センサチップ1のうちダイヤフラム1
aの裏面側に昇華材5を塗布する。この昇華材5には、
パラジクロロベンゼン、クロロヘキサン、NH4 HF2
等のいずれかを用いている。そして、パッケージ2の内
側面に接着剤4を塗布したものを用意する。このとき用
いる接着剤4としては、シリコーン系接着剤、エポキシ
系接着剤、シリコーン系ゲル、ウレタン系接着剤、ポリ
エステル接着剤、シリコン樹脂等様々な種類のものを用
いることができる。
【0014】その後、図2(b)に示すように、センサ
チップ1をパッケージ2上に位置決め搭載する。このと
きダイヤフラム1aが圧力導入孔2a上に位置するよう
に配置する。これにより、接着剤4を介してセンサチッ
プ1がパッケージ2に接着される。このとき、センサチ
ップ1のうち、ダイヤフラム1aの裏面側の凹部1b内
に接着剤4が這い上がってくるが、ダイヤフラム1aの
裏面には昇華材5が塗布してあるため、この昇華材5に
よって遮られ、ダイヤフラム1aの裏面には接着剤4が
付着しないようになっている。
【0015】その後、150℃程度の加熱処理を行っ
て、接着剤4を硬化させる。この熱処理の際に昇華材5
も昇華してしまい、ダイヤフラム1aの裏面から消失す
る。このため、接着剤4がダイヤフラム1aの裏面に付
着しないようにすることができる。このようにして接着
剤4が硬化し、センサチップ1とパッケージ2との間に
おける気密が確保されて圧力センサが完成する。
【0016】このように、接着剤4によってセンサチッ
プ1とパッケージ2とを接着する前に、ダイヤフラム1
aの裏面に昇華材5を塗布しておき、ダイヤフラム1a
の裏面に接着剤4が付着しないようにしているため、温
度特性を悪化させることもなく、検出感度が良好な圧力
センサとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態を適用して製造した圧力セ
ンサの断面模式図である。
【図2】図1に示す圧力センサの製造工程を説明するた
めの図である。
【符号の説明】
1…センサチップ、1a…ダイヤフラム、1b…凹部、
1c…ピエゾ抵抗、1d…酸化膜、1e…配線パター
ン、2…パッケージ、2a…圧力導入孔、3…ワイヤ、
4…接着剤、5…昇華材。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 所定領域を凹部(1b)としてダイヤフ
    ラム(1a)を形成したセンサチップ(1)を用意し、
    前記ダイヤフラム(1a)のうち前記凹部(1b)側の
    面に昇華材(5)を付着する工程と、 前記センサチップ(1)のうち前記凹部(1b)が形成
    された側の一面を接着面として、接着剤(4)によって
    パッケージ(2)に直接接着させる工程と、 前記接着剤(4)を硬化させたのち、前記昇華材(5)
    を昇華させる工程とを有することを特徴とする半導体力
    学量センサの製造方法。
  2. 【請求項2】 前記昇華材(5)としてパラジクロロベ
    ンゼン、シクロヘキサン、NH4 HF2 のいずれかを用
    いることを特徴とする請求項1に記載の半導体力学量セ
    ンサの製造方法。
JP2733098A 1998-02-09 1998-02-09 半導体力学量センサの製造方法 Pending JPH11230846A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010517021A (ja) * 2007-01-24 2010-05-20 エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. 差分センサmemsデバイスおよび穿孔した基板を有する電子機器
JP2011527241A (ja) * 2008-07-09 2011-10-27 エプコス アクチエンゲゼルシャフト Mst装置を作成するための方法およびmst装置
EP2474820B1 (en) * 2011-01-07 2019-11-27 Honeywell International Inc. Pressure sensor with low cost packaging

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010517021A (ja) * 2007-01-24 2010-05-20 エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. 差分センサmemsデバイスおよび穿孔した基板を有する電子機器
JP2011527241A (ja) * 2008-07-09 2011-10-27 エプコス アクチエンゲゼルシャフト Mst装置を作成するための方法およびmst装置
US9051174B2 (en) 2008-07-09 2015-06-09 Epcos Ag Method for encapsulating an MEMS component
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