JPH11230846A - 半導体力学量センサの製造方法 - Google Patents
半導体力学量センサの製造方法Info
- Publication number
- JPH11230846A JPH11230846A JP2733098A JP2733098A JPH11230846A JP H11230846 A JPH11230846 A JP H11230846A JP 2733098 A JP2733098 A JP 2733098A JP 2733098 A JP2733098 A JP 2733098A JP H11230846 A JPH11230846 A JP H11230846A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- adhesive
- diaphragm
- package
- sensor
- sensor chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Abstract
良好である圧力センサが製造できるようにする。 【解決手段】 ダイヤフラム1aのうち凹部1b側の面
に昇華材5を付ける。そして、センサチップ1のうち凹
部1bが形成された側の一面を接着面として、接着剤4
によってパッケージ2に直接接着させる。その後、接着
剤4を硬化させたのち、昇華材5を昇華させる。このよ
うに、接着剤4でセンサチップ1とパッケージ2とを接
着する前に、ダイヤフラム1aの裏面、つまり凹部1b
が形成された側の面に昇華材5を付けておけば、接着時
に接着剤5が凹部1b内を這い上がってきてもダイヤフ
ラム1aの裏面には接着剤が付着しないようにすること
ができる。そして、昇華材5を昇華して消失させれば、
接着剤4の柔軟性に関わらずセンサ温度特性が良好な圧
力センサを製造できる。
Description
サの製造方法に関し、特に半導体圧力センサに適用して
好適である。
いる。この半導体圧力センサのコストダウンを図るべ
く、特開平6−120527号公報では、接着材を用い
てダイヤフラムが形成されたチップをパッケージ(ケー
ス)に直接接着するようにしている。すなわち、チップ
とパッケージ間に配されていた台座を無くすことにより
コストダウンを図るようにしている。
は、ダイヤフラム裏面まで接着剤が這い上って付着し、
半導体圧力センサの温度特性に影響を与えてしまうこと
から、上記公報では柔軟性のある接着剤を用いることで
温度特性への影響が少なくなるようにしている。
のヤング率が高いもの(例えば104 Pa以上のもの)
であると適用することができない等、接着剤の選択自由
度が小さいという問題がある。本発明は上記問題に鑑み
てなされ、ダイヤフラムが形成されたチップをパッケー
ジに直接接着した場合においても、接着剤の柔軟性に関
わらずセンサ温度特性が良好である半導体力学量センサ
が製造できる方法を提供することを目的とする。
するため、以下の技術的手段を採用する。請求項1に記
載の発明においては、ダイヤフラム(1a)が形成され
たセンサチップ(1)を用意し、ダイヤフラム(1a)
のうち凹部(1b)側の面に昇華材(5)を付ける工程
と、センサチップ(1)のうち凹部(1b)が形成され
た側の一面を接着面として、接着剤(4)によってパッ
ケージ(2)に直接接着させる工程と、接着剤(4)を
硬化させたのち、昇華材(5)を昇華させる工程とを有
することを特徴としている。
(1)とパッケージ(2)とを接着する前に、ダイヤフ
ラム(1a)の裏面、つまり凹部(1b)が形成された
側の面に昇華材(5)を付けておけば、接着時に接着剤
(5)が凹部(1b)内を這い上がってきてもダイヤフ
ラム(1a)の裏面には接着剤(5)が付着しないよう
にすることができる。
失させてしまえば、ダイヤフラム(1a)の裏面に接着
剤(4)が付着していず、温度特性の良好な圧力センサ
を製造することができる。従って、接着剤(4)の柔軟
性に関わらずセンサ温度特性が良好である半導体力学量
センサを製造することができる。なお、昇華材(5)と
しては、請求項2に示すように、パラジクロロベンゼ
ン、シクロヘキサン、NH4 HF2 等を用いることがで
きる。
に基づいて説明する。図1に、圧力センサの断面模式図
を示し、圧力センサの構造について説明する。図1に示
すように、圧力センサは、ダイヤフラム1aが形成され
たセンサチップ1と、圧力導入孔2aが形成されたパッ
ケージ2とを備えている。
らなり、この基板の所定領域を凹部1bとして薄膜形成
したダイヤフラム1aが備えられている。このダイヤフ
ラム1aの表層部には、P+ 型拡散層からなるピエゾ抵
抗(歪みゲージ)1cが形成されている。また、センサ
チップ1の表面には酸化膜1dを介してピエゾ抵抗1c
と電気的に接続された配線パターン1eが形成されてお
り、この配線パターン1eにワイヤ3がボンディングさ
れて外部出力が成されるようになっている。
り、この略碗型の内部にセンサチップ1が配置できるよ
うになっている。また、略碗型の中央部において、パッ
ケージ2は略碗型の底面から下方に向けて突出した形状
となっている。そして、この突出した部分及び略碗型の
底面が貫通されて管状の圧力導入孔2aが形成されてい
る。
ヤフラム1aが圧力導入孔2aに位置するように位置決
め搭載されて、パッケージ2の内面側に塗布された接着
剤4によって気密を確保された状態で固定されている。
また、図では接着剤4がダイヤフラム1aが形成された
凹部1bに這い上がっているが、後述する昇華材によっ
てダイヤフラム1aの裏面には付着していない状態にさ
れている。
ヤフラム1aの表面側(紙面上側)における圧力と、圧
力導入孔2aを介して伝達される圧力との差圧に応じて
変位するダイヤフラム1aに形成されたピエゾ抵抗1c
が、その抵抗値を変化させるため、この抵抗値変化に基
づいて圧力検出信号を外部出力する。次に、図2
(a)、(b)を用いて圧力センサの製造手順について
説明する。
ップ1を用意し、センサチップ1のうちダイヤフラム1
aの裏面側に昇華材5を塗布する。この昇華材5には、
パラジクロロベンゼン、クロロヘキサン、NH4 HF2
等のいずれかを用いている。そして、パッケージ2の内
側面に接着剤4を塗布したものを用意する。このとき用
いる接着剤4としては、シリコーン系接着剤、エポキシ
系接着剤、シリコーン系ゲル、ウレタン系接着剤、ポリ
エステル接着剤、シリコン樹脂等様々な種類のものを用
いることができる。
チップ1をパッケージ2上に位置決め搭載する。このと
きダイヤフラム1aが圧力導入孔2a上に位置するよう
に配置する。これにより、接着剤4を介してセンサチッ
プ1がパッケージ2に接着される。このとき、センサチ
ップ1のうち、ダイヤフラム1aの裏面側の凹部1b内
に接着剤4が這い上がってくるが、ダイヤフラム1aの
裏面には昇華材5が塗布してあるため、この昇華材5に
よって遮られ、ダイヤフラム1aの裏面には接着剤4が
付着しないようになっている。
て、接着剤4を硬化させる。この熱処理の際に昇華材5
も昇華してしまい、ダイヤフラム1aの裏面から消失す
る。このため、接着剤4がダイヤフラム1aの裏面に付
着しないようにすることができる。このようにして接着
剤4が硬化し、センサチップ1とパッケージ2との間に
おける気密が確保されて圧力センサが完成する。
プ1とパッケージ2とを接着する前に、ダイヤフラム1
aの裏面に昇華材5を塗布しておき、ダイヤフラム1a
の裏面に接着剤4が付着しないようにしているため、温
度特性を悪化させることもなく、検出感度が良好な圧力
センサとすることができる。
ンサの断面模式図である。
めの図である。
1c…ピエゾ抵抗、1d…酸化膜、1e…配線パター
ン、2…パッケージ、2a…圧力導入孔、3…ワイヤ、
4…接着剤、5…昇華材。
Claims (2)
- 【請求項1】 所定領域を凹部(1b)としてダイヤフ
ラム(1a)を形成したセンサチップ(1)を用意し、
前記ダイヤフラム(1a)のうち前記凹部(1b)側の
面に昇華材(5)を付着する工程と、 前記センサチップ(1)のうち前記凹部(1b)が形成
された側の一面を接着面として、接着剤(4)によって
パッケージ(2)に直接接着させる工程と、 前記接着剤(4)を硬化させたのち、前記昇華材(5)
を昇華させる工程とを有することを特徴とする半導体力
学量センサの製造方法。 - 【請求項2】 前記昇華材(5)としてパラジクロロベ
ンゼン、シクロヘキサン、NH4 HF2 のいずれかを用
いることを特徴とする請求項1に記載の半導体力学量セ
ンサの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2733098A JPH11230846A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 半導体力学量センサの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2733098A JPH11230846A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 半導体力学量センサの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11230846A true JPH11230846A (ja) | 1999-08-27 |
Family
ID=12218069
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2733098A Pending JPH11230846A (ja) | 1998-02-09 | 1998-02-09 | 半導体力学量センサの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11230846A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010517021A (ja) * | 2007-01-24 | 2010-05-20 | エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. | 差分センサmemsデバイスおよび穿孔した基板を有する電子機器 |
JP2011527241A (ja) * | 2008-07-09 | 2011-10-27 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | Mst装置を作成するための方法およびmst装置 |
EP2474820B1 (en) * | 2011-01-07 | 2019-11-27 | Honeywell International Inc. | Pressure sensor with low cost packaging |
-
1998
- 1998-02-09 JP JP2733098A patent/JPH11230846A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010517021A (ja) * | 2007-01-24 | 2010-05-20 | エスティーマイクロエレクトロニクス エス.アール.エル. | 差分センサmemsデバイスおよび穿孔した基板を有する電子機器 |
JP2011527241A (ja) * | 2008-07-09 | 2011-10-27 | エプコス アクチエンゲゼルシャフト | Mst装置を作成するための方法およびmst装置 |
US9051174B2 (en) | 2008-07-09 | 2015-06-09 | Epcos Ag | Method for encapsulating an MEMS component |
EP2474820B1 (en) * | 2011-01-07 | 2019-11-27 | Honeywell International Inc. | Pressure sensor with low cost packaging |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0762096B1 (en) | Vertically integrated sensor structure and method for making same | |
US6210989B1 (en) | Ultra thin surface mount wafer sensor structures and methods for fabricating same | |
US6444487B1 (en) | Flexible silicon strain gage | |
US7572659B2 (en) | Semiconductor dynamic sensor and method of manufacturing the same | |
US20010055836A1 (en) | Semiconductor dynamic sensor and method of manufacturing the same | |
JPH08193897A (ja) | 半導体圧力センサ | |
JP2005210131A (ja) | 半導体チップをパッケージングする方法および半導体チップ構造 | |
JPH0875580A (ja) | 半導体圧力センサ | |
JPH10197374A (ja) | 半導体センサ | |
US7223637B2 (en) | Method of manufacturing a sensor device with binding material having a foaming agent | |
JPH11230846A (ja) | 半導体力学量センサの製造方法 | |
JP3690056B2 (ja) | 半導体圧力センサのセンサチップの製造方法 | |
JPH11108782A (ja) | 半導体力学量センサ | |
JPH0495740A (ja) | 半導体装置 | |
JPH0263173A (ja) | 半導体加速度センサの製造方法 | |
JP2800463B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JPS59154332A (ja) | 半導体圧力センサ | |
JP3278926B2 (ja) | 半導体圧力センサ | |
JP3870637B2 (ja) | シリコンウェハの接合方法 | |
JP3285971B2 (ja) | 半導体圧力センサ | |
JPS5829858B2 (ja) | 感圧装置 | |
JPH11108783A (ja) | 静電容量型圧力センサ及びその固定構造 | |
JPH0566979B2 (ja) | ||
JPS62252176A (ja) | 半導体圧力センサ | |
JPH06120527A (ja) | 半導体圧力センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20040427 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060223 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20060613 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060724 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20061212 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |