JPH11229042A - 竪型連続熱処理炉 - Google Patents
竪型連続熱処理炉Info
- Publication number
- JPH11229042A JPH11229042A JP3000898A JP3000898A JPH11229042A JP H11229042 A JPH11229042 A JP H11229042A JP 3000898 A JP3000898 A JP 3000898A JP 3000898 A JP3000898 A JP 3000898A JP H11229042 A JPH11229042 A JP H11229042A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- seal
- chamber
- water
- cooling chamber
- heat treatment
- Prior art date
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- Pending
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- Heat Treatments In General, Especially Conveying And Cooling (AREA)
- Heat Treatment Of Strip Materials And Filament Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本発明は、シール室から冷却室に水蒸気等が入
り込まない竪型連続熱処理炉を提供することを目的とす
る。 【解決手段】直火バーナ13を備えた加熱室10の下方に冷
却室20を配置し、加熱室10の入り口側と冷却室20の出口
側に夫々にシール室15,30を配置し、冷却室20の出口側
のシール室30を水封シールし、出口側のシール室30は冷
却室20の下端部を延長させるように内部空間32を有する
と共に、シール室30の下端部31を水槽38内の水に浸漬さ
せて水封し、シール室30の内部空間32には、通過する金
属ストリップ3の両面に斜め下方に向けて噴射するシー
ルノズル33を備え、シールノズル33の外側に取り付けた
シールガスの排出孔29の前に通気可能なフィルタ36と複
数の水噴霧ノズル37の付いたシールガス再生装置35を備
えてある。
り込まない竪型連続熱処理炉を提供することを目的とす
る。 【解決手段】直火バーナ13を備えた加熱室10の下方に冷
却室20を配置し、加熱室10の入り口側と冷却室20の出口
側に夫々にシール室15,30を配置し、冷却室20の出口側
のシール室30を水封シールし、出口側のシール室30は冷
却室20の下端部を延長させるように内部空間32を有する
と共に、シール室30の下端部31を水槽38内の水に浸漬さ
せて水封し、シール室30の内部空間32には、通過する金
属ストリップ3の両面に斜め下方に向けて噴射するシー
ルノズル33を備え、シールノズル33の外側に取り付けた
シールガスの排出孔29の前に通気可能なフィルタ36と複
数の水噴霧ノズル37の付いたシールガス再生装置35を備
えてある。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属ストリップを
連続的に搬送させながら熱処理する竪型連続熱処理炉に
関する。
連続的に搬送させながら熱処理する竪型連続熱処理炉に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、ステンレス鋼板、銅板、各種
合金板等、これらの金属ストリップを焼鈍処理、溶体化
処理、光輝処理するのに竪型連続熱処理炉が使用されて
いる。これらの竪型連続熱処理炉は、例えば、直火式の
加熱室の出口側下方に隣接させて冷却室を配置ている。
また、加熱室の入り口側上方にシール室を配置すると共
に冷却室の出口側にシール室を配置している。加熱室内
および冷却室内を上方から下方に金属ストリップを搬送
させながら連続的に熱処理を行なっている。
合金板等、これらの金属ストリップを焼鈍処理、溶体化
処理、光輝処理するのに竪型連続熱処理炉が使用されて
いる。これらの竪型連続熱処理炉は、例えば、直火式の
加熱室の出口側下方に隣接させて冷却室を配置ている。
また、加熱室の入り口側上方にシール室を配置すると共
に冷却室の出口側にシール室を配置している。加熱室内
および冷却室内を上方から下方に金属ストリップを搬送
させながら連続的に熱処理を行なっている。
【0003】図3に示すように、竪型連続熱処理炉10
0は、冷却室110の下方のスロート111を水槽12
0中の水121に浸漬させて金属ストリップ101を搬
送しながら熱処理するものが知られている(特開昭51
−54009号公報参照)。
0は、冷却室110の下方のスロート111を水槽12
0中の水121に浸漬させて金属ストリップ101を搬
送しながら熱処理するものが知られている(特開昭51
−54009号公報参照)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このような竪型連続熱
処理炉100では水槽120の水121に浸漬させれる
金属ストリップ101の温度が略200℃となるために
スロート111内の水面から蒸発する水蒸気等が上昇し
スロート111内を伝わって冷却室110内に入り込
み、チャンバ等の機器類を腐食劣化させてしまう。
処理炉100では水槽120の水121に浸漬させれる
金属ストリップ101の温度が略200℃となるために
スロート111内の水面から蒸発する水蒸気等が上昇し
スロート111内を伝わって冷却室110内に入り込
み、チャンバ等の機器類を腐食劣化させてしまう。
【0005】そこで、本発明は、シール室から冷却室に
水蒸気等が入り込まない竪型連続熱処理炉を提供するこ
とを目的とする。
水蒸気等が入り込まない竪型連続熱処理炉を提供するこ
とを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段、及び発明の効果】請求項
1記載の発明は、直火バーナを加熱室内に備えた加熱室
の下方に隣接させて冷却室を配置し、前記加熱室の入り
口側と冷却室の出口側に夫々にシール室を配置し、前記
冷却室の出口側のシール室を水封シールとし、前記加熱
室内および冷却室の中を金属ストリップを搬送させなが
ら熱処理する竪型連続熱処理炉において、前記出口側の
シール室は冷却室の下端部を延長させるように内部空間
を有すると共に、前記出口側のシール室の下端部を水槽
内の水に浸漬させて水封し、前記出口側のシール室の前
記内部空間に、通過する金属ストリップの両面に斜め下
方に向けて噴射するシールノズルを備え、該シールノズ
ルの外側にシールガス再生装置を備えたことを特徴とす
る。
1記載の発明は、直火バーナを加熱室内に備えた加熱室
の下方に隣接させて冷却室を配置し、前記加熱室の入り
口側と冷却室の出口側に夫々にシール室を配置し、前記
冷却室の出口側のシール室を水封シールとし、前記加熱
室内および冷却室の中を金属ストリップを搬送させなが
ら熱処理する竪型連続熱処理炉において、前記出口側の
シール室は冷却室の下端部を延長させるように内部空間
を有すると共に、前記出口側のシール室の下端部を水槽
内の水に浸漬させて水封し、前記出口側のシール室の前
記内部空間に、通過する金属ストリップの両面に斜め下
方に向けて噴射するシールノズルを備え、該シールノズ
ルの外側にシールガス再生装置を備えたことを特徴とす
る。
【0007】請求項1記載の発明によると、金属ストリ
ップ面に沿って上昇しようとする水蒸気等の上昇気流が
斜め下方に噴射するシールガスにより下方に押し戻され
るから冷却室内に流入しようとする水蒸気等の流入を防
止することができる。また、シールガス中の水蒸気等を
ガス再生して取り除くから雰囲気ガス等に使用すること
ができる。
ップ面に沿って上昇しようとする水蒸気等の上昇気流が
斜め下方に噴射するシールガスにより下方に押し戻され
るから冷却室内に流入しようとする水蒸気等の流入を防
止することができる。また、シールガス中の水蒸気等を
ガス再生して取り除くから雰囲気ガス等に使用すること
ができる。
【0008】請求項2記載の発明は、請求項1記載の竪
型連続熱処理炉において、前記シールガス再生装置は、
箱型を形成しており、箱型下面に通気可能なフィルタを
配置し、内部に下向きに噴射する複数の水噴霧ノズルを
配置し、箱型の上部にシールガスの排出孔を備えたこと
を特徴とする。
型連続熱処理炉において、前記シールガス再生装置は、
箱型を形成しており、箱型下面に通気可能なフィルタを
配置し、内部に下向きに噴射する複数の水噴霧ノズルを
配置し、箱型の上部にシールガスの排出孔を備えたこと
を特徴とする。
【0009】請求項2記載の発明によると、例えば、重
ね合わせた金網または充填物で形成するフィルタの通気
孔を水蒸気等を含んだシールガスを通過させると同時に
上方から噴霧水により冷却させてシールガスの温度を下
げてやるから水蒸気等を除去することができる。
ね合わせた金網または充填物で形成するフィルタの通気
孔を水蒸気等を含んだシールガスを通過させると同時に
上方から噴霧水により冷却させてシールガスの温度を下
げてやるから水蒸気等を除去することができる。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図に基づい
て説明する。図1は銅合金用竪型連続熱処理炉の要部を
表す断面図、図2は水封シール装置を表す断面図であ
る。
て説明する。図1は銅合金用竪型連続熱処理炉の要部を
表す断面図、図2は水封シール装置を表す断面図であ
る。
【0011】図1に示すように、竪型連続熱処理炉1
は、加熱室10と、冷却室20と、シール室15、30
と、ダクト40から構成している。加熱室10には入口
と出口があり、出口側の下方に隣接させて冷却室20が
配置してある。また、加熱室10の上方の入り口側にシ
ール室15と冷却室20の下方の出口側にシール室30
が配置してある。
は、加熱室10と、冷却室20と、シール室15、30
と、ダクト40から構成している。加熱室10には入口
と出口があり、出口側の下方に隣接させて冷却室20が
配置してある。また、加熱室10の上方の入り口側にシ
ール室15と冷却室20の下方の出口側にシール室30
が配置してある。
【0012】加熱室10は、内側に耐火物を備え、加熱
室内11に複数の直火バーナ13と複数のチャンバ14
とチャンバ14から吹き出し用のガスを送付させるため
のファンKが夫々に備えてある。また、冷却室20は、
加熱室10の出口側に隣接させて配置してある。さらに
鉄板で形成する冷却室20内にクーラ23と複数のチャ
ンバ14とチャンバ14から吹き出し用のガスを送付さ
せるためのファンKが備えてある。
室内11に複数の直火バーナ13と複数のチャンバ14
とチャンバ14から吹き出し用のガスを送付させるため
のファンKが夫々に備えてある。また、冷却室20は、
加熱室10の出口側に隣接させて配置してある。さらに
鉄板で形成する冷却室20内にクーラ23と複数のチャ
ンバ14とチャンバ14から吹き出し用のガスを送付さ
せるためのファンKが備えてある。
【0013】また、上方のシール室15は、加熱室10
の入口側に隣接させて鉄板で形成させて配置してある。
なお、このシール室15の入口側に異方向に回転するゴ
ム製の一対のシールロール16と出口側に異方向に回転
するゴム製の一対のシールロール17が備えてある。
の入口側に隣接させて鉄板で形成させて配置してある。
なお、このシール室15の入口側に異方向に回転するゴ
ム製の一対のシールロール16と出口側に異方向に回転
するゴム製の一対のシールロール17が備えてある。
【0014】また、下方のシール室30は、図2に示す
ように水封構造をしている。このシール室30は、冷却
室20の下端部を延長させるように内部空間32を有す
ると共に、シール室30の下端部31を水層38内の水
39に浸漬させて水封させている。
ように水封構造をしている。このシール室30は、冷却
室20の下端部を延長させるように内部空間32を有す
ると共に、シール室30の下端部31を水層38内の水
39に浸漬させて水封させている。
【0015】また、内部空間32には、通過する金属ス
トリップ3の両面に斜め下方に向けてシールガスを噴射
するシールノズル33が備えてある。このシールノズル
33は冷却室20内の一番下に配置してあるチャンバ1
4を下方に延長させてその下端部に取り付けてある。
トリップ3の両面に斜め下方に向けてシールガスを噴射
するシールノズル33が備えてある。このシールノズル
33は冷却室20内の一番下に配置してあるチャンバ1
4を下方に延長させてその下端部に取り付けてある。
【0016】また、その外側に取り付けた箱型を形成す
るシールガス再生装置35を備えてある。この箱型の下
面に通気可能な金網または充填物で形成するフィルタ3
6を取り付けてある。またフィルタ36の上方に下向き
に噴射する複数の水噴霧ノズル37が備えてある。
るシールガス再生装置35を備えてある。この箱型の下
面に通気可能な金網または充填物で形成するフィルタ3
6を取り付けてある。またフィルタ36の上方に下向き
に噴射する複数の水噴霧ノズル37が備えてある。
【0017】また、シールガス再生装置35内のシール
ガスを冷却室20内に送り込むための排出孔29がシー
ルガス再生装置35に備えてある。また、図1に示すよ
うに、ダクト40は、吸引ダクト41と吹き込みダクト
46,47からなつている。
ガスを冷却室20内に送り込むための排出孔29がシー
ルガス再生装置35に備えてある。また、図1に示すよ
うに、ダクト40は、吸引ダクト41と吹き込みダクト
46,47からなつている。
【0018】吸引ダクト41は、冷却室20から燃焼排
ガス(雰囲気ガス)を吸引する。また、この吸引ダクト
41の途中に冷却装置を備た再生装置42とVVVFを
備えたファン43を配置してある。また、吹き込みダク
ト46は、分岐点45を介して吸引ダクト41と加熱室
10とを接続させている。この吹き込みダクト46は再
生後の燃焼排ガスを加熱室内11に吹き込むためのもの
である。
ガス(雰囲気ガス)を吸引する。また、この吸引ダクト
41の途中に冷却装置を備た再生装置42とVVVFを
備えたファン43を配置してある。また、吹き込みダク
ト46は、分岐点45を介して吸引ダクト41と加熱室
10とを接続させている。この吹き込みダクト46は再
生後の燃焼排ガスを加熱室内11に吹き込むためのもの
である。
【0019】また、吹き込みダクト47は、分岐点45
を介して吸引ダクト41とシール室15を接続させてい
る。これも再生後の燃焼排ガスをシール室内15aに吹
き込むためのものである。なお、吹き込みダクト46に
バルブ52と、吹き込みダクト47にバルブ53が夫々
取り付けてある。
を介して吸引ダクト41とシール室15を接続させてい
る。これも再生後の燃焼排ガスをシール室内15aに吹
き込むためのものである。なお、吹き込みダクト46に
バルブ52と、吹き込みダクト47にバルブ53が夫々
取り付けてある。
【0020】このバルブ52,53とVVVFを有する
アァン43によりガス流量を調整することができる。次
に発明の実施の形態の竪型連続熱処理炉の動作を説明す
る。加熱室内11の直火バーナ13により加熱室内11
を加熱すると共に雰囲気ガスを生成する。次に、加熱室
内11の温度が熱処理温度に達したらバルブ52、53
を開けてファン43を稼動させダクト41から燃焼排ガ
ス(雰囲気ガス)を矢印で示すように冷却室20に吸引
しクーラ23で冷却する。冷却室20で冷却させた燃焼
排ガスを炉外に一旦出し、再生装置42内に備えてある
水噴霧装置(図示なし)により燃焼排ガスを冷却し燃焼
排ガス中の亜鉛等の不純物を除去する。この燃焼排ガス
を加熱室10の雰囲気ガスに使用すると共に、シール室
15のシールガスとして使用する。なお、この場合シー
ル室内15aの圧力を加熱室内11の圧力より高くなる
ように設定しファン43で風量を回転制御してやる。
アァン43によりガス流量を調整することができる。次
に発明の実施の形態の竪型連続熱処理炉の動作を説明す
る。加熱室内11の直火バーナ13により加熱室内11
を加熱すると共に雰囲気ガスを生成する。次に、加熱室
内11の温度が熱処理温度に達したらバルブ52、53
を開けてファン43を稼動させダクト41から燃焼排ガ
ス(雰囲気ガス)を矢印で示すように冷却室20に吸引
しクーラ23で冷却する。冷却室20で冷却させた燃焼
排ガスを炉外に一旦出し、再生装置42内に備えてある
水噴霧装置(図示なし)により燃焼排ガスを冷却し燃焼
排ガス中の亜鉛等の不純物を除去する。この燃焼排ガス
を加熱室10の雰囲気ガスに使用すると共に、シール室
15のシールガスとして使用する。なお、この場合シー
ル室内15aの圧力を加熱室内11の圧力より高くなる
ように設定しファン43で風量を回転制御してやる。
【0021】一方、下部の水槽38へ侵漬される金属ス
トリップ3の温度が略200℃であるため、水蒸気等が
発生し水面から上昇する。そこで、シールノズル33か
らシールガスを吹き出し金属ストリップ3との隙間から
上昇しようとする水蒸気等を含む上昇気流をシール室3
0内に押し込む。こうすることにより、冷却室20内に
流入しようとする水蒸気等の流入を防止することができ
る。
トリップ3の温度が略200℃であるため、水蒸気等が
発生し水面から上昇する。そこで、シールノズル33か
らシールガスを吹き出し金属ストリップ3との隙間から
上昇しようとする水蒸気等を含む上昇気流をシール室3
0内に押し込む。こうすることにより、冷却室20内に
流入しようとする水蒸気等の流入を防止することができ
る。
【0022】また、シール室30内の水蒸気等を含むシ
ールガスはシールガス再生装置35内の重ね合わせた金
網または充填物で形成するフィルタ36の通気孔を通過
させると同時に上方から噴霧水により冷却させてシール
ガスの温度を下げてやるから水蒸気等を除去し水槽38
に戻してやることができる。この再生ガスはシールガス
再生装置35に備えられた排出孔29から矢印で示すよ
うに冷却室20内に送られる。
ールガスはシールガス再生装置35内の重ね合わせた金
網または充填物で形成するフィルタ36の通気孔を通過
させると同時に上方から噴霧水により冷却させてシール
ガスの温度を下げてやるから水蒸気等を除去し水槽38
に戻してやることができる。この再生ガスはシールガス
再生装置35に備えられた排出孔29から矢印で示すよ
うに冷却室20内に送られる。
【0023】また、金属ストリップ3を搬送しながら加
熱・冷却するから、冷却室20内の入口側の温度を吸引
させた燃焼排ガスにより上げてやることができる。ま
た、吸引ダクト41、吹き込みダクト46を介して燃焼
排ガスを一旦炉外に出して冷却し不純物を取り除いた再
生ガスを加熱室10に吹き込むと共に、吹き込みダクト
47から入り口側のシール室15に吹き込むから、クリ
ーンな排ガスがシール室内15aから加熱室内11に侵
入しても組成が同一であるから加熱室内11の雰囲気ガ
スを変えるようなことがない。
熱・冷却するから、冷却室20内の入口側の温度を吸引
させた燃焼排ガスにより上げてやることができる。ま
た、吸引ダクト41、吹き込みダクト46を介して燃焼
排ガスを一旦炉外に出して冷却し不純物を取り除いた再
生ガスを加熱室10に吹き込むと共に、吹き込みダクト
47から入り口側のシール室15に吹き込むから、クリ
ーンな排ガスがシール室内15aから加熱室内11に侵
入しても組成が同一であるから加熱室内11の雰囲気ガ
スを変えるようなことがない。
【0024】また、入り口側シール室15の入口に異方
向回転する一対のシールロール16を設けてあるから外
気の侵入を防止することができる。また、出口側にも一
対のシールロール17を設けてあるから加熱室10の熱
風の侵入を防止できる。従って、入り口側の一対のシー
ルロール16、出口側の一対のシールロール17により
シール効率がよくなりシール室15内の圧力コントロー
ルがし易くなる。
向回転する一対のシールロール16を設けてあるから外
気の侵入を防止することができる。また、出口側にも一
対のシールロール17を設けてあるから加熱室10の熱
風の侵入を防止できる。従って、入り口側の一対のシー
ルロール16、出口側の一対のシールロール17により
シール効率がよくなりシール室15内の圧力コントロー
ルがし易くなる。
【0025】よって、外気侵入および加熱室10内の熱
風の侵入に対するシール性を向上させることができる。
また、シール性がよいからシールガスが従来例に比べて
少量でよい。以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、本発明の趣旨の範囲を超えない限り種々の実施が
できる。
風の侵入に対するシール性を向上させることができる。
また、シール性がよいからシールガスが従来例に比べて
少量でよい。以上、本発明の実施の形態について説明し
たが、本発明の趣旨の範囲を超えない限り種々の実施が
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 発明の実施の形態の竪型連続熱処理炉の要部
を表す断面図。
を表す断面図。
【図2】 発明の実施の形態の水封シール装置の要部を
表す断面図。
表す断面図。
【図3】 従来例の水封シール装置の要部を表す断面
図。
図。
【符号の説明】 1…竪型連続熱処理炉、3…金属ストリップ、10…加
熱室、13…直火バーナ、15,30…シール室、20
…冷却室、29…排出孔、31…下端部、32…内部空
間、33…シールノズル、35…シールガス再生装置、
36…フィルタ、37…水噴霧ノズル、38…水槽、3
9…水。
熱室、13…直火バーナ、15,30…シール室、20
…冷却室、29…排出孔、31…下端部、32…内部空
間、33…シールノズル、35…シールガス再生装置、
36…フィルタ、37…水噴霧ノズル、38…水槽、3
9…水。
Claims (2)
- 【請求項1】 直火バーナを加熱室内に備えた加熱室の
下方に隣接させて冷却室を配置し、 前記加熱室の入り口側と冷却室の出口側に夫々にシール
室を配置し、 前記冷却室の出口側のシール室を水封シールとし、 前記加熱室内および冷却室の中を金属ストリップを搬送
させながら熱処理する竪型連続熱処理炉において、 前記出口側のシール室は冷却室の下端部を延長させるよ
うに内部空間を有すると共に、前記出口側のシール室の
下端部を水槽内の水に浸漬させて水封し、 前記出口側のシール室の前記内部空間に、通過する金属
ストリップの両面に斜め下方に向けて噴射するシールノ
ズルを備え、 該シールノズルの外側にシールガス再生装置を備えたこ
とを特徴とする竪型連続熱処理炉。 - 【請求項2】 前記シールガス再生装置は、箱型を形成
しており、箱型下面に通気可能なフィルタを配置し、内
部に下向きに噴射する複数の水噴霧ノズルを配置し、箱
型の上部にシールガスの排出孔を備えたことを特徴とす
る請求項1記載の竪型連続熱処理炉。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3000898A JPH11229042A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 竪型連続熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3000898A JPH11229042A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 竪型連続熱処理炉 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11229042A true JPH11229042A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=12291860
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3000898A Pending JPH11229042A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 竪型連続熱処理炉 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11229042A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1338659A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-08-27 | Chugai Ro Co., Ltd. | White powder removing device for continuous annealing furnace |
KR100465900B1 (ko) * | 2000-12-21 | 2005-01-13 | 주식회사 포스코 | 수직로 열교환기의 백분 필터장치 |
CN102788503A (zh) * | 2011-05-16 | 2012-11-21 | 钱佼佼 | 一种热处理炉 |
-
1998
- 1998-02-12 JP JP3000898A patent/JPH11229042A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100465900B1 (ko) * | 2000-12-21 | 2005-01-13 | 주식회사 포스코 | 수직로 열교환기의 백분 필터장치 |
EP1338659A1 (en) * | 2002-02-22 | 2003-08-27 | Chugai Ro Co., Ltd. | White powder removing device for continuous annealing furnace |
CN102788503A (zh) * | 2011-05-16 | 2012-11-21 | 钱佼佼 | 一种热处理炉 |
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