JPH11228587A - 光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸及びその製造方法 - Google Patents
光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸及びその製造方法Info
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- JPH11228587A JPH11228587A JP10029803A JP2980398A JPH11228587A JP H11228587 A JPH11228587 A JP H11228587A JP 10029803 A JP10029803 A JP 10029803A JP 2980398 A JP2980398 A JP 2980398A JP H11228587 A JPH11228587 A JP H11228587A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5304—Acyclic saturated phosphine oxides or thioxides
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 不斉合成触媒の配位子として有用な光学活性
なホスフィン化合物の前駆体として有用な新規な光学活
性なホスフィンオキシドカルボン酸、及びその経済的な
製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（２）： 【化１】 で表されるラセミ体のホスフィンオキシドカルボン酸に
光学活性な１−フェニルエチルアミンを反応させ、生成
したジアステレオマー塩を溶媒に対する溶解度の差を利
用して分離し、次いで酸で分解させ、光学活性なホスフ
ィンオキシドカルボン酸を遊離させ、分離する。
なホスフィン化合物の前駆体として有用な新規な光学活
性なホスフィンオキシドカルボン酸、及びその経済的な
製造方法を提供する。 【解決手段】 下記一般式（２）： 【化１】 で表されるラセミ体のホスフィンオキシドカルボン酸に
光学活性な１−フェニルエチルアミンを反応させ、生成
したジアステレオマー塩を溶媒に対する溶解度の差を利
用して分離し、次いで酸で分解させ、光学活性なホスフ
ィンオキシドカルボン酸を遊離させ、分離する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性なホスフ
ィンオキシドカルボン酸及びその製造方法に関するもの
である。リン原子に不斉中心のあるホスフィンオキシド
は、不斉合成触媒の配位子として有用な光学活性なホス
フィン化合物の前駆体として特に有用な化合物である。
ィンオキシドカルボン酸及びその製造方法に関するもの
である。リン原子に不斉中心のあるホスフィンオキシド
は、不斉合成触媒の配位子として有用な光学活性なホス
フィン化合物の前駆体として特に有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】これまでに知られている光学活性なホス
フィンオキシドの製造方法のうち最も古い方法は、メチ
ルエチルフェニルホスフィンオキシドにα−ブロモカン
ファースルホン酸を作用させて、この塩を分別結晶化さ
せた後に、アンモニアで処理して光学活性なホスフィン
オキシドを得たものである。(J. Meisenheimer, L. Lic
htenstadt, Ber., 44, 356 (1911)) この方法は、ホスフィンオキシドの塩基性とカンファー
スルホン酸の酸性により生成するジアステレオマーの溶
解性の差を利用して分割する方法であるが、分割剤に天
然物であるカンファー（ショウノウ）を原料とするカン
ファースルホン酸を用いているため、天然から単離する
際に必ずしも純度よく得られるとは限らないという欠点
がある。
フィンオキシドの製造方法のうち最も古い方法は、メチ
ルエチルフェニルホスフィンオキシドにα−ブロモカン
ファースルホン酸を作用させて、この塩を分別結晶化さ
せた後に、アンモニアで処理して光学活性なホスフィン
オキシドを得たものである。(J. Meisenheimer, L. Lic
htenstadt, Ber., 44, 356 (1911)) この方法は、ホスフィンオキシドの塩基性とカンファー
スルホン酸の酸性により生成するジアステレオマーの溶
解性の差を利用して分割する方法であるが、分割剤に天
然物であるカンファー（ショウノウ）を原料とするカン
ファースルホン酸を用いているため、天然から単離する
際に必ずしも純度よく得られるとは限らないという欠点
がある。
【０００３】そこで、メチルフェニルホスフィン酸のよ
うなアルキルの異なるホスフィン酸に、チオニルクロラ
イドと光学活性な１−メントールをトリエチルアミンの
存在下で反応させ、メンチルメチルフェニルホスフィネ
ートのジアステレオマー塩を得て、この塩を分別結晶化
させた後に、塩基で処理して光学活性なメンチルメチル
フェニルホスフィネートを得る。さらに、グリニャール
試薬を反応させて光学活性なホスフィンオキシドを得る
方法も知られている。(Homogeneous CatalysisII, Adv.
Chem. Ser., No. 132, 274 (1974)) この方法は、不斉源である1-メントールを等化学論量使
用して、それを反応基質であるホスフィン酸に共有結合
で導入する方法であるが、高価な不斉源を多量に使用
し、そのうえ反応後共有結合で導入されている不斉源部
分を何らかの化学的処理によって除去、回収しなければ
ならない。したがって、このような不斉反応は、プロス
タグランジンのような付加価値の高い化合物には利用で
きるものの、一般の工業プロセスとしては必ずしも実用
的でない。
うなアルキルの異なるホスフィン酸に、チオニルクロラ
イドと光学活性な１−メントールをトリエチルアミンの
存在下で反応させ、メンチルメチルフェニルホスフィネ
ートのジアステレオマー塩を得て、この塩を分別結晶化
させた後に、塩基で処理して光学活性なメンチルメチル
フェニルホスフィネートを得る。さらに、グリニャール
試薬を反応させて光学活性なホスフィンオキシドを得る
方法も知られている。(Homogeneous CatalysisII, Adv.
Chem. Ser., No. 132, 274 (1974)) この方法は、不斉源である1-メントールを等化学論量使
用して、それを反応基質であるホスフィン酸に共有結合
で導入する方法であるが、高価な不斉源を多量に使用
し、そのうえ反応後共有結合で導入されている不斉源部
分を何らかの化学的処理によって除去、回収しなければ
ならない。したがって、このような不斉反応は、プロス
タグランジンのような付加価値の高い化合物には利用で
きるものの、一般の工業プロセスとしては必ずしも実用
的でない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】発明者らは、上記問題
に鑑み鋭意検討した結果、多種多様の構造をした光学活
性な化合物を得る最も合理的な方法であり、且つジアス
テレオマー塩の溶解性を利用した光学分割方法におい
て、1-フェニルエチルアミンのような工業的に入手が容
易で、あまり高価でない光学活性なアミンを用いること
により、ラセミ体のホスフィンオキシドカルボン酸よ
り、容易に光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を
得ることができることを見いだし、本発明を完成した。
すなわち、本発明の光学活性なホスフィンオキシドカル
ボン酸は、新規な化合物であり、またかかる化合物を製
造する方法も新規な方法である。
に鑑み鋭意検討した結果、多種多様の構造をした光学活
性な化合物を得る最も合理的な方法であり、且つジアス
テレオマー塩の溶解性を利用した光学分割方法におい
て、1-フェニルエチルアミンのような工業的に入手が容
易で、あまり高価でない光学活性なアミンを用いること
により、ラセミ体のホスフィンオキシドカルボン酸よ
り、容易に光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を
得ることができることを見いだし、本発明を完成した。
すなわち、本発明の光学活性なホスフィンオキシドカル
ボン酸は、新規な化合物であり、またかかる化合物を製
造する方法も新規な方法である。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、入手が
容易であってあまり高価でない光学分割剤を使用し、簡
単な工程で、新規な光学活性を有するホスフィンオキシ
ド及びその化合物を製造する方法を提供することにあ
る。すなわち本発明は、下記一般式（１）
容易であってあまり高価でない光学分割剤を使用し、簡
単な工程で、新規な光学活性を有するホスフィンオキシ
ド及びその化合物を製造する方法を提供することにあ
る。すなわち本発明は、下記一般式（１）
【０００６】
【化３】
【０００７】（式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１８の直鎖
または分岐状のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ミノアルキル基または、置換もしくは無置換のフェニル
基を示し、Ｒ1、Ｒ2は互いに異なるものであり、Ａは直
鎖または分岐のアルキレン基を示す。）で表される光学
活性なホスフィンオキシドカルボン酸を提供するもので
ある。さらにまた本発明は、下記一般式（２）：
または分岐状のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、ア
ミノアルキル基または、置換もしくは無置換のフェニル
基を示し、Ｒ1、Ｒ2は互いに異なるものであり、Ａは直
鎖または分岐のアルキレン基を示す。）で表される光学
活性なホスフィンオキシドカルボン酸を提供するもので
ある。さらにまた本発明は、下記一般式（２）：
【０００８】
【化４】
【０００９】（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＡは前記に定義した
とおりである。）で表されるラセミ体のホスフィンオキ
シドカルボン酸に光学活性な1-フェニルエチルアミンを
反応させ、生成したジアステレオマー塩を溶媒に対する
溶解度の差を利用して分離し、次いで酸で分解させ、光
学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を遊離させ、分
離することを特徴とする光学活性なホスフィンオキシド
カルボン酸の製造方法を提供するものである。
とおりである。）で表されるラセミ体のホスフィンオキ
シドカルボン酸に光学活性な1-フェニルエチルアミンを
反応させ、生成したジアステレオマー塩を溶媒に対する
溶解度の差を利用して分離し、次いで酸で分解させ、光
学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を遊離させ、分
離することを特徴とする光学活性なホスフィンオキシド
カルボン酸の製造方法を提供するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。 （光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸）本発明の
光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸は、一般式
（１）で表されるものであるが、式中のＡは例えば、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレ
ン基、などの直鎖または分岐のアルキレン基であるが、
好ましくは炭素数１〜４の直鎖状アルキレン基である。
また、Ｒ1、Ｒ2は、特に限定はされないが、炭素数１〜
１８の直鎖または分岐状のアルキル基、ヒドロキシアル
キル基、アミノアルキル基または、置換もしくは無置換
のフェニル基を示し、リン原子上に不斉中心のある光学
活性体で、Ｒ1、Ｒ2がお互いに異なる。
光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸は、一般式
（１）で表されるものであるが、式中のＡは例えば、メ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレ
ン基、などの直鎖または分岐のアルキレン基であるが、
好ましくは炭素数１〜４の直鎖状アルキレン基である。
また、Ｒ1、Ｒ2は、特に限定はされないが、炭素数１〜
１８の直鎖または分岐状のアルキル基、ヒドロキシアル
キル基、アミノアルキル基または、置換もしくは無置換
のフェニル基を示し、リン原子上に不斉中心のある光学
活性体で、Ｒ1、Ｒ2がお互いに異なる。
【００１１】本発明の具体的な化合物としては、(-)-
(S)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシ
メチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィ
ンオキシド、(-)-(S)-[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-
テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド、(+)-
(R)-[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド、(-)-(S)-[(カルボキシ
メチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチル]ホスフィ
ンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)エチル]ホスフィンオキシド、(-)-
(S)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィンオキシド、(+)
-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィンオキシド、(-)
-(S)-[(カルボキシメチル)(o-メトキシフェニル）フェ
ニル]ホスフィンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシメチ
ル) (o-メトキシフェニル）フェニル]ホスフィンオキシ
ド、(-)-(S)-[(カルボキシメチル)(o-エチルフェニル）
フェニル]ホスフィンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシ
メチル)(o-エチルフェニル）フェニル]ホスフィンオキ
シド、などが挙げられる。
(S)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシ
メチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィ
ンオキシド、(-)-(S)-[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-
テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド、(+)-
(R)-[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド、(-)-(S)-[(カルボキシ
メチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチル]ホスフィ
ンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)エチル]ホスフィンオキシド、(-)-
(S)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィンオキシド、(+)
-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィンオキシド、(-)
-(S)-[(カルボキシメチル)(o-メトキシフェニル）フェ
ニル]ホスフィンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシメチ
ル) (o-メトキシフェニル）フェニル]ホスフィンオキシ
ド、(-)-(S)-[(カルボキシメチル)(o-エチルフェニル）
フェニル]ホスフィンオキシド、(+)-(R)-[(カルボキシ
メチル)(o-エチルフェニル）フェニル]ホスフィンオキ
シド、などが挙げられる。
【００１２】（本発明の製造方法） （出発原料）本発明の製造方法に使用する出発原料は、
一般式（２）：
一般式（２）：
【００１３】
【化５】
【００１４】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ａは前記と同義を示
す。）で表されるラセミ体のホスフィンオキシドカルボ
ン酸であり、式中のＡはメチレン基、エチレン基、トリ
メチレン基、テトラメチレン基、などの直鎖または分岐
のアルキレン基であるが、好ましくは炭素数１〜４の直
鎖状アルキレン基である。また、Ｒ1、Ｒ2は、特に限定
はされないが、炭素数１〜１８の直鎖または分岐状のア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基ま
たは、置換もしくは無置換のフェニル基を示しＲ1、Ｒ2
はお互いに異なるものである。
す。）で表されるラセミ体のホスフィンオキシドカルボ
ン酸であり、式中のＡはメチレン基、エチレン基、トリ
メチレン基、テトラメチレン基、などの直鎖または分岐
のアルキレン基であるが、好ましくは炭素数１〜４の直
鎖状アルキレン基である。また、Ｒ1、Ｒ2は、特に限定
はされないが、炭素数１〜１８の直鎖または分岐状のア
ルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル基ま
たは、置換もしくは無置換のフェニル基を示しＲ1、Ｒ2
はお互いに異なるものである。
【００１５】（溶媒）本発明で用いる溶媒は、アセト
ン、メチルエチルケトン、ＭＩＢＫ等のケトン類が適し
ており、特にアセトン、メチルエチルケトンが望まし
い。溶媒の使用量は、溶解度によって異なるが、一般に
溶質の５〜１０倍量（重量比）が適当である。
ン、メチルエチルケトン、ＭＩＢＫ等のケトン類が適し
ており、特にアセトン、メチルエチルケトンが望まし
い。溶媒の使用量は、溶解度によって異なるが、一般に
溶質の５〜１０倍量（重量比）が適当である。
【００１６】（光学分割方法）光学分割剤である光学活
性な1-フェニルエチルアミンの使用量は、ラセミ体であ
るホスフィンオキシドカルボン酸に対して０.７〜１.０
モルの割合が適当である。両者の反応は、中和反応であ
るので、特別な反応条件を必要としない。混合する方法
も、任意であり、直接溶媒中に混合しても、それぞれの
溶液を混合しても差し支えない。反応温度は、室温ない
しは加熱した場合は溶媒の沸点以下の温度において均一
な溶液とし、静置して難溶性なジアステレオマー塩とし
て析出させる。静置させる温度は、室温もしくは冷蔵庫
または冷凍庫などで冷却した温度でも構わない。このと
き、析出させようとする塩の種結晶を接種することも通
常行われる。
性な1-フェニルエチルアミンの使用量は、ラセミ体であ
るホスフィンオキシドカルボン酸に対して０.７〜１.０
モルの割合が適当である。両者の反応は、中和反応であ
るので、特別な反応条件を必要としない。混合する方法
も、任意であり、直接溶媒中に混合しても、それぞれの
溶液を混合しても差し支えない。反応温度は、室温ない
しは加熱した場合は溶媒の沸点以下の温度において均一
な溶液とし、静置して難溶性なジアステレオマー塩とし
て析出させる。静置させる温度は、室温もしくは冷蔵庫
または冷凍庫などで冷却した温度でも構わない。このと
き、析出させようとする塩の種結晶を接種することも通
常行われる。
【００１７】析出した塩は、濾過または遠心分離により
溶媒から分け、必要に応じて再結晶して精製する。得ら
れた塩は、塩酸、硫酸などの強酸で処理して塩を分解さ
せ、ホスフィンオキシドカルボン酸が可溶な水と混合し
ない溶媒で抽出することにより、光学活性なホスフィン
オキシドカルボン酸が得られる。また必要に応じて再結
晶により精製する。上記方法により、得られる光学活性
なホスフィンオキシドカルボン酸は、新規な化合物であ
り、不斉合成触媒の配位子として有用な光学活性なホス
フィン化合物の前駆体として特に有用な化合物である。
溶媒から分け、必要に応じて再結晶して精製する。得ら
れた塩は、塩酸、硫酸などの強酸で処理して塩を分解さ
せ、ホスフィンオキシドカルボン酸が可溶な水と混合し
ない溶媒で抽出することにより、光学活性なホスフィン
オキシドカルボン酸が得られる。また必要に応じて再結
晶により精製する。上記方法により、得られる光学活性
なホスフィンオキシドカルボン酸は、新規な化合物であ
り、不斉合成触媒の配位子として有用な光学活性なホス
フィン化合物の前駆体として特に有用な化合物である。
【００１８】光学分割に使用した光学活性な１−フェニ
ルエチルアミンは、ホスフィンオキシドカルボン酸を溶
媒抽出した後の水溶液を、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのような強塩基と反応させ、溶媒抽出または減圧
蒸留などの方法により容易に回収することができ、再使
用することが可能である。
ルエチルアミンは、ホスフィンオキシドカルボン酸を溶
媒抽出した後の水溶液を、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウムのような強塩基と反応させ、溶媒抽出または減圧
蒸留などの方法により容易に回収することができ、再使
用することが可能である。
【００１９】
【実施例】（実施例 １） （ラセミ体の合成）反応容器約１リットルの撹拌機付き
ステンレス製のオートクレーブを使用し、内部を窒素置
換した後、溶媒としてn-ヘキサン３００ｍｌとイソブチ
レンダイマー(2,4,4−トリメチル-1-ペンテン７５％、
2,4,4-トリメチル-2-ペンテン２２％の混合物）１１２.
２ｇ（１.０モル）とホスフィン３４.０ｇ（１.０モ
ル）を室温にて添加した。反応温度を、８０℃に昇温
し、メタンスルホン酸９６.１ｇ（１.０モル）を圧入ポ
ンプで約３時間かけて添加した。オートクレーブ内の圧
力は、１２.５気圧から４.５気圧まで低下した。さら
に、８０℃に保ちながら４時間熟成させた。反応終了
後、室温まで冷却させ、未反応のホスフィンを排気し、
窒素で系内を十分に置換した。反応生成物をオートクレ
ーブより抜き取り、一昼夜室温にて静置後、分液し下層
のメタンスルホン酸を除去した。このｎ−ヘキサン層を
減圧蒸留することにより、無色透明の液体９８.３ｇを
得た。沸点７９〜８０℃（６２ｍｍＨｇ）の1,1,3,3−
テトラメチルブチルホスフィンであった。このもののＮ
ＭＲによる分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.02(s,9H,CH3), 1.32(d,6H,JPCCH
=10.8Hz,CH3), 1.51(d,2H,CH2,JPCCH=13.2Hz), 2.92(d,
2H,P-H,JPH=190.8Hz) GC-MASS(EI); m/z=146[M+] FT-IR(KBr,cm-1); 2959,2880,2275,1465,1360,1065
ステンレス製のオートクレーブを使用し、内部を窒素置
換した後、溶媒としてn-ヘキサン３００ｍｌとイソブチ
レンダイマー(2,4,4−トリメチル-1-ペンテン７５％、
2,4,4-トリメチル-2-ペンテン２２％の混合物）１１２.
２ｇ（１.０モル）とホスフィン３４.０ｇ（１.０モ
ル）を室温にて添加した。反応温度を、８０℃に昇温
し、メタンスルホン酸９６.１ｇ（１.０モル）を圧入ポ
ンプで約３時間かけて添加した。オートクレーブ内の圧
力は、１２.５気圧から４.５気圧まで低下した。さら
に、８０℃に保ちながら４時間熟成させた。反応終了
後、室温まで冷却させ、未反応のホスフィンを排気し、
窒素で系内を十分に置換した。反応生成物をオートクレ
ーブより抜き取り、一昼夜室温にて静置後、分液し下層
のメタンスルホン酸を除去した。このｎ−ヘキサン層を
減圧蒸留することにより、無色透明の液体９８.３ｇを
得た。沸点７９〜８０℃（６２ｍｍＨｇ）の1,1,3,3−
テトラメチルブチルホスフィンであった。このもののＮ
ＭＲによる分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.02(s,9H,CH3), 1.32(d,6H,JPCCH
=10.8Hz,CH3), 1.51(d,2H,CH2,JPCCH=13.2Hz), 2.92(d,
2H,P-H,JPH=190.8Hz) GC-MASS(EI); m/z=146[M+] FT-IR(KBr,cm-1); 2959,2880,2275,1465,1360,1065
【００２０】撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサ
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコを十分に窒素
置換し、1,1,3,3−テトラメチルブチルホスフィン７３.
１ｇ（０.５モル）、沃化メチル２１２.９ｇ（１.５モ
ル）を室温にて仕込んだ。還流温度まで昇温すると、白
濁し結晶が析出し、撹拌が困難になるまで加熱した。減
圧下過剰の沃化メチルを留去させ、純水２００ｍｌ、n-
ヘキサン２００ｍｌを添加し、１.１倍モルの苛性ソー
ダ水溶液を添加した。冷却後、窒素雰囲気下で分液し、
ヘキサン層は濃縮後、減圧蒸留することにより、無色透
明液体６３.９ｇを得た。沸点６３〜６６℃（１６ｍｍ
Ｈｇ）の（1,1,3,3−テトラメチルブチル）メチルホス
フィンであった。このもののＮＭＲによる分析結果は以
下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.11(s,9H,CH3), 1.65(d,6H,JPCCH
=20.2Hz,CH3), 1.79(d,2H,CH2,JPCCH=15.4Hz), 2.16(d,
3H,P-CH3,JPCH=15.0Hz), 7.56(d,1H,P-H,JPH=497.2Hz) GC-MASS(EI); m/z=160[M+] FT-IR(KBr,cm-1); 2965,2280,1470,1364,1296,1236,972
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコを十分に窒素
置換し、1,1,3,3−テトラメチルブチルホスフィン７３.
１ｇ（０.５モル）、沃化メチル２１２.９ｇ（１.５モ
ル）を室温にて仕込んだ。還流温度まで昇温すると、白
濁し結晶が析出し、撹拌が困難になるまで加熱した。減
圧下過剰の沃化メチルを留去させ、純水２００ｍｌ、n-
ヘキサン２００ｍｌを添加し、１.１倍モルの苛性ソー
ダ水溶液を添加した。冷却後、窒素雰囲気下で分液し、
ヘキサン層は濃縮後、減圧蒸留することにより、無色透
明液体６３.９ｇを得た。沸点６３〜６６℃（１６ｍｍ
Ｈｇ）の（1,1,3,3−テトラメチルブチル）メチルホス
フィンであった。このもののＮＭＲによる分析結果は以
下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.11(s,9H,CH3), 1.65(d,6H,JPCCH
=20.2Hz,CH3), 1.79(d,2H,CH2,JPCCH=15.4Hz), 2.16(d,
3H,P-CH3,JPCH=15.0Hz), 7.56(d,1H,P-H,JPH=497.2Hz) GC-MASS(EI); m/z=160[M+] FT-IR(KBr,cm-1); 2965,2280,1470,1364,1296,1236,972
【００２１】撹拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサ
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコを十分に窒素
置換し、（1,1,3,3−テトラメチルブチル）メチルホス
フィン４８.０ｇ（０.３モル）、エタノール１５０ｍｌ
を仕込み、ブロム酢酸エチル１００.２ｇ（０.９モル）
を滴下した。滴下後、還流温度で３時間熟成し、エバポ
レーターで濃縮して、溶媒を除去した。純水２００ｍｌ
を添加し、２.２倍モルの水酸化ナトリウム水溶液を室
温にて滴下した。さらに、還流温度で３時間熟成させ
た。ジクロロメタンで２回抽出し、得られた有機層は
０.１Ｎの塩酸水溶液で洗浄し、さらに純水で洗浄し
た。有機層は、無水硫酸ナトリウムで脱水し、一昼夜静
置し、濾別後エバポレーターで濃縮すると白色固体を得
た。アセトンで再結精製することにより、融点９９〜１
００℃の白色結晶１７.１ｇを得た。分析の結果、[(カ
ルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]
ホスフィンオキシドであった。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.34(d,6H,JPCCH
=17.9Hz,CH3), 1.52(d,2H,CH2,JPCCH=8.8Hz), 1.71(d,3
H,P-CH3,JPCH=12.3Hz), 2.71(dd,1H,JPCH=9.2Hz,Jgem=1
3.4Hz,P-CH-), 3.00(dd,1H,J=14.3Hz,Jgem=13.4Hz,P-C
H'-), 10.78(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=235[M+H+] FT-IR(KBr,cm-1); 2955,2872,1714,1270,1158,1103,97
0,896 UV-VIS(MeOH); εmax=40.5、λmax=217.6nm
ーを備えた１０００ｍｌの四つ口フラスコを十分に窒素
置換し、（1,1,3,3−テトラメチルブチル）メチルホス
フィン４８.０ｇ（０.３モル）、エタノール１５０ｍｌ
を仕込み、ブロム酢酸エチル１００.２ｇ（０.９モル）
を滴下した。滴下後、還流温度で３時間熟成し、エバポ
レーターで濃縮して、溶媒を除去した。純水２００ｍｌ
を添加し、２.２倍モルの水酸化ナトリウム水溶液を室
温にて滴下した。さらに、還流温度で３時間熟成させ
た。ジクロロメタンで２回抽出し、得られた有機層は
０.１Ｎの塩酸水溶液で洗浄し、さらに純水で洗浄し
た。有機層は、無水硫酸ナトリウムで脱水し、一昼夜静
置し、濾別後エバポレーターで濃縮すると白色固体を得
た。アセトンで再結精製することにより、融点９９〜１
００℃の白色結晶１７.１ｇを得た。分析の結果、[(カ
ルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]
ホスフィンオキシドであった。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.34(d,6H,JPCCH
=17.9Hz,CH3), 1.52(d,2H,CH2,JPCCH=8.8Hz), 1.71(d,3
H,P-CH3,JPCH=12.3Hz), 2.71(dd,1H,JPCH=9.2Hz,Jgem=1
3.4Hz,P-CH-), 3.00(dd,1H,J=14.3Hz,Jgem=13.4Hz,P-C
H'-), 10.78(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=235[M+H+] FT-IR(KBr,cm-1); 2955,2872,1714,1270,1158,1103,97
0,896 UV-VIS(MeOH); εmax=40.5、λmax=217.6nm
【００２２】（光学分割）３００ｍｌのフラスコに、得
られた[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド１６.７ｇ（７１.５ｍモ
ル）、メチルエチルケトン２００ｍｌを入れ、(-)-(S)-
1-フェニルエチルアミン８.７ｇ（７１.５ｍモル）を添
加した。わずかに発熱して完全に溶解した。室温で一昼
夜静置させ結晶を析出させた。結晶を濾別し、真空乾燥
させて、２０.５ｇの白色結晶を得た。融点１２１−１
２３℃、旋光度[α]25D＝−１.８９(c 1.212 CHCl3)で
あった。続けて、アセトン２２０ｍｌで再結晶化させ
て、白色結晶３.７ｇを得た。一部サンプルを、塩酸で
遊離させ、ジクロロメタンで抽出することにより得られ
たホスフィンオキシドを分析した。融点１１５−１１７
℃、光学純度o.p.=６６.５％e.e.(HPLC)であった。さら
に、アセトン１５０ｍｌで再結晶化させ、白色結晶２.
６ｇを得た。塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出す
ることにより１.２ｇの白色結晶を得た。融点９９−１
００℃、光学純度o.p.=９８.６％e.e.(HPLC)、旋光度
[α]25D＝−１５.８(c 1.040 CHCl3)で、(-)-(S)-[(カ
ルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]
ホスフィンオキシドであった。このもののＮＭＲによる
分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.34(d,6H,JPCCH
=18.0Hz,CH3), 1.53(d,2H,CH2,JPCCH=8.7Hz), 1.69(d,3
H,P-CH3,JPCH=12.0Hz), 2.71(dd,1H,JPCH=9.6Hz,Jgem=1
3.2Hz,P-CH-), 3.04(dd,1H,J=15.3Hz,Jgem=13.2Hz,P-C
H'-), 11.32(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=235[M+H+]
られた[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド１６.７ｇ（７１.５ｍモ
ル）、メチルエチルケトン２００ｍｌを入れ、(-)-(S)-
1-フェニルエチルアミン８.７ｇ（７１.５ｍモル）を添
加した。わずかに発熱して完全に溶解した。室温で一昼
夜静置させ結晶を析出させた。結晶を濾別し、真空乾燥
させて、２０.５ｇの白色結晶を得た。融点１２１−１
２３℃、旋光度[α]25D＝−１.８９(c 1.212 CHCl3)で
あった。続けて、アセトン２２０ｍｌで再結晶化させ
て、白色結晶３.７ｇを得た。一部サンプルを、塩酸で
遊離させ、ジクロロメタンで抽出することにより得られ
たホスフィンオキシドを分析した。融点１１５−１１７
℃、光学純度o.p.=６６.５％e.e.(HPLC)であった。さら
に、アセトン１５０ｍｌで再結晶化させ、白色結晶２.
６ｇを得た。塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出す
ることにより１.２ｇの白色結晶を得た。融点９９−１
００℃、光学純度o.p.=９８.６％e.e.(HPLC)、旋光度
[α]25D＝−１５.８(c 1.040 CHCl3)で、(-)-(S)-[(カ
ルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]
ホスフィンオキシドであった。このもののＮＭＲによる
分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.34(d,6H,JPCCH
=18.0Hz,CH3), 1.53(d,2H,CH2,JPCCH=8.7Hz), 1.69(d,3
H,P-CH3,JPCH=12.0Hz), 2.71(dd,1H,JPCH=9.6Hz,Jgem=1
3.2Hz,P-CH-), 3.04(dd,1H,J=15.3Hz,Jgem=13.2Hz,P-C
H'-), 11.32(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=235[M+H+]
【００２３】（実施例 ２）実施例１でラセミ体の[(カ
ルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]
ホスフィンオキシドから(-)-(S)-[(カルボキシメチル)
(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキ
シドを分離した後の濾過母液である、(+)-(R)-[(カルボ
キシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホス
フィンオキシド／(-)-(S)-1-フェニルエチルアミン塩の
(+)-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブ
チル)メチル]ホスフィンオキシドがリッチな母液を、室
温で一昼夜静置させ結晶を析出させた。結晶を濾別し、
真空乾燥させて、２.６ｇの白色結晶を得た。一部サン
プルを、塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出するこ
とにより得られたホスフィンオキシドカルボン酸を分析
した。融点１１７−１１８℃、光学純度o.p.=５５.６％
e.e.(HPLC)であった。さらに、アセトン１００ｍｌで再
結晶化させ、白色結晶１.５ｇを得た。塩酸で遊離さ
せ、ジクロロメタンで抽出することにより１.５ｇの白
色結晶を得た。融点９８−９９℃、光学純度o.p.=９３.
７％e.e.(HPLC)、旋光度[α]25D＝＋１４.８(c 1.284 C
HCl3)で、(+)-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テト
ラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドであった。
このもののＮＭＲによる分析結果は以下のとおりであ
る。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.35(d,6H,JPCCH
=17.9Hz,CH3), 1.56(d,2H,CH2,JPCCH=8.3Hz), 1.67(d,3
H,P-CH3,JPCH=10.9Hz), 2.84(dd,1H,JPCH=9.2Hz,Jgem=1
3.4Hz,P-CH-), 3.02(dd,1H,J=14.3Hz,Jgem=13.4Hz,P-C
H'-), 10.36(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=235[M+H+]
ルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]
ホスフィンオキシドから(-)-(S)-[(カルボキシメチル)
(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキ
シドを分離した後の濾過母液である、(+)-(R)-[(カルボ
キシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホス
フィンオキシド／(-)-(S)-1-フェニルエチルアミン塩の
(+)-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テトラメチルブ
チル)メチル]ホスフィンオキシドがリッチな母液を、室
温で一昼夜静置させ結晶を析出させた。結晶を濾別し、
真空乾燥させて、２.６ｇの白色結晶を得た。一部サン
プルを、塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出するこ
とにより得られたホスフィンオキシドカルボン酸を分析
した。融点１１７−１１８℃、光学純度o.p.=５５.６％
e.e.(HPLC)であった。さらに、アセトン１００ｍｌで再
結晶化させ、白色結晶１.５ｇを得た。塩酸で遊離さ
せ、ジクロロメタンで抽出することにより１.５ｇの白
色結晶を得た。融点９８−９９℃、光学純度o.p.=９３.
７％e.e.(HPLC)、旋光度[α]25D＝＋１４.８(c 1.284 C
HCl3)で、(+)-(R)-[(カルボキシメチル)(1,1,3,3-テト
ラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドであった。
このもののＮＭＲによる分析結果は以下のとおりであ
る。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.35(d,6H,JPCCH
=17.9Hz,CH3), 1.56(d,2H,CH2,JPCCH=8.3Hz), 1.67(d,3
H,P-CH3,JPCH=10.9Hz), 2.84(dd,1H,JPCH=9.2Hz,Jgem=1
3.4Hz,P-CH-), 3.02(dd,1H,J=14.3Hz,Jgem=13.4Hz,P-C
H'-), 10.36(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=235[M+H+]
【００２４】（実施例 ３） （ラセミ体の合成）撹拌機、温度計、滴下ロート、コン
デンサーを備えた３００ｍｌの四つ口フラスコを十分に
窒素置換し、実施例１で得られた（1,1,3,3−テトラメ
チルブチル）メチルホスフィン１６.０ｇ（０.１モ
ル）、濃塩酸１５.６ｇ（０.１５モル）を仕込み、２０
〜２５℃に冷却して保ちながらアクリル酸７.２ｇ（０.
１モル）を滴下した。滴下後、４０℃で２時間熟成し、
エバポレーターで濃縮して、過剰の塩酸を除去した。純
水１００ｍｌを添加し、８０℃まで昇温し、３５％過酸
化水素水１０.７ｇ（０.１１モル）を温度を保ちながら
徐々に滴下した。さらに、同温度で３時間熟成させた。
濃縮することにより得られた粘性固体をアセトンで再結
精製することにより、融点１００〜１０３℃の白色結晶
１５.８ｇを得た。分析の結果、[(2-カルボキシエチル)
(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキ
シドであった。このもののＮＭＲによる分析結果は以下
のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.35(d,6H,JPCCH
=17.6Hz,CH3), 1.50(d,2H,CH2,JPCCH=8.6Hz), 1.59(d,3
H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.92-2.27(m,2H,P-CH2-), 2.57
-2.80(m,2H,-CH2-COO), 11.81(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=249[M+H+] FT-IR(KBr,cm-1); 2953,2918,1735,1422,1233,1171,111
2,964,903 UV-VIS(MeOH); εmax=140.1、λmax=218.1nm
デンサーを備えた３００ｍｌの四つ口フラスコを十分に
窒素置換し、実施例１で得られた（1,1,3,3−テトラメ
チルブチル）メチルホスフィン１６.０ｇ（０.１モ
ル）、濃塩酸１５.６ｇ（０.１５モル）を仕込み、２０
〜２５℃に冷却して保ちながらアクリル酸７.２ｇ（０.
１モル）を滴下した。滴下後、４０℃で２時間熟成し、
エバポレーターで濃縮して、過剰の塩酸を除去した。純
水１００ｍｌを添加し、８０℃まで昇温し、３５％過酸
化水素水１０.７ｇ（０.１１モル）を温度を保ちながら
徐々に滴下した。さらに、同温度で３時間熟成させた。
濃縮することにより得られた粘性固体をアセトンで再結
精製することにより、融点１００〜１０３℃の白色結晶
１５.８ｇを得た。分析の結果、[(2-カルボキシエチル)
(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキ
シドであった。このもののＮＭＲによる分析結果は以下
のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.35(d,6H,JPCCH
=17.6Hz,CH3), 1.50(d,2H,CH2,JPCCH=8.6Hz), 1.59(d,3
H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.92-2.27(m,2H,P-CH2-), 2.57
-2.80(m,2H,-CH2-COO), 11.81(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=249[M+H+] FT-IR(KBr,cm-1); 2953,2918,1735,1422,1233,1171,111
2,964,903 UV-VIS(MeOH); εmax=140.1、λmax=218.1nm
【００２５】（光学分割）５０ｍｌのフラスコに、得ら
れた[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド３.０３ｇ（１２.２ｍモ
ル）、アセトン４.５ｍｌを入れ、(+)-(R)-1-フェニル
エチルアミン１.４８ｇ（１２.２ｍモル）を添加した。
わずかに発熱して完全に溶解した。０℃で一昼夜静置さ
せ結晶を析出させた。結晶を濾別し、真空乾燥させて、
０.８３ｇの白色結晶を得た。融点１３５−１３８℃、
旋光度[α]25D＝＋３.４２(c 1.072 CH3OH)であった。
塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出することにより
０.１１ｇの白色結晶を得た。融点１４５−１４６℃、
旋光度[α]25D＝−８.１７(c 1.040 CH3OH)で、(-)-(S)
-[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)
メチル]ホスフィンオキシドであった。このもののＮＭ
Ｒによる分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.33(d,6H,JPCCH
=17.0Hz,CH3), 1.50(d,2H,CH2,JPCCH=8.4Hz), 1.49(d,3
H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.78-2.16(m,2H,P-CH2-), 2.46
-2.71(m,2H,-CH2-COO), 10.34(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=249[M+H+]
れた[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチ
ル)メチル]ホスフィンオキシド３.０３ｇ（１２.２ｍモ
ル）、アセトン４.５ｍｌを入れ、(+)-(R)-1-フェニル
エチルアミン１.４８ｇ（１２.２ｍモル）を添加した。
わずかに発熱して完全に溶解した。０℃で一昼夜静置さ
せ結晶を析出させた。結晶を濾別し、真空乾燥させて、
０.８３ｇの白色結晶を得た。融点１３５−１３８℃、
旋光度[α]25D＝＋３.４２(c 1.072 CH3OH)であった。
塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出することにより
０.１１ｇの白色結晶を得た。融点１４５−１４６℃、
旋光度[α]25D＝−８.１７(c 1.040 CH3OH)で、(-)-(S)
-[(2-カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)
メチル]ホスフィンオキシドであった。このもののＮＭ
Ｒによる分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.33(d,6H,JPCCH
=17.0Hz,CH3), 1.50(d,2H,CH2,JPCCH=8.4Hz), 1.49(d,3
H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.78-2.16(m,2H,P-CH2-), 2.46
-2.71(m,2H,-CH2-COO), 10.34(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=249[M+H+]
【００２６】（実施例 ４）５０ｍｌのフラスコに、実
施例２で得られた[(2−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド３.０５
ｇ（１２.３ｍモル）、アセトン４.５ｍｌを入れ、(-)-
(S)-1-フェニルエチルアミン１.４８ｇ（１２.２ｍモ
ル）を添加し、０℃で一昼夜静置させ結晶を析出させ
た。結晶を濾別し、真空乾燥させて、０.３２ｇの白色
結晶を得た。融点１２６−１３１℃であった。塩酸で遊
離させ、ジクロロメタンで抽出することにより０.１８
ｇの白色結晶を得た。融点１４４−１４６℃、旋光度
[α]25D＝＋６.３０(c 0.238 CH3OH)で、(+)-(R)-[(2-
カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチ
ル]ホスフィンオキシドであった。このもののＮＭＲに
よる分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.33(d,6H,JPCCH
=17.0Hz,CH3), 1.50(d,2H,CH2,JPCCH=8.4Hz), 1.49(d,3
H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.83-2.22(m,2H,P-CH2-), 2.53
-2.76(m,2H,-CH2-COO), 10.72(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=249[M+H+]
施例２で得られた[(2−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テ
トラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド３.０５
ｇ（１２.３ｍモル）、アセトン４.５ｍｌを入れ、(-)-
(S)-1-フェニルエチルアミン１.４８ｇ（１２.２ｍモ
ル）を添加し、０℃で一昼夜静置させ結晶を析出させ
た。結晶を濾別し、真空乾燥させて、０.３２ｇの白色
結晶を得た。融点１２６−１３１℃であった。塩酸で遊
離させ、ジクロロメタンで抽出することにより０.１８
ｇの白色結晶を得た。融点１４４−１４６℃、旋光度
[α]25D＝＋６.３０(c 0.238 CH3OH)で、(+)-(R)-[(2-
カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチ
ル]ホスフィンオキシドであった。このもののＮＭＲに
よる分析結果は以下のとおりである。1 H-NMR(ppm,CDCl3); 1.06(s,9H,CH3), 1.33(d,6H,JPCCH
=17.0Hz,CH3), 1.50(d,2H,CH2,JPCCH=8.4Hz), 1.49(d,3
H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.83-2.22(m,2H,P-CH2-), 2.53
-2.76(m,2H,-CH2-COO), 10.72(s,1H,COOH) FAB-MASS(Pos.); m/z=249[M+H+]
【００２７】
【発明の効果】本発明は上記のように構成したので、1-
フェニルエチルアミンのような工業的に入手が容易で、
あまり高価でない光学活性なアミンを用いることによ
り、ラセミ混合物のホスフィンオキシドカルボン酸よ
り、容易に光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を
得ることができる。本発明の光学活性なホスフィンオキ
シドカルボン酸は、新規な化合物であり、またこの化合
物は、不斉合成触媒の配位子として有用な光学活性なホ
スフィン化合物の前駆体として特に有用な化合物であ
る。
フェニルエチルアミンのような工業的に入手が容易で、
あまり高価でない光学活性なアミンを用いることによ
り、ラセミ混合物のホスフィンオキシドカルボン酸よ
り、容易に光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を
得ることができる。本発明の光学活性なホスフィンオキ
シドカルボン酸は、新規な化合物であり、またこの化合
物は、不斉合成触媒の配位子として有用な光学活性なホ
スフィン化合物の前駆体として特に有用な化合物であ
る。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１８の直鎖または分岐状
のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル
基または、置換もしくは無置換のフェニル基を示し、Ｒ
1、Ｒ2は互いに異なるものであり、Ａは直鎖または分岐
のアルキレン基を示す。）で表される光学活性なホスフ
ィンオキシドカルボン酸。 - 【請求項２】 下記一般式（２）： 【化２】 （式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１８の直鎖または分岐状
のアルキル基、ヒドロキシアルキル基、アミノアルキル
基または、置換もしくは無置換のフェニル基を示し、Ｒ
1、Ｒ2は互いに異なるものであり、Ａは直鎖または分岐
のアルキレン基を示す。）で表されるラセミ体のホスフ
ィンオキシドカルボン酸に光学活性な１−フェニルエチ
ルアミンを反応させ、生成したジアステレオマー塩を溶
媒に対する溶解度の差を利用して分離し、次いで酸で分
解させ、光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を遊
離させ、分離することを特徴とする光学活性なホスフィ
ンオキシドカルボン酸の製造方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10029803A JPH11228587A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸及びその製造方法 |
| US09/371,050 US6177591B1 (en) | 1998-02-12 | 1999-08-10 | Optically active phosphine oxide carboxylic acid and method of producing the same |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10029803A JPH11228587A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸及びその製造方法 |
| US09/371,050 US6177591B1 (en) | 1998-02-12 | 1999-08-10 | Optically active phosphine oxide carboxylic acid and method of producing the same |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11228587A true JPH11228587A (ja) | 1999-08-24 |
Family
ID=26368046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10029803A Pending JPH11228587A (ja) | 1998-02-12 | 1998-02-12 | 光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸及びその製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6177591B1 (ja) |
| JP (1) | JPH11228587A (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3770513A (en) * | 1972-06-08 | 1973-11-06 | American Cyanamid Co | Chemical treatment of metal |
| JPH0662521B2 (ja) * | 1988-02-24 | 1994-08-17 | 日東紡績株式会社 | 新規コリン誘導体及びそれを用いた血清コリンエステラーゼ活性測定法 |
-
1998
- 1998-02-12 JP JP10029803A patent/JPH11228587A/ja active Pending
-
1999
- 1999-08-10 US US09/371,050 patent/US6177591B1/en not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6177591B1 (en) | 2001-01-23 |
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