JPH11222490A - アミノシラン化合物の製造方法、およびシクロペンタジエン骨格を有する化合物の塩化合物の製造方法 - Google Patents

アミノシラン化合物の製造方法、およびシクロペンタジエン骨格を有する化合物の塩化合物の製造方法

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JPH11222490A
JPH11222490A JP31619698A JP31619698A JPH11222490A JP H11222490 A JPH11222490 A JP H11222490A JP 31619698 A JP31619698 A JP 31619698A JP 31619698 A JP31619698 A JP 31619698A JP H11222490 A JPH11222490 A JP H11222490A
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tert
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JP31619698A
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Masaaki Namikawa
正明 並河
Kotohiro Nomura
琴広 野村
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 工業的に実施する際に有効な、アミノシラン
化合物の製造方法、およびシクロペンタジエン骨格を有
する化合物の塩化合物の製造方法に関する。 【解決手段】シクロペンタジエン骨格を有する化合物と
強塩基とを反応させた反応液と、下記一般式(2)で示
されるシラン化合物とを反応させて得られた反応液を、
下記一般式(3)で示されるアミン化合物もしくは下記
一般式(4)で示されるアルカリ金属アミド化合物と反
応させるアミノシラン化合物の製造方法、ならびに、シ
クロペンタジエン骨格を有する化合物と強塩基とを反応
させてシクロペンタジエン骨格を有する化合物の塩化合
物を製造するに際し、使用する総溶媒量に占めるエーテ
ル系溶媒の使用量が50容積%以上であるシクロペンタ
ジエン骨格を有する化合物の塩化合物の製造方法。 (Cpはシクロペンタジエン骨格を有する基を、Mはア
ルカリ金属原子を示す。)

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に工業的に実施
する際に有効な、アミノシラン化合物の製造方法、およ
びシクロペンタジエン骨格を有する化合物の塩化合物の
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】シクロペンタジエン骨格を有する基を持
つアミノシラン化合物は各種の遷移金属錯体の配位子な
どとして、近年注目されている化合物である。この配位
子を有する遷移金属錯体は数多くの有機合成反応の触媒
として有効であり、中でも特定のチタンやジルコニウム
などの前周期遷移金属錯体はオレフィン重合用触媒成分
として極めて有効であり、実用化も含めた検討が広く研
究されている。(例えば、WO9308199、USP
5096867など)
【0003】かかるシクロペンタジエン骨格を有する基
を持つアミノシラン化合物の合成は通常、該化合物の3
つの部分(即ちシクロペンタジエン骨格を有する基の部
分、アミノ基の部分、およびシラン骨格部分)のそれぞ
れの原料化合物を結合させてゆく3段階の反応で実施さ
れる。即ち、先ず、シクロペンタジエン骨格を有する化
合物とメチルリチウムやノルマルブチルリチウムなどの
有機アルカリ金属化合物とをヘキサンなどの溶媒の存在
下で反応させ、シクロペンタジエン骨格を有する化合物
のアルカリ金属塩を合成し、ろ過による単離・乾燥によ
り過剰の有機アルカリ金属化合物を除去し、次いで、塩
素化シリル化合物と反応させ、さらに単離したその反応
物とアミンもしくはそのアルカリ金属塩とを反応させる
ことにより通常、合成される(特開平7−53618号
公報、特表平5−505593号公報、 WO93/0
8221号公報、特開平8−239412号公報など)
が、従来知られている合成法の収率は十分満足のいくも
のではなかった。
【0004】ここで、シクロペンタジエン骨格を有する
化合物とメチルリチウムやノルマルブチルリチウムなど
の有機アルカリ金属化合物とを反応させてシクロペンタ
ジエン骨格を有する化合物のアルカリ金属塩を合成する
方法は、C.M.FendrickほかのOrgano
metallics 3号 819ページ(1984年)
などに記載されている方法により一般的に実施されてお
り、市販されている有機アルカリ金属化合物の溶媒であ
るヘキサンなどを溶媒として実施するものである。
【0005】一般的にシクロペンタジエン骨格を有する
化合物のアルカリ金属塩は、空気に対して非常に敏感で
あって、空気と接触することにより発火性を示すこと
や、ヘキサンなどの脂肪族溶媒中では体積が極めて増加
して、大量の溶媒を使用しないと系内の攪拌が非常に困
難で、しかも濾過効率が極端に低下することなど、シク
ロペンタジエン骨格を有する化合物のアルカリ金属塩の
単離操作を工業的に実施するにはかなり多くの問題点が
あった。
【0006】また、これらのシクロペンタジエン骨格を
有する化合物のアルカリ金属塩の合成は実験室レベルに
おいては−78℃付近の低温で実施している例も少なく
ないが、工業的には−78℃などの低温反応は経済的に
も負担が大きく、また使用する装置・材質の制約も多く
なるので、工業的に有利な−20℃より高い温度範囲で
の反応手法の確立が必要であった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題、即ち本発明の目的は、単離・精製の操作が困
難で、空気との接触により発火性を示す固体を取り扱わ
ずに、工程数の少ない高収率の、遷移金属錯体の配位子
前駆体として有用なアミノシラン化合物の製造方法、並
びに、単離・精製の操作をしなくても次の反応工程に供
し得るシクロペンタジエン骨格を有する化合物の塩化合
物の製造方法を提供することにある。さらには、工業的
に有利な反応温度で行い得る該アミノシラン化合物の製
造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる状況下、本発明者
らは遷移金属錯体の配位子前駆体として有用なアミノシ
ラン化合物ならびにシクロペンタジエン骨格を有する化
合物の塩化合物の実用的な大スケールでの製造方法につ
いて鋭意検討を続け、本発明を完成するに至った。即ち
本発明は、下記工程(A)〜(C)を途中で精製操作を
することなくこの順に続けて実施する、下記一般式
(1)で示されるアミノシラン化合物の製造方法にかか
るものである。 工程(A):シクロペンタジエン骨格を有する化合物と
強塩基とを反応させる工程。 工程(B):工程(A)で得られた反応物と下記一般式
(2)で示されるシラン化合物とを反応させる工程。 工程(C):工程(B)で得られた反応物と下記一般式
(3)で示されるアミン化合物もしくは下記一般式
(4)で示されるアルカリ金属アミド化合物とを反応さ
せる工程。 さらに本発明は、下記一般式(1)で示されるアミノシ
ラン化合物の製造方法であって、シクロペンタジエン骨
格を有する化合物と強塩基とを反応させた反応液と、下
記一般式(2)で示されるシラン化合物とを反応させて
得られた反応液を、下記一般式(3)で示されるアミン
化合物もしくは下記一般式(4)で示されるアルカリ金
属アミド化合物と反応させるアミノシラン化合物の製造
方法、ならびに、シクロペンタジエン骨格を有する化合
物と強塩基とを反応させてシクロペンタジエン骨格を有
する化合物の塩化合物を製造するに際し、使用する総溶
媒量に占めるエーテル系溶媒の使用量が50容積%以上
であるシクロペンタジエン骨格を有する化合物の塩化合
物の製造方法にかかるものである。 (上記一般式(1)、(2)、(3)または(4)それ
ぞれにおいて、Cpはシクロペンタジエン骨格を有する
基を示し、Siはケイ素原子を、Nは窒素原子を、Hは
水素原子を、Mはアルカリ金属原子を示す。R1および
2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラル
キル基、アリール基、または置換シリル基を示す。R3
およびR4はそれぞれ独立に、アルキル基、アラルキル
基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラル
キルオキシ基、またはアリールオキシ基を示す。なお、
1とR2および/またはR3とR4は任意に結合して環を
形成していてもよい。X1およびX2はそれぞれ独立にハ
ロゲン原子を示す。)
【0009】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳しく説明
する。本発明の上記一般式(1)で示されるアミノシラ
ン化合物におけるCpは、シクロペンタジエン骨格を有
する基を示し、アルキル基、アリール基、アラルキル
基、置換シリル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、
もしくはアラルキルオキシ基により置換されていてもよ
いシクロペンタジエニル基、インデニル基、フルオレニ
ル基などである。
【0010】具体的に例を挙げると例えばシクロぺンタ
ジエニル基、メチルシクロペンタジエニル基、ジメチル
シクロペンタジエニル基、トリメチルシクロペンタジエ
ニル基、テトラメチルシクロペンタジエニル基、エチル
シクロぺンタジエニル基、n−プロピルシクロペンタジ
エニル基、イソプロピルシクロペンタジエニル基、n−
ブチルシクロペンタジエニル基、sec−ブチルシクロ
ペンタジエニル基、tert−ブチルシクロぺンタジエ
ニル基、n−ペンチルシクロぺンタジエニル基、ネオペ
ンチルシクロぺンタジエニル基、n−ヘキシルシクロぺ
ンタジエニル基、n−オクチルシクロぺンタジエニル
基、フェニルシクロぺンタジエニル基、ナフチルシクロ
ぺンタジエニル基、トリメチルシリルシクロぺンタジエ
ニル基、トリエチルシリルシクロぺンタジエニル基、t
ert−ブチルジメチルシリルシクロぺンタジエニル
基、ジエチルシクロぺンタジエニル基、ジ−n−プロピ
ルシクロペンタジエニル基、ジイソプロピルシクロペン
タジエニル基、ジ−n−ブチルシクロペンタジエニル
基、ジ−sec−ブチルシクロペンタジエニル基、ジ−
tert−ブチルシクロぺンタジエニル基、ジ−n−ペ
ンチルシクロぺンタジエニル基、ジオペンチルシクロぺ
ンタジエニル基、ジ−n−ヘキシルシクロぺンタジエニ
ル基、ジ−n−オクチルシクロぺンタジエニル基、ジフ
ェニルシクロぺンタジエニル基、ジナフチルシクロぺン
タジエニル基、ジ−(トリメチルシリル)−シクロぺン
タジエニル基、ジ−(トリエチルシリル)−シクロぺン
タジエニル基、ジ−(tert−ブチルジメチルシリ
ル)−シクロぺンタジエニル基、トリエチルシクロぺン
タジエニル基、トリ−n−プロピルシクロペンタジエニ
ル基、トリイソプロピルシクロペンタジエニル基、トリ
−n−ブチルシクロペンタジエニル基、トリ−sec−
ブチルシクロペンタジエニル基、トリ−tert−ブチ
ルシクロぺンタジエニル基、トリ−n−ペンチルシクロ
ぺンタジエニル基、トリオペンチルシクロぺンタジエニ
ル基、トリ−n−ヘキシルシクロぺンタジエニル基、ト
リ−n−オクチルシクロぺンタジエニル基、トリ−(ト
リメチルシリル)−シクロぺンタジエニル基、トリ−
(トリエチルシリル)−シクロぺンタジエニル基、トリ
−(tert−ブチルジメチルシリル)−シクロぺンタ
ジエニル基、1−インデニル基、4,5,6,7−テト
ラヒドロ−1−インデニル基、9−フルオレニル基など
が挙げられる。
【0011】好ましくは、Cpは少なくとも一つの置換
基をその5員環に有するシクロペンタジエン骨格を有す
る基であり、さらに好ましくは、Cpは少なくとも二つ
の置換基をその5員環に有するシクロペンタジエン骨格
を有する基である。その場合の置換基として特に好まし
くはアルキル基または置換シリル基である。本発明に適
用する化合物のCpとして最も好ましくは、1,2,
3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル基、ジメチ
ルシクロペンタジエニル基、ジ−tert−ブチルシク
ロペンタジエニル基、ジイソプロピルシクロペンタジエ
ニル基、またはイソプロピル−tert−ブチルシクロ
ペンタジエニル基である。
【0012】なお、置換基Cpにおけるシクロペンタジ
エン骨格の置換基の位置や二重結合の位置の相違に由来
する複数の異性体が存在することもあるが、本発明にお
いてはこれら全ての異性体が含まれる。
【0013】一般式(1)におけるSiはケイ素原子
を、Nは窒素原子を示す。一般式(1)におけるR1
よびR2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、ア
ラルキル基、アリール基、または置換シリル基を示す。
【0014】R1またはR2におけるアルキル基として
は、炭素原子数1〜20のアルキル基が好ましく、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル
基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチ
ル基、n−ペンチル基、ネオペンチル基、イソペンチル
基、n−ヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、
n−ドデシル基、n−ペンタデシル基、n−エイコシル
基などが挙げられ、好ましくはメチル基、エチル基、イ
ソプロピル基、tert−ブチル基、またはイソペンチ
ル基である。
【0015】これらのアルキル基はいずれもフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子、メトキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ベン
ジルオキシ基などのアラルキルオキシ基、フェノキシ基
などのアリールオキシ基などで置換されていてもよい。
ハロゲン原子で置換された炭素原子数1〜20のアルキ
ル基としては、例えばフルオロメチル基、ジフルオロメ
チル基、トリフルオロメチル基、クロロメチル基、ジク
ロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、
ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、ヨードメチル
基、ジヨードメチル基、トリヨードメチル基、フルオロ
エチル基、ジフルオロエチル基、トリフルオロエチル
基、テトラフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル
基、クロロエチル基、ジクロロエチル基、トリクロロエ
チル基、テトラクロロエチル基、ペンタクロロエチル
基、ブロモエチル基、ジブロモエチル基、トリブロモエ
チル基、テトラブロモエチル基、ペンタブロモエチル
基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、
パーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パ
ーフルオロオクチル基、パーフルオロドデシル基、パー
フルオロペンタデシル基、パーフルオロエイコシル基、
パークロロプロピル基、パークロロブチル基、パークロ
ロペンチル基、パークロロヘキシル基、パークロロクチ
ル基、パークロロドデシル基、パークロロペンタデシル
基、パークロロエイコシル基、パーブロモプロピル基、
パーブロモブチル基、パーブロモペンチル基、パーブロ
モヘキシル基、パーブロモクチル基、パーブロモドデシ
ル基、パーブロモペンタデシル基、パーブロモエイコシ
ル基などが挙げられる。
【0016】一般式(1)の置換基R1またはR2におけ
るアラルキル基としては、炭素原子数7〜20のアラル
キル基が好ましく、例えばベンジル基、(2−メチルフ
ェニル)メチル基、(3−メチルフェニル)メチル基、
(4−メチルフェニル)メチル基、(2,3−ジメチル
フェニル)メチル基、(2,4−ジメチルフェニル)メ
チル基、(2,5−ジメチルフェニル)メチル基、
(2,6−ジメチルフェニル)メチル基、(3,4−ジ
メチルフェニル)メチル基、(4,6−ジメチルフェニ
ル)メチル基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メ
チル基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メチル
基、(2,3,6−トリメチルフェニル)メチル基、
(3,4,5−トリメチルフェニル)メチル基、(2,
4,6−トリメチルフェニル)メチル基、(2,3,
4,5−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,
4,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(2,3,
5,6−テトラメチルフェニル)メチル基、(ペンタメ
チルフェニル)メチル基、(エチルフェニル)メチル
基、(n−プロピルフェニル)メチル基、(イソプロピ
ルフェニル)メチル基、(n−ブチルフェニル)メチル
基、(sec−ブチルフェニル)メチル基、(tert
−ブチルフェニル)メチル基、(n−ペンチルフェニ
ル)メチル基、(ネオペンチルフェニル)メチル基、
(n−ヘキシルフェニル)メチル基、(n−オクチルフ
ェニル)メチル基、(n−デシルフェニル)メチル基、
(n−デシルフェニル)メチル基、(n−テトラデシル
フェニル)メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニ
ルメチル基などが挙げられ、好ましくはベンジル基であ
る。これらのアラルキル基はいずれもフッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メト
キシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ベンジルオキ
シ基などのアラルキルオキシ基、フェノキシ基などのア
リールオキシ基などで置換されていてもよい。
【0017】一般式(1)の置換基R1またはR2におけ
るアリール基としては、炭素原子数6〜20のアリール
基が好ましく、例えばフェニル基、2−トリル基、3−
トリル基、4−トリル基、2,3−キシリル基、2,4
−キシリル基、2,5−キシリル基、2,6−キシリル
基、3,4−キシリル基、3,5−キシリル基、2,
3,4−トリメチルフェニル基、2,3,5−トリメチ
ルフェニル基、2,3,6−トリメチルフェニル基、
2,4,6−トリメチルフェニル基、3,4,5−トリ
メチルフェニル基、2,3,4,5−テトラメチルフェ
ニル基、2,3,4,6−テトラメチルフェニル基、
2,3,5,6−テトラメチルフェニル基、ペンタメチ
ルフェニル基、エチルフェニル基、n−プロピルフェニ
ル基、イソプロピルフェニル基、n−ブチルフェニル
基、sec−ブチルフェニル基、tert−ブチルフェ
ニル基、n−ペンチルフェニル基、ネオペンチルフェニ
ル基、n−ヘキシルフェニル基、n−オクチルフェニル
基、n−デシルフェニル基、n−ドデシルフェニル基、
n−テトラデシルフェニル基、ナフチル基、アントラセ
ニル基などが挙げられ、好ましくはフェニル基である。
これらのアリール基はいずれもフッ素原子、塩素原子、
臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキシ
基、エトキシ基などのアルコキシ基、ベンジルオキシ基
などのアラルキルオキシ基、フェノキシ基などのアリー
ルオキシ基などで置換されていてもよい。
【0018】一般式(1)の置換基R1またはR2におけ
る置換シリル基とは炭化水素基で置換されたシリル基で
あって、炭素原子数1〜20の置換シリル基が好まし
い。ここで炭化水素基としては、例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル
基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチ
ル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシ
ル基などの炭素原子数1〜10のアルキル基、フェニル
基などのアリール基などが挙げられる。かかる炭素原子
数1〜20の置換シリル基としては、例えばメチルシリ
ル基、エチルシリル基、フェニルシリル基などの炭素原
子数1から20の1置換シリル基、ジメチルシリル基、
ジエチルシリル基、ジフェニルシリル基などの炭素原子
数2〜20の2置換シリル基、トリメチルシリル基、ト
リエチルシリル基、トリ−n−プロピルシリル基、トリ
イソプロピルシリル基、トリ−n−ブチルシリル基、ト
リ−sec−ブチルシリル基、トリ−tert−ブチル
シリル基、トリ−イソブチルシリル基、tert−ブチ
ル−ジメチルシリル基、トリ−n−ペンチルシリル基、
トリ−n−ヘキシルシリル基、トリシクロヘキシルシリ
ル基、トリフェニルシリル基などの炭素原子数3〜20
の3置換シリル基などが挙げられ、好ましくはトリメチ
ルシリル基、tert−ブチルジメチルシリル基、また
はトリフェニルシリル基である。これらの置換シリル基
はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原
子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基などの
アルコキシ基、ベンジルオキシ基などのアラルキルオキ
シ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基などで置換
されていてもよい。
【0019】一般式(1)の置換基R1とR2は任意に結
合して環を形成していてもよい。一般式(1)の置換基
1およびR2として好ましくは、それぞれ独立に、水素
原子、アルキル基、または置換シリル基である。本発明
に適用する化合物のR1およびR2として最も好ましく
は、R1またはR2の一方が水素原子であり、他方がアル
キル基または置換シリル基である。
【0020】一般式(1)におけるR3およびR4はそれ
ぞれ独立に、アルキル基、アラルキル基、アリール基、
置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、ま
たはアリールオキシ基を示す。
【0021】ここで、R3またはR4としてのアルキル
基、アラルキル基、アリール基、および置換シリル基
は、上述のR1またはR2におけるものと同様である。
【0022】一般式(1)の置換基R3またはR4におけ
るアルコキシ基としては、炭素原子数1〜20のアルコ
キシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、n
−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、
sec−ブトキシ基、tert−ブトキシ基、n−ペン
トキシ基、ネオペントキシ基、n−ヘキソキシ基、n−
オクトキシ基、n−ドデソキシ基、n−ペンタデソキシ
基、n−イコソキシ基などが挙げられ、好ましくはメト
キシ基、エトキシ基、またはtert−ブトキシ基であ
る。これらのアルコキシ基はいずれもフッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メト
キシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ベンジルオキ
シ基などのアラルキルオキシ基、フェノキシ基などのア
リールオキシ基などでで置換されていてもよい。
【0023】一般式(1)における置換基R3またはR4
におけるアラルキルオキシ基としては、炭素原子数7〜
20のアラルキルオキシ基が好ましく、例えばベンジル
オキシ基、(2−メチルフェニル)メトキシ基、(3−
メチルフェニル)メトキシ基、(4−メチルフェニル)
メトキシ基、(2,3−ジメチルフェニル)メトキシ
基、(2,4−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,
5−ジメチルフェニル)メトキシ基、(2,6−ジメチ
ルフェニル)メトキシ基、(3,4−ジメチルフェニ
ル)メトキシ基、(3,5−ジメチルフェニル)メトキ
シ基、(2,3,4−トリメチルフェニル)メトキシ
基、(2,3,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(2,3,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(2,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(2,4,6−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(3,4,5−トリメチルフェニル)メトキシ基、
(2,3,4,5−テトラメチルフェニル)メトキシ
基、(2,3,4,6−テトラメチルフェニル)メトキ
シ基、(2,3,5,6−テトラメチルフェニル)メト
キシ基、(ペンタメチルフェニル)メトキシ基、(エチ
ルフェニル)メトキシ基、(n−プロピルフェニル)メ
トキシ基、(イソプロピルフェニル)メトキシ基、(n
−ブチルフェニル)メトキシ基、(sec−ブチルフェ
ニル)メトキシ基、(tert−ブチルフェニル)メト
キシ基、(n−ヘキシルフェニル)メトキシ基、(n−
オクチルフェニル)メトキシ基、(n−デシルフェニ
ル)メトキシ基、(n−テトラデシルフェニル)メトキ
シ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基
などが挙げられ、好ましくはベンジルオキシ基である。
これらのアラルキルオキシ基はいずれもフッ素原子、塩
素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メ
トキシ基、エトキシ基などのアルコキシ基、ベンジルオ
キシ基などのアラルキルオキシ基、フェノキシ基などの
アリールオキシ基などで置換されていてもよい。
【0024】一般式(1)における置換基R3またはR4
におけるアリールオキシ基としては、例えばフェノキシ
基、2−メチルフェノキシ基、3−メチルフェノキシ
基、4−メチルフェノキシ基、2,3−ジメチルフェノ
キシ基、2,4−ジメチルフェノキシ基、2,5−ジメ
チルフェノキシ基、2,6−ジメチルフェノキシ基、
3,4−ジメチルフェノキシ基、3,5−ジメチルフェ
ノキシ基、2,3,4−トリメチルフェノキシ基、2,
3,5−トリメチルフェノキシ基、2,3,6−トリメ
チルフェノキシ基、2,4,5−トリメチルフェノキシ
基、2,4,6−トリメチルフェノキシ基、3,4,5
−トリメチルフェノキシ基、2,3,4,5−テトラメ
チルフェノキシ基、2,3,4,6−テトラメチルフェ
ノキシ基、2,3,5,6−テトラメチルフェノキシ
基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ基、
n−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキシ
基、n−ブチルフェノキシ基、sec−ブチルフェノキ
シ基、tert−ブチルフェノキシ基、n−ヘキシルフ
ェノキシ基、n−オクチルフェノキシ基、n−デシルフ
ェノキシ基、n−テトラデシルフェノキシ基、ナフトキ
シ基、アントラセノキシ基などの炭素数6〜20のアリ
ールオキシ基などが挙げられる。これらのアリールオキ
シ基はいずれもフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子などのハロゲン原子、メトキシ基、エトキシ基な
どのアルコキシ基、ベンジルオキシ基などのアラルキル
オキシ基、フェノキシ基などのアリールオキシ基などで
で置換されていてもよい。
【0025】置換基R3とR4は任意に結合して環を形成
していてもよい。置換基R3およびR4として好ましく
は、それぞれ独立に、アルキル基またはアリール基であ
る。
【0026】一般式(1)で示されるアミノシラン化合
物の具体例としては、例えば(1,2,3,4−テトラ
メチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミ
ノ)ジメチルシラン、(1,2,3,4−テトラメチル
シクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジメ
チルシラン、(1,2,3,4−テトラメチルシクロペ
ンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジメチルシラ
ン、(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエ
ニル)(tert−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラン、
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、(1,2,
3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)(N−ト
リメチルシリル−アミノ)ジフェニルシラン、(1,
2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)(t
ert−ブチルアミノ)メチルフェニルシラン、(1,
2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)(シ
クロヘキシルアミノ)メチルフェニルシラン、(1,
2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)(フ
ェニルアミノ)メチルフェニルシラン、(1,2,3,
4−テトラメチルシクロペンタジエニル)(N−トリメ
チルシリル−アミノ)メチルフェニルシラン、
【0027】(シクロペンタジエニル)(tert−ブ
チルアミノ)ジメチルシラン、(シクロペンタジエニ
ル)(シクロヘキシルアミノ)ジメチルシラン、(シク
ロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラ
ン、(シクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル
−アミノ)ジメチルシラン、(シクロペンタジエニル)
(tert−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、(シク
ロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニ
ルシラン、(シクロペンタジエニル)(フェニルアミ
ノ)ジフェニルシラン、(シクロペンタジエニル)(N
−トリメチルシリル−アミノ)ジフェニルシラン、(シ
クロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチ
ルフェニルシラン、(シクロペンタジエニル)(シクロ
ヘキシルアミノ)メチルフェニルシラン、(シクロペン
タジエニル)(フェニルアミノ)メチルフェニルシラ
ン、(シクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル
−アミノ)メチルフェニルシラン、(メチルシクロペン
タジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラ
ン、(メチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシル
アミノ)ジメチルシラン、(メチルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、(メチルシク
ロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)
ジメチルシラン、(メチルシクロペンタジエニル)(t
ert−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、(メチルシ
クロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェ
ニルシラン、(メチルシクロペンタジエニル)(フェニ
ルアミノ)ジフェニルシラン、(メチルシクロペンタジ
エニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジフェニル
シラン、(メチルシクロペンタジエニル)(tert−
ブチルアミノ)メチルフェニルシラン、(メチルシクロ
ペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフェ
ニルシラン、(メチルシクロペンタジエニル)(フェニ
ルアミノ)メチルフェニルシラン、(メチルシクロペン
タジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)メチル
フェニルシラン、
【0028】(イソプロピルシクロペンタジエニル)
(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、(イソプ
ロピルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミ
ノ)ジメチルシラン、(イソプロピルシクロペンタジエ
ニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、(イソプロ
ピルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−
アミノ)ジメチルシラン、(イソプロピルシクロペンタ
ジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジフェニルシラ
ン、(イソプロピルシクロペンタジエニル)(シクロヘ
キシルアミノ)ジフェニルシラン、(イソプロピルシク
ロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジフェニルシラ
ン、(イソプロピルシクロペンタジエニル)(N−トリ
メチルシリル−アミノ)ジフェニルシラン、(イソプロ
ピルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミ
ノ)メチルフェニルシラン、(イソプロピルシクロペン
タジエニル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフェニル
シラン、(イソプロピルシクロペンタジエニル)(フェ
ニルアミノ)メチルフェニルシラン、(イソプロピルシ
クロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミ
ノ)メチルフェニルシラン、(tert−ブチルシクロ
ペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチル
シラン、(tert−ブチルシクロペンタジエニル)
(シクロヘキシルアミノ)ジメチルシラン、(tert
−ブチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジ
メチルシラン、(tert−ブチルシクロペンタジエニ
ル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジメチルシラ
ン、(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(te
rt−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、(tert−
ブチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミ
ノ)ジフェニルシラン、(tert−ブチルシクロペン
タジエニル)(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、
(tert−ブチルシクロペンタジエニル)(N−トリ
メチルシリル−アミノ)ジフェニルシラン、(tert
−ブチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルア
ミノ)メチルフェニルシラン、(tert−ブチルシク
ロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフ
ェニルシラン、(tert−ブチルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)メチルフェニルシラン、(te
rt−ブチルシクロペンタジエニル)(N−トリメチル
シリル−アミノ)メチルフェニルシラン、
【0029】(ノルマルブチルシクロペンタジエニル)
(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、(ノルマ
ルブチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミ
ノ)ジメチルシラン、(ノルマルブチルシクロペンタジ
エニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、(ノルマ
ルブチルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリ
ル−アミノ)ジメチルシラン、(ノルマルブチルシクロ
ペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジフェニ
ルシラン、(ノルマルブチルシクロペンタジエニル)
(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラン、(ノルマ
ルブチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジ
フェニルシラン、( ノルマルブチルシクロペンタジエ
ニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジフェニルシ
ラン、(ノルマルブチルシクロペンタジエニル)(te
rt−ブチルアミノ)メチルフェニルシラン、(ノルマ
ルブチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミ
ノ)メチルフェニルシラン、(ノルマルブチルシクロペ
ンタジエニル)(フェニルアミノ)メチルフェニルシラ
ン、(ノルマルブチルシクロペンタジエニル)(N−ト
リメチルシリル−アミノ)メチルフェニルシラン、(イ
ソブチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルア
ミノ)ジメチルシラン、(イソブチルシクロペンタジエ
ニル)(シクロヘキシルアミノ)ジメチルシラン、(イ
ソブチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジ
メチルシラン、(イソブチルシクロペンタジエニル)
(N−トリメチルシリル−アミノ)ジメチルシラン、
(イソブチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチ
ルアミノ)ジフェニルシラン、(イソブチルシクロペン
タジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラ
ン、(イソブチルシクロペンタジエニル)(フェニルア
ミノ)ジフェニルシラン、(イソブチルシクロペンタジ
エニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジフェニル
シラン、(イソブチルシクロペンタジエニル)(ter
t−ブチルアミノ)メチルフェニルシラン、(イソブチ
ルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)メ
チルフェニルシラン、(イソブチルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)メチルフェニルシラン、(イソ
ブチルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル
−アミノ)メチルフェニルシラン、
【0030】(ノルマルペンチルシクロペンタジエニ
ル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、(ノ
ルマルペンチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシ
ルアミノ)ジメチルシラン、(ノルマルペンチルシクロ
ペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、
(ノルマルペンチルシクロペンタジエニル)(N−トリ
メチルシリル−アミノ)ジメチルシラン、(ノルマルペ
ンチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミ
ノ)ジフェニルシラン、(ノルマルペンチルシクロペン
タジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラ
ン、(ノルマルペンチルシクロペンタジエニル)(フェ
ニルアミノ)ジフェニルシラン、(ノルマルペンチルシ
クロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミ
ノ)ジフェニルシラン、(ノルマルペンチルシクロペン
タジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチルフェニ
ルシラン、(ノルマルペンチルシクロペンタジエニル)
(シクロヘキシルアミノ)メチルフェニルシラン、(ノ
ルマルペンチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミ
ノ)メチルフェニルシラン、(ノルマルペンチルシクロ
ペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)メ
チルフェニルシラン、(ネオペンチルシクロペンタジエ
ニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、
( ネオペンチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキ
シルアミノ)ジメチルシラン、(ネオペンチルシクロペ
ンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、
( ネオペンチルシクロペンタジエニル)(N−トリメ
チルシリル−アミノ)ジメチルシラン、(ネオペンチル
シクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジ
フェニルシラン、(ネオペンチルシクロペンタジエニ
ル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラン、(ネ
オペンチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミノ)
ジフェニルシラン、( ネオペンチルシクロペンタジエ
ニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジフェニルシ
ラン、(ネオペンチルシクロペンタジエニル)(ter
t−ブチルアミノ)メチルフェニルシラン、(ネオペン
チルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)
メチルフェニルシラン、(ネオペンチルシクロペンタジ
エニル)(フェニルアミノ)メチルフェニルシラン、
(ネオペンチルシクロペンタジエニル)(N−トリメチ
ルシリル−アミノ)メチルフェニルシラン、
【0031】(ノルマルヘキシルシクロペンタジエニ
ル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、(
ノルマルヘキシルシクロペンタジエニル)(シクロヘキ
シルアミノ)ジメチルシラン、(ノルマルヘキシルシク
ロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラ
ン、(ノルマルヘキシルシクロペンタジエニル)(N−
トリメチルシリル−アミノ)ジメチルシラン、(ノルマ
ルヘキシルシクロペンタジエニル)(tert−ブチル
アミノ)ジフェニルシラン、(ノルマルヘキシルシクロ
ペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニル
シラン、(ノルマルヘキシルシクロペンタジエニル)
(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、(ノルマルヘキ
シルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−
アミノ)ジフェニルシラン、(ノルマルヘキシルシクロ
ペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチルフ
ェニルシラン、(ノルマルヘキシルシクロペンタジエニ
ル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフェニルシラン、
(ノルマルヘキシルシクロペンタジエニル)(フェニル
アミノ)メチルフェニルシラン、(ノルマルヘキシルシ
クロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミ
ノ)メチルフェニルシラン、(ノルマルオクチルシクロ
ペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチル
シラン、(ノルマルオクチルシクロペンタジエニル)
(シクロヘキシルアミノ)ジメチルシラン、(ノルマル
オクチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジ
メチルシラン、(ノルマルオクチルシクロペンタジエニ
ル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジメチルシラ
ン、(ノルマルオクチルシクロペンタジエニル)(te
rt−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、(ノルマルオ
クチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミ
ノ)ジフェニルシラン、(ノルマルオクチルシクロペン
タジエニル)(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、
(ノルマルオクチルシクロペンタジエニル)(N−トリ
メチルシリル−アミノ)ジフェニルシラン、(ノルマル
オクチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルア
ミノ)メチルフェニルシラン、(ノルマルオクチルシク
ロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフ
ェニルシラン、(ノルマルオクチルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)メチルフェニルシラン、(ノル
マルオクチルシクロペンタジエニル)(N−トリメチル
シリル−アミノ)メチルフェニルシラン、
【0032】(トリメチルシリルシクロペンタジエニ
ル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、(ト
リメチルシリルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシ
ルアミノ)ジメチルシラン、(トリメチルシリルシクロ
ペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、
(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(N−トリ
メチルシリル−アミノ)ジメチルシラン、(トリメチル
シリルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミ
ノ)ジフェニルシラン、(トリメチルシリルシクロペン
タジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラ
ン、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)(フェ
ニルアミノ)ジフェニルシラン、( トリメチルシリル
シクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミ
ノ)ジフェニルシラン、(トリメチルシリルシクロペン
タジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチルフェニ
ルシラン、(トリメチルシリルシクロペンタジエニル)
(シクロヘキシルアミノ)メチルフェニルシラン、(ト
リメチルシリルシクロペンタジエニル)(フェニルアミ
ノ)メチルフェニルシラン、(トリメチルシリルシクロ
ペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)メ
チルフェニルシラン、(tert−ブチルジメチルシリ
ルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)
ジメチルシラン、(tert−ブチルジメチルシリルシ
クロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジメチ
ルシラン、(tert−ブチルジメチルシリルシクロペ
ンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、
(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニ
ル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジメチルシラ
ン、(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジ
エニル)(tert−ブチルアミノ)ジフェニルシラ
ン、(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジ
エニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラン、
(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、(tert
−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル)(N−
トリメチルシリル−アミノ)ジフェニルシラン、(te
rt−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル)
(tert−ブチルアミノ)メチルフェニルシラン、
(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニ
ル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフェニルシラン、
(tert−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)メチルフェニルシラン、(te
rt−ブチルジメチルシリルシクロペンタジエニル)
(N−トリメチルシリル−アミノ)メチルフェニルシラ
ン、
【0033】(1,3−ジメチルシクロペンタジエニ
ル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、
(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)(シクロヘ
キシルアミノ)ジメチルシラン、(1,3−ジメチルシ
クロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジメチルシラ
ン、(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)(N−
トリメチルシリル−アミノ)ジメチルシラン、(1,3
−ジメチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチル
アミノ)ジフェニルシラン、(1,3−ジメチルシクロ
ペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニル
シラン、(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)
(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、( 1,3−ジ
メチルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル
−アミノ)ジフェニルシラン、(1,3−ジメチルシク
ロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチル
フェニルシラン、(1,3−ジメチルシクロペンタジエ
ニル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフェニルシラ
ン、(1,3−ジメチルシクロペンタジエニル)(フェ
ニルアミノ)メチルフェニルシラン、(1,3−ジメチ
ルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−ア
ミノ)メチルフェニルシラン、(1,3−ジイソプロピ
ルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)
ジメチルシラン、(1,3− ジイソプロピルシクロペ
ンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジメチルシラ
ン、(1,3−ジイソプロピルシクロペンタジエニル)
(フェニルアミノ)ジメチルシラン、(1,3−ジイソ
プロピルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシリ
ル−アミノ)ジメチルシラン、(1,3−ジイソプロピ
ルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)
ジフェニルシラン、(1,3−ジイソプロピルシクロペ
ンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシ
ラン、(1,3−ジイソプロピルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、(1,3−
ジイソプロピルシクロペンタジエニル)(N−トリメチ
ルシリル−アミノ)ジフェニルシラン、(1,3−ジイ
ソプロピルシクロペンタジエニル)(tert−ブチル
アミノ)メチルフェニルシラン、(1,3−ジイソプロ
ピルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)
メチルフェニルシラン、(1,3−ジイソプロピルシク
ロペンタジエニル)(フェニルアミノ)メチルフェニル
シラン、(1,3−ジイソプロピルシクロペンタジエニ
ル)(N−トリメチルシリル−アミノ)メチルフェニル
シラン、
【0034】(1,3−ジ−tert−ブチルシクロペ
ンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシ
ラン、(1,3−ジ−tert−ブチルシクロペンタジ
エニル)(シクロヘキシルアミノ)ジメチルシラン、
(1,3−ジ−tert−ブチルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)ジメチルシラン、(1,3−ジ
−tert−ブチルシクロペンタジエニル)(N−トリ
メチルシリル−アミノ)ジメチルシラン、(1,3−ジ
−tert−ブチルシクロペンタジエニル)(tert
−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、(1,3−ジ−t
ert−ブチルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシ
ルアミノ)ジフェニルシラン、(1,3−ジ−tert
−ブチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミノ)ジ
フェニルシラン、(1,3−ジ−tert−ブチルシク
ロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)
ジフェニルシラン、(1,3−ジ−tert−ブチルシ
クロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチ
ルフェニルシラン、(1,3−ジ−tert−ブチルシ
クロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)メチル
フェニルシラン、(1,3−ジ−tert−ブチルシク
ロペンタジエニル)(フェニルアミノ)メチルフェニル
シラン、(1,3−ジ−tert−ブチルシクロペンタ
ジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)メチルフ
ェニルシラン、(1−tert−ブチル−3−イソプロ
ピルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミ
ノ)ジメチルシラン、(1−tert−ブチル−3−イ
ソプロピルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルア
ミノ)ジメチルシラン、(1−tert−ブチル−3−
イソプロピルシクロペンタジエニル)(フェニルアミ
ノ)ジメチルシラン、(1−tert−ブチル−3−イ
ソプロピルシクロペンタジエニル)(N−トリメチルシ
リル−アミノ)ジメチルシラン、(1−tert−ブチ
ル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル)(ter
t−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、(1−tert
−ブチル−3−イソプロピルシクロペンタジエニル)
(シクロヘキシルアミノ)ジフェニルシラン、(1−t
ert−ブチル−3−イソプロピルシクロペンタジエニ
ル)(フェニルアミノ)ジフェニルシラン、(1−te
rt−ブチル−3−イソプロピルシクロペンタジエニ
ル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジフェニルシラ
ン、(1−tert−ブチル−3−イソプロピルシクロ
ペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチルフ
ェニルシラン、(1−tert−ブチル−3−イソプロ
ピルシクロペンタジエニル)(シクロヘキシルアミノ)
メチルフェニルシラン、(1−tert−ブチル−3−
イソプロピルシクロペンタジエニル)(フェニルアミ
ノ)メチルフェニルシラン、(1−tert−ブチル−
3−イソプロピルシクロペンタジエニル)(N−トリメ
チルシリル−アミノ)メチルフェニルシラン、
【0035】(1,2,4−トリメチルシクロペンタジ
エニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシラン、
(1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル)(シ
クロヘキシルアミノ)ジメチルシラン、(1,2,4−
トリメチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミノ)
ジメチルシラン、(1,2,4−トリメチルシクロペン
タジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)ジメチ
ルシラン、(1,2,4−トリメチルシクロペンタジエ
ニル)(tert−ブチルアミノ)ジフェニルシラン、
(1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル)(シ
クロヘキシルアミノ)ジフェニルシラン、(1,2,4
−トリメチルシクロペンタジエニル)(フェニルアミ
ノ)ジフェニルシラン、(1,2,4−トリメチルシク
ロペンタジエニル)(N−トリメチルシリル−アミノ)
ジフェニルシラン、(1,2,4−トリメチルシクロペ
ンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)メチルフェ
ニルシラン、(1,2,4−トリメチルシクロペンタジ
エニル)(シクロヘキシルアミノ)メチルフェニルシラ
ン、(1,2,4−トリメチルシクロペンタジエニル)
(フェニルアミノ)メチルフェニルシラン、(1,2,
4−トリメチルシクロペンタジエニル)(N−トリメチ
ルシリル−アミノ)メチルフェニルシランなどが挙げら
れる。
【0036】なお、上述の具体的な化合物のジメチルシ
ラン、ジフェニルシランまたはメチルフェニルシラン
を、ジエチルシラン、またはジメトキシシランに変更し
た化合物も同様に例示できる。また、上述の具体的な化
合物の(シクロペンタジエニル)を、(エチルシクロペ
ンタジエニル)、(n−プロピルシクロペンタジエニ
ル)、(sec−ブチルシクロペンタジエニル)、(フ
ェニルシクロペンタジエニル)、(ナフチルシクロペン
タジエニル)、(トリエチルシリルシクロペンタジエニ
ル)、(ジエチルシクロペンタジエニル)、(ジ−n−
プロピルシクロペンタジエニル)、(ジ−n−ブチルシ
クロペンタジエニル)、(ジ−sec−ブチルシクロペ
ンタジエニル)、(ジ−n−ペンチルシクロペンタジエ
ニル)、(ジネオペンチルシクロペンタジエニル)、
(ジ−n−ヘキシルシクロペンタジエニル)、(ジ−n
−オクチルシクロペンタジエニル)、ジフェニルシクロ
ペンタジエニル)、(ジナフチルシクロペンタジエニ
ル)、(ジ−(トリメチルシリル)−シクロペンタジエ
ニル)、(ジ−(トリエチルシリル)−シクロペンタジ
エニル)、(ジ−(tert−ブチルジメチルシリル)
−シクロペンタジエニル)、(トリエチルシクロペンタ
ジエニル)、(トリ−n−プロピルシクロペンタジエニ
ル)、(トリイソプロピルシクロペンタジエニル)、
(トリ−n−ブチルシクロペンタジエニル)、(トリ−
sec−ブチルシクロペンタジエニル)、(トリ−te
rt−ブチルシクロペンタジエニル)、(トリ−n−ペ
ンチルシクロペンタジエニル)、(トリネオペンチルシ
クロペンタジエニル)、(トリ−n−ヘキシルシクロペ
ンタジエニル)、(トリ−n−オクチルシクロペンタジ
エニル)、トリ−(トリメチルシリル)−シクロペンタ
ジエニル)、(トリ−(トリエチルシリル)−シクロペ
ンタジエニル)、(トリ−(tert−ブチルジメチル
シリル)−シクロペンタジエニル)、(インデニル)、
または(フルオレニル)に変更した化合物も同様に例示
できる。
【0037】本発明の上記一般式(1)で示されるアミ
ノシラン化合物の製造方法においては、まず下記工程
(A)を実施する。 工程(A):シクロペンタジエン骨格を有する化合物と
強塩基とを反応させる工程。
【0038】工程(A)で使用するシクロペンタジエン
骨格を有する化合物は、強塩基との反応の後、アニオン
化され、その後の反応によりシクロペンタジエン骨格を
有する基(Cp)となる化合物であり、例えば一般式
Cp−H(式中、Cpはシクロペンタジエン骨格を有す
る基を示し、Hは水素原子を示す。)で示される化合物
である。
【0039】具体例としては、シクロぺンタジエン、メ
チルシクロペンタジエン、ジメチルシクロペンタジエ
ン、トリメチルシクロペンタジエン、テトラメチルシク
ロペンタジエン、エチルシクロぺンタジエン、n−プロ
ピルシクロペンタジエン、イソプロピルシクロペンタジ
エン、n−ブチルシクロペンタジエン、sec−ブチル
シクロペンタジエン、tert−ブチルシクロぺンタジ
エン、n−ペンチルシクロぺンタジエン、ネオペンチル
シクロぺンタジエン、n−ヘキシルシクロぺンタジエ
ン、n−オクチルシクロぺンタジエン、フェニルシクロ
ぺンタジエン、ナフチルシクロぺンタジエン、トリメチ
ルシリルシクロぺンタジエン、トリエチルシリルシクロ
ぺンタジエン、tert−ブチルジメチルシリルシクロ
ぺンタジエン、インデン、4,5,6,7−テトラヒド
ロインデン、フルオレンなどが挙げられ、好ましくはテ
トラメチルシクロペンタジエン、ジメチルシクロペンタ
ジエン、ジ−tert−ブチルシクロペンタジエン、ジ
イソプロピルシクロペンタジエン、またはイソプロピル
−tert−ブチルシクロペンタジエンである。
【0040】中でも本発明は脂肪族溶媒中で実施する際
に体積が極めて増大してしまう、アルキル基や置換シリ
ル基などのいくつかの置換基を有するシクロペンタジエ
ン化合物を用いる際に有効であり、例えばメチルシクロ
ペンタジエン、tert−ブチルシクロペンタジエン、
ジメチルシクロペンタジエン、ジ−tert−ブチルシ
クロペンタジエンやテトラメチルシクロペンタジエンあ
るいは1,2,3,4,5−ペンタメチルシクロペンタ
ジエンなどを出発とする場合にとりわけ有効である。
【0041】工程(A)におけるシクロペンタジエン骨
格を有する化合物の使用量は、次の工程(B)で使用す
る一般式(2)で示されるシラン化合物に対して通常
1.00モル倍以上であり、より好ましくは1.00〜
1.50モルである。
【0042】工程(A)で使用する強塩基はシクロペン
タジエン骨格を有する化合物をアニオン化することので
きるものであり、好ましくは有機アルカリ金属化合物、
アルカリ金属の水素化物または有機マグネシウム化合物
である。
【0043】有機アルカリ金属化合物としては、例えば
メチルリチウム、エチルリチウム、n−ブチルリチウ
ム、sec−ブチルリチウム、tert−ブチルリチウ
ム、リチウムトリメチルシリルアセチリド、リチウムア
セチリド、トリメチルシリルメチルリチウム、ビニルリ
チウム、フェニルリチウム、アリルリチウムなどの有機
リチウム化合物や、前記化合物名のリチウムをナトリウ
ムに変更した有機ナトリウム化合物、カリウムに変更し
た有機カリウム化合物といった有機アルカリ金属化合物
などが挙げられる。好ましくは有機リチウム化合物であ
り、さらに好ましくはアルキルリチウムである。
【0044】アルカリ金属の水素化物としては、例えば
水素化ナトリウム、水素化カリウムなどが挙げられ、有
機マグネシウム化合物としては、イソプロピルマグネシ
ウムクロリドなどが挙げられるが、工程(A)で使用す
る強塩基として好ましくは、有機アルカリ金属化合物で
ある。
【0045】工程(A)で使用する強塩基の使用量は、
シクロペンタジエン骨格を有する化合物に対して通常
0.5〜5モル倍の範囲で使用される。強塩基の使用量
がシクロペンタジエン骨格を有する化合物より極端に少
ない(例えば0.5モル倍未満)と、シクロペンタジエ
ン骨格を有する化合物より生成するアニオンの生成割合
が減少し、その結果として次工程でのシラン化合物との
反応収率が低下することがあり、また強塩基の使用量が
(例えば5モル倍より)多いとシクロペンタジエン骨格
を有する化合物より生成するアニオンは多量に生成する
ものの、系内に強塩基が残存しているので、次の工程
(B)でシラン化合物と反応しその結果として副生物が
増加してしまうことがあるので、強塩基の使用量として
好ましくはシクロペンタジエン骨格を有する化合物に対
し0.7〜1.5モル倍であり、より好ましくは0.8
〜1.3モル倍である。
【0046】一般的にブチルリチウムなどの有機アルカ
リ金属化合物はヘキサンやトルエンなどの脂肪族もしく
は芳香族炭化水素溶媒に希釈されて市販されている場合
が少なくないので、有機アルカリ金属化合物の溶媒とし
ては脂肪族もしくは芳香族炭化水素溶媒が好ましい。
【0047】本発明の工程(A)においては、エーテル
系溶媒が反応成績や生成するシクロペンタジエン骨格を
有する化合物の塩化合物の系内でのスラリー性状を向上
させる上でより好ましく使用される。さらにはエーテル
系溶媒を使用すると、比較的高温においても前記塩化合
物の安定性や生成効率が増すので、工程(A)の反応を
比較的高温で実施する際に有利である。そこで、シクロ
ペンタジエン骨格を有する化合物の溶媒としてはエーテ
ル系溶媒が好ましく使用される。エーテル系溶媒として
は、例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチル
エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル
などであり、この中ではテトラヒドロフランが好ましく
使用される。
【0048】また、工程(A)において、エーテル系溶
媒と他の溶媒とを用いる場合、総溶媒量に占めるエーテ
ル系溶媒の使用量が50容積%以上であることがさらに
好ましい。
【0049】本発明における工程(A)の反応温度は、
工業的に実施する際に特殊な装置上の制約の少ない−2
0℃より高い温度にて実施することが好ましく、とりわ
け−20〜50℃の温度範囲で実施することが好まし
く、さらに好ましくは−20〜30℃である。
【0050】工程(A)の反応は比較的低温で反応を開
始し、のちに昇温して反応を完結させる方法が好ましい
が、本発明の工程(A)においてはとりわけ効率よく反
応が進行するので、各試剤を−20〜10℃で接触させ
た後に即座に昇温をせずに、所定時間保温・攪拌を続
け、その後10℃以上の温度に昇温する方法が、副生物
の生成を抑制して効率よく次の反応へ進むことができる
ので有効である。
【0051】本発明の一般式(1)で示されるアミノシ
ラン化合物の製造方法においては、上記工程(A)を実
施した後に、精製操作をすることなく下記工程(B)を
実施する。 工程(B):工程(A)で得られた反応物と下記一般式
(2)で示されるシラン化合物とを反応させる工程。 (式中、Siはケイ素原子を示し、R3およびR4はそれ
ぞれ独立に、アルキル基、アラルキル基、アリール基、
置換シリル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、ま
たはアリールオキシ基を示す。なお、R3とR4は任意に
結合して環を形成していてもよい。X1およびX2はそれ
ぞれ独立にハロゲン原子を示す。)
【0052】本発明においては、上記工程(A)を実施
した後に、精製操作をすることなく上記工程(B)を実
施するが、減圧や加熱などによる濃縮などの操作を実施
することもある。
【0053】上記一般式(2)で示されるシラン化合物
において、Siはケイ素原子を示す。また上記一般式
(2)におけるR3およびR4はそれぞれ独立に、アルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アル
コキシ基、アラルキルオキシ基、またはアリールオキシ
基を示す。ここでR3およびR4は、既に一般式(1)の
置換基について述べたものと同様である。
【0054】上記一般式(2)におけるX1およびX2
それぞれ独立にハロゲン原子を示す。ハロゲン原子の具
体例としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子が例示され、中でも塩素原子または臭素原子が好
ましく、より好ましくは塩素原子である。
【0055】上記一般式(2)で示されるシラン化合物
の具体例としては、ジクロロジメチルシラン、ジクロロ
ジフェニルシラン、ジクロロジエチルシラン、ジクロロ
ジ−n−プロピルシラン、ジクロロジメトキシシラン、
ジアリルジクロロシラン、ジクロロジビニルシラン、ジ
クロロメチルビニルシラン、ジクロロジベンジルシラ
ン、ジクロロクロロメチルメチルシラン、ジブロモジメ
チルシラン、ジヨードジメチルシランなどが例示され
る。
【0056】この工程(B)においては、前の工程
(A)で得られた反応物を一般式(2)で示されるシラ
ン化合物中に攪拌しつつ滴下してもよいし、あるいは前
の工程(A)で得られた反応物中に一般式(2)で示さ
れるシラン化合物を滴下してもよい。
【0057】反応は一般的に不活性な溶媒中にて実施さ
れる。より具体的にはベンゼンやトルエン、キシレンや
メシチレンなどの芳香族炭化水素溶媒やペンタンやヘキ
サンやヘプタンなどの脂肪族炭化水素溶媒あるいはテト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイ
ソプロピルエーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジイソ
ブチルエーテルなどのエーテル系溶媒の存在下にて一般
的に実施される。
【0058】本発明の工程(B)においては、工程
(A)で得られた反応物の溶媒は、通常、工程(A)で
使用した各試剤の溶媒の混合物であり、一方、上記一般
式(2)で示されるシラン化合物の溶媒は特に制限され
ることはないが、エーテル系溶媒、脂肪族溶媒、または
芳香族溶媒が好ましく使用される。工程(A)でエーテ
ル系溶媒と芳香族または脂肪族炭化水素溶媒との混合溶
媒系を使用し、工程(B)で使用するシラン化合物の溶
媒としてエーテル系溶媒を使用する場合、反応成績は混
合溶媒系の各溶媒の比率に依存する場合もあり、使用す
る溶媒全体に占めるエーテル系溶媒の比率が70容積%
以上であることが好ましい。さらに好ましくはエーテル
系溶媒の比率が80〜99容積%である。エーテル系溶
媒の比率が高いほど反応速度が向上する傾向にあり、転
化率が向上する事もある。さらにはスラリー性状が良好
となって、攪拌性や容積効率、操作性に優れ、好まし
い。
【0059】本発明における工程(B)の反応温度は、
工業的に実施する際に装置上の制約などが比較的少ない
−20℃以上が好ましく、−20〜120℃の範囲がよ
り好ましく、さらに好ましくは−10〜100℃であ
る。工程(A)でエーテル系溶媒を使用した場合、工程
(A)で生成したシクロペンタジエン骨格を有する化合
物の塩化合物の安定性や反応性が特に優れていることか
ら、その場合の本工程の反応温度としては0〜50℃に
てより好ましく実施される。
【0060】本発明の一般式(1)で示されるアミノシ
ラン化合物の製造方法においては、上記の工程(A)お
よび(B)を実施した後に、精製操作をすることなく下
記工程(C)を実施する。 工程(C):工程(B)で得られた反応物と下記一般式
(3)で示されるアミン化合物もしくは下記一般式
(4)で示されるアルカリ金属アミド化合物とを反応さ
せる工程。 (一般式(3)または(4)それぞれにおいて、Nは窒
素原子を、Hは水素原子を、Mはアルカリ金属原子を示
す。R1およびR2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキ
ル基、アラルキル基、アリール基、または置換シリル基
を示す。なお、R 1とR2は任意に結合して環を形成して
いてもよい。)
【0061】本発明においては、上記工程(A)および
(B)を実施した後に、精製操作をすることなく上記工
程(C)を実施するが、減圧や加熱などによる濃縮など
の操作を実施することもある。
【0062】一般式(3)で示されるアミン化合物にお
いて、Nは窒素原子を、Hは水素原子を示す。R1およ
びR2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラ
ルキル基、アリール基、または置換シリル基を示す。こ
こでR1およびR2は、既に一般式(1)の置換基につい
て述べたものと同様である。
【0063】一般式(3)で示されるアミン化合物の具
体例を挙げると、例えばメチルアミン、エチルアミン、
n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチル
アミン、tert−ブチルアミン、シクロヘキシルアミ
ン、n−オクチルアミン、n−デシルアミン、アニリ
ン、エチレンジアミンなどの第1級アミン化合物;ジメ
チルアミン、ジエチルアミン、ジ−n−プロピルアミ
ン、ジイソプロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジ
−tert−ブチルアミン、ジ−n−オクチルアミン、
ジ−n−デシルアミン、ピロリジン、ヘキサメチルジシ
ラザン、ジフェニルアミンなどの第2級アミン化合物が
好ましく使用される。本発明に適用するアミン化合物と
してさらに好ましくは、第1級アミン化合物である。
【0064】一般式(4)で示されるアルカリ金属アミ
ド化合物において、Mはアルカリ金属原子を示し、R1
およびR2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、
アラルキル基、アリール基、または置換シリル基を示
す。ここでR1およびR2は、既に一般式(1)の置換基
について述べたものと同様である。
【0065】一般式(4)のMとして、具体的にはリチ
ウム、ナトリウム、カリウムが挙げられる。なお、一般
式(4)で示されるアルカリ金属アミド化合物は、工程
(C)を実施する前に、一般式(3)で示されるアミン
化合物と有機アルカリ金属化合物もしくはアルカリ金属
の水素化物との予備混合により調製されたものであって
もよい。
【0066】工程(C)で使用する一般式(3)で示さ
れるアミン化合物の使用量は、前の工程(B)で使用し
た一般式(2)で示されるシラン化合物に対し、通常
1.0当量以上使用されるが、好ましくは1.5当量以
上である。なお、かかるシラン化合物とアミン化合物と
の反応では、反応系内にアンモニウム塩化合物が副生す
る事が観察されるので、一般式(3)で示されるアミン
化合物以外にトリエチルアミンなどの3級アミンの共存
下に反応を実施する事も好ましくされる。より好ましい
一般式(3)で示されるアミン化合物の使用量として
は、アンモニウム塩化合物の副生による消耗を考慮する
と、前工程にて使用したシラン化合物に対して2当量以
上10当量以下使用することがより好ましい。
【0067】工程(C)で使用する一般式(4)で示さ
れるアルカリ金属アミド化合物の使用量は、前の工程
(B)で使用した一般式(2)で示されるシラン化合物
に対し、通常0.8当量以上使用されるが、好ましくは
1.0当量以上である。本反応は一般式(3)で示すア
ミン化合物を使用する場合と比較すると、反応は速やか
に進行するが、使用量が少ないと前工程で生成したシラ
ン化合物との反応が十分に進行せずにその結果として収
率が低下するので、また使用量が大過剰であると残存し
たアルカリ金属アミド化合物を除去するための後処理操
作が繁雑になるので、アルカリ金属アミド化合物の使用
量としては1.1当量以上3当量以下がより好ましい。
【0068】反応は一般的に不活性な溶媒中にて実施さ
れる。一般的にはテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
エチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエ
ーテルなどのエーテル系溶媒の存在下にて実施される
が、工程(A)および(B)から途中で精製操作をする
ことなく、かつ溶媒置換などをできるだけ少なくしてこ
の反応を実施するという観点から、工程(B)で得られ
た反応物の溶媒は通常、工程(A)および(B)で使用
した各試剤の溶媒の混合物であり、一方、上記一般式
(3)で示されるアミン化合物もしくは上記一般式
(4)で示されるアルカリ金属アミド化合物の溶媒は、
特に制限されることはないが、例えばテトラヒドロフラ
ン、ジオキサン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、ジ−n−ブチルエーテル、ジイソブチルエーテ
ルなどのエーテル系溶媒、トルエンなどの芳香族炭化水
素溶媒、またはヘキサンなどの脂肪族炭化水素溶媒が好
ましく使用される。さらに好ましい溶媒比率などは工程
(B)における記述と同様である。
【0069】本発明における工程(C)の反応温度につ
いては前述の工程(B)と同様に−20℃以上が好まし
く、−20〜120℃の範囲で実施する事がより好まし
く、さらに好ましくは−10〜100℃である。特に工
程(B)で得られた反応物と一般式(3)で示されるア
ミン化合物との反応は一般式(4)で示されるアルカリ
金属アミド化合物を使用する場合と比較して、反応収率
を向上させるためにより高温を要求されるので、その場
合は20〜80℃で実施する事がより好ましい。また、
一般式(4)で示されるアルカリ金属アミド化合物を使
用する場合にはアミン化合物を使用する場合より比較的
反応は速やかに進行するので、−10〜60℃で実施す
る事がより好ましい。
【0070】本発明の上記一般式(1)で示されるアミ
ノシラン化合物の製造方法は、シクロペンタジエン骨格
を有する化合物と強塩基とを反応させた反応液と、上記
一般式(2)で示されるシラン化合物とを反応させて得
られた反応液を、上記一般式(3)で示されるアミン化
合物もしくは上記一般式(4)で示されるアルカリ金属
アミド化合物と反応させるアミノシラン化合物の製造方
法であってもよい。
【0071】
【実施例】以下に本発明を実施例により本発明を具体的
に説明するが、本発明の範囲は本実施例に限定されたも
のではない。
【0072】実施例1(1) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランの合成 窒素置換した2口の丸底フラスコにテトラヒドロフラン
30g、1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジ
エン1.10gを仕込み、攪拌しつつ0℃まで冷却し、
ノルマルブチルリチウム(1.6M ノルマルへキサン
溶液)4.90ml(nBuLiとして7.84mmo
l)をゆっくりと20分かけて滴下した。得られた白色
スラリー状の反応液を0℃で3時間攪拌を続けた後、予
め冷却しておいたジクロロジメチルシランを1.01g
(7.84mmol)含むテトラヒドロフラン(20
g)溶液中へ、15分かけて数回に分けて分割添加し、
その後ゆっくりと室温まで昇温した。上記の反応液の攪
拌を室温にて2時間続けた後、得られた反応液をガスク
ロマトグラフィーにて分析したところ、主生成物は
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランであり、1,2,3,4−テ
トラメチルシクロペンタジエン以上の高沸点生成物中の
主生成物の割合は98%であった。
【0073】実施例1(2) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシランの合成 予め0℃に冷却した上記の実施例1(1)で得られた
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランを含む反応液中に、リチウム
−tert−ブチルアミド(LiNHtBu)1.5g
を一気に添加して、30分間0℃に保温した後にゆっく
りと室温まで昇温し、室温で3時間攪拌を続けた。反応
終了後、得られた反応液をガスクロマトグラフィーにて
分析したところ、目的とする(1,2,3,4−テトラ
メチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミ
ノ)ジメチルシランが88%生成していることが明らか
となった。主な混入不純物は(1,2,3,4−テトラ
メチルシクロペンタジエニル)ジメチルクロロシランの
みであり、より高沸点副生物は非常に少なかった。
【0074】実施例2(1) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランの合成 窒素置換した2口の丸底フラスコにテトラヒドロフラン
30g、1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジ
エン1.10gを仕込み、攪拌しつつ0℃まで冷却し、
ノルマルブチルリチウム(1.6M ノルマルへキサン
溶液)4.90ml(nBuLiとして7.84mmo
l)をゆっくりと20分かけて滴下した。得られた白色
スラリー状の反応液を0℃で3時間攪拌を続けた後、予
め冷却しておいたジクロロジメチルシランを1.01g
(7.84mmol)含むテトラヒドロフラン(10
g)とノルマルへキサン(10g)との混合溶液中へ、
15分かけて数回に分けて分割添加し、ゆっくりと室温
まで昇温した。上記の反応液を室温にて攪拌を2時間続
けた後、得られた反応液をガスクロマトグラフィーにて
分析したところ、主生成物は(1,2,3,4−テトラ
メチルシクロペンタジエニル)ジメチルクロロシランで
あり、1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエ
ン以上の高沸点生成物中の主生成物の割合は98%であ
った。
【0075】実施例2(2) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシランの合成 予め0℃に冷却した上記の実施例2(1)で得られた
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランを含む反応液中に、リチウム
−tert−ブチルアミド(LiNHtBu)1.5g
を一気に添加して、30分間0℃に保温した後にゆっく
りと室温まで昇温し、室温で2時間、ついで50℃で3
時間攪拌を続けた。反応終了後、得られた反応液を減圧
濃縮し、次いで冷ヘキサンにて抽出し、再びヘキサンを
留去し、2.2gの黄色粘調の液体を得た。この反応生
成物についてガスクロマトグラフィーにて分析したとこ
ろ、目的とする(1,2,3,4−テトラメチルシクロ
ペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチル
シランを83%含有していることが明らかとなった。
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランの転化率は94%であり、使
用したジクロロジメチルシラン及びブチルリチウムから
の通算収率は92%であった。
【0076】実施例3(1) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランの合成 窒素置換した2口の丸底フラスコにテトラヒドロフラン
15g、ノルマルへキサン12g、1,2,3,4−テ
トラメチルシクロペンタジエン1.10gを仕込み、攪
拌しつつ0℃まで冷却し、ノルマルブチルリチウム
(1.6M ノルマルへキサン溶液)4.90ml(n
BuLiとして7.84mmol)をゆっくりと20分
かけて滴下した。得られた白色スラリー状の反応液を0
℃で3時間攪拌を続けた後、予め冷却しておいたジクロ
ロジメチルシランを1.01g(7.84mmol)含
むテトラヒドロフラン(10g)溶液を数回に分けて分
割添加し、ゆっくりと室温まで昇温した。上記の反応液
を室温にて攪拌を14時間続けた後、得られた反応液を
ガスクロマトグラフィーにて分析したところ、主生成物
は(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランであり、1,2,3,4−テ
トラメチルシクロペンタジエン以上の高沸点生成物中の
主生成物の割合は99%以上であった。
【0077】実施例3(2) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシランの合成 予め0℃に冷却した実施例3(1)で得られた(1,
2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジメ
チルクロロシランを含む反応液中に、リチウム−ter
t−ブチルアミド(LiNHtBu)1.5gを一気に
添加して、30分間0℃に保温した後にゆっくりと室温
まで昇温し、室温で2時間、ついで50℃で6時間攪拌
を続けた。反応終了後、得られた反応液をガスクロマト
グラフィーにて分析したところ、目的とする(1,2,
3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)(ter
t−ブチルアミノ)ジメチルシランの生成が観察され
た。なお、主生成物は(1,2,3,4−テトラメチル
シクロペンタジエニル)(tert−ブチルアミノ)ジ
メチルシランであり、反応原料である(1,2,3,4
−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジメチルクロロ
シランと生成物であるジメチル(1,2,3,4−テト
ラメチルシクロペンタジエニル)(tert−ブチルア
ミノ)シランとの比率[生成物/(生成物+反応原
料)]は0.88であった。
【0078】実施例4(1) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランの合成 窒素置換した2口の丸底フラスコにテトラヒドロフラン
15g、ノルマルへキサン12g、1,2,3,4−テ
トラメチルシクロペンタジエン1.10gを仕込み、攪
拌しつつ0℃まで冷却し、ノルマルブチルリチウム
(1.6M ノルマルへキサン溶液)4.90ml(n
BuLiとして7.84mmol)をゆっくりと20分
かけて滴下した。得られた白色スラリー状の反応液を0
℃で3時間攪拌を続けた後、予め冷却しておいたジクロ
ロジメチルシランを1.01g(7.84mmol)含
むテトラヒドロフラン(10g)とノルマルへキサン
(10g)とからなる混合溶液を数回に分けて分割添加
し、ゆっくりと室温まで昇温した。上記の反応液を室温
にて攪拌を14時間続けた後、得られた反応液をガスク
ロマトグラフィーにて分析したところ、主生成物は
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランであり、1,2,3,4−テ
トラメチルシクロペンタジエン以上の高沸点生成物中の
主生成物の割合は99%であった。
【0079】実施例4(2) (1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)(シクロヘキシルアミノ)ジメチルシランの合成 予め0℃に冷却した実施例4(1)で得られた(1,
2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニル)ジメ
チルクロロシランを含む反応液中に、リチウムシクロヘ
キシルアミド(LiNH(cyclo−C611))
1.5gを一気に添加して、30分間0℃に保温した後
にゆっくりと室温まで昇温し、室温で2時間、ついで5
0℃で3時間攪拌を続けた。反応終了後、得られた反応
液をガスクロマトグラフィーにて分析したところ、目的
とする(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジ
エニル)(tert−ブチルアミノ)ジメチルシランが
87%の収率で生成していることが明らかとなった。
(1,2,3,4−テトラメチルシクロペンタジエニ
ル)ジメチルクロロシランの転化率は92%であった。
【0080】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、工
業的に実用的なスケールで、単離・精製の操作が困難
で、空気との接触により発火性を示す固体を取り扱わず
に、工程数の少ない高収率の、遷移金属錯体の配位子前
駆体として有用なアミノシラン化合物の製造方法が提供
される。該製造方法は、工業的に有利な−20℃以上の
反応温度で行い得ることなど、本発明の価値はすこぶる
大きい。

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】下記工程(A)〜(C)を途中で精製操作
    をすることなくこの順に続けて実施することを特徴とす
    る下記一般式(1)で示されるアミノシラン化合物の製
    造方法。 工程(A):シクロペンタジエン骨格を有する化合物と
    強塩基とを反応させる工程。 工程(B):工程(A)で得られた反応物と下記一般式
    (2)で示されるシラン化合物とを反応させる工程。 工程(C):工程(B)で得られた反応物と下記一般式
    (3)で示されるアミン化合物もしくは下記一般式
    (4)で示されるアルカリ金属アミド化合物とを反応さ
    せる工程。 (上記一般式(1)、(2)、(3)または(4)それ
    ぞれにおいて、Cpはシクロペンタジエン骨格を有する
    基を示し、Siはケイ素原子を、Nは窒素原子を、Hは
    水素原子を、Mはアルカリ金属原子を示す。R1および
    2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラル
    キル基、アリール基、または置換シリル基を示す。R3
    およびR4はそれぞれ独立に、アルキル基、アラルキル
    基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラル
    キルオキシ基、またはアリールオキシ基を示す。なお、
    1とR2および/またはR3とR4は任意に結合して環を
    形成していてもよい。X1およびX2はそれぞれ独立にハ
    ロゲン原子を示す。)
  2. 【請求項2】下記一般式(1)で示されるアミノシラン
    化合物の製造方法であって、シクロペンタジエン骨格を
    有する化合物と強塩基とを反応させた反応液と、下記一
    般式(2)で示されるシラン化合物とを反応させて得ら
    れた反応液を、下記一般式(3)で示されるアミン化合
    物もしくは下記一般式(4)で示されるアルカリ金属ア
    ミド化合物と反応させることを特徴とするアミノシラン
    化合物の製造方法。 (上記一般式(1)、(2)、(3)または(4)それ
    ぞれにおいて、Cpはシクロペンタジエン骨格を有する
    基を示し、Siはケイ素原子を、Nは窒素原子を、Hは
    水素原子を、Mはアルカリ金属原子を示す。R1および
    2はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アラル
    キル基、アリール基、または置換シリル基を示す。R3
    およびR4はそれぞれ独立に、アルキル基、アラルキル
    基、アリール基、置換シリル基、アルコキシ基、アラル
    キルオキシ基、またはアリールオキシ基を示す。なお、
    1とR2および/またはR3とR4は任意に結合して環を
    形成していてもよい。X1およびX2はそれぞれ独立にハ
    ロゲン原子を示す。)
  3. 【請求項3】各反応を、−20℃以上の反応温度で実施
    することを特徴とする請求項1または2記載のシラン化
    合物の製造方法。
  4. 【請求項4】シクロペンタジエン骨格を有する化合物
    を、エーテル系溶媒の溶液として使用することを特徴と
    する請求項1〜3のいずれかに記載のアミノシラン化合
    物の製造方法。
  5. 【請求項5】強塩基を、脂肪族もしくは芳香族溶媒の溶
    液として使用することを特徴とする請求項1〜4のいず
    れかに記載のアミノシラン化合物の製造方法。
  6. 【請求項6】強塩基が、有機アルカリ金属化合物である
    ことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のアミ
    ノシラン化合物の製造方法。
  7. 【請求項7】Cpが、少なくとも1つの置換基をその5
    員環に有するシクロペンタジエン骨格を有する基である
    ことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のアミ
    ノシラン化合物の製造方法。
  8. 【請求項8】Cpが、1,2,3,4−テトラメチルシ
    クロペンタジエニル基、ジメチルシクロペンタジエニル
    基、ジ−tert−ブチルシクロペンタジエニル基、ジ
    イソプロピルシクロペンタジエニル基、またはイソプロ
    ピル−tert−ブチルシクロペンタジエニル基である
    ことを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載のアミ
    ノシラン化合物の製造方法。
  9. 【請求項9】R1またはR2の一方が水素原子であり、他
    方がアルキル基または置換シリル基であることを特徴と
    する請求項1〜8のいずれかに記載のアミノシラン化合
    物の製造方法。
  10. 【請求項10】一般式(4)におけるMが、リチウム原
    子であることを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記
    載のアミノシラン化合物の製造方法。
  11. 【請求項11】工程(A)を、−20〜30℃の温度範
    囲にて実施することを特徴とする請求項1もしくは請求
    項3〜10のいずれかに記載のアミノシラン化合物の製
    造方法。
  12. 【請求項12】シクロペンタジエン骨格を有する化合物
    と強塩基とを反応させてシクロペンタジエン骨格を有す
    る化合物の塩化合物を製造するに際し、使用する総溶媒
    量に占めるエーテル系溶媒の使用量が50容積%以上で
    あることを特徴とするシクロペンタジエン骨格を有する
    化合物の塩化合物の製造方法。
JP31619698A 1997-11-07 1998-11-06 アミノシラン化合物の製造方法、およびシクロペンタジエン骨格を有する化合物の塩化合物の製造方法 Pending JPH11222490A (ja)

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