JPH11219622A - 電気絶縁用樹脂組成物及びエナメル線 - Google Patents

電気絶縁用樹脂組成物及びエナメル線

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JPH11219622A
JPH11219622A JP1999498A JP1999498A JPH11219622A JP H11219622 A JPH11219622 A JP H11219622A JP 1999498 A JP1999498 A JP 1999498A JP 1999498 A JP1999498 A JP 1999498A JP H11219622 A JPH11219622 A JP H11219622A
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JP
Japan
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resin composition
molecular weight
weight
enameled wire
parts
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JP1999498A
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English (en)
Inventor
Seiichi Yotsuya
聖一 四家
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Showa Denko Materials Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 広い範囲の焼付け条件で優れた滑り性及び耐
摩耗性が得られる電気絶縁用樹脂組成物及びこれを用い
たエナメル線を提供する。 【解決手段】 数平均分子量が30000〜50000
のポリアミドイミド樹脂100重量部に対して、(A)
部分ケン化エステルワックス0.1〜10重量部及び
(B)数平均分子量5000以下の酸変性型低分子量ポ
リエチレン0.1〜10重量部を配合してなる電気絶縁
用樹脂組成物並びにこの電気絶縁用樹脂組成物を導体上
に直接又は他の絶縁物を介して塗布し、焼付けてなるエ
ナメル線。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電気絶縁用樹脂組
成物及びエナメル線に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリアミドイミド樹脂は、耐熱性、耐薬
品性及び耐溶剤性に優れているため、各種の基材のコー
ト剤としてエナメル線用ワニス、耐熱塗料などに広く使
用されている。近年、エナメル線を使用する電気メーカ
ーでは、機器の製造工程の合理化のため、自動高速巻線
機を導入しているが、巻線加工時にエナメル線が摩擦、
衝撃等を受けてエナメル線の絶縁層に機械的損傷を生
じ、レヤーショート、アース不良などが発生して製品の
不良率が増加するという問題が発生している。そこで、
このような機械的損傷の少ない潤滑性の優れたエナメル
線が要望されている。
【0003】通常、エナメル線単体では滑り性に乏しい
ため、エナメル線上に流動パラフィン、固形パラフィ
ン、絶縁油、ワックスなどを塗布したり、機械的強度及
び耐摩耗性に優れたナイロンなどをオーバーコートする
方法が採用されている。しかし、前者の方法では、エナ
メル線をモータやトランスに巻線した後に含浸又は注入
されるワニスやレジンとの親和性に劣るため、接着性不
良やボイドが発生し易いという問題があった。また、後
者の方法では、アンダーコートのエナメル線の焼付け線
と同条件(炉温、焼付け速度など)で焼付けることがで
きないため、生産性が低下し、また、カットスルー温度
などのエナメル線特性が低下するという問題があり、さ
らに価格が高いため使用範囲が限定されていた。
【0004】最近、エナメル線のアンダーコート用合成
樹脂塗料にワックスや低分子量のポリエチレンを分散
し、これをアンダーコート用塗料と同一条件でオーバー
コートする方法が検討されているが、ワックス類や低分
子量ポリエチレンは、エナメル線用合成樹脂及び溶剤と
の相溶性に乏しいため、エナメル線用合成樹脂塗料中に
分散し難く、例えば、強力に攪拌するなどの方法で無理
に分散させたとしても分離したり、分散度が悪いためエ
ナメル線の外観が悪く、滑り性が劣り、また、エナメル
線の焼付け温度の高い範囲では滑り性が低下するなどの
欠点があった。この問題を解決するものとして、特開平
7−242819号公報には数平均分子量が30000
〜50000のポリアミドイミド樹脂100重量部に対
して、部分ケン化エステルワックス0.1〜10重量
部、数平均分子量5000以下の低分子量ポリエチレン
0.1〜10重量部及び金属塩0.0001〜1重量部
を配合してなる電気絶縁用樹脂組成物が提案されてい
る。この樹脂組成物は、滑剤の分散性は比較的良好であ
ったものの、エナメル線の滑り性及び耐摩耗性が充分で
はなかったため、適用範囲が限定されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記の従来
技術の問題点を解消し、広い範囲の焼付け条件で優れた
滑り性及び耐摩耗性が得られる電気絶縁用樹脂組成物及
びこれを用いたエナメル線を提供するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、数平均分子量
が30000〜50000のポリアミドイミド樹脂10
0重量部に対して、(A)部分ケン化エステルワックス
0.1〜10重量部及び(B)数平均分子量5000以
下の酸変性型低分子量ポリエチレン0.1〜10重量部
を配合してなる電気絶縁用樹脂組成物に関する。また、
本発明は、さらに、(C)金属塩0.0001〜1重量
部を含有してなる前記電気絶縁用樹脂組成物に関する。
また、本発明は、前記電気絶縁用樹脂組成物のいずれか
を導体上に直接又は他の絶縁物を介して塗布し、焼付け
てなるエナメル線に関する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の樹脂組成物に用いるポリ
アミドイミド樹脂は、塩基性極性溶媒中で芳香族ジイソ
シアネートと芳香族三塩基酸無水物とを反応させて得ら
れる。塩基性極性溶媒としては、N−メチル−2−ピロ
リドン、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド
などが用いられるが、ポリアミドイミド化反応を高温で
短時間に行うためには、N−メチル−2−ピロリドンな
どの高沸点溶媒を用いるのが好ましい。また、使用量に
特に制限はないが、芳香族ジイソシアネートと芳香族三
塩基酸無水物の総量100重量部に対して100〜50
0重量部とするのが好ましい。
【0008】芳香族ジイソシアネートとしては、例え
ば、4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート、キ
シリレンジイソシアネート、3,3′−ジフェニルメタ
ンジイソシアネート、パラフェニレンジイソシアネート
などが挙げられる。
【0009】芳香族三塩基酸無水物としては、例えばト
リメリット酸無水物が用いられる。本発明においては、
必要に応じて、例えば、ピロメリット酸無水物、ベンゾ
フェノンテトラカルボン酸無水物等の四塩基酸無水物、
テレフタル酸、イソフタル酸、トリメシン酸などのその
他の芳香族ポリカルボン酸などを酸成分に対して1〜5
0当量%の範囲で用いることができる。
【0010】芳香族ジイソシアネートと芳香族三塩基酸
無水物との反応は、通常、80〜180℃で上記の塩基
性極性溶媒中で行われる。これらの使用量は、生成され
るポリアミドイミド樹脂の分子量、架橋度の観点から芳
香族三塩基酸無水物1.0モルに対して芳香族ジイソシ
アネートを0.8〜1.1モルとすることが好ましく、
0.95〜1.08モルとすることがより好ましい。
【0011】ポリアミドイミド樹脂の数平均分子量は、
30000〜50000の範囲とされる。数平均分子量
が30000未満であると、耐熱性が低下し、5000
0を超えると、最終的に得られる樹脂組成物の粘度が高
くなり、塗装時の作業性に劣る。本明細書において、数
平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフ
(GPC)等の分析機器を用いて測定し、標準ポリスチ
レンの検量線を用いて換算した値である。ポリアミドイ
ミド樹脂の数平均分子量は、樹脂合成時に樹脂をサンプ
リングして測定し、目的の数平均分子量になるまで合成
を継続することにより上記範囲に管理される。
【0012】本発明に用いられる(A)成分の部分ケン
化ワックスとしては、例えば、下記の式で表される化合
物及びその誘導体が挙げられる。
【化1】 〔式中、R及びR′はそれぞれ独立に炭素数28〜32
の炭化水素基を示す〕 この市販品としては、例えば、ヘキストワックスOP、
ヘキストワックスX55、ヘキストワックスO、ヘキス
トワックスOM、ヘキストワックスFL(いずれもヘキ
ストジャパン社製、商品名)などが挙げられる。部分ケ
ン化エステルワックスの使用量は、上記のポリアミドイ
ミド樹脂100重量部に対して0.1〜10重量部、好
ましくは0.2〜5重量部である。使用量が0.1重量
部未満では滑り性の効果が劣り、10重量部を超える
と、エナメル線の外観が劣る。
【0013】本発明に用いられる(B)成分の酸変性型
低分子量ポリエチレンとしては、低分子量ポリエチレン
と無水酢酸等を反応させて得られ、アルコール、アミ
ン、イソシアネートと反応性のカルボキシル基等の極性
基を導入したもの、低分子量ポリエチレンを酸素の存在
下に加熱してカルボキシル基を導入したもの等がある。
酸変性型低分子量ポリエチレンとしては、数平均分子量
が5000以下、好ましくは1000〜4000、さら
に好ましくは1200〜3200であるものとする。数
平均分子量が5000を超えると、分散性が劣り、エナ
メル線の外観が低下する。この市販品としては、例え
ば、三井ハイワックス1105A、2203A(三井石
油化学工業社製)などが挙げられる。酸変性型低分子量
ポリエチレンの酸価は、1〜100であることが好まし
い。
【0014】酸変性型低分子量ポリエチレンの使用量
は、上記のポリアミドイミド樹脂100重量部に対して
0.1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部とさ
れる。この使用量が0.1重量部未満であると、滑り性
の向上効果がなく、10重量部を超えるとエナメル線の
外観が低下し、組成物が短時間で層分離する。部分ケン
化エステルワックスと酸変性型低分子量ポリエチレンと
は相溶性に優れ、これらを併用することにより本発明の
電気絶縁用樹脂組成物における分散が均一で相分離しな
いので好ましい。
【0015】本発明の樹脂組成物に用いられる(C)成
分の金属塩をさらに配合すると滑り性及び耐摩耗性がさ
らによくなる。この金属塩は、電気絶縁用樹脂組成物の
焼付の際の塗膜表面の熱劣化を防ぎ、得られたエナメル
線の滑り性を向上させる。金属塩の金属成分としては、
銅、マンガン、コバルトなどが挙げられ、これらの塩と
しては、例えば、酢酸銅、サリチル酸銅、ステアリン酸
銅、塩化銅(II)、乳酸マンガン、酢酸マンガン、サリ
チル酸マンガン、酢酸コバルト、ナフテン酸コバルト、
オクチル酸コバルトなどが挙げられ、これらは単独で又
は2種以上を組み合わせて用いることができる。金属塩
の添加量は、上記のポリアミドイミド樹脂100重量部
に対して0.0001〜1重量部、好ましくは0.00
1〜0.05重量部とされる。使用量が0.0001重
量部未満では、滑り性向上効果が不充分であり、1重量
部を超えるとエナメル線の外観及び他の特性に悪影響を
及ぼす。
【0016】上記の金属塩とともに、3,5−ジ第三ブ
チル−4−ヒドロキシベンジルホスホネートジエチルエ
ステル等のフェノール系老化防止剤、N,N−ジ−2−
ナフチル−p−フェニレンジアミン等のアミン系老化防
止剤を併用することもできる。
【0017】本発明の電気絶縁用樹脂組成物は、上記の
ポリアミドイミド樹脂に上記(A)、(B)及び(C)
成分を添加することによって得られる。これらの添加方
法には特に制限はないが、例えば、(A)成分の部分ケ
ン化エステルワックスと(B)成分の酸変性型ポリエチ
レンを有機溶剤に分散させ、これを塩基性極性溶媒に溶
解したポリアミドイミド樹脂溶液に添加し、さらに
(C)成分の金属塩を有機溶剤に溶解又は分散させてポ
リアミドイミド樹脂溶液に添加する方法がある。(A)
成分の部分ケン化エステルワックス、(B)成分の酸変
性型ポリエチレン及び(C)成分の金属塩の溶解又は分
散には、キシレン、ソルベントナフサなどが用いられ
る。ポリアミドイミド樹脂溶液は、ポリアミドイミド樹
脂を上記の塩基性極性溶媒に溶解したものである。
【0018】本発明の電気絶縁用樹脂組成物は、通常、
固形分を20〜40重量%の範囲として用いることが好
ましい。本発明の電気絶縁用樹脂組成物を導体上に直接
又は他の絶縁物を介して塗布し、焼付けてエナメル線を
得ることができる。本発明の電気絶縁用樹脂組成物を用
いることにより、組成物の各成分が良好に分散すると同
時に外観、滑り性、耐摩耗性などに優れたエナメル線を
得ることができる。
【0019】
【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明はこれによって制限されるものではな
い。なお、例中の「部」は、「重量部」を意味する。
【0020】実施例1 キシレン32部にヘキストワックスOP(部分ケン化エ
ステルワックス、ヘキストジャパン社製、商品名)及び
三井ハイワックス1105A(三井石油化学工業社製の
酸変性型低分子量ポリエチレンの商品名、数平均分子量
1500)をそれぞれ8部加えて加熱溶解し、これを室
温のキシレン112部に急激に攪拌しながら一気に投入
して、均一なワックス分散液を得た。次に、4,4′−
ジフェニルメタンジイソシアネート252.8g(1.
01モル)、無水トリメリット酸192.1g(1.0
モル)、N−メチル−2−ピロリドン667.4gを2
リットルのフラスコに仕込み、攪拌しながら約5時間で
温度を150℃に上昇させ、この温度で5時間保温して
得られた数平均分子量が35000のポリアミドイミド
樹脂溶液200部に、酢酸銅を0.1重量%溶解させた
N−メチル−2−ピロリドン溶液6部及び上記で得たワ
ックス分散液24部を添加し、攪拌して分散させ、電気
絶縁用樹脂組成物を得た。
【0021】実施例2 実施例1において、三井ハイワックス1105Aの代わ
りに、三井ハイワックス2203A(三井石油化学工業
社製の酸変性型低分子量ポリエチレンの商品名、数平均
分子量2700)を、酢酸銅の代わりに塩化銅(II)を
用い、ポリアミドイミド樹脂溶液を4,4′−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート252.8g(1.01モ
ル)、無水トリメリット酸192.1g(1.0モ
ル)、N−メチル−2−ピロリドン667.4gを2リ
ットルのフラスコに仕込み、攪拌しながら約5時間で温
度を150℃に上昇させ、この温度で8時間保温して得
られた数平均分子量が48000のポリアミドイミド樹
脂溶液とした以外は、実施例1と同様にして電気絶縁用
樹脂組成物を得た。
【0022】比較例1 実施例1において、三井ハイワックス1105Aの代わ
りに、ヘキストワックスPE130(ヘキストジャパン
社製の低分子量ポリエチレンの商品名、数平均分子量3
000)を、酢酸銅の代わりに塩化銅(II)を用い、ポ
リアミドイミド樹脂溶液を4,4′−ジフェニルメタン
ジイソシアネート252.8g(1.01モル)、無水
トリメリット酸192.1g(1.0モル)、N−メチ
ル−2−ピロリドン667.4gを2リットルのフラス
コに仕込み、攪拌しながら約5時間で温度を150℃に
上昇させ、この温度で8時間保温して得られた数平均分
子量が48000のポリアミドイミド樹脂溶液とした以
外は、実施例1と同様にして電気絶縁用樹脂組成物を得
た。
【0023】試験例 実施例1〜2及び比較例1で得られた電気絶縁用樹脂組
成物を用いて下記に示す焼付け条件に従って直径1.0
mmの銅線に塗布し、焼付けを行い、エナメル線を製造し
た。 下地:HI−406(ポリアミドイミド樹脂ワニス、日立化成工業社製) :ダイス7回 上地:各実施例又は比較例で得た電気絶縁用樹脂組成物;ダイス1回 焼付け炉:竪型熱風炉(炉長5m) 炉温:入口/出口=320℃/430℃ 線速:14m/分
【0024】得られたエナメル線皮膜は、いずれも外観
上平滑で異常が認められなかった。各エナメル線皮膜の
特性を下記の方法により試験し、結果を表1に示した。 (1)可撓性:JIS C3003.8.1(1)に準
じて調べた。 (2)ピンホール:JIS C3003.36に準じて
調べた。 (3)絶縁破壊電圧:JIS C3003.11.
(2)に準じて調べた。 (4)往復摩耗:旧JIS C3003.10.1に準
じて調べた。 (5)静摩擦係数:エナメル線同士間の静摩擦係数を測
定するものであり、その測定方法は東洋精機社製の電線
滑り試験器を用い、傾斜台上において4本のエナメル線
を同一面上に末広がり状に張設し、この上にこの4本の
エナメル線と交差するように上記供試エナメル線と同じ
エナメル線を2本平行に張設したソリを乗せ、これを水
平位置から徐々に傾斜させ、ソリの滑り開始角度をタン
ジェント目盛で読み取った。なお、ソリの荷重は100
gに設定した。
【0025】
【表1】
【0026】表1から、本発明の電気絶縁用樹脂組成物
を用いて得られたエナメル線は、比較例1のものと比べ
て滑り性及び耐摩耗性が良好であることが分かる。
【0027】
【発明の効果】本発明の電気絶縁用樹脂組成物を用いれ
ば、滑り性及び耐摩耗性に優れ、外観が良好なエナメル
線を得ることができ、近年の過酷な巻線、加工・組立作
業に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C08L 91:06 23:26)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 数平均分子量が30000〜50000
    のポリアミドイミド樹脂100重量部に対して、(A)
    部分ケン化エステルワックス0.1〜10重量部及び
    (B)数平均分子量5000以下の酸変性型低分子量ポ
    リエチレン0.1〜10重量部を配合してなる電気絶縁
    用樹脂組成物。
  2. 【請求項2】 さらに、(C)金属塩0.0001〜1
    重量部を含有してなる請求項1記載の電気絶縁用樹脂組
    成物。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の電気絶縁用樹脂組
    成物を導体上に直接又は他の絶縁物を介して塗布し、焼
    付けてなるエナメル線。
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