JPH11217573A - 水蒸気改質器 - Google Patents

水蒸気改質器

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JPH11217573A
JPH11217573A JP10020903A JP2090398A JPH11217573A JP H11217573 A JPH11217573 A JP H11217573A JP 10020903 A JP10020903 A JP 10020903A JP 2090398 A JP2090398 A JP 2090398A JP H11217573 A JPH11217573 A JP H11217573A
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JP
Japan
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tube
catalyst
sleeve
steam reformer
pressure vessel
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Application number
JP10020903A
Other languages
English (en)
Inventor
Ryutaro Hino
竜太郎 日野
Haruyoshi Mogi
春義 茂木
Kazuhiko Haneda
一彦 羽田
Yorimasa Mizogami
頼賢 溝上
Seiya Yamada
誠也 山田
Hiroshi Ogata
寛 緒方
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Japan Atomic Energy Agency
Original Assignee
Japan Atomic Energy Research Institute
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Publication date
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Publication of JPH11217573A publication Critical patent/JPH11217573A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 加熱ガスの循環動力を必要以上に大きくする
ことなく、プロセスガスの改質結果の予測が容易な水蒸
気改質器を提供する。 【解決手段】 水蒸気改質器は、縦型の圧力容器1を備
える。この圧力容器1の内部上方には、管板2が水平に
設けられ、該管板2の上方には、仕切板5が設けられ
る。また、該管板2の下方には、スリーブ取付板12が
設けられる。複数本の触媒管3は、閉じた下端を有する
と共に、開放した上端を有し、該上端は管板2の上方に
開口する。触媒管3に挿入された内部戻り管4は、その
両端が開放しており、上端が管板2を貫いて仕切板5の
上方で開口し、下端が触媒管3の上記下端近くで開口し
ている。触媒管3と内部戻り管4との間の空間には触媒
層6がある。更に、触媒管3の周りには、上端がスリー
ブ取付板12の上方で開口し下端が触媒管の下端近くで
開口するスリーブ11が設けられている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、化学プラントや、
例えば高温ガス炉を含むプラントで用いるのに好適な炭
化水素の水蒸気改質器に関し、特に、同水蒸気改質器に
おける触媒管の加熱構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】かかる水蒸気改質器は、種々の形式のも
のが従来から提案されているが、高温ガス炉の2次ヘリ
ウムガスを利用して炭化水素の水蒸気改質を行うものと
して知られている強制対流加熱式水蒸気改質器を示すと
図6及び図7の通りであり、これらの水蒸気改質器の基
本的な構造は、一般のシェルアンドチューブ式熱交換器
と同様である。
【0003】図6の従来例において、符号1で示される
ものは円筒形の圧力容器であり、垂設された圧力容器1
の内部上方には管板2が設けられ、管板2には、下端を
閉塞された複数本の触媒管3がその上端で取り付けられ
ている。該触媒管3には、それぞれ、下端を開放された
内部戻り管4が空間を設けて同芯状に挿入され、各内部
戻り管4の上端は、前記管板2の上方に設けられた仕切
板5に取り付けられている。触媒管3と内部戻り管4の
間の空間には触媒が充填されて触媒層6が形成されてい
る。
【0004】また、圧力容器1には、頂部に、管板2及
び仕切板5の間の空間部に連通してプロセスガスが流入
する第1管台1aが設けられ、仕切板5の上方側部に、
プロセスガスが流出する第2管台1bが設けられ、底部
に、加熱ガスが流入する第3管台1cが設けられ、管板
2の下方側部に、加熱ガスが流出する第4管台1dが設
けられている。圧力容器1内の各触媒管3の周囲には、
管軸方向に複数段のオリフィスバッフル板7が設けられ
ている。
【0005】このように構成された強制対流加熱式水蒸
気改質器において、プロセスガスは第1管台1aから仕
切板5と管板2の間の空間部へ流入し、触媒管3内の触
媒層6を下方へ流動し、触媒管3の下端で反転して内部
戻り管4へ流入し、上方へ流れて第2管台1bから流出
する。一方、2次ヘリウムガスでよい加熱ガスは、第3
管台1cから圧力容器1に流入し、各触媒管3とオリフ
ィスバッフル板7の間の隙間を触媒管3の外周に沿って
上方へ流動し、第4管台1dから流出する。従って、プ
ロセスガスは、触媒管3の触媒層6を下方へ流動する間
に、加熱ガスにより触媒管3を通して加熱され、改質さ
れる。加熱ガス流は、触媒管3の外周に沿って流動する
流路断面積をオリフィスバッフル板7により急激に縮小
・拡大され、対流による伝熱を促進されている。
【0006】次に、図7に示される別の従来例に係る水
蒸気改質器では、図6の従来例における前記管板2及び
仕切板5に代えて、各触媒管3を入口ヘッダ8に、各内
部戻り管4を出口ヘッダ9にそれぞれ連結すると共に、
該入口ヘッダ8を前記第1管台1aに、該出口ヘッダ9
を前記第2管台1bにそれぞれ連結している。また、前
記オリフィスバッフル板7に代えて、複数段の切欠きバ
ッフル板10が、加熱ガスの流路がジグザグ状になるよ
うに、触媒管3に直交すると共に切欠き部を管軸方向に
交互に配置して設けられている。
【0007】このように構成された強制対流加熱式水蒸
気改質器において、プロセスガスは第1管台1aから入
口ヘッダ8を経て触媒管3へ流入し、内部戻り管4から
出口ヘッダ9を経て第2管台1bへ流出する。また、第
3管台1cから流入する加熱ガスは、切欠きバッフル板
10に沿い、触媒管3を何度も横切るようにジグザグ流
路に沿い蛇行しながら上方へ流動して第4管台1dから
流出し、伝熱効率を改善されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】従来の強制対流加熱式
水蒸気改質器は、以上のように構成されているため、次
のような課題が存在している。即ち、図6の従来例のよ
うに圧力容器1内にオリフィスバッフル板7を設けた場
合、伝熱の促進効果を高めるためには、加熱ガスの流速
を大きくすることが必要であるが、圧力損失が大きくな
り、加熱ガスを循環させるために必要な動力が大きくな
る。また、図7の従来例のように圧力容器1内に切欠き
バッフル板10を設けた場合、加熱ガスが全ての触媒管
3に対し均一に接触せず、管軸方向の加熱ガスの温度条
件が触媒管3毎に異なる。その結果、触媒管3毎に、改
質されたプロセスガスの組成が異なり、改質結果の予測
が困難になる。
【0009】従って、本発明は、以上のような課題を解
決するためになされたものであり、加熱ガスの循環動力
を必要以上に大きくすることなく、プロセスガスの改質
結果の予測を容易にする水蒸気改質器を提供することを
目的とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに、本発明は、縦型の圧力容器と、該圧力容器の内部
上方に設けられた管板と、開放した上端が該管板の開口
に取り付けられ、下端が閉塞されている複数本の触媒管
と、前記圧力容器内で前記管板の上方に設けられた仕切
板と、該仕切板の開口に開放した上端が取り付けられ、
下端が開放し、前記触媒管内に挿入された内部戻り管
と、前記触媒管及び前記内部戻り管の間の環状空間に形
成された触媒層とを備える水蒸気改質器において、前記
圧力容器を横断して前記管板の下方に配置されるスリー
ブ取付板と、該スリーブ取付板の開口に開放上端部が取
り付けられ、下端が開放して、前記触媒管のほぼ全長を
同触媒管の外周から離間して覆うスリーブとを更に備え
ると共に、前記圧力容器には、第1側方部に、前記管板
及び前記仕切板の間の空間部に連通する改質ガス入口部
が設けられ、頂部に、前記仕切板の上方の空間部に連通
する改質ガス出口部が設けられ、底部に、加熱ガス入口
部が設けられ、前記第1側方部よりも下方の第2側方部
に、前記管板及び前記スリーブ取付板の間の空間部に連
通する加熱ガス出口部が設けられていることを特徴とす
るものである。
【0011】このような構成を有する水蒸気改質器にお
いて、プロセスガスである改質ガスは、改質ガス入口部
から管板及び仕切板の間の空間部に入り、触媒層を下方
へ流れて、触媒管の閉じた下端で反転し、内部戻り管を
上方に流れて、仕切板の上方の空間部に流入し、そこに
連通した改質ガス出口部から流出する。一方、加熱ガス
入口部から流入した加熱ガスは、大部分がスリーブの開
放した下端から触媒管の周りに入って上方に流れ、残部
がスリーブ取付板の下方の領域を充満する。そして、ス
リーブと触媒管の間を上動する加熱ガスは、スリーブ取
付板の上方にある加熱ガス出口部から圧力容器の外部に
出る。
【0012】触媒管とスリーブの間の空間に、多孔質体
を挿入するか、スパイラルフィンを設けるか、切欠きバ
ッフル板を設けるか、或いは、触媒管の外周(スリーブ
の内周でもよい)に環状突起を設けた場合には、圧力容
器内へ流入した加熱ガスのほぼ全量が各スリーブ内へ流
入すると共に、圧力損失を小さく押えて循環動力を必要
以上に大きくすることなく加熱ガスの流速を大きくし、
熱伝達性能を高める。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、本発明に
よる水蒸気改質器を高温ガス炉用に好適な強制対流加熱
式のものに実施した形態について詳細に説明するが、図
中、従来技術の説明における構成部材と同一又は同等の
部材は同一符号を使用して説明する。図1は、本発明に
よる実施形態に係る強制対流加熱式水蒸気改質器を概略
的に示す縦断面図であり、図2〜図5は、図1において
鎖線で囲んだ領域Aを拡大した部分に相当する、種々の
異なる実施形態についての説明図である。
【0014】図1において、符号1で示されるものは円
筒形の縦型圧力容器であり、垂設された圧力容器1の内
部上方には管板2が実質的に水平に設けられ、同管板2
に形成された複数の開口には、下端を閉じられた複数本
の触媒管3が、図示のように開放したその上端で取り付
けられている。各触媒管3には、上端及び下端を開放さ
れた内部戻り管4が、触媒管3との間に環状の空間3a
を画成するように同芯状に挿入されている。この内部戻
り管4は、開放したその上端が、前記管板2の上方に設
けられた仕切板5に図示のように形成された開口に嵌合
して溶接等の適宜な手段で取り付けられると共に、同様
に開放したその下端が、触媒管3の下端から上方に若干
離間して、環状の空間3aと内部戻り管4の内部空間と
の間に流体の連通を許容している。
【0015】また、前述した触媒管3と内部戻り管4の
間の環状空間3aには、2次ヘリウムガスを加熱ガスと
して用いる場合に好適な周知の触媒が充填されて触媒層
6を形成している。各触媒管3の外周には、空間を介し
て同触媒管3のほぼ全長を同芯状に覆うと共に、上端及
び下端の双方を開放した円筒形のスリーブ11がスリー
ブ取付板12に取着して配置されている。該スリーブ1
1の上端は、管板2の下方にほぼ平行に設けられた前述
のスリーブ取付板12に形成された開口を貫いて上方に
延び、管板2及び同スリーブ取付板12間の途中で終端
しており、該スリーブ11の下端は、加熱ガスの受け入
れを効果的にするため下向きに拡開している。
【0016】更に、圧力容器1には、プロセスガス即ち
改質ガスを流入させるために管板2及び仕切板5の間の
空間部に連通するように圧力容器の側部上方に形成され
た第1管台(改質ガス入口部)1aと、プロセスガスを
流出させるため仕切板5の上方の空間部に連通するよう
に圧力容器頂部に形成された第2管台(改質ガス出口
部)1bと、加熱ガスを受けるため圧力容器1の底部空
間に連通するように形成された第3管台(加熱ガス入口
部)1cと、使用済みの加熱ガスを流出させるため管板
2及びスリーブ取付板12の間の空間部に連通するよう
に圧力容器側部に形成された第4管台(加熱ガス出口
部)1dとがそれぞれ設けられている。
【0017】以上の水蒸気改質器において、図2の改変
実施形態では、触媒管3とスリーブ11の間の環状空間
に、使用されるヘリウムガスのような加熱ガスに対して
化学的に安定性及び耐久性のある周知の材料から選択さ
れた適宜の多孔質体13が挿入され、熱伝導及び熱輻射
の効果をもたらしている。図3の別の改変実施形態で
は、触媒管3とスリーブ11の間の環状空間内に、管軸
方向に延びるスパイラルフィン14が設けられている。
図4の更に別の改変実施形態では、触媒管3とスリーブ
11の間の環状空間内に、管軸方向に離間した複数段の
切欠きバッフル板15が、触媒管3に直交すると共に切
欠き15aを直径方向に交互にする位置に配置して設け
られている。また、図5の実施形態では、触媒管3の外
周を取り巻くように、矩形もしくはその他の断面形状の
輪状突起16が管軸方向に離間して複数段設けられてい
る。
【0018】このように構成された強制対流加熱式水蒸
気改質器において、プロセスガスは、第1管台1aから
管板2と仕切板5の間の空間部へ矢印aで示すように流
入し、触媒管3により囲まれた環状空間3a内の触媒層
6を矢印eで示すように下動し、触媒管3の閉じた下端
で反転して内部戻り管4へ流入し、その内部を矢印fで
示すように上動して、仕切板5の上方にある空間部に達
し、そこから第2管台1bを矢印bの方向に経由して流
出する。一方、上述のプロセスガスのための加熱ガス
は、圧力容器底部にある第3管台1cから圧力容器1の
底部空間もしくはプレナム矢印cの方向へ流入し、各触
媒管3とスリーブ11の間の環状空間を矢印gの方向へ
上動し、管板2とスリーブ取付板12の間の空間部から
第4管台1dへ即ち矢印dの方向へ流出する。従って、
プロセスガスは、触媒管3の触媒層6を下方へ流動する
間に、触媒管3を通して加熱ガスにより加熱され、周知
の態様で改質される。
【0019】尚、スリーブ11の外側の領域は、スリー
ブ取付板12により管台1c側と1d側とに仕切られて
いるため、第3管台1cから流入した加熱ガスは、スリ
ーブ11の外部を流動して第4管台1dへ直接に流動す
ることができず、全量がスリーブ11内を流動する。ま
た、各触媒管3について、触媒管3とスリーブ11の間
の空間の断面形状をほぼ同一に形成すると共に、スリー
ブ11の長さをほぼ同一に構成することにより、スリー
ブ11内を流動する加熱ガスの流動抵抗が実質的に同一
となり、第3管台1cから流入した加熱ガスは、各スリ
ーブ11内の触媒管3の外周をほぼ同一流速及び同一流
量で流動する。
【0020】図2に示すように、触媒管3とスリーブ1
1との間の空間に多孔質体13を挿入した場合には、加
熱ガスの対流伝熱が促進されると共に、多孔質体13か
ら触媒管3への熱伝導及び輻射伝熱により熱伝達性能を
高めることが可能となる。図3に示すように、触媒管3
とスリーブ11の間の環状空間の管軸方向にスパイラル
フィン14を設けてスパイラル状の加熱ガス流路を形成
した場合にも、加熱ガスの圧力損失を小さく押えながら
その流速を大きくし、熱伝達性能を高めることが可能と
なる。
【0021】また、図4に示すように、触媒管3とスリ
ーブ11の間の環状空間の管軸方向に複数段の切欠きバ
ッフル板15を設けて箇々の触媒管3の周囲で加熱ガス
を蛇行しながら上動させることにより、加熱ガスの圧力
損失を小さく押えながらその流速を大きくし、熱伝達性
能を高めることが可能となる。図5に示すように、触媒
管3の外周を輪状に取り巻く矩形断面の環状突起16を
管軸方向に複数段設けた場合には、加熱ガスの圧力損失
を小さく押えながらその流速を大きくすると共に、触媒
管3の外周に形成される層流境界層を乱し、熱伝達性能
を高めることが可能となる。
【0022】以上、本発明をその好適な実施形態につい
て説明したが、本発明はこの実施形態に限定されるもの
ではなく、更に種々の改変が可能である。例えば、内部
戻り管の開放した上端及び下端、触媒管の開放した上
端、並びにスリーブの開放した上端及び下端は、完全に
開放されていることが望ましいが、閉じた端部に複数の
穴を穿設して開放した上端及び下端としたり、閉じた端
部の周縁から延びる側壁に同様に穴を穿設して開放した
上端及び下端としてもよい。また、図5に示された環状
突起は、触媒管の外周に輪状に巻くのではなく、スリー
ブの内周に輪状に設けてもよい。
【0023】
【発明の効果】本発明による水蒸気改質器では、各触媒
管の外周に、空間を介してほぼ全長を同芯状に覆うと共
に両端を開口したスリーブを設けているため、加熱ガス
が各スリーブ内の触媒管の外周をほぼ同一流速及び同一
流量で流動し、全ての触媒管において加熱条件がほぼ同
一となって、改質されたプロセスガスの組成がほぼ同一
となり、改質結果の予測を容易にすることができる。
【0024】また、スリーブが管板の下方に設けられた
スリーブ取付板に上端部を取り付けて設けられ、触媒管
とスリーブの間の空間に、多孔質体を挿入するか、スパ
イラルフィンを設けるか、切欠きバッフル板を設ける
か、或いは、触媒管の外周(スリーブの内周でもよい)
に環状突起を設けることにより、圧力容器内へ流入した
加熱ガスのほぼ全量が各スリーブ内へ流入すると共に、
圧力損失を小さく押えて循環動力を必要以上に大きくす
ることなく加熱ガスの流速を大きくし、熱伝達性能を高
めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明による水蒸気改質器の一実施形態を概
略的に示す縦断面図である。
【図2】 図1において鎖線で囲まれた領域に相当する
変形実施形態に係る水蒸気改質器の部分の拡大断面図で
ある。
【図3】 (a)は、別の変形実施形態に係る図2に相
当する断面図、(b)は、スリーブを除いて示す斜視図
である。
【図4】 (a)は、更に別の実施形態に係る図2に相
当する断面図、(b)は、スリーブを除いて示す斜視図
である。
【図5】 更に異なる変形実施形態に係る水蒸気改質器
の一部を部分的に破断して示す斜視図である。
【図6】 従来の強制対流加熱式水蒸気改質器の第1例
を示す縦断面図である。
【図7】 従来の強制対流加熱式水蒸気改質器の第2例
を示す縦断面図である。
【符号の説明】
1…圧力容器、1a…第1管台(改質ガス入口部)、1
b…第2管台(改質ガス出口部)、1c…第3管台(加
熱ガス入口部)、1d…第4管台(加熱ガス出口部)、
2…管板、3…触媒管、3a…触媒管及び内部戻り管の
間の環状空間、4…内部戻り管、5…仕切板、6…触媒
層、11…スリーブ、12…スリーブ取付板、13…多
孔質体、14…スパイラルフィン、15…切欠きバッフ
ル板、16…環状突起。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 羽田 一彦 茨城県那珂郡東海村白方字白根2番地の4 日本原子力研究所 東海研究所内 (72)発明者 溝上 頼賢 長崎県長崎市飽の浦町1番1号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内 (72)発明者 山田 誠也 長崎県長崎市飽の浦町1番1号 三菱重工 業株式会社長崎造船所内 (72)発明者 緒方 寛 長崎県長崎市飽の浦町1番1号 三菱重工 業株式会社長崎研究所内

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 縦型の圧力容器と、該圧力容器の内部上
    方に設けられた管板と、開放した上端が該管板の開口に
    取り付けられ、下端が閉塞されている複数本の触媒管
    と、前記圧力容器内で前記管板の上方に設けられた仕切
    板と、該仕切板の開口に開放した上端が取り付けられ、
    下端が開放し、前記触媒管内に挿入された内部戻り管
    と、前記触媒管及び前記内部戻り管の間の環状空間に形
    成された触媒層とを備える水蒸気改質器において、前記
    圧力容器を横断して前記管板の下方に配置されるスリー
    ブ取付板と、該スリーブ取付板の開口に開放上端部が取
    り付けられ、下端が開放して、前記触媒管のほぼ全長を
    同触媒管の外周から離間して覆うスリーブとを更に備え
    ると共に、前記圧力容器には、第1側方部に、前記管板
    及び前記仕切板の間の空間部に連通する改質ガス入口部
    が設けられ、頂部に、前記仕切板の上方の空間部に連通
    する改質ガス出口部が設けられ、底部に、加熱ガス入口
    部が設けられ、前記第1側方部よりも下方の第2側方部
    に、前記管板及び前記スリーブ取付板の間の空間部に連
    通する加熱ガス出口部が設けられていることを特徴とす
    る水蒸気改質器。
  2. 【請求項2】 前記触媒管と前記スリーブの間に画成さ
    れる環状空間に多孔質体が挿入されていることを特徴と
    する請求項1記載の水蒸気改質器。
  3. 【請求項3】 前記触媒管と前記スリーブの間に画成さ
    れる環状空間に管軸方向に延びるスパイラルフィンが設
    けられていることを特徴とする請求項1記載の水蒸気改
    質器。
  4. 【請求項4】 前記触媒管と前記スリーブの間に画成さ
    れる環状空間に管軸方向に離間した複数段の切欠きバッ
    フル板が、前記触媒管に直交すると共に切欠き部を交互
    に配置して設けられていることを特徴とする請求項1記
    載の水蒸気改質器。
  5. 【請求項5】 前記触媒管と前記スリーブの間に画成さ
    れる環状空間に複数の環状突起が管軸方向に離間して設
    けられていることを特徴とする請求項1記載の水蒸気改
    質器。
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