JPH11216338A - 処理液供給装置用フィルタ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 既設の処理液供給配管にも、脱気機能や気体
溶存機能を有する部材を容易に取り付けることができ、
配管の取回しが最小限で済んで装置間の互換性を保つこ
とができ、処理液供給装置の小型化および低コスト化を
図ることができるフィルタ装置を提供する。 【解決手段】 処理液流入口５４、処理液流出口６６お
よび通気口６８を有する密閉容器３０の内部にパーティ
クル除去部材３２を配設し、パーティクル除去部材の内
部に、気体のみを透過させる気体透過膜材で通気路が形
成され閉塞部材４０によって一端部が流路的に閉塞され
他端部が密閉容器の通気口に連通した気体透過部材３４
を配設した。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基
板、光ディスク用基板などの各種基板の表面に現像液、
フォトレジスト液、ポリイミド樹脂、ＳＯＧ（シリカ系
被膜形成材）液等の塗布液、純水等の洗浄液などの処理
液を供給して現像、塗布、洗浄などの所定の処理を施す
基板処理装置に使用され、その基板処理装置へ処理液を
供給する処理液供給装置の処理液供給配管に介在して配
設されるフィルタ装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板処理装置、例えば基板回転式現像装
置では、半導体ウエハ等の基板を水平姿勢に保持して鉛
直軸回りに回転させながら、その基板表面に被着形成さ
れた露光済みのフォトレジスト膜を現像処理する場合
に、現像液を貯留している現像液タンクから現像液供給
配管を通して吐出ノズルへ現像液を圧送し、吐出ノズル
の吐出口から基板の表面へ現像液を供給するようにして
いる。そして、この際、基板の表面へ供給される現像液
にパーティクルが含まれていると、現像むら等の不都合
を生じるので、現像液供給配管には、通常、現像液に含
まれているパーティクルを除去して現像液を清浄にする
ために、パーティクル除去部材を内蔵したフィルタ装置
が介在して配設されている。

【０００３】ところが、現像液中には、現像液タンクか
ら現像液供給配管を通して現像液を圧送する際のエアー
噛みに起因する気泡や、最初から溶け込んでいる極く微
細な気泡が存在している場合がある。このように気体が
溶存している現像液をそのまま吐出ノズルから基板の表
面へ供給すると、現像液中の気体が基板上のフォトレジ
スト膜面に気泡として付着することになる。この結果、
気泡の付着部位における現像処理が阻害され、現像不良
を起こすことになる。これと同様の問題は、基板現像装
置に限らず各種の基板処理装置においても起こる。例え
ば、基板塗布装置では、基板の表面へ供給されたフォト
レジスト液に気泡が含まれていると、その塗布部位の膜
厚が極端に薄くなり、あるいは全くフォトレジスト液の
無い部位（いわゆるピンホール）を生じて、塗布不良を
起こすことになる。特に、近年における半導体プロセス
では益々微細化が進んでいるため、現像液やフォトレジ
スト液などの処理液に気体が溶存していると、それによ
る悪影響は非常に大きなものとなる。

【０００４】そこで、処理液に気体が溶存することによ
って引き起こされる処理不良を無くすために、フィルタ
装置の他に、気体のみを透過させる気体透過作用を有す
る気体透過膜材（気体交換膜材、気体浸透膜材あるいは
脱気膜材とも呼ばれる）によって通気路が形成された気
体透過部材（脱気モジュール）を内蔵した脱気装置を、
処理液タンクから基板処理装置の吐出ノズルへ至る処理
液供給配管に介在させて配設するようにしている。そし
て、気体透過部材の通気路を真空ポンプなどに流路接続
して通気路内を減圧し、脱気装置内を処理液が通過する
際に、気体透過膜材を通して処理液中の気体を通気路内
へ移行させて、処理液中から気体を除去するようにして
いる。

【０００５】また、基板洗浄装置のように純水を使用す
る装置では、純水は比抵抗値が極めて大きく帯電し易い
ため、例えば、純水を洗浄液として基板の表面へ供給し
た際に、静電破壊により、基板上に形成された回路パタ
ーンなどにダメージを与えることがある。そこで、この
ような不具合が生じないように、純水の比抵抗値を下げ
て帯電が起こりにくくした上で、純水を基板表面へ供給
する、といったことが行われている。すなわち、純水中
に誘電率の高い気体、例えば二酸化炭素を溶存させるこ
とにより、純水の比抵抗値を下げるようにしている。そ
して、二酸化炭素を純水中に溶存させるために、上記し
たような気体透過部材を内蔵した気体溶存装置を使用
し、気体透過部材の通気路を炭酸ガスボンベなどに流路
接続して通気路内へ二酸化炭素を供給し、気体溶存装置
内を純水が通過する際に、気体透過膜材を通して二酸化
炭素を純水中へ移行させるようにしている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、既設の基板
処理システムに、上記したような脱気装置や気体溶存装
置を追加して取り付けるためには、その取付けのための
スペースを必要とする。しかしながら、通常は、システ
ム内に余分なスペースはほとんど無く、このため、追加
の装置の取付け作業が非常に困難となり、あるいはその
取付けを全く行うことができない、といった問題点があ
る。また、脱気装置や気体溶存装置の取付けを行うこと
ができたとしても、配管の取回しが複雑になったり、ま
た、同一機種の装置であっても他の装置とは配管経路が
違ったものになって互換性が無くなる、といった問題点
がある。

【０００７】また、脱気装置や気体溶存装置を含めた基
板処理システムを新規に設計する場合にも、フィルタ装
置の他に脱気装置や気体溶存装置の取付けのためのスペ
ースを確保する必要があって、システム全体のスペース
が大きくなり、また、装置の製造コストも高くなる、と
いった問題点がある。

【０００８】この発明は、以上のような事情に鑑みてな
されたものであり、既設の基板処理システムの処理液供
給装置の処理液供給配管にも、脱気機能や気体溶存機能
を有する部材を容易に取り付けることができるととも
に、装置間の互換性を保つことができ、また、パーティ
クル除去機能の他に脱気機能や気体溶存機能を有する処
理液供給装置を新規に設置する場合には、装置の小型化
および低コスト化を図ることができる処理液供給装置用
フィルタ装置を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】この発明では、基板処理
装置へ処理液を供給する処理液供給装置の処理液供給配
管に介在して配設された処理液供給装置用フィルタ装置
において、処理液に含まれているパーティクルを除去す
るためのパーティクル除去部材と、処理液中に溶存して
いる気体を除去しあるいは処理液中に気体を溶存させる
ための気体透過部材とを一体化することにより、上記目
的を達成した。すなわち、請求項１に係る発明は、処理
液流入口および処理液流出口ならびに通気口を有する密
閉容器の内部に、その内部を流路的に処理液流入側と処
理液流出側とに仕切るようにパーティクル除去部材を配
設し、そのパーティクル除去部材の内部におよび／また
はパーティクル除去部材の表面に添わせて、気体のみを
透過させる気体透過膜材によって通気路が形成され少な
くとも一方の端部が前記密閉容器の通気口に連通した気
体透過部材を配設したことを特徴とする。

【００１０】請求項２に係る発明は、請求項１に記載の
フィルタ装置において、気体透過部材の通気路に連通し
た密閉容器の通気口を減圧手段に流路接続したことを特
徴とする。

【００１１】請求項３に係る発明は、請求項１に記載の
フィルタ装置において、気体透過部材の通気路に連通し
た密閉容器の通気口を気体供給手段に流路接続したこと
を特徴とする。

【００１２】請求項４に係る発明は、請求項１ないし請
求項３のいずれかに記載のフィルタ装置において、パー
ティクル除去部材を円筒状に形成し、その円筒状のパー
ティクル除去部材の一端側を閉塞部材によって液密に閉
塞するとともに、円筒状のパーティクル除去部材を、そ
の中空部と密閉容器の処理液流入口または処理液流出口
とが連通するように密閉容器の内部に配設し、パーティ
クル除去部材の内部におよび／またはパーティクル除去
部材の外周面もしくは内周面に添うように気体透過部材
を配設して、その気体透過部材の通気路を前記パーティ
クル除去部材の軸線方向に沿って形成し、通気路の一端
側を気体閉塞部材によって気密に閉塞するとともに他端
側を前記密閉容器の通気口に連通させたことを特徴とす
る。

【００１３】請求項１に係る発明のフィルタ装置におい
ては、処理液供給配管内から処理液流入口を通って密閉
容器内へ流入した処理液は、密閉容器の内部に配設され
たパーティクル除去部材を透過して、その際にパーティ
クルが除去され、パーティクルが除去された処理液は、
密閉容器内から処理液流出口を通って流出し、処理液供
給配管を通って基板処理装置へ供給される。そして、こ
の装置では、パーティクル除去部材の内部にまたはパー
ティクル除去部材の表面に添わせてあるいはその両方に
気体透過部材が配設されているため、処理液は、パーテ
ィクル除去部材を透過するとともに気体透過部材を通過
して、その際に、通気路を形成している気体透過膜材を
通して処理液中の気体が、密閉容器の通気口に連通した
通気路内へ移行して、処理液中から気体が除去され、あ
るいは、通気路内から気体透過膜材を通して気体が処理
液中へ移行して、処理液中に気体が溶存させられる。

【００１４】請求項２に係る発明のフィルタ装置では、
気体透過部材の通気路内が減圧手段によって減圧される
ことにより、処理液中に溶存している気体が気体透過膜
材を通して通気路内へ移行して、処理液中から気体が除
去されることになる。

【００１５】請求項３に係る発明のフィルタ装置では、
気体供給手段から気体、例えば二酸化炭素が気体透過部
材の通気路内へ供給されることにより、通気路内の二酸
化炭素が気体透過膜材を通して処理液、例えば純水中へ
移行して、純水中に二酸化炭素が溶存させられることに
なる。

【００１６】請求項４に係る発明のフィルタ装置では、
処理液は、処理液供給配管内から処理液流入口を通っ
て、密閉容器の内部に配設され一端側が閉塞部材によっ
て閉塞された円筒状のパーティクル除去部材の中空部内
へ流入し、その中空部内から、パーティクル除去部材を
透過するとともに、パーティクル除去部材の内部にまた
はパーティクル除去部材の外周面もしくは内周面に添わ
せてあるいはその両方に配設された気体透過部材を通過
して、密閉容器の内面とパーティクル除去部材の外周面
とで形成された液流路内へ流入し、その液流路内から密
閉容器の処理液流出口を通って処理液供給配管内へ流出
する。あるいは、処理液は、処理液供給配管内から処理
液流入口を通って、密閉容器の内面と密閉容器の内部に
配設され一端側が閉塞部材によって閉塞された円筒状の
パーティクル除去部材の外周面とで形成された液流路内
へ流入し、その液流路内から、パーティクル除去部材を
透過するとともに気体透過部材を通過して、パーティク
ル除去部材の中空部内へ流入し、その中空部内から密閉
容器の処理液流出口を通って処理液供給配管内へ流出す
る。また、気体透過部材の通気路は、円筒状のパーティ
クル除去部材の軸線方向に沿って形成され、一端側が気
体閉塞部材によって閉塞されており、他端側が密閉容器
の通気口に連通していることにより、通気路内が減圧さ
れ、あるいは通気路内へ気体が供給される。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
について図面を参照しながら説明する。

【００１８】図１は、基板処理装置の１例である基板回
転式現像装置へ現像液を供給する現像液供給系の概略構
成の１例を示す図である。基板回転式現像装置１０は、
スピンチャック１２上に基板Ｗを水平姿勢で吸着保持し
た状態で、基板Ｗを鉛直軸回りに回転させながら、吐出
ノズル１４の吐出口から基板Ｗの表面へ現像液を供給し
て、基板Ｗ表面に形成された露光済みのフォトレジスト
膜を現像処理するようになっている。

【００１９】現像装置１０の吐出ノズル１４へ現像液を
供給する現像液供給系は、密閉容器からなり現像液１６
を貯留する現像液タンク１８、この現像液タンク１８の
上部からそのタンク１８内の上部空間へ窒素ガスを供給
するための窒素ガス供給配管２０、および、一端側が現
像液タンク１８内の現像液１６中へ差し入れられ、他端
側が現像装置１０の吐出ノズル１４に接続された現像液
供給配管２２を備えて構成されている。そして、窒素ガ
スボンベ等の窒素ガス供給源から窒素ガス供給配管２０
を通って現像液タンク１８内の上部空間へ窒素ガスを供
給することにより、タンク１８内の現像液１６の液面を
押圧して現像液供給配管２２内へ現像液１６を送り出
し、現像液供給配管２２を通って吐出ノズル１４へ現像
液を圧送するようになっている。なお、窒素ガスの圧力
によって現像液を圧送する構成に代えて、ポンプなどに
より現像液を圧送するような構成としてもよい。

【００２０】現像液タンク１８から吐出ノズル１４へ至
る現像液供給配管２２には、後述するような構成を備え
現像液に含まれるパーティクルを除去するパーティクル
除去作用および現像液中に溶存している気体を除去する
脱気作用を有するフィルタ装置２４、配管２２内を流通
する現像液の流量を確認するための流量計２６、ならび
に、吐出ノズル１４への現像液の供給および供給停止を
切り替える開閉制御弁２８がそれぞれ介在して配設され
ている。

【００２１】フィルタ装置２４は、図２に縦断面図を、
図３に図２のIII−III矢視横断面図をそれぞれ示すよう
に、円筒状の密閉容器３０の内部に、パーティクル除去
作用を有するパーティクル除去部材３２を内蔵してお
り、パーティクル除去部材３２の内部に、脱気作用を有
する気体透過部材３４が配設されている。パーティクル
除去部材３２は、円筒状に形成されており、パーティク
ル除去部材３２の軸線方向長さより長い管体３６の外側
に嵌挿されている。管体３６の管壁には、多数の貫通小
孔３８が形成されている。パーティクル除去部材３２の
一端面（図２では下端面）は、管体３６の一端と共に閉
塞部材４０によって閉塞されている。また、パーティク
ル除去部材３２の他端面（図２では上端面）には、管体
３６の他端部（図２では上端部）に密嵌された環状部材
４２が液密に接合されている。そして、これらパーティ
クル除去部材３２、管体３６、閉塞部材４０および環状
部材４２が一体的に構成されている。

【００２２】パーティクル除去部材３２の内部に配設さ
れた気体透過部材３４は、全体形状が、パーティクル除
去部材３２と横断面同心円状の円筒状をなしており、パ
ーティクル除去部材３２の軸線方向長さと同等の長さを
有している。この気体透過部材３４は、図４に部分拡大
断面図を示すように、例えばポリエチレン系樹脂からな
る気体透過膜材によって形成された多数の細管４４を、
パーティクル除去部材３２の軸線方向に沿って並列させ
ブロック状に密集させて構成されている。そして、それ
ぞれの細管４４の内部が通気路４６となり、細管４４と
細管４４との間に液通路４８が形成されるようになって
いる。それぞれの細管４４は、気体のみを透過させ液体
を透過させない微細孔５０を多数有しており、細管４４
の外側の液通路４８を通って現像液が流れると、現像液
中に溶存している気体のみが気体透過膜材を透過して細
管４４内部の通気路４６内へ移行するようになってい
る。

【００２３】気体透過部材３４を構成している多数の細
管４４の内部のそれぞれの通気路４６の一端（図２では
下端）は、閉塞部材４０によって気密に閉塞されてい
る。また、パーティクル除去部材３２の端面が接合され
てパーティクル除去部材３２と一体的に構成された環状
部材４２に、パーティクル除去部材３２との接合面側に
開口した環状凹部からなる通気室５２が形成されてい
て、この通気室５２に、円筒状の気体透過部材３４を構
成している多数の細管４４の内部の通気路４６の他端
（図２では上端）がそれぞれ連通している。なお、図示
例では、パーティクル除去部材３２の一端面および管体
３６の一端をそれぞれ閉塞する閉塞部材４０によって、
気体透過部材３４の多数の細管４４内部の通気路４６の
一端を気密に閉塞するようにしているが、気体透過部材
３４の一端面を個別の気体閉塞部材によって閉塞するよ
うにしてもよい。

【００２４】円筒状の密閉容器３０の一端側（図２では
下端側）には、現像液流入口５４が設けられている。ま
た、密閉容器３０の他端面（図２では上端面）の中央部
には、内周部の一部に雌ねじ５８が螺刻された開口部５
６が形成されており、その開口部５６に、雌ねじ５８に
螺合する雄ねじ６２が外周部の一部に螺刻され管体３６
の上端部の外周面に密嵌されて固着される取付け部材６
０が螺着されるようになっている。取付け部材６０の下
端面と環状部材４２の上端面との間には、液密状態を保
つためのＯ−リング６４が配設されている。そして、管
体３６の端部が密閉容器３０の端面から突出するよう
に、密閉容器３０の内部にパーティクル除去部材３２、
気体透過部材３４、管体３６、閉塞部材４０および環状
部材４２の一体構成物が収納され、密閉容器３０の端面
から突出した管体３６の端部が現像液流出口６６とな
る。なお、密閉容器３０は、その内部にパーティクル除
去部材３２等からなる一体構成物を収納することができ
るように、上・下に分割可能な構造とされているが、そ
の図示を省略している。パーティクル除去部材３２等か
らなる一体構成物が密閉容器３０の内部に収納された状
態で、密閉容器３０の一端側（図２では下端側）の内面
と閉塞部材４０との間、および、密閉容器３０の内周面
とパーティクル除去部材３２の外周面との間にそれぞれ
液流路が形成されるように、パーティクル除去部材３２
の軸線方向長さおよび外径のそれぞれの寸法が設定され
る。さらに、密閉容器３０の開口部５６の周辺部に、密
閉容器３０の端面に通気口６８が開口した通気路７０が
形設されていて、その通気路７０と環状部材４２に形成
された通気室５２とが連通している。密閉容器３０の通
気口６８には、図１に示すように真空ポンプ７２が流路
接続されている。なお、真空ポンプ７２を用いる代わり
に、クリーンルームなどに配備されている真空ユーティ
リティに密閉容器３０の通気口６８を流路接続するよう
にしてもよい。

【００２５】以上のような構成を有するフィルタ装置２
４は、現像液流入口５４が上流側すなわち現像液タンク
１８側となり現像液流出口６６が下流側すなわち現像装
置１０の吐出ノズル１４側となるように、現像液供給配
管２２に、それぞれ図示しない管継手を介して接続され
る。また、密閉容器３０の通気口６８が、真空ポンプ７
２に接続された配管７４に図示しない管継手を介して接
続され、気体透過部材３４の多数の細管４４の内部の通
気路４６内が所定の圧力に減圧されるようになってい
る。そして、現像液供給配管２２内に現像液を流すと、
現像液は、図２に流れの方向を矢印で示すように、現像
液供給配管２２内から現像液流入口５４を通って密閉容
器３０内へ流入し、密閉容器３０の内面とパーティクル
除去部材３２の外周面および閉塞部材４０との間に形成
された液流路を通り、その液流路からパーティクル除去
部材３２を透過するとともに気体透過部材３４を通過し
て、貫通小孔３８を通り管体３６内へ流入する。この際
に、現像液に含まれているパーティクルがパーティクル
除去部材３２によって除去されるとともに、現像液中に
溶存している気体が、気体透過部材３４の通気路４６を
形成している気体透過膜材を通して減圧状態の通気路４
６内へ移行して、現像液中から気体が除去される。そし
て、パーティクルが除去されて清浄化されるとともに脱
気された現像液は、管体３６内を通り、現像液流出口６
６を通ってフィルタ装置２４から流出し、現像液供給配
管２２を通って現像装置１０の吐出ノズル１４へ送られ
る。

【００２６】このフィルタ装置２４は、密閉容器３０の
内部にパーティクル除去部材３２と共に気体透過部材３
４を内蔵しているので、パーティクル除去機能のみを有
するフィルタ装置が現像液供給配管に介設された既設の
現像液供給系に、現像液中に溶存する気体を除去する脱
気機能を付加しようとする場合には、このフィルタ装置
２４を、パーティクル除去機能のみを有するフィルタ装
置と交換して配設すればよい。したがって、従来のよう
に、フィルタ装置とは別に脱気装置を現像液供給配管に
追加して設置する、といったことを行わなくてもよいの
で、脱気装置の取付けのための余分なスペースを必要と
することがない。また、パーティクル除去機能と共に脱
気機能を有する現像液供給系を新規に設計しようとする
場合には、従来のように、フィルタ装置の他に脱気装置
の取付けのためのスペースを確保する、といった必要が
無いので、現像液供給系の設置スペースが少なくて済
み、また、コスト的にも有利となる。

【００２７】なお、上記した実施形態では、フィルタ装
置２４において、現像液を、密閉容器３０の一端側（図
２では下端側）から密閉容器３０の内面とパーティクル
除去部材３２の外周面および閉塞部材４０との間に形成
された液流路へ流入させ、その液流路からパーティクル
除去部材３２を透過させるとともに気体透過部材３４を
通過させて管体３６内へ流入させ、管体３６内からその
端部（図２では上端部）を通って流出させるようにして
いるが、図２に示したフィルタ装置２４の現像液流入口
５４を現像液流出口とし現像液流出口６６を現像液流入
口として、現像液を矢印で示した方向とは逆向きに流す
ようにしてもよい。この場合には、現像液は、管体３６
の端部（図２では上端部）の現像液流入口を通って流入
し、管体３６内を通り、その管体３６内から貫通小孔３
８を通ってパーティクル除去部材３２を透過するととも
に気体透過部材３４を通過して、密閉容器３０の内面と
パーティクル除去部材３２の外周面および閉塞部材４０
との間に形成された液流路へ流入し、その液流路から密
閉容器の一端部（図２では下端部）の現像液流出口を通
って流出することになる。

【００２８】また、上記した実施の形態では、通気路４
６の一端を閉塞部材４０によって気密に閉塞し、通気路
４６の他端側を真空ポンプ７２に連通させるように構成
しているが、それに限られるものではなく、例えば、通
気路４６の一端側と真空ポンプ７２とを連通させる連通
路を密閉容器３０内に形成し、通気路４６の両端を真空
ポンプ７２と連通させるようにしてもよい。

【００２９】また、上記した実施形態では、基板回転式
現像装置へ現像液を供給する現像液供給系にこの発明を
適用して、フィルタ装置２４の密閉容器３０に設けられ
気体透過部材３４の通気路４６に連通した通気口６８に
真空ポンプ７２を流路接続した例について説明したが、
この発明を、例えば、洗浄液として純水を基板の表面へ
吐出する基板洗浄装置へ洗浄液（純水）を供給する洗浄
液供給系に適用する場合には、図１中に便宜的に示した
ように、フィルタ装置２４の密閉容器３０に設けられた
通気口６８に、例えば、液化した二酸化炭素が充填され
たガスボンベ７５と液化二酸化炭素を気化させるガス発
生器７６とから構成された気体供給手段を、ガス供給配
管７８を介して流路接続する。このような構成とした場
合には、気体透過部材３４の通気路４６内へ二酸化炭素
を供給することができ、通気路４６内の二酸化炭素を、
気体透過部材３４を通過する純水中へ気体透過膜材を通
して移行させ、純水中に二酸化炭素を溶存させることが
できる。これにより、純水の比抵抗値を下げて帯電が起
こりにくくした上で、純水を基板表面へ供給することが
できるようになる。なお、純水中に溶存させる気体とし
ては、二酸化炭素に限らず、誘電率の高い気体であれば
よい。

【００３０】また、上記した実施形態では、円筒状のパ
ーティクル除去部材３２の内部に、それと横断面同心円
状の円筒状をなす気体透過部材３４を配設するようにし
たが、図５に概略横断面図を示すように、円筒状のパー
ティクル除去部材８０の内周面に添うように円筒状の気
体透過部材８２を配設するようにしてもよいし、図６に
示すように、円筒状のパーティクル除去部材８４の外周
面に添うように円筒状の気体透過部材８６を配設するよ
うにしてもよい。さらに、円筒状のパーティクル除去部
材の内周面および外周面の両方に添うように円筒状の気
体透過部材をそれぞれ配設するようにしてもよいし、パ
ーティクル除去部材の内部に気体透過部材を配設すると
ともに、円筒状のパーティクル除去部材の内周面および
／または外周面に添うように気体透過部材を配設するよ
うにしてもよい。また、パーティクル除去部材の全周に
わたって気体透過部材を配設する必要は必ずしも無く、
図７に概略横断面図を示すように、気体透過膜材によっ
て形成された多数の細管を並列させブロック状に密集さ
せて構成された気体透過部材８８ａ〜８８ｄを、パーテ
ィクル除去部材９０に部分的に配設するようにしてもよ
い。

【００３１】さらに、上記した説明では、パーティクル
除去部材３２および気体透過部材３４の各形状を円筒状
としたが、パーティクル除去部材および気体透過部材
は、各種形状に成形することができ、例えば、パーティ
クル除去部材を平板状として、その内部におよび／また
はパーティクル除去部材の片面もしくは両面に添わせて
平板状の気体透過部材を配設するようにしてもよい。

【００３２】

【発明の効果】請求項１に係る発明の処理液供給装置用
フィルタ装置を使用すると、既設の基板処理システムの
処理液供給装置の処理液供給配管にも、パーティクル除
去機能のみを有するフィルタ装置と交換するだけで、脱
気機能や気体溶存機能を容易に付加することができると
ともに、配管の取回しが最小限で済むので、同一機種の
装置間での互換性を保つことができ、また、処理液供給
装置を新規に設置する場合には、装置の小型化および低
コスト化を図ることができる。

【００３３】請求項２に係る発明のフィルタ装置を使用
すると、処理液中から気体を除去することが可能にな
る。

【００３４】請求項３に係る発明のフィルタ装置を使用
すると、処理液中に気体、例えば純水中に二酸化炭素を
溶存させることが可能になる。

【００３５】請求項４に係る発明のフィルタ装置では、
密閉容器の内部に配設されるパーティクル除去部材およ
び気体透過部材が円筒状をなしているので、装置がコン
パクトになる。

【図面の簡単な説明】

【図１】基板処理装置の１例である基板回転式現像装置
へ現像液を供給する現像液供給系の概略構成の１例を示
す図である。

【図２】この発明の１実施形態を示すフィルタ装置の縦
断面図である。

【図３】図２のIII−III矢視横断面図である。

【図４】図２に示したフィルタ装置の構成要素の１つで
ある気体透過部材の部分拡大断面図である。

【図５】フィルタ装置におけるパーティクル除去部材へ
の気体透過部材の配設形態の別の例を示す概略横断面図
である。

【図６】フィルタ装置におけるパーティクル除去部材へ
の気体透過部材の配設形態のさらに別の例を示す概略横
断面図である。

【図７】フィルタ装置におけるパーティクル除去部材へ
の気体透過部材の配設形態のさらに別の例を示す概略横
断面図である。

【符号の説明】

Ｗ 基板 １０ 基板回転式現像装置 １２ スピンチャック １４ 吐出ノズル １６ 現像液 １８ 現像液タンク ２０ 窒素ガス供給配管 ２２ 現像液供給配管 ２４ フィルタ装置 ３０ 密閉容器 ３２、８０、８４、９０ パーテイクル除去部材 ３４、８２、８６、８８ａ〜８８ｄ 気体透過部材 ３６ 管体 ３８ 管体の貫通小孔 ４０ 閉塞部材 ４２ 環状部材 ４４ 気体透過膜材によって形成された細管 ４６ 通気路 ４８ 液通路 ５０ 微細孔 ５２ 通気室 ５４ 現像液流入口 ５６ 開口部 ６０ 取付け部材 ６６ 現像液流入口 ６８ 通気口 ７０ 通気路 ７２ 真空ポンプ ７４ 配管 ７５ 液化した二酸化炭素が充填されたガスボンベ ７６ ガス発生器 ７８ ガス供給配管

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/31 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｚ

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板処理装置へ処理液を供給する処理液
   供給装置の処理液供給配管に介在して配設された処理液
   供給装置用フィルタ装置において、 処理液流入口および処理液流出口ならびに通気口を有す
   る密閉容器の内部に、その内部を流路的に処理液流入側
   と処理液流出側とに仕切るようにパーティクル除去部材
   を配設し、そのパーティクル除去部材の内部におよび／
   またはパーティクル除去部材の表面に添わせて、気体の
   みを透過させる気体透過膜材によって通気路が形成され
   少なくとも一方の端部が前記密閉容器の通気口に連通し
   た気体透過部材を配設したことを特徴とする処理液供給
   装置用フィルタ装置。
2. 【請求項２】 気体透過部材の通気路に連通した密閉容
   器の通気口が減圧手段に流路接続された請求項１記載の
   処理液供給装置用フィルタ装置。
3. 【請求項３】 気体透過部材の通気路に連通した密閉容
   器の通気口が気体供給手段に流路接続された請求項１記
   載の処理液供給装置用フィルタ装置。
4. 【請求項４】 パーティクル除去部材が円筒状をなし、
   その円筒状のパーティクル除去部材の一端側が閉塞部材
   によって液密に閉塞されるとともに、円筒状のパーティ
   クル除去部材が、その中空部と密閉容器の処理液流入口
   または処理液流出口とが連通するように密閉容器の内部
   に配設され、パーティクル除去部材の内部におよび／ま
   たはパーティクル除去部材の外周面もしくは内周面に添
   うように気体透過部材が配設されて、その気体透過部材
   の通気路が前記パーティクル除去部材の軸線方向に沿っ
   て形成され、通気路の一端側が気体閉塞部材によって気
   密に閉塞されるとともに他端側が前記密閉容器の通気口
   に連通した請求項１ないし請求項３のいずれかに記載の
   処理液供給装置用フィルタ装置。