JPH05228304A - フィルター装置 - Google Patents
フィルター装置Info
- Publication number
- JPH05228304A JPH05228304A JP3598592A JP3598592A JPH05228304A JP H05228304 A JPH05228304 A JP H05228304A JP 3598592 A JP3598592 A JP 3598592A JP 3598592 A JP3598592 A JP 3598592A JP H05228304 A JPH05228304 A JP H05228304A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- filter
- container
- bubbles
- filter container
- check valve
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 レジスト液などの液体に混入した気泡を効果
的に除去する。 【構成】 加圧されたレジスト液がフィルター入口１よ
りフィルター容器２に流入してフィルター部３を通過し
てフィルター出口４より他の装置に供給される。振動装
置５は、フィルター部押え６に固定されたフィルター部
３を振動させてフィルター容器２の内壁とフィルター部
３の表面部分に発生した気泡を剥離する。剥離した気泡
は、フィルター容器２の上部付近に集められ、容器内部
が加圧されたときに、わずかのレジスト液とともに気泡
排出孔７および逆止弁８を通って排出される。逆止弁８
は、フィルター容器２の内部が負圧になったときに逆流
を防止する。
的に除去する。 【構成】 加圧されたレジスト液がフィルター入口１よ
りフィルター容器２に流入してフィルター部３を通過し
てフィルター出口４より他の装置に供給される。振動装
置５は、フィルター部押え６に固定されたフィルター部
３を振動させてフィルター容器２の内壁とフィルター部
３の表面部分に発生した気泡を剥離する。剥離した気泡
は、フィルター容器２の上部付近に集められ、容器内部
が加圧されたときに、わずかのレジスト液とともに気泡
排出孔７および逆止弁８を通って排出される。逆止弁８
は、フィルター容器２の内部が負圧になったときに逆流
を防止する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、主に半導体製造工程の
レジスト膜形成においてレジスト液に混入する気体成分
を効果的に除去して、安定な膜形成を可能にするフィル
ター装置に関するものである。
レジスト膜形成においてレジスト液に混入する気体成分
を効果的に除去して、安定な膜形成を可能にするフィル
ター装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程におけるレジスト膜形成
は、スピンナー上に固定した半導体基板にレジスト液を
滴下した後、スピンナーを所定の回転数で回転させる方
法を用いるのが一般的である。
は、スピンナー上に固定した半導体基板にレジスト液を
滴下した後、スピンナーを所定の回転数で回転させる方
法を用いるのが一般的である。
【０００３】このとき滴下するレジスト液には、きわめ
て高い清浄度が要求される。なぜならば、レジスト液中
に異物や配管のリークによる気泡が存在すると、形成さ
れたレジスト膜に欠陥を生じるためである。
て高い清浄度が要求される。なぜならば、レジスト液中
に異物や配管のリークによる気泡が存在すると、形成さ
れたレジスト膜に欠陥を生じるためである。
【０００４】超ＬＳＩの量産におけるレジスト液の供給
は、レジストタンクからベローズポンプにより加圧され
てフィルター装置で濾過された後、ノズルから半導体基
板上に滴下される。
は、レジストタンクからベローズポンプにより加圧され
てフィルター装置で濾過された後、ノズルから半導体基
板上に滴下される。
【０００５】滴下されるレジスト液は、半導体基板一枚
あたり２〜４ｍｌである。この供給系において接液部分
は不純物の抽出がきわめて少ない弗素樹脂あるいはフロ
ロカーボン樹脂等が使用される。
あたり２〜４ｍｌである。この供給系において接液部分
は不純物の抽出がきわめて少ない弗素樹脂あるいはフロ
ロカーボン樹脂等が使用される。
【０００６】フィルター装置は孔径が０.１〜０.２μｍ
のフィルター部とフィルター部を覆うフィルター容器と
からなり、フィルター容器の上部に気泡除去孔が設けら
れており、フィルター容器がベローズポンプで加圧され
たときにフィルター部流量の５〜１０％をレジスト液に
混入した気泡とともに排出させる。
のフィルター部とフィルター部を覆うフィルター容器と
からなり、フィルター容器の上部に気泡除去孔が設けら
れており、フィルター容器がベローズポンプで加圧され
たときにフィルター部流量の５〜１０％をレジスト液に
混入した気泡とともに排出させる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】超ＬＳＩの製造に使用
されるレジスト液は、ノボラック樹脂をベースレジンに
使ったポジ型レジストが大部分である。
されるレジスト液は、ノボラック樹脂をベースレジンに
使ったポジ型レジストが大部分である。
【０００８】感光剤はナフトキノンジアジドをベンゾフ
ェノン系のバックボーン材料につけたものが多い。これ
らを有機溶媒に溶かしてあるが感光剤は、レジスト中で
析出しやすい。
ェノン系のバックボーン材料につけたものが多い。これ
らを有機溶媒に溶かしてあるが感光剤は、レジスト中で
析出しやすい。
【０００９】レジストの供給系では、配管の微小なリー
クによる空気の混入やレジスト液中に溶けていた空気が
気泡となってフィルター装置内に留まり、この部分で感
光剤が析出して異物を形成することが知られている。
クによる空気の混入やレジスト液中に溶けていた空気が
気泡となってフィルター装置内に留まり、この部分で感
光剤が析出して異物を形成することが知られている。
【００１０】このため、フィルター装置の上部に溜った
空気をつねに排出する機構が採用されている。
空気をつねに排出する機構が採用されている。
【００１１】しかしこの方法では、発生した気泡がそれ
自体の浮力によってフィルター容器の内壁やフィルター
部の表面から離れてフィルター容器の上部に達するため
には、かなり大きな気泡に成長する必要があり、成長す
るまでに析出が起こる。この析出した異物は形成したレ
ジスト膜に欠陥を生ずる。
自体の浮力によってフィルター容器の内壁やフィルター
部の表面から離れてフィルター容器の上部に達するため
には、かなり大きな気泡に成長する必要があり、成長す
るまでに析出が起こる。この析出した異物は形成したレ
ジスト膜に欠陥を生ずる。
【００１２】また、気泡を含んだレジスト液で膜形成を
行うと膜に塗布むら等の欠陥を生じる。これらの欠陥を
防止することは超ＬＳＩ製造のレジスト膜形成工程にお
ける課題である。
行うと膜に塗布むら等の欠陥を生じる。これらの欠陥を
防止することは超ＬＳＩ製造のレジスト膜形成工程にお
ける課題である。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明のフィルター装置
は、上記の問題を解決するために、フィルター容器の上
部にフィルター容器内の圧力よりも低圧で解放される逆
止弁を持つ気泡除去孔を設けるとともに、フィルター部
とそれを収納したフィルター容器に外部から振動を与え
る振動装置とを備えたものである。
は、上記の問題を解決するために、フィルター容器の上
部にフィルター容器内の圧力よりも低圧で解放される逆
止弁を持つ気泡除去孔を設けるとともに、フィルター部
とそれを収納したフィルター容器に外部から振動を与え
る振動装置とを備えたものである。
【００１４】
【作用】本発明によれば、フィルター部とフィルター容
器に振動を与えることによってフィルター容器の内壁面
およびフィルター部の表面に発生した気泡を効果的に剥
離してフィルター容器上部に集めることができる。
器に振動を与えることによってフィルター容器の内壁面
およびフィルター部の表面に発生した気泡を効果的に剥
離してフィルター容器上部に集めることができる。
【００１５】また、フィルター容器内に圧力を加えたと
きに、フィルター容器上部の気泡除去孔より集まった気
泡を確実に排出できる。気泡排出孔が持つ逆止弁は、フ
ィルター容器内の圧力が気泡排出孔の解放圧力よりも低
くなった場合に逆流を防止するものである。
きに、フィルター容器上部の気泡除去孔より集まった気
泡を確実に排出できる。気泡排出孔が持つ逆止弁は、フ
ィルター容器内の圧力が気泡排出孔の解放圧力よりも低
くなった場合に逆流を防止するものである。
【００１６】
【実施例】本発明の一実施例について、図１を参照しな
がら説明する。
がら説明する。
【００１７】レジスト液はベローズポンプ（図示せず）
で間欠的に加圧されてフィルター入口１よりフィルター
容器２内に流入する。流量はベローズポンプの一動作当
り４ｍｌである。
で間欠的に加圧されてフィルター入口１よりフィルター
容器２内に流入する。流量はベローズポンプの一動作当
り４ｍｌである。
【００１８】流入したレジスト液はフィルター部３を通
過して濾過された後、フィルター出口４より配管を経て
半導体基板に滴下される。
過して濾過された後、フィルター出口４より配管を経て
半導体基板に滴下される。
【００１９】振動装置５はフィルター容器２に振動を与
え、その振動はフィルター部押え６を伝わってフィルタ
ー部３に伝えられる。これによってフィルター容器２の
内壁およびフィルター部３の表面に発生した気泡が剥離
し、その浮力によってフィルター容器２の上部にある気
泡排出孔７の付近に集まる。このとき、フィルター容器
２の全体を少し傾けて気泡排出孔７が高い位置になるよ
うに固定すると、効果的に気泡を集めることができる。
集まった気泡は、ベローズポンプによる圧力が加わった
ときに、気泡排出孔７より逆止弁８を経てわずかのレジ
スト液とともに排出される。
え、その振動はフィルター部押え６を伝わってフィルタ
ー部３に伝えられる。これによってフィルター容器２の
内壁およびフィルター部３の表面に発生した気泡が剥離
し、その浮力によってフィルター容器２の上部にある気
泡排出孔７の付近に集まる。このとき、フィルター容器
２の全体を少し傾けて気泡排出孔７が高い位置になるよ
うに固定すると、効果的に気泡を集めることができる。
集まった気泡は、ベローズポンプによる圧力が加わった
ときに、気泡排出孔７より逆止弁８を経てわずかのレジ
スト液とともに排出される。
【００２０】逆止弁８は、ベローズポンプの吸入動作の
ときに、弁の動作遅延によりフィルター容器２の内部が
わずかな負圧となるため、逆流を防止するためのもので
ある。
ときに、弁の動作遅延によりフィルター容器２の内部が
わずかな負圧となるため、逆流を防止するためのもので
ある。
【００２１】本実施例のフィルター装置は、フィルター
容器２にステンレススチール材料を使用して、ベローズ
ポンプの間欠的な加圧に対して高い剛性を持たせるとと
もに、接液部を高純度の弗素樹脂で被覆して、それから
レジスト液への不純物の抽出を防いでいる。また、フィ
ルター部３も高純度のフロロカーボンを使用している。
容器２にステンレススチール材料を使用して、ベローズ
ポンプの間欠的な加圧に対して高い剛性を持たせるとと
もに、接液部を高純度の弗素樹脂で被覆して、それから
レジスト液への不純物の抽出を防いでいる。また、フィ
ルター部３も高純度のフロロカーボンを使用している。
【００２２】振動装置５は電磁ソレノイドを使用した振
動装置で、６０Ｈｚ前後の振動波を発生させて１分程度
の振動を１時間毎にフィルター容器２とフィルター部３
に与える。
動装置で、６０Ｈｚ前後の振動波を発生させて１分程度
の振動を１時間毎にフィルター容器２とフィルター部３
に与える。
【００２３】本実施例によれば、効果的にレジスト液に
混入した気泡をフィルター装置内から除去できることが
確認された。
混入した気泡をフィルター装置内から除去できることが
確認された。
【００２４】
【発明の効果】本発明のフィルター装置は、レジスト液
などの液体に混入した気泡をフィルター装置内より効果
的に除去できるため、気泡と薬液の界面で析出する異物
の発生や配管内に残留する気泡によるトラブルをきわめ
て少なくすることができ、液体濾過分野において非常に
有用なものである。
などの液体に混入した気泡をフィルター装置内より効果
的に除去できるため、気泡と薬液の界面で析出する異物
の発生や配管内に残留する気泡によるトラブルをきわめ
て少なくすることができ、液体濾過分野において非常に
有用なものである。
【図１】本発明における一実施例のフィルター装置の断
面図
面図
１ フィルター入口 ２ フィルター容器 ３ フィルター部 ４ フィルター出口 ５ 振動装置 ６ フィルター部押え ７ 気泡排出孔 ８ 逆止弁
Claims (1)
- 【請求項１】 フィルター入口と、前記フィルター容器
の上部に、フィルター容器内の圧力よりも低い圧力で解
放される逆止弁と、前記フィルター容器に外部から振動
を与える振動装置と、前記フィルター入口から前記フィ
ルター容器に流入する液体を濾過するフィルター部とを
備えたフィルター装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3598592A JPH05228304A (ja) | 1992-02-24 | 1992-02-24 | フィルター装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3598592A JPH05228304A (ja) | 1992-02-24 | 1992-02-24 | フィルター装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05228304A true JPH05228304A (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=12457163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3598592A Pending JPH05228304A (ja) | 1992-02-24 | 1992-02-24 | フィルター装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05228304A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
| KR100669867B1 (ko) * | 2001-05-30 | 2007-01-17 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 조성물의 필터링 장치 |
| KR100857995B1 (ko) * | 2003-11-03 | 2008-09-10 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 감광액 여과장치 및 그 불순물 제거방법 |
| JP2009060129A (ja) * | 2008-10-30 | 2009-03-19 | Oki Semiconductor Miyazaki Co Ltd | レジスト塗布方法 |
| KR20160107336A (ko) * | 2014-01-27 | 2016-09-13 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 포토레지스트 분배 시스템을 위한 능동 필터 기술 |
-
1992
- 1992-02-24 JP JP3598592A patent/JPH05228304A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100669867B1 (ko) * | 2001-05-30 | 2007-01-17 | 삼성전자주식회사 | 포토레지스트 조성물의 필터링 장치 |
| JP2004056131A (ja) * | 2003-07-03 | 2004-02-19 | Miyazaki Oki Electric Co Ltd | レジスト塗布装置 |
| KR100857995B1 (ko) * | 2003-11-03 | 2008-09-10 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 감광액 여과장치 및 그 불순물 제거방법 |
| JP2009060129A (ja) * | 2008-10-30 | 2009-03-19 | Oki Semiconductor Miyazaki Co Ltd | レジスト塗布方法 |
| KR20160107336A (ko) * | 2014-01-27 | 2016-09-13 | 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 | 포토레지스트 분배 시스템을 위한 능동 필터 기술 |
| JP2017506838A (ja) * | 2014-01-27 | 2017-03-09 | 東京エレクトロン株式会社 | フォトレジストディスペンスシステムのためのアクティブフィルタ技術 |
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