JPH11214605A - Manufacture of semiconductor device and lead frame used in the manufacturing method - Google Patents
Manufacture of semiconductor device and lead frame used in the manufacturing methodInfo
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- JPH11214605A JPH11214605A JP1006498A JP1006498A JPH11214605A JP H11214605 A JPH11214605 A JP H11214605A JP 1006498 A JP1006498 A JP 1006498A JP 1006498 A JP1006498 A JP 1006498A JP H11214605 A JPH11214605 A JP H11214605A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置の製造方
法およびその製造に用いるリードフレームに関し、特
に、リードフレームの状態でリード成形を行った後にリ
ードにメッキ処理を施し、その後リードを切断して半導
体装置を製造する技術に適用して有効な技術に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a semiconductor device and a lead frame used in the manufacturing thereof, and more particularly, to a method of forming a lead in a state of a lead frame, plating the lead, and then cutting the lead. The present invention relates to a technology effective when applied to a technology for manufacturing a semiconductor device.
【0002】[0002]
【従来の技術】IC(集積回路装置)等の半導体装置に
おいて、半導体チップ等を封止する封止構造として樹脂
による封止構造が知られている。2. Description of the Related Art In a semiconductor device such as an IC (integrated circuit device), a sealing structure using a resin is known as a sealing structure for sealing a semiconductor chip or the like.
【0003】樹脂封止(レジンパッケージ)型半導体装
置は、リードフレームを使用して製造される。半導体チ
ップの固定およびワイヤボンディングが終了したリード
フレームは、トランスファモールド装置によって所定領
域をモールドされる。その後封止領域から食み出したレ
ジンバリを除去した後、リードを連結するダム(タイバ
ー)の切断除去,リード切断,リード成形を行って所望
の半導体装置を製造している。[0003] A resin-sealed (resin package) type semiconductor device is manufactured using a lead frame. A predetermined area of the lead frame on which the fixing of the semiconductor chip and the wire bonding are completed is molded by a transfer molding apparatus. Then, after removing resin burrs protruding from the sealing region, a desired semiconductor device is manufactured by cutting and removing a dam (tie bar) connecting the leads, cutting the leads, and forming the leads.
【0004】一方、トランスファモールド後リードフレ
ームの状態でリード成形を行った後リードにメッキ処理
を施し、その後リードを切断して半導体装置を製造する
技術が知られている。On the other hand, there is known a technique of manufacturing a semiconductor device by performing lead molding in a state of a lead frame after transfer molding, plating the leads, and then cutting the leads.
【0005】リード成形後にリードにメッキを施す技術
としては、たとえば、特開平8-148624号公報に記載され
た技術が知られている。[0005] As a technique for plating a lead after the lead is formed, for example, a technique described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-148624 is known.
【0006】この文献には、「半導体チップおよびリー
ドフレームを樹脂モールドにて一体的に封止した後、ダ
ムバーおよび連結部によって連結されたアウターリード
を一体的にまとめて折り曲げ成形する。この時、外枠部
を固定し、連結部と外枠部の間に設けられた変形部の伸
び変形を利用してスムーズに折り曲げ成形を行う。つぎ
に、ダムバーをレーザ切断し、生じたドロスを化学的処
理によってほぼ完全に除去する。その後、アウターリー
ドにはんだメッキを施し、連結部を切断する。」旨記載
されている。[0006] This document states that "after a semiconductor chip and a lead frame are integrally sealed with a resin mold, the outer leads connected by a dam bar and a connecting portion are integrally bent and formed. The outer frame is fixed, and the bending process is performed smoothly by using the extension deformation of the deformed portion provided between the connecting portion and the outer frame.The dam bar is laser-cut and the generated dross is chemically cut. It is almost completely removed by the treatment. Thereafter, the outer leads are plated with solder, and the connecting portions are cut. "
【0007】一方、日経BP社発行「VLSIパッケー
ジング技術(下)」1993年5月15日発行、P41〜P43に
は、バリ取りについて記載されている。同文献には、モ
ールド後、リード間やリード表面のバリを除去(バリ取
り工程)した後、ハンダ・メッキ,ハンダ・ディップ,
スズ・メッキ等の外装処理を行い、その後リード成形
(トリミングおよびフオーミング)を行う旨記載されて
いる。前記バリ取りは、高圧水法や液体ホーニング法に
よって行われる。On the other hand, "VLSI Packaging Technology (Lower)" published by Nikkei BP, published on May 15, 1993, pages P41 to P43, describes deburring. According to the document, after molding, after removing burrs between leads and the surface of the leads (burr removing step), solder plating, solder dip,
It is described that exterior processing such as tin plating is performed, and then lead molding (trimming and forming) is performed. The deburring is performed by a high-pressure water method or a liquid honing method.
【0008】また、同文献には、バリを除いておかない
と、外装処理後にバリが剥離し、リードフレームの素地
が露出して、アウタ・リードのハンダ濡れ性,耐食性が
損なわれる旨記載されている。[0008] In addition, the document describes that if the burrs are not removed, the burrs will be peeled off after the exterior treatment, and the base material of the lead frame will be exposed, thereby impairing the solder wettability and corrosion resistance of the outer leads. ing.
【0009】また、前記VLSIパッケージング技術
(下)のP49には、リードをガルウィング形状に形成す
る曲げ金型として、曲げダイと曲げポンチによるしごき
方法、カム方式、ローラを使用した水平曲げによるロー
ラ方式が記載されている。In P49 of the VLSI packaging technology (below), a bending die for forming a lead in a gull wing shape is provided with a bending method using a bending die and a bending punch, a cam method, and a roller formed by horizontal bending using a roller. The method is described.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】リードフレームにメッ
キをした後、リード成形を行う従来の半導体装置の製造
方法では、リード成形時にリードが擦られ、メッキ屑が
発生し、成形不良の原因になったりする。また、メッキ
屑除去のための金型の掃除には時間が掛かる。この結
果、製品コストの上昇を来す。In a conventional method of manufacturing a semiconductor device in which a lead frame is plated and then a lead is formed, the lead is rubbed at the time of forming the lead, and plating debris is generated. Or Further, it takes time to clean the mold to remove the plating debris. This results in increased product costs.
【0011】このため、前記文献にも記載されているよ
うに、リードフレームの状態でリード成形を行った後、
リードにメッキを形成する半導体装置製造方法が採用さ
れている。For this reason, as described in the above-mentioned document, after lead molding is performed in a state of a lead frame,
A semiconductor device manufacturing method of forming plating on a lead has been adopted.
【0012】半導体装置は、一般に矩形体からなる封止
体(パッケージ)の両側からそれぞれ複数のリードを突
出させるSOP(Small Outline Package)構造や、パ
ッケージの四辺からそれぞれ複数のリードを突出させる
QFP(Quad Flat Package)構造が知られている。A semiconductor device generally has an SOP (Small Outline Package) structure in which a plurality of leads protrude from both sides of a sealing body (package) made of a rectangular body, and a QFP (QFP) in which a plurality of leads protrude from four sides of the package. Quad Flat Package) structure is known.
【0013】このため、SOP製造用のリードフレーム
においては、相互に並んで延在する複数のリードからな
るリード群は、リードフレームの中央のパッケージ領域
の両側に展開する2群となり、QFP製造用のリードフ
レームにおいてはリードフレームの中央のパッケージ領
域の4辺側に展開する4群となる。For this reason, in a lead frame for manufacturing an SOP, a lead group consisting of a plurality of leads extending side by side becomes two groups extending on both sides of a central package region of the lead frame. In this lead frame, there are four groups that are developed on the four sides of the package area at the center of the lead frame.
【0014】そして、リードフレームの状態でリード成
形を行うため、成形前に前記連結部を除く不要部分は切
断除去される。前記連結部はリードフレーム枠に変形部
を介して接続されている。この変形部は、リード成形に
よって一群のリード群がパッケージ側に移動する際の変
化を吸収するように変形するようになっている。Since lead molding is performed in the state of the lead frame, unnecessary portions except for the connecting portion are cut and removed before molding. The connecting portion is connected to the lead frame via a deforming portion. The deformed portion is deformed by lead molding so as to absorb a change when a group of leads moves to the package side.
【0015】前記変形部は、従来の場合では、前記文献
にも記載されているように、リードフレーム枠の各辺に
略平行に延在する連結部との間に形成されている。ま
た、リードの移動に追従して伸張できるように、その変
形部は左右から交互にスリット(溝)を3本入れた構造
になっている。[0015] In the conventional case, the deformed portion is formed between the connecting portion extending substantially parallel to each side of the lead frame frame, as described in the literature. Further, the deformed portion has a structure in which three slits (grooves) are alternately inserted from the left and right so that the lead can be extended following the movement of the lead.
【0016】この結果、リードフレーム枠の一辺と連結
部との間に形成される変形部の長さは長くなり、リード
フレームが大きくなって半導体装置の製造コストの低減
を妨げている。As a result, the length of the deformed portion formed between one side of the lead frame frame and the connecting portion becomes longer, and the lead frame becomes larger, thereby preventing a reduction in the manufacturing cost of the semiconductor device.
【0017】一方、前述のようにメッキを施したリード
を成形して半導体装置を製造する場合、メッキが脱離し
たり、クラックが入ることがある。リード幅が広い場合
では、前記メッキ脱離やメッキ表面のクラックは起きや
すい。これらメッキ脱離やクラックの発生は、外観不良
として製品が処理されることになり、製品コストを押し
上げることになる。On the other hand, in the case of manufacturing a semiconductor device by forming a plated lead as described above, the plating may be detached or cracked. When the lead width is wide, the plating detachment and cracks on the plating surface are likely to occur. The occurrence of these plating delaminations and cracks causes the product to be treated as poor appearance, which increases the product cost.
【0018】本発明の目的は、半導体装置の製造コスト
の低減を図ることにある。本発明の他の目的は、一部で
リード幅が広い半導体装置の製造コストの低減を図るこ
とにある。本発明の他の目的は、寸法を小さくできるリ
ードフレームを提供することにある。本発明の前記なら
びにそのほかの目的と新規な特徴は、本明細書の記述お
よび添付図面からあきらかになるであろう。An object of the present invention is to reduce the manufacturing cost of a semiconductor device. Another object of the present invention is to reduce the manufacturing cost of a semiconductor device having a partly wide lead. Another object of the present invention is to provide a lead frame whose dimensions can be reduced. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.
【0019】[0019]
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)外枠および内枠からなる枠状のリードフレーム枠
と、前記リードフレーム枠内に位置し半導体チップを固
定するタブと、前記タブの周囲に内端を延在させる複数
のリードと、前記リードを連結するダムと、前記タブを
支持するとともに少なくとも前記ダムに接続されるタブ
吊りリードと、相互に並んで延在する複数のリードから
なるリード群の各リード外端を支持するとともに前記外
枠または内枠に沿って延在する連結部と、前記連結部と
前記リードフレーム枠を連結するとともに前記連結部に
沿うリードフレーム枠寄りに食み出さずかつ前記連結部
に支持されるリードのリードフレーム枠中央への移動に
伴って変形できる形状の変形部とを有するリードフレー
ムを用意する工程と、前記タブに半導体チップを固定す
る工程と、前記リードの内端と前記半導体チップの電極
を接続手段によって電気的に接続する工程と、前記半導
体チップおよび前記接続手段ならびに前記リード内端部
分を樹脂封止によって封止して封止体を形成する工程
と、前記各リード群をリードフレーム枠に前記連結部と
変形部のみで支持するように不要リードフレーム部分を
切断除去する工程と、前記リードを成形する工程と、前
記リード成形の前または後に前記ダムを除去する工程
と、前記リードの表面をメッキする工程と、前記連結部
から各リードを切断する工程とを有する。前記リードの
一部は他のリードの幅よりも広くなっている。前記リー
ドをガルウィング型に成形する。The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application. (1) a frame-shaped lead frame frame including an outer frame and an inner frame, a tab positioned in the lead frame frame to fix a semiconductor chip, and a plurality of leads extending an inner end around the tab. A dam that connects the leads, a tab suspension lead that supports the tab and is connected to at least the dam, and supports each lead outer end of a lead group consisting of a plurality of leads extending side by side; A connecting portion extending along the outer frame or the inner frame, and a lead that connects the connecting portion and the lead frame frame and does not protrude toward the lead frame frame along the connecting portion and is supported by the connecting portion. Preparing a lead frame having a deformable portion having a shape deformable as the lead frame moves to the center of the lead frame; fixing a semiconductor chip to the tab; Electrically connecting an inner end of the semiconductor chip to an electrode of the semiconductor chip by connecting means, and sealing the semiconductor chip, the connecting means, and the inner end of the lead by resin sealing to form a sealed body. A step of cutting and removing unnecessary lead frame portions so that each lead group is supported on the lead frame frame by only the connecting portion and the deformed portion; and a step of molding the leads, and before or after the lead molding. The method includes a step of removing the dam, a step of plating a surface of the lead, and a step of cutting each lead from the connection portion. Some of the leads are wider than other leads. The lead is formed into a gull wing mold.
【0020】(2)前記手段(1)の構成において、リ
ードフレームとして、外枠および内枠からなる枠状のリ
ードフレーム枠と、前記リードフレーム枠内に位置し半
導体チップを固定するタブと、前記タブの周囲に内端を
延在させる複数のリードと、前記リードを連結するダム
と、前記タブを支持するとともに少なくとも前記ダムに
接続されるタブ吊りリードと、相互に並んで延在する複
数のリードからなるリード群の各リード外端を支持する
とともに前記外枠または内枠に沿って延在する連結部
と、前記連結部および前記リードフレーム枠ならびに前
記ダム等をそれぞれ相互に連結する接続部を有し、前記
接続部の一部は前記連結部と前記リードフレーム枠を連
結するとともに前記連結部に沿うリードフレーム枠寄り
に食み出さない変形部となり前記接続部の一部および不
要リードフレーム部を切断して前記ダムから分離した後
は前記連結部に支持されるリードのリードフレーム枠中
央への移動に伴って変形できる構造のリードフレームを
用意する。(2) In the configuration of the means (1), as the lead frame, a frame-shaped lead frame frame including an outer frame and an inner frame, and a tab positioned in the lead frame frame for fixing a semiconductor chip; A plurality of leads extending an inner end around the tab, a dam connecting the leads, a tab suspension lead supporting the tab and being connected to at least the dam, a plurality of tabs extending side by side with each other; A connecting portion that supports the outer end of each lead of the lead group including the leads and extends along the outer frame or the inner frame, and a connection that interconnects the connecting portion, the lead frame frame, the dam, and the like. A portion that connects the connecting portion and the lead frame frame and does not protrude toward the lead frame frame along the connecting portion. After cutting off a part of the connecting portion and the unnecessary lead frame portion and separating it from the dam, a lead frame having a structure that can be deformed as the lead supported by the connecting portion moves to the center of the lead frame frame is prepared. I do.
【0021】前記(1)の手段によれば、各リード群を
支持する連結部に連なる変形部は、前記連結部と前記リ
ードフレーム枠を連結するとともに前記連結部に沿うリ
ードフレーム枠寄りに食み出さずかつ前記連結部に支持
されるリードのリードフレーム枠中央への移動に伴って
変形できる形状になっていることから、連結部とリード
フレーム枠との間の寸法を小さくでき、リードフレーム
の小型化が達成できる。According to the above-mentioned means (1), the deformed portion connected to the connecting portion supporting each lead group connects the connecting portion to the lead frame frame and eclipses near the lead frame frame along the connecting portion. Since the lead does not protrude and has a shape that can be deformed along with the movement of the lead supported by the connecting portion to the center of the lead frame frame, the dimension between the connecting portion and the lead frame frame can be reduced, and the lead frame Can be reduced in size.
【0022】したがって、リードフレームの材料費の軽
減から半導体装置の製造コストの低減が達成できる。Therefore, it is possible to reduce the manufacturing cost of the semiconductor device by reducing the material cost of the lead frame.
【0023】前記(2)の手段によれば、各リード群を
支持する連結部を支持する変形部は変形部を介して接続
部に支持されている。前記接続部のリードフレーム枠と
変形部との連なる部分を除く部分および不要リードフレ
ーム部の製造段階での切断によって前記連結部は変形部
で支持されることになり、前記切断の後は前記手段
(1)の場合と同様に各リード群の成形が可能になる。
また、この変形部は前記手段(1)の場合と同様に、前
記連結部に沿うリードフレーム枠寄りに食み出さないこ
とから、連結部とリードフレーム枠との間の寸法を小さ
くでき、リードフレームの小型化が達成できる。したが
って、リードフレームの材料費の軽減から半導体装置の
製造コストの低減が達成できる。According to the means (2), the deformed portion supporting the connecting portion supporting each lead group is supported by the connecting portion via the deformed portion. The connecting portion is supported by the deformed portion by cutting at the manufacturing stage of the portion of the connecting portion except for the portion where the lead frame frame and the deformed portion are continuous and the unnecessary lead frame portion, and after the cutting, the means Each lead group can be formed as in the case of (1).
Further, as in the case of the means (1), the deformed portion does not protrude toward the lead frame frame along the connecting portion, so that the dimension between the connecting portion and the lead frame frame can be reduced, and the lead can be reduced. The size of the frame can be reduced. Therefore, the reduction of the material cost of the lead frame and the reduction of the manufacturing cost of the semiconductor device can be achieved.
【0024】[0024]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, components having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.
【0025】(実施形態1)図1乃至図9は本発明の一
実施形態(実施形態1)である半導体装置の製造に係わ
る図である。(Embodiment 1) FIGS. 1 to 9 are diagrams relating to the manufacture of a semiconductor device according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention.
【0026】本実施形態1では、図2および図3に示す
ようなQFP型の半導体装置の製造に本発明を適用した
例について説明する。In the first embodiment, an example in which the present invention is applied to the manufacture of a QFP type semiconductor device as shown in FIGS. 2 and 3 will be described.
【0027】半導体装置1は、図2および図3に示すよ
うに、偏平矩形体からなる絶縁性樹脂製の封止体(パッ
ケージ)2の周面の4辺から、それぞれリード3を複数
突出させている。これらのリード3はガルウィング形に
成形されている。As shown in FIGS. 2 and 3, the semiconductor device 1 has a plurality of leads 3 protruding from four sides of a peripheral surface of a sealing body (package) 2 made of a flat rectangular body and made of an insulating resin. ing. These leads 3 are formed in a gull wing shape.
【0028】また、パッケージ2の各辺におけるリード
群(リード列)4において、中央のリード3bは他のリ
ード3aに比較して大幅に幅が広くなっている。この中
央のリード(幅広リード)3bは、前記パッケージ2内
に位置する半導体チップ5を支持するタブ6に連なり、
半導体チップ5で発生する熱を実施基板に伝達したり、
空気中に放散する役割を果たす。In the lead group (lead row) 4 on each side of the package 2, the center lead 3b is much wider than the other leads 3a. This central lead (wide lead) 3b is connected to a tab 6 supporting the semiconductor chip 5 located in the package 2,
Transferring the heat generated in the semiconductor chip 5 to the substrate,
It plays a role in releasing into the air.
【0029】つぎに、本実施形態1の半導体装置1の製
造について説明する。半導体装置1は、図4のフローチ
ャートで示すように、製造開始(ステップ101)後、
リードフレーム用意(ステップ102)、チップボンデ
ィング(ステップ103),ワイヤボンディング(ステ
ップ104),モールド(ステップ105),リード群
別分離(ステップ106),リード成形(ステップ10
7),ダム切断(ステップ108),バリ除去(ステッ
プ109),リードメッキ(ステップ110),リード
切断(ステップ111),製造終了(ステップ112)
の各工程を経て製造される。Next, the manufacture of the semiconductor device 1 of the first embodiment will be described. As shown in the flowchart of FIG. 4, the semiconductor device 1 starts manufacturing (step 101),
Lead frame preparation (Step 102), chip bonding (Step 103), wire bonding (Step 104), molding (Step 105), separation by lead group (Step 106), lead molding (Step 10)
7), Dam cutting (Step 108), Burr removal (Step 109), Lead plating (Step 110), Lead cutting (Step 111), Manufacturing end (Step 112)
It is manufactured through each of the steps.
【0030】半導体装置1の製造においてはリードフレ
ーム10が使用される。図5および図6は本発明に係わ
るリードフレーム10を示す平面図である。In manufacturing the semiconductor device 1, a lead frame 10 is used. 5 and 6 are plan views showing a lead frame 10 according to the present invention.
【0031】リードフレーム1は、たとえば、0.15
〜0.2mm程度の厚さの鉄−ニッケル系合金板,銅
板,銅合金板等をエッチングまたは精密プレスによって
パターニングすることによって形成される。The lead frame 1 is, for example, 0.15
It is formed by patterning an iron-nickel alloy plate, copper plate, copper alloy plate, or the like having a thickness of about 0.2 mm by etching or precision press.
【0032】本実施形態1におけるリードフレーム10
はQFP用のものである。図5ではダムより内側のリー
ド部分(インナーリード部分)は図が微細で不明瞭とな
ることから省略してあり、図6ではインナーリードのパ
ターンを拡大して示してある。The lead frame 10 according to the first embodiment
Is for QFP. In FIG. 5, the lead portion (inner lead portion) inside the dam is omitted because the drawing is fine and unclear, and in FIG. 6, the pattern of the inner lead is enlarged.
【0033】図5では単一のリードパターンを示すが、
実際のリードフレーム10では前記リードパターンが直
列に複数並ぶ短冊体になっている。FIG. 5 shows a single lead pattern.
The actual lead frame 10 has a strip shape in which a plurality of the lead patterns are arranged in series.
【0034】リードフレーム10は、平行に延在する一
対の外枠11と、前記一対の外枠11に直交しかつ前記
一対の外枠11を連結する内枠17とからなる矩形枠状
のリードフレーム枠13を有し、このリードフレーム枠
内にリード等を配置したパターンを基本構成にしてい
る。The lead frame 10 is a rectangular frame-shaped lead comprising a pair of outer frames 11 extending in parallel and an inner frame 17 orthogonal to the pair of outer frames 11 and connecting the pair of outer frames 11. It has a frame 13 and has a basic configuration in which a lead or the like is arranged in the lead frame.
【0035】つぎに、基本構成としてのリードパターン
について説明する。リードフレーム枠(枠)13の中央
には、半導体チップ5を固定するための略矩形状のタブ
6が設けられている。また、前記タブ6の各辺に対して
周囲の4方向から複数のリード3が延在している。Next, a lead pattern as a basic configuration will be described. At the center of the lead frame (frame) 13, a substantially rectangular tab 6 for fixing the semiconductor chip 5 is provided. In addition, a plurality of leads 3 extend from each of the sides of the tab 6 from the surrounding four directions.
【0036】4方向から相互に並んで各辺に向かって延
在する複数のリード3からなるリード群(リード列)4
において、中央のリード3bは幅が広い幅広リード3b
となり、両側のリード3は通常の幅の狭いリード3aと
なっている。A lead group (lead row) 4 composed of a plurality of leads 3 extending in each direction side by side from each other in four directions.
, The central lead 3b is a wide lead 3b
The leads 3 on both sides are ordinary narrow leads 3a.
【0037】前記幅広リード3bは前記タブ6に繋がり
タブ吊りリードをも兼ねている。これにより、この幅広
リード3bは、半導体チップ5で発生する熱を実施基板
に伝達したり、空気中に放散する役割を果たす。The wide lead 3b is connected to the tab 6 and also serves as a tab suspension lead. Thereby, the wide lead 3b plays a role of transmitting the heat generated in the semiconductor chip 5 to the implementation substrate or dissipating it into the air.
【0038】また、他のリード3aはその内端を前記タ
ブ6の周囲に近接させている。これら内端にはワイヤが
接続される。したがって、図示はしないが、内端部分に
はワイヤ接続のために金等のメッキが施されている。The other lead 3a has its inner end close to the periphery of the tab 6. Wires are connected to these inner ends. Therefore, although not shown, the inner end portion is plated with gold or the like for wire connection.
【0039】また、各リード群4において、各リード3
はリード3に直交する方向に延在する細いダム14によ
って連結されている。このダム14は同一のリード群4
において同一直線上に位置するように配置されるととも
に、両端は隣接するリード群4のダム14と交わって一
体化している。したがって、ダム14は全体で枠状のパ
ターンになっている。In each lead group 4, each lead 3
Are connected by a thin dam 14 extending in a direction perpendicular to the leads 3. This dam 14 has the same lead group 4
Are arranged so as to be located on the same straight line, and both ends intersect and are integrated with the dams 14 of the adjacent lead groups 4. Therefore, the dam 14 has a frame-like pattern as a whole.
【0040】前記ダム14は、前記パッケージ2をトラ
ンスファモールド装置によって形成する際、溶けた樹脂
の流出を防止する役割を果たすとともに、リードフレー
ム取扱時のリード3の強度部材として作用する。The dam 14 serves to prevent the melted resin from flowing out when the package 2 is formed by the transfer molding apparatus, and also functions as a strength member of the lead 3 when handling the lead frame.
【0041】一方、リード3の外端は外枠11または内
枠12に平行に延在する連結部15に連なり、連結部1
5に支持されている。この連結部15の端はリードフレ
ーム枠13の各隅に張り出すように形成された張出部2
0に変形部17を介して連なっている。On the other hand, the outer end of the lead 3 is connected to a connecting portion 15 extending parallel to the outer frame 11 or the inner frame 12,
5 is supported. An end of the connecting portion 15 is formed to project from each corner of the lead frame 13 so as to protrude.
0 through a deformation portion 17.
【0042】本実施形態1の半導体装置の製造方法にお
いては、リード成形はリードフレームの状態で行う。し
たがって、前記変形部17を設けておくことによって、
リード3の成形時前記変形部17が変形することから、
成形に伴う各リード後端部のリードフレーム枠中央への
移動を可能にするものである。In the method of manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment, lead molding is performed in a state of a lead frame. Therefore, by providing the deformation portion 17,
Since the deformed portion 17 is deformed when the lead 3 is formed,
This enables the rear end of each lead to move to the center of the lead frame frame during molding.
【0043】変形部17としては、真っ直ぐに延在する
バー状のものを直接張出部20に連なるようにしてもよ
いが、この場合、張出部20の付け根部分の変形部17
部分に大きな応力が加わって変形部が破断するおそれが
あることから、本実施形態1では変形部17を張出部2
0の近傍で屈曲させ、この屈曲部21で応力を緩和する
ようにしている。As the deforming portion 17, a bar-like member extending straight may be directly connected to the projecting portion 20, but in this case, the deforming portion 17 at the base of the projecting portion 20 is used.
In the first embodiment, since the deformed portion may be broken by applying a large stress to the portion,
It is bent near zero, and the stress is relieved at the bent portion 21.
【0044】また、これが本発明の特徴の一つである
が、前記変形部17は連結部15から外側(外枠11ま
たは内枠12側)に張り出さないように形成されてい
る。すなわち、所定の連結部15に連なる変形部17は
前記所定の連結部15に平行となって延在する外枠11
または内枠12(リードフレーム枠13)寄りには張り
出さないようになっている。This is one of the features of the present invention. The deformed portion 17 is formed so as not to protrude outwardly from the connecting portion 15 (toward the outer frame 11 or the inner frame 12). That is, the deforming portion 17 connected to the predetermined connecting portion 15 is formed by the outer frame 11 extending parallel to the predetermined connecting portion 15.
Alternatively, it does not protrude toward the inner frame 12 (lead frame frame 13).
【0045】この結果、連結部15と外枠11または内
枠12との間の隙間(溝)22は、図では幅広に描いて
いるが、リードフレーム10のパターン形成時の最小寸
法にすることができ、外枠11または内枠12と連結部
15との間に蛇行する変形部を形成した従来の場合の寸
法に比較して大幅に小さくできる。As a result, although the gap (groove) 22 between the connecting portion 15 and the outer frame 11 or the inner frame 12 is drawn wide in the figure, it should be set to the minimum size at the time of pattern formation of the lead frame 10. The size can be greatly reduced as compared with the conventional size in which a meandering deformed portion is formed between the outer frame 11 or the inner frame 12 and the connecting portion 15.
【0046】すなわち、本実施形態1では、外枠11ま
たは内枠12と連結部15との間隔(L)は溝1本を形
成するための寸法だけでよく、リードフレーム10のパ
ターン形成時の最小寸法にすることができる。たとえ
ば、エッチングでは最小溝幅はリードフレームの板厚
(a)と同じ寸法にできることから、前記間隔(L)を
aにすることができ、プレスで形成する場合にはLは略
0.8aにすることができる。That is, in the first embodiment, the distance (L) between the outer frame 11 or the inner frame 12 and the connecting portion 15 may be only the dimension for forming one groove, and the distance (L) when forming the pattern of the lead frame 10 may be sufficient. It can be the smallest dimension. For example, since the minimum groove width can be made the same size as the thickness (a) of the lead frame by etching, the interval (L) can be set to a, and when formed by pressing, L is approximately 0.8a. can do.
【0047】これに対して、前記従来のリードフレーム
における3本の隙間(溝)を用いる蛇行パターンの変形
部の場合では、3本の溝の幅と、蛇行する変形部の幅の
2倍の寸法の和の寸法が最低でも必要となる。On the other hand, in the case of the deformed portion of the meandering pattern using three gaps (grooves) in the conventional lead frame, the width of the three grooves is twice the width of the meandering deformed portion. At least the sum of the dimensions is required.
【0048】したがって、本実施形態1によれば単位リ
ードパターンを小さくできるため、リードフレーム10
の小型化が可能になり、材料費用の低減から半導体装置
の製造コストの低減が可能になる。Therefore, according to the first embodiment, since the unit lead pattern can be reduced, the lead frame 10
It is possible to reduce the size of the semiconductor device and to reduce the material cost and the manufacturing cost of the semiconductor device.
【0049】なお、前記変形部17は前記実施形態1の
パターンに限定するものでなく、リード成形時のリード
後端部分の枠中央への移動に伴って変形できる形状であ
り、かつ破損し難い形状・構造であるならば他の形状で
もよいことは勿論である。The deformable portion 17 is not limited to the pattern of the first embodiment, but has a shape which can be deformed as the lead rear end portion moves to the center of the frame during lead molding, and is hardly damaged. Of course, any other shape may be used as long as it has a shape and structure.
【0050】また、各リード群4はリードフレーム枠中
央から十文字各方向にそれぞれ延在し、枠の隅部分はリ
ードは配置しない不使用領域になることから、前記張出
部20および変形部17の大きさおよび形状は設計によ
って自由に選択することができる。すなわち、変形部1
7は、前述のように枠隅部の不使用領域に設けられるこ
とから設計自由度が高く、柔軟に屈曲させるために蛇行
形状,屈曲形状等自由にそのパターンを選択できる利点
がある。Each lead group 4 extends from the center of the lead frame frame in each direction of the cross, and the corner of the frame becomes an unused area where no lead is arranged. The size and shape of can be freely selected by design. That is, the deformed part 1
7 is provided in the unused area at the corner of the frame as described above, and has a high degree of freedom in design, and has an advantage that the pattern can be freely selected in a meandering shape, a bent shape, and the like for flexible bending.
【0051】そして、当然のことながらこの蛇行形状,
屈曲形状等のパターンの選択は、リードフレームの大型
化を派生させるものではない。なお、前記張出部20は
リードフレーム枠の一部でもある。And, naturally, this meandering shape,
Selection of a pattern such as a bent shape does not cause an increase in the size of the lead frame. The overhang 20 is also a part of the lead frame.
【0052】他方、外枠11には、リードフレーム10
を移送したり、位置決めを行うためのガイド孔25,2
6が設けられている。On the other hand, the lead frame 10
Guide holes 25, 2 for transferring and positioning
6 are provided.
【0053】つぎに、このようなリードフレーム10を
使用してQFP型の半導体装置1を製造する方法につい
て説明する。Next, a method for manufacturing a QFP type semiconductor device 1 using such a lead frame 10 will be described.
【0054】図5に示すようなリードフレーム10を用
意(ステップ102)した後、図6に示すように、リー
ドフレーム10のタブ6上に半導体チップ5を固定する
(ステップ103)。After preparing the lead frame 10 as shown in FIG. 5 (step 102), the semiconductor chip 5 is fixed on the tab 6 of the lead frame 10 as shown in FIG. 6 (step 103).
【0055】つぎに、図6に示すように、半導体チップ
5の図示しない電極とリード3の先端を導電性のワイヤ
7で接続する。また、半導体チップ5のグランド電極と
幅広リード3bもワイヤ7で接続する(ステップ10
4)。Next, as shown in FIG. 6, an electrode (not shown) of the semiconductor chip 5 and the tip of the lead 3 are connected by a conductive wire 7. The ground electrode of the semiconductor chip 5 and the wide lead 3b are also connected by the wire 7 (step 10).
4).
【0056】つぎに、常用のトランスファモールド装置
を使用して、図7に示すように、前記ダム14の内側の
領域に絶縁性樹脂からなる封止体(パッケージ)2を形
成し、前記半導体チップ5,ワイヤ7,リード3の内端
部分等をパッケージ2で被覆する(ステップ105)。
図7において30はモールド金型のランナー部分で硬化
した硬化樹脂である。Next, as shown in FIG. 7, a sealing body (package) 2 made of an insulating resin is formed in a region inside the dam 14 by using a conventional transfer molding apparatus. 5, the wires 7, the inner ends of the leads 3 and the like are covered with the package 2 (step 105).
In FIG. 7, reference numeral 30 denotes a cured resin cured at the runner portion of the mold.
【0057】つぎに、4方向に延在する各リード群4の
分離を常用の図示しない打ち抜き装置(プレス)で行い
(ステップ106)、図8に示すように、不要リードフ
レーム部である矩形枠状のダム14の4隅部分を切断除
去する。Next, separation of each lead group 4 extending in four directions is performed by a usual punching device (press) (not shown) (step 106), and as shown in FIG. The four corners of the dam 14 are cut and removed.
【0058】つぎに、常用の成形装置でリード3の成形
を行う(ステップ107)。成形は、曲げダイと曲げポ
ンチによるしごき方法、カム方式、ローラを使用した水
平曲げによるローラ方式等によって行う。この成形によ
って、図1および図9に示すように、リード3はガルウ
ィング形に成形される。Next, the lead 3 is formed by a conventional forming apparatus (step 107). Forming is performed by an ironing method using a bending die and a bending punch, a cam method, a roller method using horizontal bending using a roller, or the like. By this molding, as shown in FIGS. 1 and 9, the lead 3 is molded into a gull-wing shape.
【0059】図1には成形前のリード3の後端部分と連
結部15を二点鎖線で示し、実線でガルウィング形に成
形されたリード3および連結部15を示してある。ま
た、図9には、一部に二点鎖線で成形前の連結部15を
示してある。FIG. 1 shows the rear end portion of the lead 3 and the connecting portion 15 before molding by a two-dot chain line, and shows the lead 3 and the connecting portion 15 formed in a gull-wing shape by a solid line. FIG. 9 partially shows the connecting portion 15 before molding by a two-dot chain line.
【0060】つぎに、図示はしないが常用の打ち抜き装
置(プレス)で各リード3を連結するダム14を切断す
る(ステップ108)。Next, although not shown, the dam 14 connecting the leads 3 is cut by a conventional punching device (press) (step 108).
【0061】ダム切断は、リード成形前に行ってもよ
い。ただし、ダム切断後にリード成形を行った場合、リ
ードの後端が連結部15で支持されているとは言え、時
にはリード3の間隔が変化する現象も発生することがあ
る。そして、この結果として連結部15からリード3を
分断した後にもその影響が残り、少しではあっても一部
でリードピッチが乱れる場合がある。半導体装置の実装
においてこの少しのリードピッチの乱れが問題になる製
品に対しては、ダム切断はリード成形後に行うのが良
い。The dam cutting may be performed before the lead molding. However, when the lead is formed after the dam is cut, it can be said that the rear end of the lead is supported by the connecting portion 15 and sometimes the interval between the leads 3 changes. As a result, the effect remains even after the lead 3 is cut off from the connecting portion 15, and the lead pitch may be partially disturbed even if a little. For a product in which this slight disturbance of the lead pitch is a problem in the mounting of a semiconductor device, dam cutting is preferably performed after lead molding.
【0062】つぎに、常用のバリ除去装置を使用してト
ランスファモールド時に発生したレジンのバリを除去す
る(ステップ109)。Next, the resin burr generated during the transfer molding is removed using a conventional burr removing device (step 109).
【0063】つぎに、パッケージ2から突出するリード
3の表面にはんだメッキ等からなるメッキ膜を形成す
る。各リード3は連結部15に連なっていることから、
リードフレーム枠13を一方の電極とした電界メッキに
よってメッキを形成することができる(ステップ11
0)。Next, a plating film made of solder plating or the like is formed on the surface of the lead 3 protruding from the package 2. Since each lead 3 is connected to the connecting portion 15,
Plating can be formed by electrolytic plating using the lead frame 13 as one electrode (step 11).
0).
【0064】つぎに、図1の二点鎖線Aに沿ってリード
3を連結部15から切り離すように切断する(ステップ
111)。これによって、図2および図3に示すような
ガルウィング型の半導体装置1を製造することができる
(ステップ112)。Next, the lead 3 is cut along the two-dot chain line A in FIG. 1 so as to be separated from the connecting portion 15 (step 111). Thus, the gull-wing type semiconductor device 1 as shown in FIGS. 2 and 3 can be manufactured (step 112).
【0065】本実施形態1によれば、以下の効果を奏す
る。 (1)各リード群4を支持する連結部15に連なる変形
部17は、前記連結部15と前記リードフレーム枠13
を連結するとともに前記連結部15に沿うリードフレー
ム枠13(外枠11や内枠12)寄りに食み出さず、か
つ前記連結部15に支持されるリード3の枠中央への移
動に伴って変形できる形状になっていることから、連結
部15とリードフレーム枠13との間の寸法を小さくで
き、リードフレーム10の小型化が達成できる。According to the first embodiment, the following effects can be obtained. (1) The deformed portion 17 connected to the connecting portion 15 supporting each lead group 4 includes the connecting portion 15 and the lead frame frame 13.
And does not protrude toward the lead frame 13 (the outer frame 11 or the inner frame 12) along the connecting portion 15, and the lead 3 supported by the connecting portion 15 moves to the center of the frame. Due to the deformable shape, the dimension between the connecting portion 15 and the lead frame 13 can be reduced, and the size of the lead frame 10 can be reduced.
【0066】(2)リードフレーム10の小型化によっ
てリードフレーム10の材料費が軽減でき、このリード
フレーム10を使用して製造する半導体装置1の製造コ
ストの低減が達成できる。(2) The material cost of the lead frame 10 can be reduced by downsizing the lead frame 10, and the manufacturing cost of the semiconductor device 1 manufactured using the lead frame 10 can be reduced.
【0067】(3)リード成形後にリード3にメッキを
形成することから、メッキ脱離やメッキ表面のクラック
の発生が製造途中で起きなくなり、歩留りの向上が図
れ、製品コストの低減を図ることができる。(3) Since plating is formed on the lead 3 after the lead is formed, desorption of the plating and cracks on the plating surface do not occur during the manufacturing, the yield can be improved, and the product cost can be reduced. it can.
【0068】(実施形態2)図10乃至図14は本発明
の他の実施形態(実施形態2)である半導体装置の製造
に係わる図である。(Embodiment 2) FIGS. 10 to 14 are diagrams relating to the manufacture of a semiconductor device according to another embodiment (Embodiment 2) of the present invention.
【0069】本実施形態2では、製造途中でリードフレ
ームの一部を打ち抜き、この打ち抜きによってリードを
支持する連結部を変形部のみで支持する構造としてリー
ド成形を可能にする製造方法である。The second embodiment is a manufacturing method in which a part of a lead frame is punched out during manufacturing, and a lead is formed as a structure in which a connecting portion supporting a lead is supported only by a deformed portion by the punching.
【0070】図10は本実施形態2の半導体装置の製造
で使用するリードフレームの模式的平面図、図11は半
導体チップを固定しかつ半導体チップの電極とリード内
端をワイヤで接続した状態を示すリードフレームの一部
を示す模式的拡大平面図、図12は半導体チップ,ワイ
ヤ等をモールドした状態のリードフレームを示す模式的
平面図、図13はリード成形前のリードフレームを示す
模式的平面図、図14はリード成形後のリードフレーム
を示す模式的平面図である。これらの図は、前記実施形
態1の図5乃至図9にそれぞれ対応する。FIG. 10 is a schematic plan view of a lead frame used in manufacturing the semiconductor device according to the second embodiment. FIG. 11 shows a state in which the semiconductor chip is fixed and the electrodes of the semiconductor chip and the inner ends of the leads are connected by wires. FIG. 12 is a schematic enlarged plan view showing a part of the lead frame shown in FIG. 12, FIG. 12 is a schematic plan view showing a lead frame in a state where semiconductor chips, wires and the like are molded, and FIG. 13 is a schematic plan view showing the lead frame before lead molding. FIG. 14 is a schematic plan view showing a lead frame after lead molding. These drawings respectively correspond to FIGS. 5 to 9 of the first embodiment.
【0071】本実施形態2のリードフレーム10は、図
10および図11に示すように、前記実施形態1の場合
のリードフレーム10において、矩形状のダム14が、
その隅部で連係片40を介して変形部17の途中に連な
り、この連係片40と前記変形部17とによって接続部
41を構成している。すなわち、この接続部41は前記
連結部15および前記リードフレーム枠13(外枠11
や内枠12)ならびに前記ダム14をそれぞれ相互に連
結するものとなる。As shown in FIGS. 10 and 11, the lead frame 10 of the second embodiment is different from the lead frame 10 of the first embodiment in that
The corner portion is connected to the middle of the deformed portion 17 via the linking piece 40, and the linking piece 40 and the deforming portion 17 form a connecting portion 41. That is, the connecting portion 41 is connected to the connecting portion 15 and the lead frame 13 (the outer frame 11).
And the inner frame 12) and the dam 14 are mutually connected.
【0072】そして、半導体装置1の製造におけるリー
ド成形前に、前記接続部41の連係片40および不要リ
ードフレーム部であるダム14の隅を切断してリード成
形ができる状態にした後リード成形を行うものである。Before the lead forming in the manufacture of the semiconductor device 1, the linking piece 40 of the connecting portion 41 and the corners of the dam 14, which is an unnecessary lead frame portion, are cut so that the lead can be formed. Is what you do.
【0073】ここで、本実施形態2のリードフレーム1
0の構成について説明するならば下記のようになる。Here, the lead frame 1 of the second embodiment
The configuration of 0 will be described below.
【0074】リードフレーム10は、外枠11および内
枠12からなる枠状のリードフレーム枠13と、前記リ
ードフレーム枠13内に位置し半導体チップ5を固定す
るタブ6と、前記タブ6の周囲に内端を延在させる複数
のリード3と、前記リード3を連結するダム14と、前
記タブ6を支持するとともに少なくとも前記ダム14に
接続されるタブ吊りリードと、相互に並んで延在する複
数のリード3からなるリード群4の各リード外端を支持
するとともに前記外枠11または内枠12に沿って延在
する連結部15と、前記連結部15および前記リードフ
レーム枠13ならびに前記ダム14等をそれぞれ相互に
連結する接続部41を有し、前記接続部41の一部は前
記連結部15と前記リードフレーム枠13を連結すると
ともに前記連結部15に沿うリードフレーム枠13寄り
に食み出さない変形部17となり前記接続部41の一部
(連係片40)および連係部(ダム14の隅部)を切断
して前記ダム14から分離した後は前記連結部15に支
持されるリード3のリードフレーム枠13中央への移動
に伴って変形できる構造になっている。The lead frame 10 includes a frame-shaped lead frame 13 comprising an outer frame 11 and an inner frame 12, a tab 6 which is located in the lead frame 13 and fixes the semiconductor chip 5, and a periphery of the tab 6. A plurality of leads 3 whose inner ends extend, a dam 14 connecting the leads 3, a tab suspension lead supporting the tab 6 and connected to at least the dam 14, and extending side by side with each other. A connecting portion 15 that supports each lead outer end of a lead group 4 including a plurality of leads 3 and extends along the outer frame 11 or the inner frame 12, the connecting portion 15, the lead frame frame 13, and the dam 14 are connected to each other, and a part of the connecting portion 41 connects the connecting portion 15 and the lead frame 13 together with the connecting portion 41. After forming a deformed portion 17 that does not protrude toward the lead frame frame 13 along 5, a part of the connecting portion 41 (linking piece 40) and a linking portion (corner of the dam 14) are cut and separated from the dam 14. Has a structure that can be deformed as the lead 3 supported by the connecting portion 15 moves to the center of the lead frame 13.
【0075】つぎに、このようなリードフレーム10を
用いて、図2および図3に示す半導体装置1を製造する
方法について説明する。Next, a method of manufacturing the semiconductor device 1 shown in FIGS. 2 and 3 using such a lead frame 10 will be described.
【0076】図10に示すようなリードフレーム10を
用意(ステップ102)した後、図11に示すように、
リードフレーム10のタブ6上に半導体チップ5を固定
する(ステップ103)。After preparing the lead frame 10 as shown in FIG. 10 (step 102), as shown in FIG.
The semiconductor chip 5 is fixed on the tab 6 of the lead frame 10 (Step 103).
【0077】つぎに、図11に示すように、半導体チッ
プ5の図示しない電極とリード3の先端を導電性のワイ
ヤ7で接続する。また、半導体チップ5のグランド電極
と幅広リード3bもワイヤ7で接続する(ステップ10
4)。Next, as shown in FIG. 11, an electrode (not shown) of the semiconductor chip 5 is connected to a tip of the lead 3 by a conductive wire 7. The ground electrode of the semiconductor chip 5 and the wide lead 3b are also connected by the wire 7 (step 10).
4).
【0078】つぎに、常用のトランスファモールド装置
を使用して、図12に示すように、前記ダム14の内側
の領域に絶縁性樹脂からなる封止体(パッケージ)2を
形成し、前記半導体チップ5,ワイヤ7,リード3の内
端部分等をパッケージ2で被覆する(ステップ10
5)。図12において30はモールド金型のランナー部
分で硬化した硬化樹脂である。Next, as shown in FIG. 12, a sealing body (package) 2 made of an insulating resin is formed in a region inside the dam 14 by using a conventional transfer molding apparatus. 5, the wires 7, the inner ends of the leads 3, etc. are covered with the package 2 (step 10).
5). In FIG. 12, reference numeral 30 denotes a cured resin cured at the runner portion of the mold.
【0079】つぎに、4方向に延在する各リード群4の
分離を常用の図示しない打ち抜き装置(プレス)で行い
(ステップ106)、図13に示すように、不要リード
フレーム部である矩形枠状のダム14の4隅部分と、接
続部41の連係片40を切断除去する。Next, separation of each lead group 4 extending in four directions is performed by a usual punching device (press) (not shown) (step 106), and as shown in FIG. The four corners of the dam 14 and the linking piece 40 of the connecting portion 41 are cut and removed.
【0080】これによって、各リード群4の連結部15
は変形部17によってのみリードフレーム枠13(外枠
11や内枠12)でもある張出部20に支持されること
になり、実施形態1の場合と同様にリード群4単位での
リード成形が可能になる。As a result, the connecting portion 15 of each lead group 4
Is supported by the overhanging portion 20 which is also the lead frame 13 (the outer frame 11 and the inner frame 12) only by the deforming portion 17, and the lead forming in units of four lead groups can be performed similarly to the first embodiment. Will be possible.
【0081】つぎに、常用の成形装置でリード3の成形
を行う(ステップ107)。成形は、曲げダイと曲げポ
ンチによるしごき方法、カム方式、ローラを使用した水
平曲げによるローラ方式等によって行う。この成形によ
って、図14に示すように、リード3はガルウィング形
に成形される。図14には、一部に二点鎖線で成形前の
連結部15を示してある。Next, the lead 3 is formed by a conventional forming apparatus (step 107). Forming is performed by an ironing method using a bending die and a bending punch, a cam method, a roller method using horizontal bending using a roller, or the like. By this molding, as shown in FIG. 14, the lead 3 is formed in a gull wing shape. FIG. 14 partially shows the connecting portion 15 before molding by a two-dot chain line.
【0082】つぎに、図示はしないが常用の打ち抜き装
置(プレス)で各リード3を連結するダム14を切断す
る(ステップ108)。ダム切断は、前記実施形態1の
場合と同様にリード成形前に行ってもよい。Next, although not shown, the dam 14 connecting the leads 3 is cut by a conventional punching device (press) (step 108). Dam cutting may be performed before lead molding as in the case of the first embodiment.
【0083】つぎに、常用のバリ除去装置を使用してト
ランスファモールド時に発生したレジンのバリを除去す
る(ステップ109)。Next, the resin burr generated during the transfer molding is removed using a conventional burr removing device (step 109).
【0084】つぎに、パッケージ2から突出するリード
3の表面にはんだメッキ等からなるメッキ膜を形成す
る。各リード3は連結部15に連なっていることから、
リードフレーム枠13を一方の電極とした電界メッキに
よってメッキを形成することができる(ステップ11
0)。Next, a plating film made of solder plating or the like is formed on the surface of the lead 3 protruding from the package 2. Since each lead 3 is connected to the connecting portion 15,
Plating can be formed by electrolytic plating using the lead frame 13 as one electrode (step 11).
0).
【0085】つぎに、リード3を連結部15から分離す
るように切断する(ステップ111)。これによって、
図2および図3に示すようなガルウィング型の半導体装
置1を製造することができる(ステップ112)。Next, the lead 3 is cut so as to be separated from the connecting portion 15 (step 111). by this,
A gull-wing type semiconductor device 1 as shown in FIGS. 2 and 3 can be manufactured (step 112).
【0086】本実施形態2によれば、各リード群4を支
持する連結部15を支持する変形部17は変形部17を
介して接続部41に支持されている。前記接続部41の
リードフレーム枠13と変形部17との連なる部分を除
く部分および不要リードフレーム部(ダム14の隅部)
の製造段階での切断によって、前記連結部15は変形部
17のみに支持されることになり、前記切断の後は前記
実施形態1の場合と同様に各リード群4の成形が可能に
なる。また、この変形部17は前記実施形態1の場合と
同様に、前記連結部15に沿うリードフレーム枠13
(外枠11や内枠12)寄りに食み出さないことから、
連結部15とリードフレーム枠13との間の寸法を小さ
くでき、リードフレーム10の小型化が達成できる。し
たがって、リードフレーム10の材料費の軽減から半導
体装置1の製造コストの低減が達成できる。According to the second embodiment, the deforming portion 17 supporting the connecting portion 15 supporting each lead group 4 is supported by the connecting portion 41 via the deforming portion 17. Portion of the connecting portion 41 except for a portion where the lead frame frame 13 and the deformed portion 17 are continuous and unnecessary lead frame portions (corners of the dam 14)
By the cutting in the manufacturing stage, the connecting portion 15 is supported only by the deformed portion 17, and after the cutting, each lead group 4 can be formed as in the case of the first embodiment. Further, similarly to the first embodiment, the deformed portion 17 is provided with the lead frame 13 along the connecting portion 15.
(Outer frame 11 and inner frame 12) Because they do not protrude closer,
The dimension between the connecting portion 15 and the lead frame 13 can be reduced, and the lead frame 10 can be downsized. Therefore, a reduction in the material cost of the lead frame 10 and a reduction in the manufacturing cost of the semiconductor device 1 can be achieved.
【0087】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。少なく
とも、本発明は樹脂封止型の半導体装置の製造技術には
適用できる。Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say. At least, the present invention is applicable to a technique for manufacturing a resin-sealed semiconductor device.
【0088】[0088]
【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。 (1)リードフレームの状態でリード成形が行えるよう
にリード群の各リードを支持する連結部は、変形部によ
ってリードフレーム枠に支持されているが、この変形部
は所定の連結部に沿うリードフレーム枠(外枠や内枠)
寄りに食み出さない構造になっていることから、連結部
とリードフレーム枠(外枠や内枠)との間の寸法を小さ
くでき、リードフレームの小型化が達成できる。 (2)リードフレームの小型化によってリードフレーム
の材料費が軽減でき、半導体装置の製造コストの低減が
達成できる。 (3)リード成形後にリードにメッキを形成することか
ら、メッキ脱離やメッキ表面のクラックの発生が製造途
中で起きなくなり、歩留りの向上が図れ、製品コストの
低減を図ることができる。特に、リード幅が一部のリー
ドで広い構造の半導体装置ではメッキ脱離やメッキ表面
のクラックの発生という問題が解消されるため、歩留り
向上による製品コストの低減が達成できる。The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. (1) A connecting portion supporting each lead of the lead group is supported by a lead frame frame by a deformed portion so that lead molding can be performed in a state of the lead frame. The deformed portion is a lead along a predetermined connecting portion. Frame frame (outer frame or inner frame)
Since the structure does not protrude to the side, the dimension between the connecting portion and the lead frame frame (outer frame or inner frame) can be reduced, and downsizing of the lead frame can be achieved. (2) The material cost of the lead frame can be reduced by downsizing the lead frame, and the manufacturing cost of the semiconductor device can be reduced. (3) Since plating is formed on the lead after the lead is formed, detachment of the plating and generation of cracks on the plating surface do not occur in the course of the manufacturing, so that the yield can be improved and the product cost can be reduced. In particular, in the case of a semiconductor device having a structure in which some of the leads have a wide lead width, the problem of desorption of the plating and cracks on the plating surface is solved, so that the production cost can be reduced by improving the yield.
【図1】本発明の一実施形態(実施形態1)である半導
体装置の製造におけるリード成形時のリード部分の変形
状態を示す一部の模式的斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view of a part showing a deformed state of a lead portion during lead molding in manufacturing a semiconductor device according to one embodiment (Embodiment 1) of the present invention.
【図2】本実施形態1の半導体装置の平面図である。FIG. 2 is a plan view of the semiconductor device according to the first embodiment.
【図3】本実施形態1の半導体装置の側面図である。FIG. 3 is a side view of the semiconductor device according to the first embodiment.
【図4】本実施形態1の半導体装置の製造を示すフロー
チャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating the manufacture of the semiconductor device according to the first embodiment.
【図5】本実施形態1の半導体装置の製造で使用するリ
ードフレームの模式的平面図である。FIG. 5 is a schematic plan view of a lead frame used in manufacturing the semiconductor device of the first embodiment.
【図6】本実施形態1の半導体装置の製造において半導
体チップを固定しかつ半導体チップの電極とリード内端
をワイヤで接続した状態を示すリードフレームの一部を
示す模式的拡大平面図である。FIG. 6 is a schematic enlarged plan view showing a part of the lead frame showing a state where the semiconductor chip is fixed and the electrodes of the semiconductor chip and the inner ends of the leads are connected by wires in the manufacture of the semiconductor device of the first embodiment. .
【図7】本実施形態1の半導体装置の製造において半導
体チップ,ワイヤ等をモールドした状態のリードフレー
ムを示す模式的平面図である。FIG. 7 is a schematic plan view showing a lead frame in a state where a semiconductor chip, a wire, and the like are molded in manufacturing the semiconductor device of the first embodiment.
【図8】本実施形態1の半導体装置の製造におけるリー
ド成形前のリードフレームを示す模式的平面図である。FIG. 8 is a schematic plan view showing a lead frame before lead molding in manufacturing the semiconductor device of the first embodiment.
【図9】本実施形態1の半導体装置の製造におけるリー
ド成形後のリードフレームを示す模式的平面図である。FIG. 9 is a schematic plan view showing a lead frame after lead molding in manufacturing the semiconductor device of the first embodiment.
【図10】本発明の他の実施形態(実施形態2)の半導
体装置の製造で使用するリードフレームの模式的平面図
である。FIG. 10 is a schematic plan view of a lead frame used in manufacturing a semiconductor device according to another embodiment (Embodiment 2) of the present invention.
【図11】本実施形態2の半導体装置の製造において半
導体チップを固定しかつ半導体チップの電極とリード内
端をワイヤで接続した状態を示すリードフレームの一部
を示す模式的拡大平面図である。FIG. 11 is a schematic enlarged plan view showing a part of a lead frame showing a state in which a semiconductor chip is fixed and the electrodes of the semiconductor chip and the inner ends of the leads are connected by wires in the manufacture of the semiconductor device of Embodiment 2; .
【図12】本実施形態2の半導体装置の製造において半
導体チップ,ワイヤ等をモールドした状態のリードフレ
ームを示す模式的平面図である。FIG. 12 is a schematic plan view showing a lead frame in a state where a semiconductor chip, a wire, and the like are molded in manufacturing the semiconductor device of the second embodiment.
【図13】本実施形態2の半導体装置の製造におけるリ
ード成形前のリードフレームを示す模式的平面図であ
る。FIG. 13 is a schematic plan view showing a lead frame before lead molding in manufacturing the semiconductor device of the second embodiment.
【図14】本実施形態2の半導体装置の製造におけるリ
ード成形後のリードフレームを示す模式的平面図であ
る。FIG. 14 is a schematic plan view showing a lead frame after lead molding in manufacturing the semiconductor device of the second embodiment.
1…半導体装置、2…封止体(パッケージ)、3…リー
ド、3a…リード、3b…幅広リード、4…リード群
(リード列)、5…半導体チップ、6…タブ、10…リ
ードフレーム、11…外枠、12…内枠、13…リード
フレーム枠、14…ダム、15…連結部、17…変形
部、20…張出部、21…屈曲部、22…隙間(溝)、
25,26…ガイド孔、30…硬化樹脂、40…連係
片、41…接続部。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 2 ... Sealing body (package), 3 ... Lead, 3a ... Lead, 3b ... Wide lead, 4 ... Lead group (lead row), 5 ... Semiconductor chip, 6 ... Tab, 10 ... Lead frame, 11 ... outer frame, 12 ... inner frame, 13 ... lead frame frame, 14 ... dam, 15 ... connecting portion, 17 ... deformed portion, 20 ... projecting portion, 21 ... bent portion, 22 ... gap (groove),
25, 26: guide hole, 30: cured resin, 40: linking piece, 41: connecting part.
Claims (7)
レーム枠と、前記リードフレーム枠内に位置し半導体チ
ップを固定するタブと、前記タブの周囲に内端を延在さ
せる複数のリードと、前記リードを連結するダムと、前
記タブを支持するとともに少なくとも前記ダムに接続さ
れるタブ吊りリードと、相互に並んで延在する複数のリ
ードからなるリード群の各リード外端を支持するととも
に前記外枠または内枠に沿って延在する連結部と、前記
連結部と前記リードフレーム枠を連結するとともに前記
連結部に沿うリードフレーム枠寄りに食み出さずかつ前
記連結部に支持されるリードのリードフレーム枠中央へ
の移動に伴って変形できる形状の変形部とを有するリー
ドフレームを用意する工程と、前記タブに半導体チップ
を固定する工程と、前記リードの内端と前記半導体チッ
プの電極を接続手段によって電気的に接続する工程と、
前記半導体チップおよび前記接続手段ならびに前記リー
ド内端部分を樹脂封止によって封止して封止体を形成す
る工程と、前記各リード群をリードフレーム枠に前記連
結部と変形部のみで支持するように不要リードフレーム
部分を切断除去する工程と、前記リードを成形する工程
と、前記リード成形の前または後に前記ダムを除去する
工程と、前記リードの表面をメッキする工程と、前記連
結部から各リードを切断する工程とを有することを特徴
とする半導体装置の製造方法。1. A frame-shaped lead frame frame including an outer frame and an inner frame, a tab positioned in the lead frame frame for fixing a semiconductor chip, and a plurality of leads extending inside ends around the tab. A dam connecting the leads, a tab suspension lead supporting the tab and connected to at least the dam, and supporting each lead outer end of a lead group including a plurality of leads extending side by side with each other. A connecting portion extending along the outer frame or the inner frame, and connecting the connecting portion and the lead frame frame, and supporting the connecting portion without protruding toward the lead frame frame along the connecting portion. Preparing a lead frame having a deformable portion having a shape that can be deformed with the movement of the lead to the center of the lead frame frame, and fixing a semiconductor chip to the tab, A step of electrically connecting an inner end of the lead and an electrode of the semiconductor chip by connection means,
A step of sealing the semiconductor chip, the connection means, and the inner ends of the leads by resin sealing to form a sealed body, and supporting each lead group on a lead frame frame only by the connecting portion and the deformed portion. Cutting and removing the unnecessary lead frame portion, forming the lead, removing the dam before or after forming the lead, plating the surface of the lead, And a step of cutting each lead.
レーム枠と、前記リードフレーム枠内に位置し半導体チ
ップを固定するタブと、前記タブの周囲に内端を延在さ
せる複数のリードと、前記リードを連結するダムと、前
記タブを支持するとともに少なくとも前記ダムに接続さ
れるタブ吊りリードと、相互に並んで延在する複数のリ
ードからなるリード群の各リード外端を支持するととも
に前記外枠または内枠に沿って延在する連結部と、前記
連結部および前記リードフレーム枠ならびに前記ダム等
をそれぞれ相互に連結する接続部を有し、前記接続部の
一部は前記連結部と前記リードフレーム枠を連結すると
ともに前記連結部に沿うリードフレーム枠寄りに食み出
さない変形部となり前記接続部の一部および不要リード
フレーム部を切断して前記ダムから分離した後は前記連
結部に支持されるリードのリードフレーム枠中央への移
動に伴って変形できる構造になっているリードフレーム
を用意する工程と、前記タブに半導体チップを固定する
工程と、前記リードの内端と前記半導体チップの電極を
接続手段によって電気的に接続する工程と、前記半導体
チップおよび前記接続手段ならびに前記リード内端部分
を樹脂封止によって封止して封止体を形成する工程と、
前記各リード群をリードフレーム枠に前記連結部と変形
部のみで支持するように不要リードフレーム部分を切断
除去する工程と、前記リードを成形する工程と、前記リ
ード成形の前または後に前記ダムを除去する工程と、前
記リードの表面をメッキする工程と、前記連結部から各
リードを切断する工程とを有することを特徴とする半導
体装置の製造方法。2. A frame-shaped lead frame frame comprising an outer frame and an inner frame, a tab positioned in the lead frame frame for fixing a semiconductor chip, and a plurality of leads having inner ends extending around the tab. A dam connecting the leads, a tab suspension lead supporting the tab and connected to at least the dam, and supporting each lead outer end of a lead group including a plurality of leads extending side by side with each other. And a connecting portion extending along the outer frame or the inner frame, and a connecting portion for mutually connecting the connecting portion, the lead frame frame, the dam, and the like, and a part of the connecting portion is the connecting portion. A part that connects the lead frame and the lead frame along the connecting part becomes a deformed part that does not protrude toward the lead frame, and cuts a part of the connection part and an unnecessary lead frame part. Preparing a lead frame having a structure that can be deformed along with the movement of the lead supported by the connecting portion to the center of the lead frame frame after being separated from the dam, and fixing a semiconductor chip to the tab. A step of electrically connecting an inner end of the lead to an electrode of the semiconductor chip by a connecting means, and sealing the semiconductor chip, the connecting means, and the inner end of the lead by resin sealing. Forming a body;
A step of cutting and removing unnecessary lead frame portions so that each of the lead groups is supported on the lead frame frame only by the connecting portion and the deformed portion; a step of forming the leads; and forming the dam before or after the lead forming. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: a step of removing; a step of plating a surface of the lead; and a step of cutting each lead from the connection portion.
も広くなっていることを特徴とする請求項1または請求
項2に記載の半導体装置の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein a part of the lead is wider than other leads.
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項
に記載の半導体装置の製造方法。4. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1, wherein said leads are formed into a gull-wing shape.
レーム枠と、前記リードフレーム枠内に位置し半導体チ
ップを固定するタブと、前記タブの周囲に内端を延在さ
せる複数のリードと、前記リードを連結するダムと、前
記タブを支持するとともに少なくとも前記ダムに接続さ
れるタブ吊りリードと、相互に並んで延在する複数のリ
ードからなるリード群の各リード外端を支持するととも
に前記外枠または内枠に沿って延在する連結部と、前記
連結部と前記リードフレーム枠を連結するとともに前記
連結部に沿うリードフレーム枠寄りに食み出さずかつ前
記連結部に支持されるリードのリードフレーム枠中央へ
の移動に伴って変形できる形状の変形部とを有すること
を特徴とするリードフレーム。5. A frame-shaped lead frame frame comprising an outer frame and an inner frame, a tab located in the lead frame frame for fixing a semiconductor chip, and a plurality of leads having inner ends extending around the tab. A dam connecting the leads, a tab suspension lead supporting the tab and connected to at least the dam, and supporting each lead outer end of a lead group including a plurality of leads extending side by side with each other. A connecting portion extending along the outer frame or the inner frame, and connecting the connecting portion and the lead frame frame, and supporting the connecting portion without protruding toward the lead frame frame along the connecting portion. A deformable portion having a shape that can be deformed as the lead moves to the center of the lead frame frame.
レーム枠と、前記リードフレーム枠内に位置し半導体チ
ップを固定するタブと、前記タブの周囲に内端を延在さ
せる複数のリードと、前記リードを連結するダムと、前
記タブを支持するとともに少なくとも前記ダムに接続さ
れるタブ吊りリードと、相互に並んで延在する複数のリ
ードからなるリード群の各リード外端を支持するととも
に前記外枠または内枠に沿って延在する連結部と、前記
連結部および前記リードフレーム枠ならびに前記ダム等
をそれぞれ相互に連結する接続部を有し、前記接続部の
一部は前記連結部と前記リードフレーム枠を連結すると
ともに前記連結部に沿うリードフレーム枠寄りに食み出
さない変形部となり前記接続部の一部および不要リード
フレーム部を切断して前記ダムから分離した後は前記連
結部に支持されるリードのリードフレーム枠中央への移
動に伴って変形できる構造になっていることを特徴とす
るリードフレーム。6. A frame-shaped lead frame frame comprising an outer frame and an inner frame, a tab located in the lead frame frame for fixing a semiconductor chip, and a plurality of leads having inner ends extending around the tab. A dam connecting the leads, a tab suspension lead supporting the tab and connected to at least the dam, and supporting each lead outer end of a lead group including a plurality of leads extending side by side with each other. And a connecting portion extending along the outer frame or the inner frame, and a connecting portion for mutually connecting the connecting portion, the lead frame frame, the dam, and the like, and a part of the connecting portion is the connecting portion. A part that connects the lead frame and the lead frame along the connecting part becomes a deformed part that does not protrude toward the lead frame, and cuts a part of the connection part and an unnecessary lead frame part. A lead frame having a structure that can be deformed after the lead supported by the connecting portion moves to the center of the lead frame frame after being separated from the dam.
も広くなっていることを特徴とする請求項5または請求
項6に記載のリードフレーム。7. The lead frame according to claim 5, wherein a part of the lead is wider than other leads.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1006498A JPH11214605A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Manufacture of semiconductor device and lead frame used in the manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1006498A JPH11214605A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Manufacture of semiconductor device and lead frame used in the manufacturing method |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11214605A true JPH11214605A (en) | 1999-08-06 |
Family
ID=11739960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1006498A Pending JPH11214605A (en) | 1998-01-22 | 1998-01-22 | Manufacture of semiconductor device and lead frame used in the manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11214605A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007194421A (en) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Rohm Co Ltd | Lead frame |
JP2016018821A (en) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | 新電元工業株式会社 | Method of manufacturing semiconductor device, semiconductor device, and lead frame |
-
1998
- 1998-01-22 JP JP1006498A patent/JPH11214605A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007194421A (en) * | 2006-01-19 | 2007-08-02 | Rohm Co Ltd | Lead frame |
JP2016018821A (en) * | 2014-07-04 | 2016-02-01 | 新電元工業株式会社 | Method of manufacturing semiconductor device, semiconductor device, and lead frame |
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