JPH11214472A - ワーク搬送方法 - Google Patents
ワーク搬送方法Info
- Publication number
- JPH11214472A JPH11214472A JP10011658A JP1165898A JPH11214472A JP H11214472 A JPH11214472 A JP H11214472A JP 10011658 A JP10011658 A JP 10011658A JP 1165898 A JP1165898 A JP 1165898A JP H11214472 A JPH11214472 A JP H11214472A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- storage shelf
- work
- processing
- storage
- stored
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Abstract
(57)【要約】
【課題】 保管棚であふれが生じることを防止する。
【解決手段】 複数の処理装置群３ａと、各処理装置群
３ａに設けられかつワークを収容する保管棚２とを備
え、搬送されてきたワークを、保管棚２に一時的に収容
した後に処理装置群３ａに搬送する。保管棚２に搬送さ
れたワークの個数が、保管棚２における空き容量を超え
たときは、その超えた分を空きのある他の保管棚２に収
容させる。
３ａに設けられかつワークを収容する保管棚２とを備
え、搬送されてきたワークを、保管棚２に一時的に収容
した後に処理装置群３ａに搬送する。保管棚２に搬送さ
れたワークの個数が、保管棚２における空き容量を超え
たときは、その超えた分を空きのある他の保管棚２に収
容させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ワーク搬送方法に
関し、特に半導体ウエハを収容したカセットを各種の処
理装置に投入するためのワーク搬送方法に関するもので
ある。
関し、特に半導体ウエハを収容したカセットを各種の処
理装置に投入するためのワーク搬送方法に関するもので
ある。
【０００２】
【従来の技術】一般的にウエハプロセス技術は、イオン
注入やリソグラフィー、エッチング等の種々の技術によ
って構成されている。そして、現在に至ってはこれらを
実施する処理装置は、ロボット等が使われてほぼ自動化
されている。ここで、従来のウエットエッチングの処理
装置について、図面を参照して説明する。
注入やリソグラフィー、エッチング等の種々の技術によ
って構成されている。そして、現在に至ってはこれらを
実施する処理装置は、ロボット等が使われてほぼ自動化
されている。ここで、従来のウエットエッチングの処理
装置について、図面を参照して説明する。
【０００３】図４は、一般的なクリーンルーム内部を示
す斜視図である。同図に示すように、クリーンルーム内
には、製造工程毎に複数の処理装置群３ａが互いに並行
に配置されている。また、各処理装置群３ａは複数の処
理装置３によって構成されており、すなわちリソグラフ
ィーやウエット処理等における一連の処理装置３がまと
めて配置されて各処理装置群３ａが構成されている。さ
らに、各処理装置３が実施する処理はそれぞれ固定され
ている。
す斜視図である。同図に示すように、クリーンルーム内
には、製造工程毎に複数の処理装置群３ａが互いに並行
に配置されている。また、各処理装置群３ａは複数の処
理装置３によって構成されており、すなわちリソグラフ
ィーやウエット処理等における一連の処理装置３がまと
めて配置されて各処理装置群３ａが構成されている。さ
らに、各処理装置３が実施する処理はそれぞれ固定され
ている。
【０００４】一方、クリーンルーム内の天井にはレール
７が敷設され、このレール７には移動可能なメイン搬送
機６が設置されている。また、各処理装置群３ａのレー
ル７側の一端には、半導体ウエハを収容したカセット
（すなわち、ワーク）を収容する保管棚２が設置されて
いる。例えば、リソグラフィーの終わった半導体ウエハ
を収容したカセットは、ウエットエッチングを行う処理
装置群３ａまでメイン搬送機６によって搬送されてか
ら、保管棚２に一時的に収容される。
７が敷設され、このレール７には移動可能なメイン搬送
機６が設置されている。また、各処理装置群３ａのレー
ル７側の一端には、半導体ウエハを収容したカセット
（すなわち、ワーク）を収容する保管棚２が設置されて
いる。例えば、リソグラフィーの終わった半導体ウエハ
を収容したカセットは、ウエットエッチングを行う処理
装置群３ａまでメイン搬送機６によって搬送されてか
ら、保管棚２に一時的に収容される。
【０００５】図５は、図４に係る処理装置群３ａの詳細
な構成を示すブロック図である。同図において、図４に
おける同一または同等のものには同一符号を付してい
る。メイン搬送機６によって保管棚２内に収容されたカ
セットは、ローダ１０を介して立替機１１に搬送され
る。立替機１１は搬入されたカセットからウエハを取り
出し、取り出したウエハを耐エッチング性の容器である
ボートの中に移し替える。そして、ボートに移し替えら
れたウエハは、ロボットアーム４によって所望の処理槽
（３０，３２，３４，３６）、水洗槽（以下、ＱＤＲと
いう）（３１，３３，３５，３７）、スピンドライヤ槽
３８に投入され、処理が完了すると立替機１２に搬送さ
れる。
な構成を示すブロック図である。同図において、図４に
おける同一または同等のものには同一符号を付してい
る。メイン搬送機６によって保管棚２内に収容されたカ
セットは、ローダ１０を介して立替機１１に搬送され
る。立替機１１は搬入されたカセットからウエハを取り
出し、取り出したウエハを耐エッチング性の容器である
ボートの中に移し替える。そして、ボートに移し替えら
れたウエハは、ロボットアーム４によって所望の処理槽
（３０，３２，３４，３６）、水洗槽（以下、ＱＤＲと
いう）（３１，３３，３５，３７）、スピンドライヤ槽
３８に投入され、処理が完了すると立替機１２に搬送さ
れる。
【０００６】立替機１２は搬送されたボートからウエハ
を取り出し、取り出したウエハをあらかじめコンベア１
４によって運ばれているカセットに収納する。その後、
ウエハを収納したカセットは、アンローダ１３を介して
搬送車５に載せられ、再び保管棚２に搬送されるととも
に保管棚２に収容される。そして、保管棚２に収容され
たカセットは、必要に応じてメイン搬送機６によって搬
送されて次工程の処理装置群に投入される。なお、コン
ベア１４は双方向に動くように構成されており、立替機
１１，１２間において空のカセットおよび空のボートを
搬送する。
を取り出し、取り出したウエハをあらかじめコンベア１
４によって運ばれているカセットに収納する。その後、
ウエハを収納したカセットは、アンローダ１３を介して
搬送車５に載せられ、再び保管棚２に搬送されるととも
に保管棚２に収容される。そして、保管棚２に収容され
たカセットは、必要に応じてメイン搬送機６によって搬
送されて次工程の処理装置群に投入される。なお、コン
ベア１４は双方向に動くように構成されており、立替機
１１，１２間において空のカセットおよび空のボートを
搬送する。
【０００７】ここで、従来のウエット処理におけるカセ
ットの投入手順について説明する。図６は、従来例を示
す説明図である。同図において、図４，５における同一
または同等のものには同一符号を付している。また、こ
こでは４個の処理装置群３ａを想定しており、それぞれ
Ａ〜Ｄと符号を付けている。
ットの投入手順について説明する。図６は、従来例を示
す説明図である。同図において、図４，５における同一
または同等のものには同一符号を付している。また、こ
こでは４個の処理装置群３ａを想定しており、それぞれ
Ａ〜Ｄと符号を付けている。
【０００８】同様に各保管棚２にも処理装置群３ａと対
応付けて符号Ａ〜Ｄを付けている。また、各処理装置群
３ａは複数の処理装置３によって構成されており、例え
ば処理装置群Ａは処理装置Ａ１〜Ａ４によって構成され
ている。もちろん、他の処理装置群３ａも同様に構成さ
れている。例えばメイン搬送機６（図５）によって保管
棚Ａに搬送されたカセットは、処理条件に応じて対応す
る領域に順次載置され、処理条件および搬入された順番
で管理される。すなわち、搬入された順番で処理装置に
投入されて処理が行われる。その後、処理の終わったカ
セット（以下、Ａ’という）は保管棚Ａに保管され、メ
イン搬送機６によって次工程まで運ばれ、以上の手順は
他の処理装置群Ｂ，Ｃ，Ｄについても同様である。
応付けて符号Ａ〜Ｄを付けている。また、各処理装置群
３ａは複数の処理装置３によって構成されており、例え
ば処理装置群Ａは処理装置Ａ１〜Ａ４によって構成され
ている。もちろん、他の処理装置群３ａも同様に構成さ
れている。例えばメイン搬送機６（図５）によって保管
棚Ａに搬送されたカセットは、処理条件に応じて対応す
る領域に順次載置され、処理条件および搬入された順番
で管理される。すなわち、搬入された順番で処理装置に
投入されて処理が行われる。その後、処理の終わったカ
セット（以下、Ａ’という）は保管棚Ａに保管され、メ
イン搬送機６によって次工程まで運ばれ、以上の手順は
他の処理装置群Ｂ，Ｃ，Ｄについても同様である。
【０００９】図７は、保管棚Ａの内部を模式的に表した
説明図である。同図に示すように、保管棚Ａ内は処理条
件に応じて複数の領域に分割されており、ここでは処理
条件Ａ１〜Ａ４に対して割り当てられた４個の領域と、
処理条件に関わりなくカセットを収容することができる
１個の共用保管の領域とに分かれている。
説明図である。同図に示すように、保管棚Ａ内は処理条
件に応じて複数の領域に分割されており、ここでは処理
条件Ａ１〜Ａ４に対して割り当てられた４個の領域と、
処理条件に関わりなくカセットを収容することができる
１個の共用保管の領域とに分かれている。
【００１０】すなわち、保管棚Ａに搬入された処理条件
Ａ１のカセットは、処理条件Ａ１の領域に収容され、こ
の領域が一杯になってしまった場合には、共用保管の領
域に収容される。例えば図７においては、処理条件Ａ１
の領域に３個カセットＡ１、処理条件Ａ２の領域に６個
のカセットＡ２、処理条件Ａ３の領域に６個のカセット
Ａ３、処理条件Ａ４の領域に６個のカセットＡ４が収容
されている。そして、処理条件Ａ４の領域に入りきらな
かったカセットＡ４は、共用保管の領域に収容されてい
る。
Ａ１のカセットは、処理条件Ａ１の領域に収容され、こ
の領域が一杯になってしまった場合には、共用保管の領
域に収容される。例えば図７においては、処理条件Ａ１
の領域に３個カセットＡ１、処理条件Ａ２の領域に６個
のカセットＡ２、処理条件Ａ３の領域に６個のカセット
Ａ３、処理条件Ａ４の領域に６個のカセットＡ４が収容
されている。そして、処理条件Ａ４の領域に入りきらな
かったカセットＡ４は、共用保管の領域に収容されてい
る。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図７に
示すように、保管棚に搬入することができるカセットの
個数には限りがあるため、所定の処理条件の領域および
共用保管の領域が一杯になると、それ以上同一処理条件
のワークを保管棚に搬入することができなくなり、従来
においてはワークの大量処理が困難であった。また、処
理条件の種類が多くなると、それだけ保管棚は小さな領
域に細分化されて一領域あたりの最大収容量は減少して
しまうため、同一処理条件のワークの大量処理はさらに
困難なものであった。本発明は、このような課題を解決
するためのものであり、保管棚であふれが生じることを
防止したワーク搬送方法を提供することを目的とする。
示すように、保管棚に搬入することができるカセットの
個数には限りがあるため、所定の処理条件の領域および
共用保管の領域が一杯になると、それ以上同一処理条件
のワークを保管棚に搬入することができなくなり、従来
においてはワークの大量処理が困難であった。また、処
理条件の種類が多くなると、それだけ保管棚は小さな領
域に細分化されて一領域あたりの最大収容量は減少して
しまうため、同一処理条件のワークの大量処理はさらに
困難なものであった。本発明は、このような課題を解決
するためのものであり、保管棚であふれが生じることを
防止したワーク搬送方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、請求項１に係る本発明のワーク搬送方法は、
複数の処理装置群と、上記各処理装置群に設けられかつ
ワークを収容する保管棚とを備え、搬送されてきた上記
ワークを、上記保管棚に一時的に収容した後に上記処理
装置群に搬送するワーク搬送方法において、上記保管棚
に搬送された上記ワークの個数が、上記保管棚における
空き容量を超えたときは、その超えた分を空きのある他
の保管棚に収容させるようにしたものである。また、請
求項２に係る本発明のワーク搬送方法は、請求項１にお
いて、上記保管棚に搬送された上記ワークの個数が、上
記保管棚における空き容量を超えたときは、その超えた
分を空きのある他の保管棚のうちの最も近いものに収容
させるようにしたものである。また、請求項３に係る本
発明のワーク搬送方法は、請求項１において、上記処理
装置群において処理の完了したワークを、上記処理装置
群に対応して設けられた保管棚に収容させずに、次工程
の処理装置群または次工程の保管棚に搬送するものであ
る。このように構成することにより本発明は、１個の保
管棚であふれが生じても他の保管棚に空きがあればそれ
を利用することができ、保管棚の空き容量を超える個数
のワークを処理することができる。
るために、請求項１に係る本発明のワーク搬送方法は、
複数の処理装置群と、上記各処理装置群に設けられかつ
ワークを収容する保管棚とを備え、搬送されてきた上記
ワークを、上記保管棚に一時的に収容した後に上記処理
装置群に搬送するワーク搬送方法において、上記保管棚
に搬送された上記ワークの個数が、上記保管棚における
空き容量を超えたときは、その超えた分を空きのある他
の保管棚に収容させるようにしたものである。また、請
求項２に係る本発明のワーク搬送方法は、請求項１にお
いて、上記保管棚に搬送された上記ワークの個数が、上
記保管棚における空き容量を超えたときは、その超えた
分を空きのある他の保管棚のうちの最も近いものに収容
させるようにしたものである。また、請求項３に係る本
発明のワーク搬送方法は、請求項１において、上記処理
装置群において処理の完了したワークを、上記処理装置
群に対応して設けられた保管棚に収容させずに、次工程
の処理装置群または次工程の保管棚に搬送するものであ
る。このように構成することにより本発明は、１個の保
管棚であふれが生じても他の保管棚に空きがあればそれ
を利用することができ、保管棚の空き容量を超える個数
のワークを処理することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】次に、本発明の一つの実施の形態
について図を用いて説明する。図１は本発明の一つの実
施の形態を示す説明図である。同図において図６におけ
る同一または同等の部品には同一符号を付している。さ
て、同図に示すように本実施の形態では保管領域を複数
に分割することは行っていない。したがって、本実施の
形態では空きのある限り、搬入されたカセットを保管棚
に収容するように構成されている。
について図を用いて説明する。図１は本発明の一つの実
施の形態を示す説明図である。同図において図６におけ
る同一または同等の部品には同一符号を付している。さ
て、同図に示すように本実施の形態では保管領域を複数
に分割することは行っていない。したがって、本実施の
形態では空きのある限り、搬入されたカセットを保管棚
に収容するように構成されている。
【００１４】また、例えば処理条件Ａのカセット（Ａ１
〜Ａ４）を保管棚Ａに収容するが、もし保管棚Ａがあふ
れてしまった場合には、あふれたカセットをその他の保
管棚Ｂ，Ｃ，Ｄの何れかに搬送して収容するようにして
いる。そして、搬送時間の短縮を考えるのであれば、最
も近い保管棚を選択するようにする。
〜Ａ４）を保管棚Ａに収容するが、もし保管棚Ａがあふ
れてしまった場合には、あふれたカセットをその他の保
管棚Ｂ，Ｃ，Ｄの何れかに搬送して収容するようにして
いる。そして、搬送時間の短縮を考えるのであれば、最
も近い保管棚を選択するようにする。
【００１５】ここで、あふれたカセットＡ４を保管棚Ｂ
に搬送する具体的な手順について図２を用いて詳細に説
明する。図２は、保管棚Ａ，Ｂを示す説明図である。同
図において、図１における同一または同等のものには、
同一符号を付している。さて図２（ａ）に示すように、
外部から搬送されてきたカセットを空きがある限り収容
する。その結果、保管棚２内には、３個のＡ１と６個の
Ａ２と６個のＡ３とが収容され、残りの領域はＡ４によ
って埋め尽くされる。
に搬送する具体的な手順について図２を用いて詳細に説
明する。図２は、保管棚Ａ，Ｂを示す説明図である。同
図において、図１における同一または同等のものには、
同一符号を付している。さて図２（ａ）に示すように、
外部から搬送されてきたカセットを空きがある限り収容
する。その結果、保管棚２内には、３個のＡ１と６個の
Ａ２と６個のＡ３とが収容され、残りの領域はＡ４によ
って埋め尽くされる。
【００１６】そこで、あふれた分はその他の保管棚の空
き領域に収容させることにする。例えば図２（ｂ）に示
すように、あふれた９個のカセットＡ４を最も近い保管
棚である保管棚Ｂに収容させる。その結果、保管棚Ａの
空き容量を超えるカセットＡ４が搬送されてきても、他
の空いている保管棚を利用して収容することができ、カ
セットの大量処理を実現することができる。
き領域に収容させることにする。例えば図２（ｂ）に示
すように、あふれた９個のカセットＡ４を最も近い保管
棚である保管棚Ｂに収容させる。その結果、保管棚Ａの
空き容量を超えるカセットＡ４が搬送されてきても、他
の空いている保管棚を利用して収容することができ、カ
セットの大量処理を実現することができる。
【００１７】なお、その他の処理条件のカセットおよび
その他の保管棚のカセットのあふれについても、同様に
対処すればよいことは明らかである。例えば保管棚Ｂに
は、保管棚Ｄであふれた２個のカセットＤ１も収容され
ている。
その他の保管棚のカセットのあふれについても、同様に
対処すればよいことは明らかである。例えば保管棚Ｂに
は、保管棚Ｄであふれた２個のカセットＤ１も収容され
ている。
【００１８】次に、本発明のその他の実施の形態につい
て説明する。図３は、本発明のその他の実施の形態を示
す説明図である。同図において、図１と同一または同等
のものには同一符号を付している。本実施の形態におい
ては、保管棚２同士を結ぶ搬送ルート８が新たに設けら
れている点に特徴がある。すなわち、搬送車５は、対応
する保管棚２と処理装置群３ａとの間でカセットを搬送
するだけでなく、処理の終わったカセットを任意の保管
棚２および処理装置群３ａに搬送することができるよう
に構成されている。
て説明する。図３は、本発明のその他の実施の形態を示
す説明図である。同図において、図１と同一または同等
のものには同一符号を付している。本実施の形態におい
ては、保管棚２同士を結ぶ搬送ルート８が新たに設けら
れている点に特徴がある。すなわち、搬送車５は、対応
する保管棚２と処理装置群３ａとの間でカセットを搬送
するだけでなく、処理の終わったカセットを任意の保管
棚２および処理装置群３ａに搬送することができるよう
に構成されている。
【００１９】ここで図３に係る本発明の動作について説
明する。例えば、保管棚Ａに収容されたカセットは、搬
送機５によって所望の処理装置Ａ１〜Ａ４まで搬送され
て処理が行われる。その後、搬送車５によって搬送され
たカセットを、搬送ルート８に従って保管棚Ａではな
く、保管棚Ｂ〜Ｄまたは処理装置群Ｂ〜Ｄに運ぶことが
できる。その結果、処理の終わったカセットを短時間で
次工程に投入することができ、スループットを向上させ
ることができる。
明する。例えば、保管棚Ａに収容されたカセットは、搬
送機５によって所望の処理装置Ａ１〜Ａ４まで搬送され
て処理が行われる。その後、搬送車５によって搬送され
たカセットを、搬送ルート８に従って保管棚Ａではな
く、保管棚Ｂ〜Ｄまたは処理装置群Ｂ〜Ｄに運ぶことが
できる。その結果、処理の終わったカセットを短時間で
次工程に投入することができ、スループットを向上させ
ることができる。
【００２０】なお、上記実施の形態については、ウエッ
ト処理について記載したが、本発明をその他のウエハプ
ロセス技術に適用できることは明らかである。また、ワ
ークを、カセットに収容されたウエハを単位とするので
はなく、個々のウエハを一つのワークとして扱ってもよ
い。
ト処理について記載したが、本発明をその他のウエハプ
ロセス技術に適用できることは明らかである。また、ワ
ークを、カセットに収容されたウエハを単位とするので
はなく、個々のウエハを一つのワークとして扱ってもよ
い。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したとおり本発明は、保管棚に
搬送されたワークの個数が、保管棚における上記ワーク
の最大収容量を超えたときは、その超えた分を他の保管
棚に収容させるため、一時的に大量のワークが投入され
ても処理を行うことができる。
搬送されたワークの個数が、保管棚における上記ワーク
の最大収容量を超えたときは、その超えた分を他の保管
棚に収容させるため、一時的に大量のワークが投入され
ても処理を行うことができる。
【図１】 本発明の一つの実施の形態を示す説明図であ
る。
る。
【図２】 図１に係る保管棚２の詳細を示す説明図であ
る。
る。
【図３】 本発明のその他の実施の形態を示す説明図で
ある。
ある。
【図４】 一般的なクリーンルーム内の様子を示す斜視
図である。
図である。
【図５】 図４に係る処理装置群３ａの詳細な構成を示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図６】 本発明のその他の実施の形態を示す説明図で
ある。
ある。
【図７】 図５に係る保管棚２の詳細を示す説明図であ
る。
る。
１…カセット、２…保管棚、３…処理装置、３ａ…処理
装置群、４…ロボットアーム、５…搬送車、６…メイン
搬送機、７…レール、８…搬送ルート、１０…ローダ、
１１，１２…立替機、１３…アンローダ、１４…コンベ
ア、３０，３２，３４，３６…処理槽、３１，３３，３
５，３７…水洗槽（ＱＤＲ）、３８…スピンドライヤ。
装置群、４…ロボットアーム、５…搬送車、６…メイン
搬送機、７…レール、８…搬送ルート、１０…ローダ、
１１，１２…立替機、１３…アンローダ、１４…コンベ
ア、３０，３２，３４，３６…処理槽、３１，３３，３
５，３７…水洗槽（ＱＤＲ）、３８…スピンドライヤ。
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の処理装置群と、前記各処理装置群
に設けられかつワークを収容する保管棚とを備え、搬送
されてきた前記ワークを、前記保管棚に一時的に収容し
た後に前記処理装置群に搬送するワーク搬送方法におい
て、 前記保管棚に搬送された前記ワークの個数が、前記保管
棚における空き容量を超えたときは、その超えた分を空
きのある他の保管棚に収容させるようにしたことを特徴
とするワーク搬送方法。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記保管棚に搬送された前記ワークの個数が、前記保管
棚における空き容量を超えたときは、その超えた分を空
きのある他の保管棚のうちの最も近いものに収容させる
ようにしたことを特徴とするワーク搬送方法。 - 【請求項３】 請求項１において、 前記処理装置群において処理の完了したワークを、前記
処理装置群に対応して設けられた保管棚に収容させず
に、次工程の処理装置群または次工程の保管棚に搬送す
ることを特徴とするワーク搬送方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10011658A JPH11214472A (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ワーク搬送方法 |
| KR1019990002057A KR19990068086A (ko) | 1998-01-23 | 1999-01-22 | 워크 반송 방법 및 시스템 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10011658A JPH11214472A (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ワーク搬送方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11214472A true JPH11214472A (ja) | 1999-08-06 |
Family
ID=11784086
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10011658A Pending JPH11214472A (ja) | 1998-01-23 | 1998-01-23 | ワーク搬送方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11214472A (ja) |
| KR (1) | KR19990068086A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003000472A1 (fr) * | 2001-06-25 | 2003-01-03 | Takehide Hayashi | Systeme de transport et de transfert de plaquette de semi-conducteur ou de cristaux liquides, une par une |
| KR100504673B1 (ko) * | 2001-06-25 | 2005-08-02 | 다케히데 하야시 | 반도체 또는 액정웨이퍼 낱장반송 및 이재 시스템 |
| US7261510B2 (en) | 2003-02-03 | 2007-08-28 | Murata Kikai Kabushiki Kaisha | Overhead travelling carriage system |
| KR100880777B1 (ko) * | 2003-11-06 | 2009-02-02 | 신꼬오덴끼가부시끼가이샤 | 기판 반송 방법 및 그 장치 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018150698A1 (ja) * | 2017-02-20 | 2018-08-23 | 村田機械株式会社 | パージストッカ |
-
1998
- 1998-01-23 JP JP10011658A patent/JPH11214472A/ja active Pending
-
1999
- 1999-01-22 KR KR1019990002057A patent/KR19990068086A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2003000472A1 (fr) * | 2001-06-25 | 2003-01-03 | Takehide Hayashi | Systeme de transport et de transfert de plaquette de semi-conducteur ou de cristaux liquides, une par une |
| KR100504673B1 (ko) * | 2001-06-25 | 2005-08-02 | 다케히데 하야시 | 반도체 또는 액정웨이퍼 낱장반송 및 이재 시스템 |
| US7261510B2 (en) | 2003-02-03 | 2007-08-28 | Murata Kikai Kabushiki Kaisha | Overhead travelling carriage system |
| KR100880777B1 (ko) * | 2003-11-06 | 2009-02-02 | 신꼬오덴끼가부시끼가이샤 | 기판 반송 방법 및 그 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR19990068086A (ko) | 1999-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7740437B2 (en) | Processing system with increased cassette storage capacity | |
| KR20210021266A (ko) | 웨이퍼를 처리하는 장치 및 방법 | |
| KR101666227B1 (ko) | 기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 | |
| JP5223778B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
| KR102479206B1 (ko) | 기판 처리 장치 및 기판 반송 방법 | |
| US6623231B2 (en) | Plant for producing semiconductor products | |
| JPH11214472A (ja) | ワーク搬送方法 | |
| US7032739B2 (en) | Intermediate product carrying apparatus, and intermediate product carrying method | |
| US11087972B2 (en) | Cleaning device and method for driving cleaning device | |
| JPH05338728A (ja) | ウエーハ搬送方法及び装置 | |
| US6809510B2 (en) | Configuration in which wafers are individually supplied to fabrication units and measuring units located in a fabrication cell | |
| JPH09298227A (ja) | ウエハカセット搬送システム | |
| JP5977728B2 (ja) | 基板処理システム | |
| JPH11214471A (ja) | ワーク搬送方法およびワーク処理装置 | |
| JP2011077134A (ja) | 基板処理装置及びこれを備えた基板処理システム | |
| KR101350999B1 (ko) | 반도체 장치의 테스트 방법 및 이를 수행하기 위한 테스트핸들러 | |
| JP2992571B2 (ja) | バッチ処理方法及びバッチ処理装置 | |
| KR100555893B1 (ko) | 기판세정장치 | |
| JPH11233590A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP2005129868A (ja) | 搬送制御方法 | |
| JP2834970B2 (ja) | 基板収納装置 | |
| KR100533700B1 (ko) | 디스크형 물품용 지지체를 처리, 저장 및 로딩하기 위한장치 및 방법 | |
| JPH03225847A (ja) | ウエハカセツトストツカ | |
| JPH11330193A (ja) | 基板処理装置 | |
| JP3000624B2 (ja) | カセットストッカー |