JPH11204486A - 硫酸−過酸化水素洗浄槽の連続的運転方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】硫酸ー過酸化水素洗浄槽 におけるウェハ等の
洗浄において、有機物並びに金属除去が可能な連続運転
方法を提供する。 【解決手段】硫酸ー過酸化水素洗浄槽の洗浄槽内もしく
は洗浄槽外において、該洗浄槽の洗浄液の水分の一部を
除去し、該洗浄槽のにおける硫酸濃度を８０〜９０重量
％の範囲の一定濃度に保持することを特徴とする硫酸ー
過酸化水素洗浄槽の連続的運転方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、硫酸−過酸化水素
洗浄槽の連続的運転方法に関する。詳しくは、シリコン
ウェハ、液晶、セラミック基板等に付着した汚染物であ
る有機物、微粒子、金属類等の異物を精密洗浄除去し、
基板類等の高清浄度品を得るための硫酸−過酸化水素洗
浄槽における連続的運転方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスとか液晶関連における高
密度集積化に伴い、シリコン、ガラス、セラミック等の
基板表面をより一層高清浄化する必要に迫られている。
基板は、製造工程や加工工程で有機物、微粒子、金属類
等の汚染物が付着するが、これらの除去を確実に行なわ
ないと、性能低下の為、歩留まり低下を生じる。

【０００３】これらの汚染物を除去すべく、各種各様の
洗浄方法が取り入れられているが、代表的な洗浄方法の
１つとして、硫酸−過酸化水素、アンモニアー過酸化水
素、塩酸ー過酸化水素、フッ酸ー過酸化水素等の酸、ア
ルカリと過酸化水素の組合せである、ＲＣＡ洗浄方法が
廣く採用されており、有機物除去目的には硫酸−過酸化
水素洗浄槽（以下、ＳＰＭ槽という）を、微粒子除去目
的にはアンモニアー過酸化水素洗浄槽（以下、ＡＰＭ槽
という）を、金属除去目的には塩酸ー過酸化水素洗浄槽
（以下、ＨＰＭ槽という）を使用する。ＳＰＭ槽での有
機物除去としては、残レジストの除去例が多く、有機溶
剤法やドライアッシング法等を使用する例もあるが、該
方法との組み合わせとしてのＳＰＭ洗浄法は現在でも行
われている。

【０００４】ＳＰＭ槽やＨＰＭ槽の如き酸洗浄において
は、微粒子と洗浄液固有のゼータ電位の関係から、基板
には洗浄液中の粒子が付着し易いのと、酸化被膜由来の
粒子が生成しやすいのに対し、他方、ＡＰＭ洗浄槽で
は、ゼータ電位の関係で微粒子の再付着は防止出来る
が、逆に金属が再付着する傾向に有る。通常、ＳＰＭ槽
やＨＰＭ槽は必ずＡＰＭ槽との組み合わせで使用されて
いるが、ＨＰＭ槽を最終洗浄にすると微粒子の再付着が
見られ、逆に、ＡＰＭ槽を最終洗浄にすると金属分が残
る。そこで、一般的には、ＡＰＭ槽で微粒子、酸化異物
をエッチングで除去した後に再付着した金属分をＨＰＭ
槽で除去するが、最近では，ＡＰＭ槽にキレート剤を入
れて金属再付着防止を狙った方式も採用されている。但
し、持ち込み金属が多い場合、破綻することもあるの
で、酸洗浄は必須となる。レジストなどの有機物が存在
する場合には、ＡＰＭ槽の前にＳＰＭ槽を入れた順序が
一般的である。

【０００５】従来のＳＰＭ槽運転方法としてはバッチ方
式が主流であり、ＳＰＭ槽での洗浄能力は硫酸と過酸化
水素の濃度と液温度で決まる。硫酸濃度は初期の濃硫酸
（９６％）から始まって、過酸化水素の供給に伴う水分
のため、最終硫酸濃度は８０％程度以下まで下がり、洗
浄能力が低下し、洗浄液を入れ替える。ＳＰＭ槽の温度
が１３０℃の場合、水の蒸散量が多いので、硫酸濃度は
８０％付近でほぼバランスするが、温度が低いとさらに
低い濃度まで達し、入れ替え頻度が多くなる。

【０００６】従って、１バッチサイクルでは、濃硫酸か
ら希釈硫酸までの濃度変化があり、濃硫酸の状態では金
属に対し不働体を形成することから、バッチサイクルの
中でも金属に対する洗浄性能に初期と終期では差が出て
いるのが実情である。そこで性能を安定化させるべく、
例えば特開平４ー６５８２９、特開平５ー１０４０７
０、特開平６ー４５３０８には、液供給方法の調整、廃
硫酸の再生法、バッチ水分除去方法等によりバッチ方式
における洗浄液の能力、寿命を伸ばし、あるいは硫酸濃
度変化を制御して性能を回復させる方法等が提案されて
いるが、いずれもバッチの域を脱するものではなく、連
続化の面では今一歩不十分であった。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ＳＰＭ槽の洗浄を連続
化できれば、洗浄力が一定範囲にあって安定した洗浄が
でき、更に、液入れ替え時の時間、エネルギー等の損失
の防止が図れるという利点がある。ＳＰＭ槽をＡＰＭ槽
の前に設置する利点において、、ＳＰＭ槽で本来の有機
物除去に加えて、金属除去能を付加できる適切範囲濃度
一定下で運転することができれば、ＡＰＭ槽へ金属を持
ち込む量が減少でき、ＡＰＭ槽で金属キレート除去方式
を採用する場合でも負荷が下がり、究極としてはＨＰＭ
槽を省略できる可能性もある。本発明の目的は、かかる
観点に鑑み、ＳＰＭ槽における洗浄において、有機物並
びに金属同時除をが可能とし、且つ、連続運転をする方
法を開発することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記目的
を達成するため、鋭意検討し、本発明に達した。即ち、
本発明の要旨は、硫酸−過酸化水素洗浄槽の洗浄槽内も
しくは洗浄槽外において、洗浄液の水分の一部を除去
し、該洗浄槽における硫酸濃度を８０〜９０重量％の範
囲内の一定濃度に保持することを特徴とする硫酸−過酸
化水素洗浄槽の連続的運転方法に存する。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を説明する。ＳＰＭ
槽の基本的洗浄能力を安定させる為には、硫酸濃度と過
酸化水素濃度と温度と時間を一定にすることが要求され
る。而して、一般に有機物分解でのＳＰＭ槽の温度は１
００℃以上であり、過酸化水素分解が激しい条件下にあ
る。過酸化水素濃度が下がると有機物分解能力が落ちる
為、逐次、過酸化水素水が供給されている。過酸化水素
水は３５％以上は危険物扱いの為、通常、３１％高純度
過酸化水素水が使用され、過酸化水素の供給は多量の水
を供給することに相当し、硫酸濃度が逐次低下する。本
発明者等は、ＳＰＭ槽の温度が高いこと及び硫酸が高沸
点で蒸発し難いことを考慮し、ＳＰＭ槽叉は付属装置に
おいて供給水及び過酸化水素分解からの生成水量の合計
見合いの水分を除去することにより、必要な過酸化水素
液を供給しても硫酸濃度を下げることなく任意硫酸濃
度、過酸化水素濃度、温度一定でのＳＰＭ槽の連続運転
ができることを見い出し、本発明方法を可能にした。ま
ず、目的を達成する運転継続の為には、以下の条件を満
足することが好ましい。

【００１０】

【表１】有機物分解と金属除去の両方を満足する硫酸
濃度の設定。 系内から余剰水分を蒸発除去する装置と運転コントロ
ール方法。 硫酸濃度の検出方法とフィードバック運転方法 連続運転に伴う系内不純物の蓄積を防止する為のパー
ジ方法

【００１１】以下〜の内容について詳細に説明をす
る。本発明者らは、既存の典型的なＲＣＡ洗浄バッチ方
式における洗浄液分析とウェハ側の解析を行い、ＳＰＭ
槽における硫酸−過酸化水素系洗浄剤の変化、ウェハ付
着持ち出し量を算出してマスバランスをとった。比較例
１に示す如く、ＳＰＭ槽温度が１３０℃の場合、過酸化
水素分解分を逐次補充する条件下ではあったが、初期濃
硫酸濃度９６％仕込に対しバッチ終了時には８０％硫酸
濃度でバランスした。液温が高い為、付着持ち出し水分
量よりも、既存のＳＰＭ槽の蒸発面より蒸発する水分量
がかなり大きく、揮散水分量を上手く調整すれば硫酸濃
度をコントロールできることが分かった。

【００１２】そこで、運転する硫酸濃度の最適範囲とし
て、ＳＰＭ槽でのアルミ除去においては、硫酸濃度は９
０重量％以下、鉄除去の場合には８８重量％以下の硫酸
濃度が好ましいことが分かった。従って、金属除去とし
ては９０重量％以下、好ましくは８８重量％以下の硫酸
濃度が好ましい。９０重量％以上の硫酸濃度が高い状態
で不働体が形成されるとＳＰＭ槽での金属除去は不可能
であり、バッチ洗浄の初期では、ウェハ付着金属分はＡ
ＰＭ槽を経た後でＨＰＭ槽で除去されていた。

【００１３】他方、有機物分解の場合は、硫酸濃度が高
い程良く８０％未満では分解能が低下する。従って、金
属除去能と有機物分解能の両方を満足する範囲の硫酸濃
度は、８０〜９０重量％の範囲にあり、好ましくは、８
２重量％以上８８重量％以下、さらに好ましくは、８２
重量％以上８６重量％以下の範囲の硫酸濃度一定の運転
が好ましい。運転時の添加過酸化水素水量とＳＰＭ槽温
度が決まれば、経験的に、水分蒸発量は確定できるの
で、目的硫酸濃度はほぼ達成できるが、より精度を上げ
る為には、市販の光学系（例えば、クラボー社製、近赤
外透過分光ケミカライザーＩＩ）叉は超音波系の分析装
置を用い、硫酸濃度を検出して一定濃度にコントロール
するシステムを備えた方が好ましい。ＳＰＭ槽の硫酸濃
度を維持するためは、持ち込み水分量に対する揮散水分
量を調整する方法としては、外部付属装置なしの場合
と、外部付属装置をつける場合とがあり、以下の手段が
ある。

【００１４】

【表２】１）外部付属装置を付けない場合 温度を上げて蒸発揮散量を増加させる方法。 ＳＰＭ槽の開口蒸発部分の面積を拡大する方法。 開口蒸発部に清浄乾燥空気を吹き付ける方法強 ＳＰＭ槽全体を囲って微減圧にする方法。 ２）外部付属装置を付ける場合 温度を上げて蒸発揮散量を増加させる方法。 強制的に清浄乾燥空気等のガスを循環硫酸液と直接接
触させて、水分をストリッピング除去する方法（充填層
方式叉は濡れ壁塔方式）。 減圧蒸留装置により、硫酸が留出しない条件で水分を
留出側に除去する方法。 減圧フラッシュ装置による留出水分の除去方法。 強酸性下で吸着剤を用いて水分を吸着除去する方法。

【００１５】温度アップに関しては、一般に、ＳＰＭ槽
の洗浄温度は、ウェハ洗浄速度、腐食防止、放熱等の条
件から決定されるが、１３０℃以上の温度では限界があ
ると考えられるものの、条件が許す限りは可能である。
温度が低い場合は揮散量が少なくなり、その分蒸発側で
の負荷がアップする。硫酸濃度を低くコントロールする
場合は相対的に水の蒸発量が多いので負荷が小さくて済
むが、硫酸濃度を高くコントロールする場合には、指数
関数的に水分分圧が下がる為、蒸発側での負荷がアップ
し、例えば、蒸発面積アップか空気量の増加等の変更と
なり、条件が許す限りにおいて可能である。

【００１６】吸着剤法は、高温では一般的に不利である
が条件の許す限りにおいて使用可能である。上記の高温
法の採用、蒸発面積拡大、吸着剤使用以外の水分除去方
法として、ＳＰＭ槽外部に水分蒸発装置を導入すること
も有効である。外部水分蒸発装置としては、ＳＰＭ液中
の水分を系外にパージすることが目的であり、充填層叉
は段塔等において気液接触ができる設備であり、、乾燥
清浄空気による常圧ストリッピング方式、叉は留出側か
ら水分パージする減圧蒸留塔方式が可能である。ストリ
ッピング方式は常圧下においてＳＰＭ槽温度を維持しな
がら液循環して水分を蒸発除去し、ストリッピングガス
量を調節することで目標硫酸濃度に近づけることができ
る。

【００１７】他方、減圧蒸発法では塔頂部水冷却を考え
て、約１５０mmHg前後の圧で減圧フラッシュさせ、塔頂
で凝縮させた水分量を部分的に系外にパージすることで
目標硫酸濃度を達成することもできる。減圧度が小さい
と、フラッシュ塔の混合液温度を上昇させねばならず、
不利である。目標硫酸濃度を維持達成した場合、系内に
は不純物蓄積が起こるので、部分的に一定量を系外にパ
ージし、液減少分見合いで硫酸を逐次供給し硫酸濃度を
バランスさせることが必要である。パージ量は次工程へ
の影響と経済性から判断された量となる。

【００１８】本発明方法の１例を図面によって説明す
る。図１は、洗浄液中の水分除去のための外部付属装置
を設置した硫酸−過酸化水素洗浄槽の１例をを示す系統
図である。図１において、４はＳＰＭ槽を示す。ＳＰＭ
槽４には、ライン１、ライン２、ライン３からそれぞれ
が水、濃硫酸、過酸化水素供給され、洗浄液が調製され
る。水、濃硫酸、過酸化水素は、ＳＰＭ槽運転中も、そ
れぞれ消費量に応じて供給される。洗浄液の１部は抜き
出しライン５より抜き出され、ポンプ６、ライン７を経
由して外部付属装置１０（減圧蒸留装置、減圧蒸発装置
等）へ導入され、洗浄液中の水分の１部を分離し、ライ
ン１１より抜き出し、系外へ排出する。この際、必要に
応じ、ライン７の途中にフィルター８を設置し、洗浄液
中の固形不純物を除去してから外部付属装置へ導入して
も良い。水分の一部を除去した洗浄液は、循環ライン１
２を経由して洗浄槽４へ戻される。必要に応じ、循環ラ
インの途中に硫酸濃度分析計１３を設置して洗浄槽へ戻
される洗浄液中の硫酸濃度を分析し、その結果をライン
２及び又はライン１に指示してＳＰＭ槽中の硫酸濃度を
コントロールする。また、ＳＰＭ槽中に不純物が蓄積す
るのを防止するため、ＳＰＭ槽から抜きだされた洗浄液
の１部は、ライン９より系外にパージされる。

【００１９】

【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に制約されるものではない。 比較例１ ３１×３１ｃｍ角、深さ２１ｃｍの大きさの洗浄槽に、
硫酸−過酸化水素洗浄液を仕込み、１３０℃でバッチ運
転によりウェハを洗浄した。仕込時の硫酸濃度は９６％
で、運転中、持ち出し分見合いで濃硫酸を供給し、ま
た、過酸化水素が分解する分は過酸化水素液を投入し
た。バッチ最後の硫酸濃度は８０％から下がり方がゆっ
くりとなり、その時点での水のバランスは表−１の通り
であった。

【００２０】

【表３】 表−１ ［供給持ち込み水分］ ［持ち出し水分］ 硫酸同伴の水分 ３０ｇ／ｈ ウェハ付着水分 １７７ｇ／ｈ 過水同伴の水分 ６２２ｇ／ｈ 揮散水分 ６２２ｇ／ｈ 過水分解生成水分 １４７ｇ／ｈ 計 ７９９ｇ／ｈ 計 ７９９ｇ／ｈ

【００２１】揮発水分の蒸発速度は開口部で、１０．８
ｍｇ／ｃｍ²／ｍｉｎの計算になる。以上、バッチ法
の場合、ＳＰＭ槽の硫酸濃度は９６〜８０％以下まで変
化しており、８０％以下になると有機物の分解速度が遅
くなり薬液の全量を入れ替えた。又、硫酸濃度が９０％
まではＳＰＭ槽での金属成分増加が全く見られず、次工
程のＡＰＭ槽をすり抜けて後流のＨＰＭ槽にて、鉄とア
ルミ分が液側に溶出し濃度増加が見られた。逆に、硫酸
濃度が９０％以下になってからは、ＳＰＭ槽液側への金
属溶出が増加し、後続のＨＰＭ槽での金属溶出は止まっ
た。

【００２２】実施例１ 比較例１と同様のＳＰＭ槽に、付属装置として、洗浄液
の循環装置と連続した常圧ストリッピング装置を設置
し、循環させる洗浄液（硫酸液）と乾燥清浄空気とを接
触させて水分をストリッピングさせ、ガス量をコントロ
ールした後、洗浄液をＳＰＭ槽に循環した。なお、ＳＰ
Ｍ槽温度は１３０℃で運転した。常圧ストリッピング装
置としては石英製のラッシヒリング（3/4B）を充填した
断熱材付きの石英充填層装置（２２０ｍｍφ＊７００ｍ
ｍＨ）を用い、硫酸液の循環量は１２Ｌ／ｈのダウンフ
ローで、２０℃の乾燥清浄空気０．８Ｎｍ³／ｈをアッ
プフローで流して、バランスを取った。 持ち込み水分
等の運転条件は比較例１と同一に行ったところ、槽側か
らの揮散量が少なくなったが（洗浄液中の硫酸濃度が、
８０％から８４％に上がったことにより）、外部ストリ
ッピング装置でのストリッピングが効いて、ＳＰＭ槽硫
酸濃度を８４±１％でコントロールできた。この場合の
水分バランスは表−２の通りである。

【００２３】

【表４】 表−２ ［持ち込み水分量］ ［持ち出し水分量］ 硫酸同伴水分 ３０ｇ／ｈ ワーク付着水分 １３５ｇ／ｈ 過水同伴水分 ６２２ｇ／ｈ 外装置ストリッヒ゜ンク゛水分 ４２６ｇ／ｈ 過水分解生成水分１４７ｇ／ｈ 槽揮散水分（槽側） ２３６ｇ／ｈ 計 ７９９ｇ／ｈ 計 ７９９ｇ／ｈ

【００２４】本運転での硫酸濃度８４％一定下におい
て、ＳＰＭ槽（２０Ｌ）の液パージ無しでは、金属濃度
の上昇速度が、鉄で約０．０２ｐｐｂ／ｈｒ、アルミで
約４ｐｐｂ／ｈｒの一定割合で、ＳＰＭ槽内に増加蓄
積された。これらはウェハに付着して持ち出されたが、
後工程の超純水リンスパージ液側から計算して液付着分
の金属類はほぼ全量除去されていることが分かった。Ｓ
ＰＭ酸洗槽では主要金属成分は液側に溶出して溶解して
いるが、金属分は溶解している限り、次工程の純水リン
スで除去可能であり、ＳＰＭ液中の鉄濃度で１ｐｐｂ、
アルミで１００ｐｐｂまでは、後流側の超純水リンスで
除去可能であることを確認した。更に、ＨＰＭ槽での金
属溶出上昇が確認されなかったことから、比較例に対し
て連続運転が十分できることを確認した。又、８４％硫
酸濃度条件下で過酸化水素水がきちんとチャージできれ
ば、ほぼ１００％過酸化水素は分解して、残過酸化水素
濃度は小さく、有機物分解物も問題なく除去できている
ことも確認した。

【００２５】実施例２ 外部蒸発装置として石英製の減圧フラッシュ蒸発缶（塔
径１００ｍｍφ）を用いる以外は、実施例１と同様の装
置を用いた。フラッシュ圧力を１５０ｍｍＨｇａｂｓを
中心にコントロールし、１３０℃、８４％の循環硫酸液
を２０Ｋｇ／ｈｒでフィードフラッシュさせ、塔頂部ガ
スは水冷却コンデンサーで冷却し液状で系外に排出させ
た。排出量の調整はフラッシュ圧力を微調整変更するこ
とで達成できた。釜側に一定量溜まった洗浄液はリサイ
クルラインでＳＰＭ槽に戻した。戻し循環硫酸濃度は８
６％前後であり、フラッシュした分、温度が下がってい
たが、ＳＰＭ槽の熱保有量が十分大きい為、ＳＰＭ槽温
度は１３０℃を保持できた。この場合の水分バランスは
表−３の通りである。

【００２６】

【表５】 表−３ ［持ち込み水分量］ ［持ち出し水分量］ 硫酸同伴水分 ３０ｇ／ｈ ワーク付着水分 １３４ｇ／ｈ 過水同伴水分 ６２３ｇ／ｈ 外装置減圧フラッシュ水分 ４３１ｇ／ｈ 過水分解生成水分１４７ｇ／ｈ 槽揮散水分（槽側） ２３５ｇ／ｈ 計 ８００ｇ／ｈ 計 ８００ｇ／ｈ

【００２７】本運転での硫酸濃度８４％一定下におい
て、ＳＰＭ槽（２０Ｌ）からの液パージ無しの場合、金
属濃度の上昇速度としては、鉄で約０．０２ｐｐｂ／ｈ
ｒ、アルミで 約４ｐｐｂ／ｈｒの一定割合であり、実
施例１と全く同様の挙動であった。実施例１と同様に、
ＨＰＭ槽での金属溶出上昇は見られなかったことで、ウ
ェハ等で持ち出される硫酸分は新規にチャージし、過酸
化水素は分解するので分解見合いでチャージし、長期運
転では系内に蓄積する不純物見合いで硫酸液をパージし
たことで、ＳＰＭ槽の連続化を図ることができた。

【００２８】実施例３ 比較例１の装置と基本的には同様の装置であるが、開放
部蒸発面積を３倍にするため、３１×９３ｃｍ角で、深
さ２１ｃｍのＳＰＭ槽を用い、槽温度１３０℃を維持す
る他は、比較例１と同一条件で運転した。ＳＰＭ槽の硫
酸濃度を８４％より若干下回る濃度に維持できた。その
場合の水バランスは表−４の通りである。

【００２９】

【表６】 表−４ ［持ち込み水分量］ ［持ち出し水分量］ 硫酸同伴水分 ３０ｇ／ｈ ワーク付着水分 １３５ｇ／ｈ 過水同伴水分 ６２２ｇ／ｈ 揮散水分 ６６４ｇ／ｈ 過水分解生成水分１４７ｇ／ｈ 計 ７９９ｇ／ｈ 計 ７９９ｇ／ｈ

【００３０】揮発水分の蒸発速度は１３０℃一定下では
３．８４ｍｇ／ｃｍ²／ｍｉｎとなり、一見比較例に対
し効率が下がった様にも見えるが、硫酸濃度を高く維持
する為には、面積を３倍にしてやっとＳＰＭ槽の硫酸酸
濃度を８４％より若干下回る濃度に維持できた。硫酸濃
度を更に上げる場合、あるいは、硫酸叉は過酸化水素供
給量が常に一定でない場合等の系が振れる場合は濃度バ
ランス維持を崩す装置構造であり、硫酸８４％濃度付近
までは本装置にて濃縮できたが、運転範囲が狭い欠点を
持つ。即ち、実施例１と２の場合には、空気量または減
圧度で系外パージ量をコントロールできたが、本実施例
の場合には、開口部蒸発面積を変化させることができ
ず、特定ポイントの蒸発量の結果となり状況変化には弱
い。ただし、蒸発方式による水分を系外パージして硫酸
の濃縮を実施する目的では達成できた。

【００３１】

【発明の効果】本発明によれば、硫酸−過酸化水素洗浄
槽の内部又は外部において洗浄液の中から水分を除去す
ることにより、洗浄液中の硫酸濃度を８０〜９０重量％
の範囲で特に、８２％以上の一定濃度に保持することが
でき、被洗浄物への金属付着を低減し、かつ、洗浄力が
安定して、連続的な洗浄槽の運転が可能である。ＳＰＭ
洗浄槽が連続運転することにより、洗浄液組成の安定化
に伴う被洗浄物の品質の向上。バッチ法での洗浄液交換
に伴う、洗浄時間のロス、温度の低下、昇温に伴うエネ
ルギーロス、人的労力のロスの低減を図ることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】外部付属装置を設置した本発明方法の１例を示
す系統図

【符号の説明】

１ 水供給ライン ２ 濃硫酸供
給ライン ３ 過酸化水素供給ライン ４ ＳＰＭ槽 ５ 抜き出しライン ８ フィルタ
ー １０ 外部付属装置 １３ 硫酸濃
度分析計

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大森 寿朗 東京都千代田区丸の内二丁目２番３号 三 菱電機株式会社内

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 硫酸−過酸化水素洗浄槽の洗浄槽内もし
   くは洗浄槽外において、洗浄液中の水分の一部を除去
   し、該洗浄槽における硫酸濃度を８０〜９０重量％の範
   囲内の一定濃度に保持することを特徴とする硫酸−過酸
   化水素洗浄槽の連続的運転方法
2. 【請求項２】 硫酸−過酸化水素洗浄槽の水分蒸発量を
   増大させることにより該洗浄液の水分の一部を除去する
   ことを特徴とする請求項１記載の硫酸−過酸化水素洗浄
   槽の連続的運転方法
3. 【請求項３】 硫酸−過酸化水素洗浄槽の開放部分を増
   大するか、もしくは、蒸発面に清浄乾燥空気を吹き付け
   るか、あるいは該洗浄槽全体を減圧にすることにより蒸
   発量を増大させて水分を除去することを特徴とする請求
   項２記載の硫酸−過酸化水素洗浄槽の連続的運転方法
4. 【請求項４】 硫酸−過酸化水素洗浄槽の槽外又は液循
   環系に付属装置を設置し、洗浄液の水分の一部を除去す
   ることを特徴とする請求項１記載の硫酸−過酸化水素洗
   浄槽の連続的運転方法
5. 【請求項５】水分を除去するための付属装置が、減圧蒸
   留装置、減圧フラッシュ装置、叉は、清浄空気による気
   液接触ストリッピング装置から選ばれることを特徴とす
   る請求項４記載の硫酸−過酸化水素洗浄槽の連続的運転
   方法
6. 【請求項６】 硫酸−過酸化水素洗浄槽内から部分的に
   洗浄液を排出し、不純物量の濃度をコントロールするこ
   とを特徴とする請求項１乃至５の何れかに記載の硫酸−
   過酸化水素洗浄槽の連続的運転方法
7. 【請求項７】 硫酸−過酸化水素洗浄槽または液循環ラ
   インに硫酸濃度計を設置し、水分抜き出し装置側のコン
   トロールをすることを特徴とする請求項１乃至６の何れ
   かに記載の硫酸−過酸化水素洗浄槽の連続的運転方法