JPH11203649A - 磁気ヘッドスライダ、およびその製造方法 - Google Patents
磁気ヘッドスライダ、およびその製造方法Info
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- JPH11203649A JPH11203649A JP825098A JP825098A JPH11203649A JP H11203649 A JPH11203649 A JP H11203649A JP 825098 A JP825098 A JP 825098A JP 825098 A JP825098 A JP 825098A JP H11203649 A JPH11203649 A JP H11203649A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】磁気ヘッドスライダ、およびその製造方法に関
し、小突起の摩耗量を均一にすることにより長期にわた
って安定したリードライト性能を維持することを目的と
する。 【解決手段】磁気ディスク１対向面に突設された小突起
２を介して磁気ディスク１表面に接触する磁気ヘッドス
ライダであって、前記小突起２は基端部に行くに従って
硬度が暫時高くなっていく。
し、小突起の摩耗量を均一にすることにより長期にわた
って安定したリードライト性能を維持することを目的と
する。 【解決手段】磁気ディスク１対向面に突設された小突起
２を介して磁気ディスク１表面に接触する磁気ヘッドス
ライダであって、前記小突起２は基端部に行くに従って
硬度が暫時高くなっていく。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は磁気ヘッドスライ
ダ、およびその製造方法に関するものである。
ダ、およびその製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図６に磁気ヘッドスライダの従来例を示
す。この従来例において、磁気ヘッドスライダは磁気デ
ィスク装置への組込み状態において磁気ディスクに正対
する浮上レール４を長手通しに有する。磁気ヘッドスラ
イダは磁気ディスク１の回転によって生じる空気流の作
用により磁気ディスク１から浮上し、空気流出端５近傍
に配置された電磁変換素子６により磁気ディスク１をア
クセスする。ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストッ
プ）ゾーンへの着地時の吸着を防止するためには、磁気
ヘッドスライダとの接触面積を少なくすることが有効で
あり、このため、浮上レール４のレール面上には複数の
小突起２が突設される。
す。この従来例において、磁気ヘッドスライダは磁気デ
ィスク装置への組込み状態において磁気ディスクに正対
する浮上レール４を長手通しに有する。磁気ヘッドスラ
イダは磁気ディスク１の回転によって生じる空気流の作
用により磁気ディスク１から浮上し、空気流出端５近傍
に配置された電磁変換素子６により磁気ディスク１をア
クセスする。ＣＳＳ（コンタクト・スタート・ストッ
プ）ゾーンへの着地時の吸着を防止するためには、磁気
ヘッドスライダとの接触面積を少なくすることが有効で
あり、このため、浮上レール４のレール面上には複数の
小突起２が突設される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
例の磁気ヘッドスライダの小突起２は下端から先端に至
るまで等断面積の円柱体であり、さらに、全体に均一な
硬度を有しているために、以下の欠点がある。すなわ
ち、磁気ディスク装置の運用開始時、あるいは停止する
瞬間に磁気ヘッドスライダの小突起２は磁気ディスク１
上を一時的に摺接するために、小突起２に摩耗が生じ
る。小突起２の摩耗量は、磁気ディスク１との摺接機
会、あるいは摺接圧力により影響されるが、これらは着
地時、あるいは浮上直前の状態における磁気ヘッドスラ
イダの姿勢、あるいは図示しないヘッド支持ばねの傾き
等、種々の要因により決定されるために、各小突起２の
摩耗量を均一にすることは非常に困難である。小突起２
の不均一な摩耗は着地姿勢、あるいは浮上姿勢の不安定
要因となるばかりでなく、一旦不均一摩耗が発生すると
不均一状態が増大され吸着の原因ともなる。
例の磁気ヘッドスライダの小突起２は下端から先端に至
るまで等断面積の円柱体であり、さらに、全体に均一な
硬度を有しているために、以下の欠点がある。すなわ
ち、磁気ディスク装置の運用開始時、あるいは停止する
瞬間に磁気ヘッドスライダの小突起２は磁気ディスク１
上を一時的に摺接するために、小突起２に摩耗が生じ
る。小突起２の摩耗量は、磁気ディスク１との摺接機
会、あるいは摺接圧力により影響されるが、これらは着
地時、あるいは浮上直前の状態における磁気ヘッドスラ
イダの姿勢、あるいは図示しないヘッド支持ばねの傾き
等、種々の要因により決定されるために、各小突起２の
摩耗量を均一にすることは非常に困難である。小突起２
の不均一な摩耗は着地姿勢、あるいは浮上姿勢の不安定
要因となるばかりでなく、一旦不均一摩耗が発生すると
不均一状態が増大され吸着の原因ともなる。
【０００４】本発明は以上の欠点を解消するためになさ
れたもので、小突起の摩耗量を均一にすることにより長
期にわたって安定したリードライト性能を維持すること
のできる磁気ヘッドスライダの提供を目的とする。
れたもので、小突起の摩耗量を均一にすることにより長
期にわたって安定したリードライト性能を維持すること
のできる磁気ヘッドスライダの提供を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明によれば上記目的
は、磁気ディスク１対向面に突設された小突起２を介し
て磁気ディスク１表面に接触する磁気ヘッドスライダで
あって、前記小突起２は基端部に行くに従って硬度が暫
時高くなっていく磁気ヘッドスライダを提供することに
より達成される。
は、磁気ディスク１対向面に突設された小突起２を介し
て磁気ディスク１表面に接触する磁気ヘッドスライダで
あって、前記小突起２は基端部に行くに従って硬度が暫
時高くなっていく磁気ヘッドスライダを提供することに
より達成される。
【０００６】図１（ｂ）に示すように、磁気ヘッドスラ
イダが磁気ディスク１のＣＳＳゾーンに着地した姿勢に
おいては磁気ヘッドスライダは小突起２を介して磁気デ
ィスク１上に接触する。小突起２を磁気ディスク１に接
触させることにより、磁気ディスク１との接触面積が小
さくなって吸着現象を防止することができる。小突起２
は基端部に行くに従って、すなわち、先端から離れるほ
ど硬度が高くなっているために、徐々に耐摩耗性が高く
なる。種々の原因により各小突起２に摩耗量のばらつき
が生じた場合には、摩耗量の少ない小突起２が摩耗量の
多い小突起２より硬度が低いために優先的に摩耗するこ
とから、全体の摩耗量を均一にすることができ、摩耗量
のばらつきが防止できる。
イダが磁気ディスク１のＣＳＳゾーンに着地した姿勢に
おいては磁気ヘッドスライダは小突起２を介して磁気デ
ィスク１上に接触する。小突起２を磁気ディスク１に接
触させることにより、磁気ディスク１との接触面積が小
さくなって吸着現象を防止することができる。小突起２
は基端部に行くに従って、すなわち、先端から離れるほ
ど硬度が高くなっているために、徐々に耐摩耗性が高く
なる。種々の原因により各小突起２に摩耗量のばらつき
が生じた場合には、摩耗量の少ない小突起２が摩耗量の
多い小突起２より硬度が低いために優先的に摩耗するこ
とから、全体の摩耗量を均一にすることができ、摩耗量
のばらつきが防止できる。
【０００７】上記磁気ヘッドスライダは請求項２に係る
磁気ヘッドスライダの製造方法、すなわち、スライダ本
体３上に硬質材を成膜して小突起２を突設する磁気ヘッ
ドスライダの製造方法であって、前記小突起２の成膜条
件を連続または段階的に変化させて硬度を基端部に行く
に従って暫時高くする磁気ヘッドスライダの製造方法に
より製造することができる。
磁気ヘッドスライダの製造方法、すなわち、スライダ本
体３上に硬質材を成膜して小突起２を突設する磁気ヘッ
ドスライダの製造方法であって、前記小突起２の成膜条
件を連続または段階的に変化させて硬度を基端部に行く
に従って暫時高くする磁気ヘッドスライダの製造方法に
より製造することができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１、２に本発明の実施の形態を
示す。磁気ヘッドスライダはスライダ本体３上に薄膜工
程を使用して電磁変換素子６を膜形成して構成され、磁
気ディスク１との対向面に浮上レール４が形成される。
スライダ本体３は、例えばアルミナ−チタンカーバイド
（Ａｌ2Ｏ3ＴｉＣ）により形成される。浮上レール４
は、磁気ディスク１の回転により図１（ｂ）における矢
印Ａ方向から空気が流入することにより図６（ｃ）に示
すように、磁気ディスク１上適宜高さに浮上するよう
に、両側縁部に設けられ、空気流入端７には傾斜面７０
が形成される。浮上レール４は長手通しに連続状に形成
される。
示す。磁気ヘッドスライダはスライダ本体３上に薄膜工
程を使用して電磁変換素子６を膜形成して構成され、磁
気ディスク１との対向面に浮上レール４が形成される。
スライダ本体３は、例えばアルミナ−チタンカーバイド
（Ａｌ2Ｏ3ＴｉＣ）により形成される。浮上レール４
は、磁気ディスク１の回転により図１（ｂ）における矢
印Ａ方向から空気が流入することにより図６（ｃ）に示
すように、磁気ディスク１上適宜高さに浮上するよう
に、両側縁部に設けられ、空気流入端７には傾斜面７０
が形成される。浮上レール４は長手通しに連続状に形成
される。
【０００９】浮上レール４のレール面には磁気ディスク
１側に突出する小突起２が形成される。小突起２は円柱
形状をなし、大きさは磁気ディスク１との接触面積が吸
着を生じさせない程度に小さく、かつ、磁気ディスク１
との摩擦により容易に磨耗しない程度の大きさに形成さ
れる。小突起２の高さは磁気ディスク１の平坦度を考慮
して適宜決定されるが、例えばＲａ（中心平均線粗さ）
２ｎｍ程度の平滑面に対しては３０〜４０ｎｍ程度とす
るのが望ましい。図１（ｃ）に示すように、小突起２は
スライダ本体３上に例えばプラズマＣＶＤ法によりＤＬ
Ｃ（ダイヤモンドライクカーボン）を複数層成膜して形
成される。各ＤＬＣ層２０、２０・・の硬度は成膜条
件、すなわち電圧、温度、圧力を変化させることにより
各々異なっており、浮上レール４のレール面４０に近づ
くにつれて徐々に硬くなっている。なお、図１（ｃ）に
おいては各ＤＬＣ層は均等な膜厚で形成されているが、
各層で膜厚を異ならせてもよい。
１側に突出する小突起２が形成される。小突起２は円柱
形状をなし、大きさは磁気ディスク１との接触面積が吸
着を生じさせない程度に小さく、かつ、磁気ディスク１
との摩擦により容易に磨耗しない程度の大きさに形成さ
れる。小突起２の高さは磁気ディスク１の平坦度を考慮
して適宜決定されるが、例えばＲａ（中心平均線粗さ）
２ｎｍ程度の平滑面に対しては３０〜４０ｎｍ程度とす
るのが望ましい。図１（ｃ）に示すように、小突起２は
スライダ本体３上に例えばプラズマＣＶＤ法によりＤＬ
Ｃ（ダイヤモンドライクカーボン）を複数層成膜して形
成される。各ＤＬＣ層２０、２０・・の硬度は成膜条
件、すなわち電圧、温度、圧力を変化させることにより
各々異なっており、浮上レール４のレール面４０に近づ
くにつれて徐々に硬くなっている。なお、図１（ｃ）に
おいては各ＤＬＣ層は均等な膜厚で形成されているが、
各層で膜厚を異ならせてもよい。
【００１０】したがってこの実施の形態において、例え
ば図２に示すように、空気流出端５側の小突起２の摩耗
量が空気流入端７側に比して大きくなった状態を考え
る。図２において摩耗分をハッチングで示す。この状態
で同一接触圧で小突起２が磁気ディスク１表面上を摺接
した場合、第２層が露出している空気流入端７側の小突
起２は、第３層が露出している空気流出端５側の小突起
２より硬度が低いために、摩耗量は多くなり結果として
摩耗量が均一となる。
ば図２に示すように、空気流出端５側の小突起２の摩耗
量が空気流入端７側に比して大きくなった状態を考え
る。図２において摩耗分をハッチングで示す。この状態
で同一接触圧で小突起２が磁気ディスク１表面上を摺接
した場合、第２層が露出している空気流入端７側の小突
起２は、第３層が露出している空気流出端５側の小突起
２より硬度が低いために、摩耗量は多くなり結果として
摩耗量が均一となる。
【００１１】なお、図１（ｃ）においては、小突起２は
積層される複数のＤＬＣ層２０、２０・・から構成され
ており、硬度も段階的に変化しているが、図１（ｄ）に
示すように、単一のＤＬＣ層により構成することもでき
る。この場合、ＣＶＤの条件は連続的に変化させられて
おり、硬度分布も基端部に行くに従って連続的に高くな
っている。
積層される複数のＤＬＣ層２０、２０・・から構成され
ており、硬度も段階的に変化しているが、図１（ｄ）に
示すように、単一のＤＬＣ層により構成することもでき
る。この場合、ＣＶＤの条件は連続的に変化させられて
おり、硬度分布も基端部に行くに従って連続的に高くな
っている。
【００１２】図３に本発明の第２の実施の形態を示す。
なお、本実施の形態の説明において、スライダ本体３は
上述した実施の形態と同一に構成されるので、小突起２
のみを示す。この実施の形態において、小突起２はＤＬ
Ｃにより、基端部に行くに従って徐々に断面積が増加す
る截頭円錐形状に形成される。ＤＬＣはＣＶＤ条件を徐
々に変更することにより硬度が基端部に行くに従って徐
々に図３（ａ）に示すように、段階的に、あるいは図３
（ｂ）に示すように連続的に高くされる。
なお、本実施の形態の説明において、スライダ本体３は
上述した実施の形態と同一に構成されるので、小突起２
のみを示す。この実施の形態において、小突起２はＤＬ
Ｃにより、基端部に行くに従って徐々に断面積が増加す
る截頭円錐形状に形成される。ＤＬＣはＣＶＤ条件を徐
々に変更することにより硬度が基端部に行くに従って徐
々に図３（ａ）に示すように、段階的に、あるいは図３
（ｂ）に示すように連続的に高くされる。
【００１３】したがってこの実施の形態において、小突
起２は基端部に行くに従って硬度が高くなるうえに、断
面積も大きくなるために、より摩耗しにくくなり、各小
突起２の摩耗量を均一にする効果が大きい。なお、図３
（ａ）、（ｂ）において小突起２は截頭円錐形状に形成
されているが、複数層のＤＬＣ層２０、２０・・を積層
して形成する場合には、図３（ｃ）に示すように、階段
状に形成してもよい。
起２は基端部に行くに従って硬度が高くなるうえに、断
面積も大きくなるために、より摩耗しにくくなり、各小
突起２の摩耗量を均一にする効果が大きい。なお、図３
（ａ）、（ｂ）において小突起２は截頭円錐形状に形成
されているが、複数層のＤＬＣ層２０、２０・・を積層
して形成する場合には、図３（ｃ）に示すように、階段
状に形成してもよい。
【００１４】上述した磁気ヘッドスライダの製造方法を
説明する。磁気ヘッドスライダは、図４（ａ）に示すよ
うに、アルミナ−チタンカーバイド（Ａｌ↓２Ｏ↓３Ｔ
ｉＣ）等のセラミック製のウエハ８上に薄膜工程を利用
して複数の電磁変換素子６を形成した後、図４（ｂ）に
示すように、ダイシングソーを使用して電磁変換素子６
が一列に並んだ棒状体８０に切り離し、さらに、各棒状
体の磁極側の切断面（図におけるＡ面）に浮上レール４
を形成し、次いで、各棒状体を分離して得られる。図１
に示すように、空気流入端７側に形斜面７０を形成する
場合には、棒状体８０に切り離し工程後、浮上レール４
形成工程前に棒状体の辺縁部に面取り加工が加えられ
る。
説明する。磁気ヘッドスライダは、図４（ａ）に示すよ
うに、アルミナ−チタンカーバイド（Ａｌ↓２Ｏ↓３Ｔ
ｉＣ）等のセラミック製のウエハ８上に薄膜工程を利用
して複数の電磁変換素子６を形成した後、図４（ｂ）に
示すように、ダイシングソーを使用して電磁変換素子６
が一列に並んだ棒状体８０に切り離し、さらに、各棒状
体の磁極側の切断面（図におけるＡ面）に浮上レール４
を形成し、次いで、各棒状体を分離して得られる。図１
に示すように、空気流入端７側に形斜面７０を形成する
場合には、棒状体８０に切り離し工程後、浮上レール４
形成工程前に棒状体の辺縁部に面取り加工が加えられ
る。
【００１５】図５に棒状体８０への浮上レール４の形成
工程を示す。先ず、棒状体８０の浮上レール４形成面を
エッチングして浮上レール４を形成する。この後、浮上
レール４のレール面４０上にＳｉ、あるいはＳｉＣをス
パッタリングして密着層９０を形成し、さらにその上層
にプラズマＣＶＤ法によりＤＬＣ層２０を複数層積層す
る（図５（ａ）参照）。各ＤＬＣ層２０、２０・・の成
膜に際して、温度、電圧、圧力を変化させ、上層、すな
わち、先端に行くに従って膜硬度を低くする。この後、
図５（ｂ）に示すように、最上層のＤＬＣ層２０の上に
レジスト９１を塗布する。レジスト９１は小突起２に対
応させて施され、この後、イオンミリング等によりレジ
スト塗布領域を除く残部をエッチングして浮上レール４
面上に小突起２を突出させる。
工程を示す。先ず、棒状体８０の浮上レール４形成面を
エッチングして浮上レール４を形成する。この後、浮上
レール４のレール面４０上にＳｉ、あるいはＳｉＣをス
パッタリングして密着層９０を形成し、さらにその上層
にプラズマＣＶＤ法によりＤＬＣ層２０を複数層積層す
る（図５（ａ）参照）。各ＤＬＣ層２０、２０・・の成
膜に際して、温度、電圧、圧力を変化させ、上層、すな
わち、先端に行くに従って膜硬度を低くする。この後、
図５（ｂ）に示すように、最上層のＤＬＣ層２０の上に
レジスト９１を塗布する。レジスト９１は小突起２に対
応させて施され、この後、イオンミリング等によりレジ
スト塗布領域を除く残部をエッチングして浮上レール４
面上に小突起２を突出させる。
【００１６】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、小突起は基端部に行くに従って硬度が高くな
り、耐摩耗性が向上するために、不均一な摩耗が生じた
場合には、摩耗の少ない小突起が優先的に摩耗するため
に、全体の摩耗量を均一にすることができる。このた
め、小突起の不均一摩耗により生じる浮上姿勢の不安
定、吸着等を有効に防止することができる。
によれば、小突起は基端部に行くに従って硬度が高くな
り、耐摩耗性が向上するために、不均一な摩耗が生じた
場合には、摩耗の少ない小突起が優先的に摩耗するため
に、全体の摩耗量を均一にすることができる。このた
め、小突起の不均一摩耗により生じる浮上姿勢の不安
定、吸着等を有効に防止することができる。
【図１】本発明を示す図で、（ａ）は磁気ヘッドスライ
ダをディスク対向面側から見た裏面図、（ｂ）はディス
ク面上への着地状態を示す側面図、（ｃ）は小突起の拡
大図、（ｄ）は（ｃ）の変形例を示す小突起の拡大図で
ある。
ダをディスク対向面側から見た裏面図、（ｂ）はディス
ク面上への着地状態を示す側面図、（ｃ）は小突起の拡
大図、（ｄ）は（ｃ）の変形例を示す小突起の拡大図で
ある。
【図２】本発明の作用を示す図である。
【図３】本発明の第２の実施の形態を示す図である。
【図４】磁気ヘッドスライダの製造方法を示す図で、
（ａ）はウエハを示す斜視図、（ｂ）は棒状体を示す斜
視図である。
（ａ）はウエハを示す斜視図、（ｂ）は棒状体を示す斜
視図である。
【図５】小突起の形成工程を示す図である。
【図６】従来例を示す図で、（ａ）は磁気ヘッドスライ
ダをディスク対向面側から見た裏面図、（ｂ）はディス
ク面上への着地状態を示す側面図、（ｃ）は浮上状態を
示す側面図である。
ダをディスク対向面側から見た裏面図、（ｂ）はディス
ク面上への着地状態を示す側面図、（ｃ）は浮上状態を
示す側面図である。
１ 磁気ディスク ２ 小突起 ３ スライダ本体
Claims (2)
- 【請求項１】磁気ディスク対向面に突設された小突起を
介して磁気ディスク表面に接触する磁気ヘッドスライダ
であって、 前記小突起は基端部に行くに従って硬度が暫時高くなっ
ていく磁気ヘッドスライダ。 - 【請求項２】スライダ本体上に硬質材を成膜して小突起
を突設する磁気ヘッドスライダの製造方法であって、 前記小突起の成膜条件を連続または段階的に変化させて
硬度を基端部に行くに従って暫時高くする磁気ヘッドス
ライダの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP825098A JPH11203649A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 磁気ヘッドスライダ、およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP825098A JPH11203649A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 磁気ヘッドスライダ、およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11203649A true JPH11203649A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11687899
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP825098A Withdrawn JPH11203649A (ja) | 1998-01-20 | 1998-01-20 | 磁気ヘッドスライダ、およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11203649A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7130154B2 (en) | 1999-12-28 | 2006-10-31 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
| KR100820089B1 (ko) * | 2002-03-28 | 2008-04-07 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 기록 매체 구동 장치 및 헤드 슬라이더 |
-
1998
- 1998-01-20 JP JP825098A patent/JPH11203649A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7130154B2 (en) | 1999-12-28 | 2006-10-31 | Alps Electric Co., Ltd. | Magnetic head slider having protrusions provided on the medium-facing surface and manufacturing method therefor |
| KR100820089B1 (ko) * | 2002-03-28 | 2008-04-07 | 후지쯔 가부시끼가이샤 | 기록 매체 구동 장치 및 헤드 슬라이더 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050405 |