JPH11202527A - 電子写真感光体および電子写真画像形成装置 - Google Patents

電子写真感光体および電子写真画像形成装置

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JPH11202527A
JPH11202527A JP352198A JP352198A JPH11202527A JP H11202527 A JPH11202527 A JP H11202527A JP 352198 A JP352198 A JP 352198A JP 352198 A JP352198 A JP 352198A JP H11202527 A JPH11202527 A JP H11202527A
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JP
Japan
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electrophotographic
group
photoreceptor
image
image forming
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Application number
JP352198A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Sato
祐弘 佐藤
Keiko Hiraoka
敬子 平岡
Masataka Kawahara
正隆 川原
格 ▲高▼谷
Itaru Takatani
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 光散乱やブリードがなく光学的に均一な状態
の表面保護層であって低表面エネルギーと硬度や強度な
どの機械的特性、耐アーク放電性等の電気的耐久性を両
立した高解像な電子写真感光体及び該感光体を有する電
子写真画像形成装置を提供することである。 【構成】 導電性支持体上に感光層を有する電子写真感
光体において該感光体の表面保護層が、コロイダルシリ
カの存在下に下記一般式 R2 SiO2/2 及び/又は RSiO3/2 (式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、C
n 2n12 4 −基(n=1〜18)、γ−グリシ
ドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基か
らなる群より選ばれた少なくともひとつの基を表す。)
で表される化合物の縮合生成物を含有することを特徴と
する電子写真感光体及びこれを用いた電子写真画像形成
装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子写真方式を用
いた複写機、ブリンター、ファクシミリ、製版システ
ム、などに広く用いることの出来る高い画像均一性と対
摩耗性等の耐久性に優れた、対汚染性、滑り性に優れた
表面保護層を有する電子写真感光体および電子写真画像
形成装置に関するものであり、更に詳しくは、半導体レ
ーザーやLEDを用いたスポット光によるデジタル方式
によって従来よりも高解像な画像、特に従来写真等が用
いられるような高階調性でフルカラーの画像を安定に得
ることが可能な電子写真感光体および電子写真画像形成
装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子写真感光体には、適用される電子写
真プロセスに応じた所要の感度、電気特性および、光学
特性などを備えていることはもちろんであるが、特に繰
り返し使用される感光体の表面には、コロナ帯電、ロー
ラ帯電等の帯電プロセス、現像プロセス、転写プロセ
ス、およびクリーニングプロセスなどにより電気的ある
いは機械的な影響が直接に加えられるために、それらに
対する耐久性が要求される。
【0003】具体的には、摺擦による感光体表面の摩耗
や傷の発生や高湿下における帯電時に発生しやすい電気
的な感光体表面の劣化などに対する耐久性が要求され
る。特にローラ帯電方式等の放電現像を用いた帯電方式
においては高エネルギーのアーク放電に対する耐久性が
要求される。
【0004】また、トナーによる現像とクリーニングの
繰り返しなどに起因した、感光体表面へのトナーの付着
という問題もあり、これに対しては感光体表面のクリー
ニング性の向上が求められている。
【0005】上記のような感光体表面に要求される様々
な特性を満たすために感光層上に種々の樹脂を主成分と
する表面保護層を設ける試みがなされている。例えば、
特開昭57−30843号公報には、導電性粒子として
金属酸化物粒子を添加することによって抵抗を制御した
保護層が提案されている。
【0006】また、保護層のみでなく電荷輸送層中に種
々の物質を添加することで感光体表面の物性を改善する
ことも検討されている。例えば、シリコーン樹脂の低表
面エネルギーに注目した添加物としては下記のようなも
のが報告されている:シリコーンオイル(特開昭61−
132954)、ポリジメチルシロキサン、シリコーン
樹脂粉体(特開平4−324454)、架橋シリコーン
樹脂、ポリ(カーボネート−シリコン)ブロック共重合
体、シリコーン変成ポリウレタン、シリコーン変成ポリ
エステル、熱硬化性シリコーン樹脂(特公平5−469
40)。
【0007】低表面エネルギーの代表的なポリマーとし
てはフッ素系高分子があり、該フッ素系高分子として添
加できるものとしては下記のものがある:ポリテトラフ
ルオロエチレン粉体、フッ化カーボン粉末。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、金属酸
化物等を含む表面保護層はかなりの硬度を有するものが
得られるが表面エネルギーが大きくなりやすいためにク
リーニング性等に問題がある。シリコーン系樹脂は表面
エネルギーが小さい点で優れているが他の樹脂に対して
十分な相溶性を示さないため、添加系では凝集しやすく
光散乱を生じたり、ブリードして表面に偏せきするため
に安定した特性を示さない等の問題があった。また、シ
リコーン系樹脂単独で用いた場合には硬度が不十分であ
り、感光層を侵さない溶剤系、例えばアルコール、水等
を使用する場合には該シリコーン系樹脂の表面は親水性
になりやすくクリーニング性等に問題がある。
【0009】その他、低表面エネルギーのポリマーであ
るポリテトラフルオロエチレンに代表されるフッ素系高
分子は一般に溶媒に不溶であり、分散性も不良であるこ
とから、平滑な感光体表面を得ることが困難であり、屈
折率も小さいことから光散乱が生じやすく、それによる
潜像の劣化を生じる問題点があった。
【0010】また、ポリカーボネート、ポリアクリルエ
ステル、ポリエステル、ポリテトラオロエチレン等の高
分子化合物は一般に耐アーク放電性が十分でなく、放電
により高分子主鎖が切断されることから容易に劣化して
しまう問題点があった。
【0011】本発明の目的は前記の問題点に対して光散
乱やブリードがなく、光学的に均一な状態の表面保護層
であって低表面エネルギーと硬度や強度等の機械的特
性、耐アーク放電性等の電気的耐久性を両立した高解像
な電子写真感光体及び該感光体を有する電子写真画像形
成装置を提供することである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明の第1の発明は、
導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体におい
て、該感光体の表面保護層が、コロイダルシリカの存在
下に下記一般式 R2 SiO2/2 及び/又は RSiO3/2 (式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、C
n 2n12 4 −基(n=1〜18)、γ−グリシ
ドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基か
らなる群より選ばれた少なくともひとつの基を表す)で
表される化合物の縮合生成物を含有していることを特徴
とする電子写真感光体である。
【0013】尚、本発明で述べるシロキサン樹脂はOH
基、OR基等の加水分解性基をケイ素原子あたり2つ又
は3つ有するケイ素化合物の縮合により得られるシリコ
ーン樹脂もしくは部分縮合したオリゴマーのことを意味
する。
【0014】本発明の第2の発明は光を感光体上に照射
することによって潜像を形成し、その形成された潜像を
現像して画像を得る画像形成装置において、該画像形成
装置が、該感光体を帯電する手段及び得られた潜像をト
ナーにより現像する手段を有し、該感光体が導電性支持
体上に感光層を有する電子写真感光体であって、かつ該
感光体の表面保護層が、コロイダルシリカの存在下に下
記一般式 R2 SiO2/2 及び/又は RSiO3/2 (式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、C
n 2n12 4 −基(n=1〜18)、γ−グリシ
ドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基か
らなる群より選ばれた少なくともひとつの基を表す)で
表される化合物の縮合生成物を含有していることを特徴
とする電子写真画像形成装置である。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。
【0016】本発明の電子写真感光体の表面保護層はコ
ロイダルシリカを含むシロキサン樹脂の縮合物を含有し
ているものであり、電子写真感光体表面保護層用組成物
を電子写真感光体の表面に塗布、乾燥、硬化することに
より形成される。本発明に用いられる電子写真感光体表
面保護層用組成物は少なくとも下記の(a)〜(c)の
3成分からなる。
【0017】(a)コロイダルシリカ (b)R2 −Si(OR1 2 及びR−Si(OR1
3 の部分縮合により作製されるシロキサン樹脂 (式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、C
n 2n12 4 −基(n=1〜18)、γ−グリシ
ドオキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基
からなる群より選ばれた少なくともひとつの基を表す。
1 は水素原子及び炭素数1〜3のアルキル基からなる
群より選ばれた少なくともひとつの基を表わす。) (c)低級脂肪族アルコール、水からなる群より選ばれ
た少なくともひとつの溶剤 本発明の電子写真感光体表面保護層用組成物は、コロイ
ダルシリカ及びシロキサン樹脂が1〜50重量%低級ア
ルコール−水混合溶液中に分散されているものが好まし
い。固形分が50重量%を越えると組成物が劣化しやす
く、ゲル化等のために良好に塗膜が形成されにくくな
る。1重量%未満では形成された表面保護層の強度が十
分でなくなる傾向がある。
【0018】また、固形分におけるコロイダルシリカの
割合は10〜90重量%であり、シロキサン樹脂は10
〜90重量%であることが好ましい。シロキサン樹脂の
固形分に占める割合が10重量%未満では脆くなり良好
な膜が形成されにくくクラック等がはいりやすくなり、
コロイダルシリカの割合が10重量%未満では形成され
た表面保護層の硬度が十分でなくなる傾向がある。
【0019】コロイダルシリカとしては市販の水分散系
のものが用いられる(商品名“Ludox”、“Nal
coag”等)粒径は5nm〜150nmであることが
好ましく、分散安定性と光学特性の点で10nm〜30
nmの粒径であることが好ましい。コロイダルシリカと
してはNa2 O等のアルカリ金属酸化物の含有量が2重
量%未満であることがより好ましい。分散溶剤としては
メタノール、エタノール、イソプロパノール、t−ブタ
ノール、n−ブタノール等の低級脂肪族アルコールと水
の混合溶剤系が好ましいが、その他のグリコール、アセ
トン等の水可溶性の溶剤を更に添加しても良い。
【0020】前記の感光体表面保護層用組成物は無機酸
もしくは有機酸を用いることによりpH3.0〜6.0
の酸性状態に調整される。強酸を用いると組成物の安定
性等に好ましくない影響を与えやすいのでより好ましく
は弱酸が用いられ、pH4.0〜5.5の酸性状態に調
整される。
【0021】電子写真感光体の感光層の上に塗布された
前記表面保護層用組成物は乾燥後、熱硬化されることに
より硬度、強度、低表面エネルギー、耐放電性が発現す
る。熱硬化は高温であるほど完全に進行するが、電子写
真感光体特性に悪影響を与えない範囲で選ばれる。好ま
しくは80℃〜180℃で熱硬化されるが、より好まし
くは100℃〜150℃で行われる。
【0022】熱硬化の時間としては長時間であるほど硬
化は進むが、その処理温度において電子写真感光体特性
に悪影響を与えない範囲で選ばれる。熱硬化の処理時間
は一般的には10分〜12時間程度で行われる。
【0023】乾燥後、熱硬化して得られた表面保護層は
少なくともコロイダルシリカとしてSiO2 で示される
成分、R2 SiO2/2 及びRSiO3/2 で示されるシロ
キサン樹脂を含有している。
【0024】このときRは炭素数1〜3のアルキル基、
ビニル基、Cn 2n12 4 −基(n=1〜1
8)、γ−グリシドオキシプロピル基、γ−メタクリロ
オキシプロピル基からなる群より選ばれた少なくともひ
とつの基を表す。
【0025】本発明に用いられる感光体の表面保護層は
0.1μm〜4μmの膜厚であることが好ましい。0.
1μm未満では均一に塗布することが困難であり、また
表面硬度や強度が十分でなく、耐久性にが低下しやす
く、4μmを越えると現像時に潜像によって形成される
コントラストポテンシャルが劣化し易い。より好ましく
は0.2μm以上、3μmである。
【0026】本発明の表面保護層はクリーニング性およ
び耐汚染性を満足するために低表面エネルギーであるこ
とが好ましく、水の接触角で測定される低表面エネルギ
ー性としては90deg以上が好ましい。90deg以
下では電子写真プロセスによる繰り返し使用によって表
面に帯電生成物やトナー、紙からもたらされる脱落物が
付着しやすく、クリーニング不良や表面抵抗の低下によ
る潜像の劣化(画像流れ)を生じやすい。より好ましく
は95deg以上である。
【0027】さらに本発明の表面保護層の特徴としては
コロイダルシリカ及びシロキサン樹脂からなる縮合物を
含有していることにより通常の有機化合物に比較して極
めて高い表面硬度が得られることがある。表面硬度はコ
ロイダルシリカの含有量およびシロキサン樹脂の構造に
より諸物性とのバランスから適宜選択されるが、ガラス
板上に形成した膜の鉛筆硬度として5H以上が好まし
い。5H以下では電子写真プロセスに用いられているト
ナーや紙粉によって傷や削れが生じやすく好ましくな
い。
【0028】本発明の表面保護層の体積抵抗は1×10
9 〜1×1015Ωcm以下のものが用いられる。1×1
9 Ωcm未満では形成された潜像の電荷が拡散するた
めに劣化してしまう問題が発生して好ましくない。1×
1015Ωcmを越えると電子写真感光体として露光後、
現像までに電荷が十分に移動できないために見かけ上感
度が低減し、残留電位も高くなり易い。
【0029】また、電気抵抗のみでなく残存しているシ
ラノール基等の加水分解性基によっても残留電位が高く
なる傾向があるため、できる限り残存しないようにする
ことが望ましい。そこで、加水分解性基がSiOH基換
算での割合が0.1重量%以下、より好ましくは0.0
1重量%未満である。
【0030】表面保護層はコロイダルシリカおよびシロ
キサン樹脂を必須の成分として含む樹脂組成物として用
い、米国特許4027073号明細書や米国特許394
4702号明細書に記載されている方法で製造できる。
【0031】シリコーン系のハードコート樹脂は、加水
分解性基を分子中に有する多官能性有機ケイ素化合物の
加水分解縮合物からなる。官能性基数が多いほど架橋度
が上がるため、生成した樹脂は硬くなる。その中でも、
4官能性有機ケイ素の替わりにコロイダルシリカを使用
し3官能性有機ケイ素を用いたものでは、コロイダルシ
リカの粒径、その添加量、3官能性有機ケイ素の加水分
解縮合を調節することにより、硬度が高く且つ製膜性に
優れた樹脂が得られる。好適なコロイダルシリカとして
は、平均粒径が5nm〜150nmであり、これを前述
の範囲で水を含む低級アルコール中に分散させ、加水分
解性基を有する3官能性の有機ケイ素化合物を酸或いは
アルカリ存在下で加水分解することで製造される。反応
終了後にさらに、必要に応じて低級アルコール、硬化触
媒、レベリング剤等を加える。これをプラスチック基板
上に、デイップ、スプレー、バーコート、スピンコート
等によりコートされる。溶媒を除去した後、一般的には
80〜150℃の範囲で加熱硬化させることにより被膜
が形成される。硬化温度はコート基材プラスチックの熱
変形温度以下の温度で行うのが好ましい。このようにし
て形成されたシロキサン樹脂は、鉛筆硬度で5H以上の
硬度を発現できる。
【0032】ハードコートレジンは適用基板材料に応じ
て、基材表面との密着性を向上させる目的で、基材表面
を例えばシランカップリング剤といわれるシラン化合物
で表面処理したり、或いは化学的方法、物理的方法で表
面を変成させて密着性を向上させることは通常行なわれ
ていることである。
【0033】本発明の表面保護層を有する電子写真感光
体を製造する例を下記に示す。
【0034】電子写真感光体の支持体としては支持体自
体が導電性を有するもの、例えば、アルミニウム、アル
ミニウム合金、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、チタ
ン、ニッケル、マグネシウム、インジウム、金、白金、
銀、鉄等を用いることが出来る。その他にアルミニウ
ム、酸化インジウム、酸化スズ、金、等を蒸着等により
プラスチック等の誘電体支持体に被膜形成し、導電層と
したものや、導電性微粒子をプラスチックや紙に混合し
たもの等を用いることが出来る。これらの導電性支持体
は均一な導電性が求められるとともに平滑な表面が重要
である。表面の平滑性はその上層に形成される下引き
層、電荷発生層、正孔輸送層の均一性に大きな影響を与
えることから、その表面荒さは1.0μm以下でも用い
られる。1.0μm以上の凹凸は下引き層や電荷発生層
のような薄い層に印加される局所電場を大きく変化させ
てしまうためにその特性が大きく変化してしまい電荷注
入や残電のむら等の欠陥を生じ易いことから好ましくな
い。
【0035】特に導電性微粒子をポリマーバインダー中
に分散して塗布することにより得られる導電層は形成が
容易であり、均質な表面を形成することに適している。
このとき用いられる導電性微粒子の1次粒径は100n
m以下であり、より好ましくは50nm以下のものが用
いられる。導電性微粒子としては、導電性酸化亜鉛、導
電性酸化チタン、Al、Au、Cu、Ag、Co、N
i、Fe、カーボンブラック、ITO、酸化スズ、酸化
インジウム、インジウム、等が用いられ、これらを絶縁
性微粒子の表面にコーティングして用いてもよい。前記
導電性微粒子の含有量は体積抵抗が十分に低くなるよう
に使用され、好ましくは1×1010Ωcm以下の抵抗と
なるように添加される。より好ましくは1×108 Ωc
m以下で用いられる。
【0036】レーザー等のコヒーレントな光源を用いて
露光する場合は干渉による画像劣化を防止するために上
記導電性支持体の表面に凹凸を形成することも可能であ
る。このときは電荷注入や残留電位のむら等の欠陥が生
じにくいように使用する波長の1/2λ程度の凹凸を数
μm以下の直径のシリカビーズ等の絶縁物を分散するこ
とに10μm以下の周期で形成して用いることが可能で
ある。
【0037】導電性支持体と感光層の中間に、注入阻止
機能と接着機能をもつ下引層を設けることもできる。下
引層としてはカゼイン、ポリビニルアルコール、ニトロ
セルロース、エチレン−アクリル酸コポリマー、ポリビ
ニルブチラール、フェノール樹脂、ポリアミド、ポリウ
レタン、ゼラチン、等によって形成することができる。
下引き層の膜厚は0.1μm〜10μm、好ましくは
0.3μm〜3μmが用いられる。
【0038】感光層としては電荷発生層と電荷輸送層か
らなる機能分離タイプのものや電荷発生と電荷輸送を同
一の層で行う単層タイプが用いられる。
【0039】電荷発生材料としては、例えば、セレン−
テルル、ピリリウム系染料、チオピリリウム系染料、フ
タロシアニン系顔料、アントアントロン系顔料、ジベン
ズピレンキノン系顔料、ピラントロン系顔料、トリスア
ゾ系顔料、ジスアゾ系顔料、アゾ系顔料、インジゴ系顔
料、キナクリドン系顔料、シアニン系顔料等を用いるこ
とができる。
【0040】電荷輸送性化合物は電子輸送性化合物と正
孔輸送性化合物に大別される。
【0041】電子輸送性化合物としては、2,4,7−
トリニトロフルオレノン、2,4,5,7−テトラニト
ロフルオレノン、クロラニル、テトラシアノキシジメタ
ン、およびアルキル置換ジフェノキノン等の電子受容性
化合物やこれらの電子受容性化合物を高分子化したもの
が挙げられる。
【0042】正孔輸送性化合物としてはピレン、および
アントラセン等の多環芳香族化合物、カルバゾール、イ
ンドール、オキサゾール、チアゾール、オキサチアゾー
ル、ピラゾール、ピラゾリン、チアジアゾールおよびト
リアゾール等の複素環化合物、p−ジエチルアミノベン
ズアルデヒド−N,N−ジフェニルヒドラゾンおよび
N,N−ジフェニルヒドラジノ−3−メチリデン−9−
エチルカルバゾール等のヒドラゾン系化合物、α−フェ
ニル−4′−N,N−ジフェニルアミノスチルベンおよ
び5−(4−(ジ−p−トリルアミノ)ベンジリデン)
−5H−ジベンゾ(a,d)シクロヘプテン等のスチリ
ル系化合物、ベンジジン系化合物、トリアリールアミン
系化合物あるいはこれらの化合物からなる基を主鎖また
は側鎖に有する高分子化合物(ポリ−N−ビニルカルバ
ゾール、ポリビニルアントラセン等)が挙げられる。
【0043】上記、電荷発生材料や電荷輸送材料は必要
に応じてバインダーポリマーが用いられる。バインダー
ポリマーの例としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビ
ニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フ
ッ化ビニリデン、トリフルオロエチレン、等のビニル化
合物の重合体および共重合体、ポリビニルアルコール、
ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステ
ル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウ
レタン、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹
脂、けい素樹脂、エポキシ樹脂、等が挙げられる。
【0044】特に本発明で用いられる電荷輸送層用の高
分子化合物は前記本発明の電荷輸送性化合物と相溶する
ものが用いられる。代表的な高分子化合物としてはポリ
エステル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメタ
クリル酸エステル、ポリアクリル酸エステル等がある。
【0045】電荷輸送層に用いられる電荷輸送性化合物
は電荷輸送層の固形分に対して20重量%が好ましい。
20重量%未満では十分な電荷移動能が得られないため
に残留電位の増加等が生じ好ましくない。70重量%を
越えると電荷輸送層の機械的強度が低下してしまうため
に十分な耐久性が得られない。
【0046】電荷輸送層に用いられる高分子化合物は電
荷輸送層の固形分に対して20〜80重量%が好まし
い。80重量%を越えると十分な電荷移動能が得られな
いために残留電位の増加および電気的耐久性低下、表面
の疎水性の効果低減等が生じ好ましくない。20重量%
未満では電荷輸送層の機械的強度が低下してしまうため
に十分な耐久性が得られない。
【0047】単層感光体として用いられる場合は前記電
荷発生材料と電荷輸送性化合物と高分子化合物を組み合
わせてなる組成物を用いることにより良好な特性が得ら
れる。
【0048】感光層には前記化合物以外にも機械的特性
の改良や耐久性向上のために添加剤を用いることができ
る。このような添加剤としては、酸化防止剤、紫外線吸
収剤、安定化剤、架橋剤、潤滑剤、導電性制御剤等が用
いられる。
【0049】以上のようにして形成された感光層の上に
前述した本発明の表面保護層が形成される。表面保護層
を形成するための組成物に用いる溶剤は感光層を侵さな
いものが好ましく、浸漬コーティング法やブレードコー
ト法、ロールコート法等により塗布される。感光層を侵
すような溶剤を用いる場合であっもスプレー塗布法等を
用いることにより影響を低下させることが可能である。
【0050】つぎに本発明の電子写真感光体をもちいた
電子写真画像形成装置について説明する。
【0051】本発明の電子写真感光体に帯電し露光によ
り潜像を形成することにより、耐久性の優れた、常に高
画質の画像が得ることが可能となったが、特に画像形成
装置の中で高速かつ低雑音プリンタとして、電子写真方
式を採用したレーザービームプリンタもしくはデジタル
方式の複写機及びファックス等に対して高画質化、高耐
久化の効果が大きい。
【0052】電子写真方式を採用したレーザービームプ
リンタもしくはデジタル方式での複写機及びファックス
等は文字、図形等の画像を感光体にレーザービームを当
てるか、当てないかで形成する2値記録である。そし
て、一般には文字、図形等の記録は中間調を必要としな
いのでプリンタの構造も簡便にできる。
【0053】ところがこのような2値記録方式であって
も中間調を表現できるプリンタがある。かかるプリンタ
としてはデイザ法、濃度パターン法等を採用したものが
よく知られている。しかし、周知のごとくディザ法、濃
度パターン法等を採用したプリンタでは高解像度が得ら
れない。そこで、近年、記録密度を低下させずに高解像
度で、各画素において中間調を形成する方式(PWM方
式)が提案されている。この方式は、画像信号によっ
て、レーザービームを照射する時間を変調することによ
り中間調画素形成を行うもので、この方式によれば高解
像度かつ高階調性の画像を形成でき、したがって、特に
高解像度と高階調性を必要とするカラー画像形成装置に
はとくに適している。すなわち、この方式によると、1
画素毎にビームスポットにより形成されるドットの面積
階調を行うことができ解像度を低下させることなく中間
調を表現できる。
【0054】ところが、このPWM方式においても、さ
らに画素密度を上げていくと露光スポット径に対して画
素が相対的に小さくなるために露光時間変調による階調
を十分にとることが出来ないという問題点がある。
【0055】そこで階調性を保持したまま解像度を向上
するためには、露光スポット径をより小さくする必要が
ある。そのためには、例えばレーザーを用いた走査光学
系を使用するときにはレーザー光の波長を短波長化する
こと、f−θレンズのNAを大きくすること、等が必要
となるが、このような方法を用いると高価なレーザーの
使用やレンズ、スキャナーの大型化、焦点深度の低下に
よる要求される機械精度の上昇等から装置の大型化やコ
スト上昇は避け難い。
【0056】また、LEDアレイや液晶シャッターアレ
イ等の固体スキャナーにおいてもスキャナー自体の価格
の上昇、取り付け精度の上昇、電気駆動回路のコスト上
昇は避け難い。
【0057】更に前述のように光スポットを微小化して
いった場合でも電子写真方式において良好な階調再現性
を得ることは困難であり、電気的な処理により、階調性
を疑似的に再現しているにすぎなかった。
【0058】以上の様な問題点が存在するにもかかわら
ず、近年、電子写真方式を用いた画像形成装置に要求さ
れる解像度、階調性はますます上昇している。
【0059】このような状況に対して、現像に用いられ
るトナーの粒子径を小さくして解像度、階調性を向上す
ることや現像条件をより均質にして改善することが試み
られている。
【0060】しかしながら、このような改善を行っても
肉眼で認識可能な400線から600線の256階調の
フルカラー画像データ等の階調データの再現性および文
字等の2値画像の高解像再現が十分でなかった。
【0061】前述のように、通常肉眼で識別できる画像
としては400dpi、256階調程度であるが、この
場合の最小解像面積は16μm2 程度であり、5000
dpi以上の解像度に相当するものである。
【0062】また、このような高解像度を実現するため
には光ビームのスポット面積を微細化する必要があるが
単にスポット面積を微細化するのみでは上記のような高
画質を実現することができなかった。
【0063】このような問題点に対して検討したとこ
ろ、光ビームを照射して潜像を形成するところの電子写
真画像形成装置において感光体の感光層の膜厚と照射ス
ポット面積の積と階調再現性の間に一定の関係があるこ
とを見い出し、スポット面積と感光体の感光層の膜厚の
積が20000μm3 以下とすることで400dpi、
256階調を実現するところのきわめて優れた画像品質
を得ることを可能とした。
【0064】このことは従来の電子写真画像形成装置に
おいては光スポット面積を微細化しているにもかかわら
ず、感光体上に形成される潜像および現像の条件が十分
でないためであると考えられる。すなわち潜像を形成す
るための光キャリアが感光層を走行する間に拡散を生じ
るために光スポットによって与えられた画像情報が劣化
してしまう現象や形成された潜像により生じる電位ポテ
ンシャルのコントラストが導電性基板までに存在する空
間により低下する現象が生じることにより、初期に光ス
ポットにより与えられた画像情報が大きく劣化してしま
うことにより画質の低下が発生しているものと考えられ
る。
【0065】上記に示すように光ビームのスポット面積
と感光体の感光層の膜厚の積を20000μm3 以下と
することにより、前記のキャリアの拡散や現像性の低下
を生じることなく良好な画像形成を可能とするものであ
る。
【0066】これは、一般的に実現可能な微小光スポッ
ト径から求められるスポット面積で用いる感光体の感光
層の膜厚、主として正孔輸送層の膜厚としては12μm
以下が適していることを示している。
【0067】前述のように感光層の膜厚は薄い方が望ま
しいが、同一帯電電位におけるピンホールや感度の低下
等を発生することから1μm以上の膜厚が望まれる。よ
り望ましくは3μm以上の膜厚で用いられる。
【0068】
【実施例】以下、本発明について詳細に説明する。
【0069】図1に本発明の電子写真感光体の断面の概
略図を示す平面図を示す。
【0070】本発明の表面保護層を電荷輸送層の上に塗
工し、加熱乾燥することによって形成される電子写真感
光体の表面保護層として図1Aに示すようにして用いる
ことも電荷発生層の上に直接塗工することで図1Bに示
すように用いることも可能である。
【0071】高解像度の記録を行うためには、図1の電
荷輸送層の膜厚(L)と記録される画像の解像度(S)
の比(S/L)を大きくする必要があり、比が小さいと
フォトキャリアーの拡散により潜像はぼやけてしまい、
良好な画像は得られない。比(S/L)は4以上が望ま
しく、より望ましくは5以上である。
【0072】また、電子写真感光体上に形成された潜像
を現像剤にて可視化する工程においても得られる電位ポ
テンシャルのコントラストが前述の比により影響を受け
る。同様に比は大きい方が好ましく、解像度を向上する
ためには電荷輸送層の膜厚の低減が求められている。
【0073】現在、求められている解像度は400dp
i以上、より望ましくは500dpi以上であり、用い
られる電荷輸送層の膜厚は15μm以下、より望ましく
は12μm以下で用いられる。
【0074】図2に本発明の電子写真感光体を用いた電
子写真画像形成装置における照射光強度分布と導電性基
板に到達した照射光の光強度分布をしめす。
【0075】該光ビームのスポット面積はピーク強度の
1/e2 に減少するまでの部分で表わされる。
【0076】用いられる光ビームとしては半導体レーザ
を用いた走査光学系、LEDや液晶シャッター等の固体
スキャナー、等があり、光強度分布についてもガウス分
布、ローレンツ分布、等があるがそれぞれのピーク強度
の1/e2 までの部分をスポット面積とする。
【0077】光スポットは一般的には図2に示すように
楕円形の形状を有している。
【0078】光ビームのスポット面積は4000μm2
以下で用いられる。4000m2 以上で400dpi、
256階調の画像信号を与えた場合に隣接画素の重複に
よる影響が大きくなり、階調再現性が不安定となること
から好ましくない。
【0079】本発明における階調再現性は、400dp
iの解像度において光ビームの照射量を256階調分直
線的に変化させた場合に画像濃度が照射量に比例する部
分で定義される。図3に本発明における階調再現性の測
定の模式図を示す。
【0080】本発明の画像形成装置を用いて画像評価を
行った。
【0081】本発明の画像形成装置としてデシダルフル
カラー複写機およびレーザービームプリンターを解像し
て680nm、100mWの半導体レーザーを用いて感
光体上でのスポット径は副走査方向の1/e2 で400
線相当の63.5μm一定として、主走査方向の1/e
2 スポット径は20μmとし、該光スポットに対して2
56階調のPWM変調もしくは600dpi相当の画素
変調を行って画像出力し評価測定した。前記、光スポッ
トのスポット面積は約1000μm2 である。
【0082】以下、本発明で用いた電子写真感光体表面
保護層用組成物について詳細に説明する。調液例1 フラスコにコロイダルシリカ(40%固体)の水性分散
液8.7gを取り、攪拌しながらコロイダルシリカ(3
0%固体)のイソプロピルアルコール分散液20.5
g、メチルトリエトキシシラン25.6g、ジメチルジ
メトキシシラン1.9g、酢酸3.2gを添加した。添
加後、混合溶液を65〜70℃に加熱し、2時間反応さ
せた。その後、イソプロピルアルコール21.7gで希
釈し、硬化触媒としてベンジルトリメチルアンモニウム
アセテート2.4gを添加し、さらにポリエーテル変成
ジメチルシリコーンの10%エタノール溶液0.16g
を添加した。調液例2 フラスコにコロイダルシリカ(40%固体)の水性分散
液3.9gを取り、攪拌しながらコロイダルシリカ(3
0%固体)のイソプロピルアルコール分散液26.8
g、ジメチルジメトキシシラン0.8g、メチルトリエ
トキシシラン1.5g、γ−グリシドキシプロピルトリ
メトキシシラン1.4g、酢酸3.1gを添加した。添
加後、混合溶液を65〜70℃に加熱し、2時間反応さ
せた。その後、イソプロピルアルコール23.3gで希
釈し、硬化触媒としてベンジルトリメチルアンモニウム
アセテート2.4gを添加し、さらにポリエーテル変成
ジメチルシリコーンの10%エタノール溶液0.16g
を添加した。調液例3 フラスコにコロイダルシリカ(40%固体)の水性分散
液30.0gを取り、攪拌しながらコロイダルシリカ
(30%固体)のイソプロピルアルコール分散液26.
8g、ジメチルジメトキシシラン0.8g、メチルトリ
メトキシシラン1.5g、3,3,4,4,5,5,
6,6,6−ノナフルオロヘキシルトリメトキシシラン
2.4g、酢酸3.1gを添加した。添加後、混合溶液
を65〜70に加熱し、2時間反応させた。その後、イ
ソプロピルアルコール23.3gで希釈し、効果触媒と
してベンジルトリメチルアンモニウムアセテート2.4
gを添加し、さらにポリエーテル変成ジメチルシリコー
ンの10重量%エタノール溶液0.16gを添加した。
【0083】以下に、具体的実施例をあげて、本発明を
さらに詳しく説明する。
【0084】以下、本発明で用いた表面保護層をシラン
カップリング剤処理する溶液について詳細に説明する。 (実施例1)引き抜き加工により得られた外径80mm
のアルミニウムシリンダーを用いて導電性層としてフェ
ノール樹脂(商品名 プライオーフェン、大日本インキ
化学工業(株)製)167部をメチルセロソルブ100
部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子(1次
粒径50nm)200部を分散したものを浸漬コーティ
ング法により、乾燥後の膜厚が10μmとなるように塗
工した。
【0085】下引き層としてアルコール可溶性共重合ナ
イロン(商品名 アミランCM−8000、東レ(株)
製)5部をメタノール95部に溶解した溶液を浸漬コー
ティング法により塗工した。80℃で10分間乾燥し
て、膜厚が1μmの下引き層を形成した。
【0086】次に、電荷発生層として下記のビスアゾ顔
料5部をシクロヘキサノン95部にポリビニルベンザー
ル(ベンザール化度75%以上)2部を溶解した液に加
え、サンドミルで20時間分散した。この分散液導電性
支持体の上に乾燥後の膜厚が0.2μmとなるように浸
漬コーティング法で塗工した。
【0087】
【化1】 次いで、下記の構造式を有するトリアリールアミン化合
物5部およびポリカーボネート樹脂(商品名Z−40
0、三菱瓦斯化学(株)製)5部をテトラハイドロフラ
ン70部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生
層の上に浸漬コーテング法により乾燥後10μmの膜厚
に塗工した。
【0088】
【化2】 次に電子写真感光体表面保護層用組成物として調液例1
の溶液を前記電荷輸送層の上に浸漬コーティング法によ
り塗布し、120℃で3時間乾燥熱処理後1μmの膜厚
にした。
【0089】本電子写真感光体をキヤノン製デジタルカ
ラー複写機CLC500(コロナ帯電方式)を前述の照
射スポット径となるように改造した評価機にて初期帯電
−500Vにて画像評価を行ったところ、初期および5
000枚耐久試験後も、均一性の優れた画像出力が得ら
れ、階調再現性も400dpiにて256階調ときわめ
て良好であり、感光体の摩耗量も5000枚の耐久試験
あたり0.2μmと少なかった。
【0090】また、感光体の表面の水の接触角を測定す
ると初期が96degに対して5000枚耐久試験後も
90degと良好であった。 (実施例2)鏡面加工により作成した外径30mmのア
ルミニウムシリンダーに陽極酸化によりアルマイトを形
成したものを支持体として用いた。
【0091】次に、電荷発生層として下記のビスアゾ顔
料5部をシクロヘキサノン95部にポリビニルベンザー
ル(ベンザール化度75%以上)2部を溶解した液に加
え、サンドミルで20時間分散した。この分散液を支持
体の上に乾燥後の膜厚が0.2μmとなるように浸漬コ
ーティング法で塗工した。
【0092】
【化3】 ついで、下記の構造式を有するトリアリールアミン化合
物5部およびポリカーボネート樹脂(商品名Z−40
0、三菱瓦斯化学(株)製)5部をテトラハイドロフラ
ン70部に溶解した電荷輸送層用の液を前記の電荷発生
層の上に浸漬コーテング法により乾燥後10μmの膜厚
に塗工した。
【0093】
【化4】 次に調液例1の表面層用組成物を前記中間層の上に浸漬
コーティング法により塗布し、120℃、3時間乾燥熱
処理後1.0μmの膜厚にした。
【0094】−700Vに帯電して波長680nmで電
子写真特性を測定したところ、E1/ 2 (−350Vまで
帯電電位が減少する露光量)=1.2μJ/cm2 、残
留電位29Vと良好であった。
【0095】本電子写真感光体をキヤノン製デジタル複
写機GP215(ローラー帯電方式)を前述の照射スポ
ット径となるように改造した評価機にて初期帯電−60
0Vにて画像評価を行ったところ、初期および5000
枚耐久試験後も、均一性の優れた画像出力が得られ、階
調再現性も400dpiにて256階調ときわめて良好
であり、感光体の摩耗量も5000枚の耐久試験あたり
0.3μmと少なかった。
【0096】また、感光体の表面の水の接触角を測定す
ると初期が92degに対して5000枚耐久試験後も
90degと良好であった。 (実施例3)引き抜き加工により得られた外径30mm
のアルミニウムシリンダーを用いて導電性層としてフェ
ノール樹脂(商品名 プライオーフェン、大日本インキ
化学工業(株)製)167部をメチルセロソルブ100
部に溶解したものへ導電性硫酸バリウム超微粒子(1次
粒径50nm)200部、および平均粒径2μmのシリ
コーン樹脂粒子3部を分散したものを浸漬コーティング
法により、乾燥後の膜厚が15μmとなるように塗工し
た。下引き層としてアルコール可溶性共重合ナイロン
(商品名 アミランCM−8000、東レ(株)製)5
部をメタノール95部に溶解した溶液を浸漬コーティン
グ法により塗工した。80℃で10分間乾燥して、膜厚
が1μmの下引き層を形成した。
【0097】次に、電荷発生層としてオキシチタニウム
フタロシアニン顔料5部をシクロヘキサノン95部にポ
リビニルベンザール(ベンザール化度75%以上)2部
を溶解した液に加え、サンドミルで2時間分散した。こ
の分散液を先に形成した下引き層の上の乾燥後の膜厚が
0.2μmとなるように浸漬コーティング法で塗工し
た。
【0098】ついで、実施例1で用いたトリアールアミ
ン化合物5部とポリカーボネート樹脂(商品名 Z−4
00、三菱瓦斯化学(株)製)5部をテトラハイドロフ
ラン70部に溶解した電荷輸送層用の前記の電荷発生層
の上に浸漬コーティング法により乾燥後10μmの膜厚
に塗工した。
【0099】次に調液例3の保護層用組成物を前記電荷
輸送層の上に浸漬コーティング法により塗布し、120
℃、3時間乾燥熱処理後0.8μmの膜厚にした。水の
接触角は97degであった。
【0100】−700Vに帯電して波長680nmで電
子写真特性を測定したところ、E1/ 2 (−350Vまで
帯電電位が減少する露光量)=0.1μJ/cm2 、残
留電位55Vと良好であった。
【0101】本電子写真感光体をキヤノン製レーザービ
ームプリンタ(LBP−8MarkIV)の改造機(前述
の照射スポット条件に改造、ACローラー帯電器使用)
にて初期帯電−500Vにて画像評価をおこなったとこ
ろ、4000枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は0.3
μmと少なく、耐久後の水の接触角も99degと良好
で、画像の劣化もなく、600dpi相当の入力信号に
おいてのハイライト部の1画素再現性も十分であった。 (比較例1)実施例3において用いたトリアリールアミ
ン化合物10部とポリカーボネート樹脂(商品名 Z−
400、三菱瓦斯化学(株)製)10部をクロロベンゼ
ン70部に溶解した電荷輸送層用の液を実施例3と同様
にして作製した電荷発生層の浸漬コーティング法により
乾燥後18μmの膜厚に塗工した。次に、実施例3と同
じキヤノン製レーザービームプリンタにて画像評価を行
ったところ、4000枚の耐久試験後は干渉縞および黒
ポチが認められ、摩耗量が4.7μmと大きく、水の接
触角も73degと小さいために不良であり、600d
piでのハイライト部の1画素再現も不十分でムラがあ
った。(比較例2)実施例3と同様にして電荷輸送層ま
で作製した。次に電荷輸送層の上に表面保護層として下
記の溶液をスプレーコーティング法で塗工した。
【0102】フルオロシリコーン樹脂を主成分とする硬
化性樹脂溶液の調整 メチルシロキサン単位50モル%、ジメチルシロキサン
単位10モル%、3,3,4,4,5,5,6,6,6
−ノナフルオロヘキシルシロキサン単位10モル%から
なる1重量%のシラノール基を含むシロキサン樹脂10
gをトルエン10gに溶解し、これに、ジブチル錫アセ
テート0.2gを加え均一な溶液にした。
【0103】塗工後、120℃で3時間乾燥処理を行
い、0.8μmの膜厚にした。
【0104】水の接触角は98degであった。
【0105】−700Vに帯電して波長680nmで電
子写真特性を測定したところ、E1/ 2 (−350Vまで
帯電電位が減少する露光量)=0.2μJ/cm2 、残
留電位75Vとやや高めであった。
【0106】本電子写真感光体をキヤノン製レーザービ
ームプリンタ(LBP−8 Mark IV )の改造機
(前述の照射スポット条件に改造、ACローラー帯電器
使用)にて初期帯電−500Vにて画像評価をおこなっ
たところ、4000枚の耐久試験後の感光体の摩耗量は
3.8μm以下と大きく、耐久後の水の接触角も65d
egと低下していた。600dpiでのハイライト部の
1画素再現性も不十分でムラがあった。
【0107】図4に本発明の実施例を示す画像形成装置
について簡単に説明する。
【0108】まず、原稿台10上に原稿Gを複写すべき
面を下側にしてセットする。次にコピーボタンを押すこ
とにより複写が開始される。原稿照射用ランプ、短焦点
レンズアレイ、CCDセンサーが一体のユニット9が原
稿を照射しながら走査することにより、その照射走査光
が、短焦点レンズアレイによって結像されてCCDセン
サーに入射される。CCDセンサーは受光部、転送部、
出力部より構成されている。CCD受光部において光信
号が電気信号に変換され、転送部でクロックパルスに同
期して順次出力部へ転送され、出力部において電荷信号
を電圧信号に変換し、増幅、低インピーダンス化して出
力する。このようにして得られたアナログ信号をデジタ
ル信号に変換し、更に画像の特性に応じて解像度、階調
性を最適化するところの画像処理を行って出力するため
のデジタル信号に変換してプリンター部に送られる。コ
ンピュータ等から出力する場合には解像度、階調再現方
法等を選択して望ましい画像が得られるように処理し変
換してプリンター部に送られる。プリンター部において
は、上記の画像信号を受けて以下のようにして静電潜像
を形成する。本発明の感光ドラム1は、中心支軸を中心
に所定の周速度で回転駆動され、その回転過程に帯電器
3により所定の電圧の正極性または負極性の一様な帯電
処理を受け、その一様帯電面に画像信号に対応してO
N,OFF発光される固体レーザー素子の光を高速で回
転する回転多面鏡によって走査することにより感光ドラ
ム1面には、原稿画像に対応した静電潜像が順次に形成
されていく。
【0109】図5は、前記の装置においてレーザー光を
走査するケーザー走査部300(図4では100)の概
略機構を示すものである。
【0110】このレーザ走査部300によりレーザー光
を走査する場合には、まず入力された画像信号に基づき
発光信号発生器301により、固体レーザー素子302
から放射されたレーザー光は、コリメータレンズ系30
3により概略平行な光束に変換され、更に矢印b方向に
回転する回転多面鏡304により矢印c方向に走査され
るとともにfθレンズ群305a,305b,305c
により感光ドラム等の被走査面306にスポット状に結
像される。このようなレーザー光の走査により被走査方
向とは垂直に所定量だけスクロールさせれば、該被走査
面306上に画像信号に応じた露光分布が得られる。本
実施例においては、レーザーPWM方式(パルス幅変
調)を用いて、1画素の面積階調による多値記録を行っ
たため、PWM方式について簡単に説明する。
【0111】図6はパルス幅変調回路の1例を示す回路
ブロック図、図7はパルス幅変調回路の動作を示すタイ
ミングチャートである。
【0112】図6において401は8ビットのデジタル
画像信号をラッチするTTLラッチ回路、402はTT
L論理レベルをECL論理レベルに変換する高速レベル
変換器、403はECL論理レベルをアナログ信号に変
換する高速D/Aコンバータである。404はPWM信
号を発生するECLコンパレーター、405はECL論
理レベルをTTL論理レベルに変換するレベル変換器、
406はクロック信号2fを発振するクロック発振器、
407はクロック信号2fに同期して略理想的三角波信
号を発生する三角波発生器、408はクロック信号2f
を1/2分周して画像クロック信号fを作成している1
/2分周器である。これによりクロック信号2fは画像
クロック信号fの2倍の周期を有していることとなる。
なお、回路を高速動作させるために、随所にECL論理
回路を配している。
【0113】かかる構成からなる回路動作を図51のタ
イミングチャートを参照して説明する。信号(a)はク
ロック信号2f、信号(b)は画像クロック信号fを示
しており、図示のごとく画像信号と関係つけてある。ま
た、三角波発生器内部においても、三角波信号のブュー
ティー比を50%に保ために、クロック信号2fをいっ
たん1/2分周してから三角波信号(c)を発生させて
いる。更に、この三角波信号(c)はECLレベルに変
換されて三角波信号(d)になる。
【0114】一方、画像信号はOOh(白)〜FFn
(黒)まで256階調レベルで変化する。尚、記号
“h”は16進数表示を示してする。そして画像信号
(e)はいくつかの画像信号値についてそれらをD/A
変換したECL電圧レベルを示している。例えば、第1
画素は黒画素レベルのFFn、第2画素は中間調レベル
の80h、第3画素は中間調レベルの40h、第4画素
は中間調レベルの20hの各電圧を示している。コンパ
レーターは三角波信号(d)と画像信号(e)を比較す
ることにより、形成すべき画素濃度に応じたパルス幅
T、t2,t3,t4等のPWM信号を発生する。そし
てこのPWM信号は、0Vまたは5VのTTLレベルに
変換されてPWM信号(f)になりレーザードライバ回
路に入力される。このようにして得られたPWM信号値
に対応して1画素あたりの露光時間を変化させることに
より1画素で最大256階調を得ることが可能となる。
【0115】本実施例はPWM方式による階調制御を用
いたが、ディザ法等の面積階調法やレーザー光強度変調
を用いることも可能であり、更に、それらを組み合わせ
てもよい。
【0116】このようにして、感光ドラム1に形成され
た静電潜像は現像装置4により現像され、形成されたト
ナー像は、転写帯電器7によって転写材上に静電転写さ
れる。その後、転写材は分離帯電器8によって静電分離
されて定着器6へと搬送され、熱定着されて画像が出力
される。
【0117】一方、トナー像転写後の感光ドラム1の面
はクリーナー5によって転写残りトナー等の付着汚染物
の除去を受けて繰り返し画像形成に使用される。
【0118】図8に本発明のカラー複写機の概略図を示
す。
【0119】図8において201はイメージスキャナ部
であり、原稿を読み取り、デジタル信号処理を行う部分
である。また、200はプリンタ部であり、イメージス
キャナ201に読み取られた原稿画像に対応した画像を
用紙にフルカラーでプリント出力する部分である。
【0120】イメージスキャナ部201において、20
2は原稿厚板であり、原稿台ガラス(以下プラテン)2
03上の原稿204を固定するために用いられる。原稿
204は、ハロゲンランプ205の光で照射される。原
稿204からの反射光はミラー206,207に導か
れ、レンズ208により3本のCCDライセンサで構成
される3ラインセンサ(以下CCDという)210上に
像を結ぶ。CCD210は原稿からの光情報を色分解し
て、フェルカラー情報のうちレッド(R)、クリーン
(G)、ブルー(B)成分として進行処理部209に送
られる。なお、205,206は速度vで、207は1
/2vでラインセンサの電気的走査方向(以下、主走査
方向)に対して垂直方向(以下、副走査方向)に機械的
に動くことにより、原稿全面を走査する。
【0121】211は標準白色板であり、シェーディン
グ補正時に、センサ210−2〜210−4それぞれ
R,G,Bの成分のラインセンサに対応する読み取りデ
ータの補正のためのデータを発生するために用いられ
る。
【0122】この標準白色板は可視光に対してほぼ均一
の反射特性を示している。
【0123】この標準白色板を用いてR,G,Bの可視
センサ210−2〜210−4の出力データの補正に用
いる。信号処理部209では読み取られた信号を電気的
に処理し、マゼンタ(M)、シアン(C)、イエロー
(Y)、ブラック(BK)の各成分に分解し、プリンタ
部200に送る。また、イメージスキャナ部201にお
ける一回の原稿走査(スキャン)につき、M,C,Y,
BKの内、一つの成分が面順次にプリンタ200に送ら
れ、計4回の原稿走査により一回のカラー画像形成が完
成する。
【0124】イメージスキャナ部201より送られてく
るM,C,Y,BKの画像信号は、レーザドライバ21
2に送られる。レーザドライバ212は画像信号に応
じ、半導体レーザ213を変調駆動する。レーザ光はポ
リゴンミラー214、f−θレンズ215、ミラー21
6を介し、感光体ドラム217上を走査する。
【0125】219〜222は現像器であり、マゼンタ
現像器219、シアン現像器220、イエロー現像器2
21、ブラック現像器222より構成され、4つの現像
器が交互に感光体ドラムに接し、感光体ドラム217上
に形成されたM,C,Y,BKの静電潜像を対応するト
ナーで現像する。
【0126】223は転写ドラムで、用紙カセット22
4または225より給紙された用紙をこの転写ドラム2
23に巻付け、感光体ドラム217上に現像されたトナ
ー像を用紙に転写する。このようにしてM,C,Y,B
Kの4色が順次転写された後に、用紙は定着ユニット2
26を通過して定着後、排紙される。
【0127】前記、電子写真画像形成装置は半導体レー
ザを用いてポリゴンによる走査光学系により感光体を露
光しているものであるが、ポリゴンのような機械的な駆
動部のない固体スキャナーとしてLEDプリンターヘッ
ドが用いられる。LEDプリンターヘッドは発光ダイオ
ードを概略線状に集積したもので400dpi以上の高
解像度のものも作製されており、駆動部分がないことか
ら、小型化に有利である。LEDプリンターヘッドから
のスポット光は収束性ロッドレンズアレイにより感光体
上に結像される。このとき主走査方向の解像度はLED
プリンターヘッドの集積度により決められ、400dp
iすなわち63.5μm間隔より高解像度のものが用い
られるが、副走査方向はロッドレンズアレイの集光性能
と感光体の移動速度により決められる。
【0128】LEDの発光の強度分布はガウス分布より
矩形的な分布を有しているが、ピーク強度の1/e2
強度を有している部分の面積について考慮すればよい。
【0129】
【発明の効果】以上、説明したように本発明のコロイダ
ルシリカおよびシロキサン樹脂からなる縮合物を感光体
の表面保護層として用いることにより高硬度で放電によ
る劣化の少ないことから耐摩耗性に優れ、かつ表面エネ
ルギーが小さいことから汚染が少なく、クリーニング性
の優れた、残留電位等の電気特性の優れた電子写真感光
体を実現した。
【0130】さらに、該電子写真感光体は光散乱も少な
いことからこれを用いた電子写真画像形成装置は耐久性
が優れているのみでなく、耐久後も良好な画像を提供す
ることを可能とした。特にレーザー等のスポット光を用
いるデジタル方式の電子写真画像形成装置において該感
光層の膜厚を耐久性を保ちつつ低減することが可能とな
るために400dpiといった高解像度において256
階調の優れた階調再現性を有するムラのない高画像品位
の出力を得ることが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は電荷輸送層上にコロイダルシリカおよ
びシロキサン樹脂からなる化合物の縮合物を含有する表
面保護層に用いた本発明の電子写真感光体の断面の概略
図である。(B)は電荷輸送層上にコロイダルシリカお
よびシロキサン樹脂からなる化合物の縮合物を含有する
表面保護層に用いた本発明の電子写真感光体の断面の概
略図である。
【図2】本発明の電子写真感光体における照射光ビーム
のスポット形状と導電性基板に到達した光ビームの強度
分布を示す概略図である。
【図3】階調再現性の測定方法における光照射量と画像
濃度の関係を示す概略図である。
【図4】本発明の電子写真画像形成装置の概略図であ
る。
【図5】本発明のレーザー光走査部の概略図である。
【図6】本発明のレーザー光を制御するためのパルス幅
変調回路の回路ブロック図である。
【図7】本発明のレーザー光を制御するためのパルス幅
変調回路の動作を示すタイミングチャートである。
【図8】本発明の電子写真画像形成装置のカラー複写機
の構成図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ▲高▼谷 格 東京都大田区下丸子3丁目30番2号 キヤ ノン株式会社内

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 導電性支持体上に感光層を有する電子写
    真感光体において、該感光体の表面保護層がコロイダル
    シリカ存在下に下記一般式 R2 SiO2/2 及び/又は RSiO3/2 (式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、C
    n 2n12 4 −基(n=1〜18)、γ−グリシ
    ドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基か
    らなる群より選ばれた少なくともひとつの基を表す)で
    表される化合物の縮合生成物を含有していることを特徴
    とする電子写真感光体。
  2. 【請求項2】 前記感光層が電荷発生層及び電荷輸送層
    を有する請求項1項記載の電子写真感光体。
  3. 【請求項3】 前記表面保護層の水の接触角が95de
    g以上である請求項1項記載の電子写真感光体。
  4. 【請求項4】 前記感光層の膜厚が12μm以下である
    請求項1記載の電子写真感光体。
  5. 【請求項5】 前記表面保護層の体積抵抗が1×109
    〜1×1015Ω・cmである請求項1記載の電子写真感
    光体。
  6. 【請求項6】 前記表面保護層の膜厚が0.2μm〜3
    μmである請求項1記載の電子写真感光体。
  7. 【請求項7】 電子写真感光体上に露光により潜像を形
    成し、その形成された潜像を現像して画像を得る画像形
    成装置において、該画像形成装置が該感光体を帯電する
    手段及び得られた潜像をトナーにより現像する手段を有
    し、更に該感光体が導電性支持体に感光層を有する電子
    写真感光体であって、かつ該感光体の表面保護層がコロ
    イダルシリカの存在下に下記一般式 R2 SiO2/2 及び/又は RSiO3/2 (式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、C
    n 2n12 4 −基(n=1〜18)、γ−グリシ
    ドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基か
    らなる群より選ばれた少なくともひとつの基を表す)で
    表される化合物の縮合生成物を含有していることを特徴
    とする電子写真画像形成装置。
  8. 【請求項8】 入力信号で変調された光ビームを感光体
    上に照射するとともに走査することによって潜像を形成
    し、その形成された潜像を現像して画像を得る画像形成
    装置において、該画像形成装置が、記録される画像の解
    像度および階調性により前記感光体への光ビームの露光
    量を制御する手段、感光体を帯電する手段及び得られた
    潜像をトナーにより現像する手段を有し、更に該感光体
    が導電性支持体上に感光層を有する電子写真感光体であ
    って、かつ該感光体の表面保護層が、コロイダルシリカ
    の存在下に下記一般式 R2 SiO2/2 及び/又は RSiO3/2 (式中、Rは炭素数1〜3のアルキル基、ビニル基、C
    n 2n12 4 −基(n=1〜18)、γ−グリシ
    ドキシプロピル基、γ−メタクリロオキシプロピル基か
    らなる群より選ばれた少なくともひとつの基を表す)で
    表される化合物の縮合生成物を含有していることを特徴
    とする電子写真画像形成装置。
  9. 【請求項9】 前記光ビームのスポット面積と感光層の
    膜厚の積が20000μm3 以下である請求項8記載の
    電子写真画像形成装置。
  10. 【請求項10】 前記露光量を制御する手段が露光時間
    変調を含む請求項8記載の電子写真画像形成装置。
  11. 【請求項11】 前記光ビームが半導体レーザにより得
    られる請求項8記載の電子写真画像形成装置。
  12. 【請求項12】 前記光ビームがLEDアレイにより得
    られる請求項8記載の電子写真画像形成装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017049530A (ja) * 2015-09-04 2017-03-09 コニカミノルタ株式会社 電子写真用像担持体、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジ
JP2021081479A (ja) * 2019-11-14 2021-05-27 キヤノン株式会社 電子写真感光体、プロセスカートリッジおよび電子写真装置

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