JPH11202367A - 電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

電気光学装置及び電子機器

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JPH11202367A
JPH11202367A JP1514998A JP1514998A JPH11202367A JP H11202367 A JPH11202367 A JP H11202367A JP 1514998 A JP1514998 A JP 1514998A JP 1514998 A JP1514998 A JP 1514998A JP H11202367 A JPH11202367 A JP H11202367A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 アクティブマトリクス駆動方式の電気光学装
置において、相展開数の増加による画像信号線の増加と
いう条件下で、画像信号中の高周波のクロックノイズ等
の発生を低減する。 【解決手段】 液晶装置(200)は、一対の基板間に
挟持された液晶層と、基板(1)にマトリクス状に設け
られた画素電極(11)と、これをスイッチング制御す
るTFT(30)とを備える。画像信号線(VID1〜
VID12)は、基板上でデータ線駆動回路(101)
の両側から引き回されており、これらをクロック信号線
(CLX、CLX’)等から電気的にシールドする定電
位のシールド線(80、80’、82、86)が基板上
に配線されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、薄膜トランジスタ
(以下、TFTと称す)駆動等によるアクティブマトリ
クス駆動方式の液晶装置等の電気光学装置及びこれを用
いた電子機器の技術分野に属し、特にTFTアレイ基板
上に設けられたデータ線駆動回路によりクロック信号等
の制御信号に基づいてデータ線を高周波で駆動する形式
の電気光学装置及びこれを用いた電子機器の技術分野に
属する。
【0002】
【従来の技術】従来、TFT駆動によるアクティブマト
リクス駆動方式の液晶装置においては、縦横に夫々配列
された多数の走査線及びデータ線並びにこれらの各交点
に対応して多数の画素電極がTFTアレイ基板上に設け
られている。そして、これらに加えて、データ線駆動回
路、サンプリング回路等を含みデータ線にデータ信号を
供給するデータ信号供給手段や、走査線駆動回路等を含
み走査線に走査信号を供給する走査信号供給手段が、こ
のようなTFTアレイ基板上に設けられる場合がある。
【0003】この場合、データ信号供給手段には、デー
タ信号の供給タイミングの基準となるデータ線駆動回路
を動作させるためのデータ線側基準クロックなどの制御
信号、表示すべき画像の内容に対応しておりデータ信号
の基となる画像信号、正や負の定電位電源等が、TFT
アレイ基板に設けられた外部入力端子及び配線を介して
夫々供給される。他方、走査信号供給手段には、走査信
号の供給タイミングの基準となる走査線駆動回路を動作
させるための走査線側基準クロック、正や負の定電位電
源等が、やはりTFTアレイ基板に設けられた外部入力
端子及び配線を介して供給される。そして走査信号供給
手段においては、例えば走査線駆動回路により、走査線
側基準クロックに基づくタイミングで走査信号を走査線
に線順次で供給する。これに対応してデータ信号供給手
段においては、例えば入力された画像信号をサンプリン
グするサンプリング回路を、データ線駆動回路がデータ
線側基準クロックに基づくタイミングで順次駆動して、
サンプリング回路からデータ信号がデータ線に供給され
る。これらの結果、走査線にゲート接続された各TFT
は、走査信号の供給に応じて導通状態とされ、データ信
号が当該TFTを介して画素電極に供給されて各画素に
おける画像表示が行われる。
【0004】近年特に、液晶プロジェクタ用の液晶装置
等では、表示画像の高解像度化に伴って、非常に高い周
波数のシリアルな画像信号が入力されるようになってき
ている。例えば、画像信号のドット周波数は、近時の高
解像度のパソコン画面において使用されるXGA表示モ
ードやSXGA表示モードになると、夫々約65MHz
と約135MHzであり、従来のVGA表示モードにお
けるドット周波数(約30MHz)を遥かに上回る。こ
れに対応すべく、特にデータ信号供給手段に供給される
データ線側基準クロックの周波数も非常に高くなってき
ている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年の
表示画像の高品位化の要請の下では、このように基準ク
ロックの周波数を高くすることによる、高周波のクロッ
クノイズの発生が無視し得ないようになる。即ち、例え
ば従来の比較的周波数の低いデータ線側基準クロックを
データ線駆動回路に供給してサンプリング回路を駆動す
る構成において、そのままクロック信号の周波数を上げ
たのでは、サンプリング回路に入力される画像信号中や
サンプリング回路から出力されるデータ信号中に高周波
のクロックノイズが発生して、データ線に供給すべきデ
ータ信号が劣化してしまう。このように劣化したデータ
信号の供給を受けたのでは、各画素電極により表示され
る画像もやはり劣化してしまうという問題点がある。例
えば、各画素において中間レベルの階調表示を行う時
に、10mV程度の微少なノイズが画像信号中に飛び込
んだだけでも、表示画像中に視認可能な程度のノイズと
して現れてしまう。これは、最高又は最低の液晶駆動電
圧(例えば、0〜5V間の電圧)に対応する白又は黒レ
ベルの表示を行っている場合と比べて、中間レベルにお
ける液晶駆動電圧の変化に対する液晶の透過率の変化が
急峻だからである。このように高精度の多階調表示を実
現するためには、高周波のクロックノイズの問題は重大
である。
【0006】他方で、相展開数を増やすことによりサン
プリング回路に供給される画像信号の周波数を下げるこ
とはできるが、液晶パネルの基板に設けねばならない画
像信号入力用の外部入力端子の数は、相展開数の増加に
対応して増やさねばならない。即ち、例えば6相展開の
場合には、画像信号入力用の外部入力端子は6個必要と
なり、12相展開の場合には、12個必要となる。更
に、これらの画像信号入力用の外部入力端子からサンプ
リング回路まで引き回す配線の数も同様に相展開数だけ
必要となる。これらの結果、画像信号用の配線が液晶パ
ネルの基板面上を占める割合が増加して、サンプリング
回路、データ線駆動回路等からなるデータ信号供給手段
を形成する領域を基板上に確保するのが困難となる。こ
こで仮に従来のように、外部入力端子が設けられた基板
の縁から見て、データ線駆動回路の一方の側へクロック
信号等の制御信号用の配線を引き回し、データ線駆動回
路の他方の側へ多数の画像信号用の配線を引き回したの
では、各側に引き回される配線数が顕著に異なるため、
データ線駆動回路の周囲における配線の配置バランスが
非常に悪くなる(即ち、配線が片側に偏る)という問題
点が生じる。この場合、液晶パネルの基板を大きくして
配線領域やデータ線駆動回路を形成する領域を確保する
ことは可能であるが、これでは、限られた基板サイズで
の画面の大型化という液晶パネルの技術分野における基
本的要請に反してしまう。
【0007】本発明は上述の問題点に鑑みなされたもの
であり、画像信号の相展開数の増加に伴って配線数や外
部入力端子数が増加してもこれらをバランス良く配線や
配置することができ、しかも画像信号に対して高周波の
クロック信号等の制御信号が及ぼす高周波のクロックノ
イズ等の悪影響を低減でき、高品位の画像表示を行える
液晶装置及び当該液晶装置を備えた電子機器を提供する
ことを課題とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の電気光
学装置は上記課題を解決するために、基板上に複数のデ
ータ線と、該複数のデータ線に交差する複数の走査線
と、前記複数のデータ線及び走査線に接続された複数の
スイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子に接
続された複数の画素電極と、画像信号が供給される複数
の画像信号線と、クロック信号を含む制御信号が供給さ
れる複数の制御信号線と、前記画像信号線及び前記制御
信号線を夫々介して前記画像信号及び前記制御信号が入
力され、前記画像信号に対応するデータ信号を前記制御
信号に基づいて前記複数のデータ線に供給するデータ信
号供給手段とを備えており、前記複数の画像信号線のう
ち第1画像信号線群は前記基板上で前記データ信号供給
手段の一方の側へ引き回されており、前記複数の画像信
号線のうち第2画像信号線群は前記基板上で前記データ
信号供給手段の他方の側へ引き回されており、前記第1
及び第2画像信号線群を前記複数の制御信号線から夫々
電気的にシールドする少なくとも1本の導電線を前記基
板上に更に備えたことを特徴とする。
【0009】請求項1に記載の電気光学装置によれば、
画像信号は、画像信号線を介して、データ信号供給手段
に供給される。これと並行して、クロック信号、イネー
ブル信号等を含む制御信号は、制御信号線を介して、デ
ータ信号供給手段に供給される。すると、例えばデータ
線駆動回路、サンプリング回路等を含んで構成されるデ
ータ信号供給手段により、制御信号に基づいて画像信号
に対応するデータ信号が、複数のデータ線に供給され
る。ここで特に、基板に配線された導電線により、画像
信号線は、クロック信号線、イネーブル信号線等の制御
信号線から夫々電気的にシールドされている。従って、
クロック信号の周波数が高い場合でも、クロック信号線
等の制御信号線から画像信号線への高周波のクロックノ
イズ等の飛び込みを低減できる。
【0010】他方で、基板に形成されるか又は基板に接
続された走査線駆動回路等を含む走査信号供給手段によ
り、走査信号が走査線を介してスイッチング素子に供給
される。これと並行して、上述のように高周波のクロッ
クノイズ等が低減された画像信号に対応するデータ信号
が、データ線を介してスイッチング素子に供給され、更
にスイッチング素子を介して供給されるデータ信号によ
り画素電極に印加される電圧が変化し、当該画素電極に
対向する液晶が駆動される。
【0011】以上の結果、表示すべき画像の解像度が高
く、例えば多相展開された画像信号が入力される場合に
も、高周波のクロックノイズ等の発生により画質が劣化
することは殆ど又は全く無くなり、高品位の画像表示が
可能とされる。しかも、第1画像信号線群は、基板上で
データ信号供給手段の一方の側へ引き回されており、第
2画像信号線群は基板上でデータ信号供給手段の他方の
側へ引き回されている。従って、例えば12相展開、2
4相展開、…というように相展開数を増やすことにより
データ信号供給手段に供給される画像信号の周波数を下
げつつ、多相展開に対応する多数の画像信号線について
は、データ信号供給手段の両側にバランス良く配置でき
る。この結果、サンプリング回路或いはサンプリング回
路、データ線駆動回路等からなるデータ信号供給手段を
形成する領域を基板上に容易に確保することができる。
従って、限られた基板サイズでの画面の大型化を図るこ
とも可能となる。
【0012】請求項2に記載の電気光学装置は請求項1
に記載の電気光学装置において、前記導電線は、前記複
数の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の水平走
査期間よりも短い周期を持つ高周波制御信号を供給する
高周波制御信号線から、前記第1及び第2画像信号線群
をシールドすることを特徴とする。
【0013】請求項2に記載の電気光学装置によれば、
導電線により、画像信号線は、複数の制御信号線のうち
高周波制御信号(例えば、クロック信号、イネーブル信
号等)を供給する高周波制御信号線から電気的にシール
ドされている。従って、クロック信号の周波数が高い場
合でも、高周波制御信号線から画像信号線への高周波の
クロックノイズ等の飛び込みを低減できる。尚、低周波
制御信号(例えば、データ線駆動回路内のシフトレジス
タ用のスタート信号等)については、画像信号やデータ
信号中の高周波ノイズの原因とはならないため、これを
供給する低周波制御信号線を導電線によりシールドして
もよく、シールドしなくてもよい。
【0014】請求項3に記載の電気光学装置は請求項2
に記載の電気光学装置において、前記第1及び第2画像
信号線群と前記高周波制御信号線との間には、前記導電
線と共に前記複数の制御信号線のうち少なくとも前記画
像信号の水平走査期間よりも短くない周期を持つ低周波
制御信号を供給する低周波制御信号線が配線されている
ことを特徴とする。
【0015】請求項3に記載の電気光学装置によれば、
第1及び第2画像信号線群の中で高周波制御信号線に近
い側に位置する画像信号線は、低周波制御信号線と導電
線との少なくとも合計2本の配線の存在により、高周波
制御信号線から離間され且つ電気的にシールドされてい
る。即ち、画像信号やデータ信号中の高周波ノイズの原
因とはならない低周波制御信号(例えば、データ線駆動
回路内のシフトレジスタ用のスタート信号等)を供給す
る低周波制御信号線を、高周波制御信号線と画像信号線
との間に導電線と共に配置することにより、高周波制御
信号線の画像信号線に対するクロックノイズ等の悪影響
を更に低減できる。特に、一般に距離及び障害物の介在
に応じて電磁波は減少するので、制御信号線と画像信号
線との間に導電線や低周波制御信号線をなるべく多く配
線する構成により、高周波制御信号線から画像信号線に
印加される電磁波が減少する。このように、導電線以外
に低周波制御信号線を高周波制御信号線と画像信号線と
の間に介在させることは基板上スペースの有効利用及び
ノイズ低減の観点から見て有利である。
【0016】請求項4に記載の電気光学装置は請求項1
に記載の電気光学装置において、前記第1画像信号線群
に接続されており外部画像信号源から前記画像信号が夫
々入力される複数の第1外部入力端子と、前記第2画像
信号線群に接続されており前記外部画像信号源から前記
画像信号が夫々入力される複数の第2外部入力端子と、
前記制御信号線に接続されており外部制御信号源から前
記制御信号が夫々入力される複数の第3外部入力端子
と、前記導電線に夫々接続された複数の第4外部入力端
子とを前記基板の周辺部上に更に備えており、前記第1
及び第2外部入力端子の間には、前記第3外部入力端子
が配置されており、前記第1及び第3外部入力端子の間
並びに前記第3及び第2外部入力端子の間には、前記第
4外部入力端子が夫々配置されていることを特徴とす
る。
【0017】請求項4に記載の電気光学装置によれば、
基板の周辺部上において、第1及び第2画像信号線群に
夫々接続された複数の第1及び第2外部入力端子の間に
は、制御信号線に接続された複数の第3外部入力端子が
配置されている。即ち、第1から第4外部入力端子が設
けられた基板の周辺部上において、中央に制御信号線に
接続された複数の第3外部入力端子が集中配置されてお
り、その両側に第1及び第2画像信号線群に夫々接続さ
れた複数の第1及び第2外部入力端子が配置されてい
る。そして、これらの間に、導電線に接続された第4外
部入力端子が配置されている。従って、第1及び第2画
像信号線群と制御信号線との間に基板上で距離を置くと
共に、これらの間に導電線を配線する構成を容易に得る
ことができる。特に、当該電気光学装置に入力される前
段階で、クロック信号等の制御信号が、画像信号に対し
クロックノイズ等を発生させてしまう事態を効果的に阻
止し得る。仮に、画像信号線に接続された複数の外部入
力端子と制御信号線に接続された複数の外部入力端子と
が混在していたり、隣接していたりすれば、当該電気光
学装置に入力される前段階で、画像信号線と制御信号線
とが隣接或いは近接する配線部分が不可避となり、画像
信号中にクロックノイズ等が飛び込んでしまうのであ
る。このように本発明によれば、電気光学装置に入力さ
れる前後において、クロック信号線から画像信号線への
高周波のクロックノイズの飛び込みを低減できる。尚、
より好ましくは、基板の周辺部において外部入力端子を
形成可能な領域において、第1及び第2外部入力端子を
可能な限り両側に寄せて配置すると共に、両者の間に配
置される第3外部入力端子との間に可能な限り間隔を空
けて、この間隔に導電線に接続された第4外部入力端子
を配置する。
【0018】請求項5に記載の電気光学装置は請求項4
に記載の電気光学装置において、前記導電線は、前記複
数の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の水平走
査期間よりも短い周期を持つ高周波制御信号を供給する
高周波制御信号線から、前記第1及び第2画像信号線群
をシールドし、前記第3外部入力端子のうち前記第4外
部入力端子に隣接する端子は、前記複数の制御信号線の
うち少なくとも前記画像信号の水平走査期間よりも短く
ない周期を持つ低周波制御信号を供給する低周波制御信
号線に接続されていることを特徴とする。
【0019】請求項5に記載の電気光学装置によれば、
導電線により、画像信号線は、高周波制御信号線から電
気的にシールドされている。ここで特に、制御信号線に
接続された第3外部入力端子のうち導電線に接続された
第4外部入力端子に隣接する端子は、低周波制御信号線
に接続されているので、画像信号線は、低周波制御信号
線と導電線との少なくとも合計2本の配線の存在によ
り、高周波制御信号線から離間され且つ電気的にシール
ドされる。
【0020】請求項6に記載の電気光学装置は請求項1
に記載の電気光学装置において、前記導電線は、前記デ
ータ信号供給手段に定電位のデータ線駆動用電源を供給
するデータ線駆動用定電位線から構成された部分を含む
ことを特徴とする。
【0021】請求項6に記載の電気光学装置によれば、
導電線は、前記データ信号供給手段に定電位のデータ線
駆動用電源を供給するデータ線駆動用定電位線から構成
された部分を含むので、外部入力端子や配線そのものを
共用することにより、言い換えれば定電位線を延設して
導電線とすることにより、構成の簡略化と省スペース化
を図ることが出来、特に導電線を定電位とすることも極
めて容易となる。
【0022】請求項7に記載の電気光学装置は請求項6
に記載の電気光学装置において、前記データ線駆動用定
電位線は、相異なる定電位の電源を前記データ信号供給
手段に供給する第1及び第2定電位線からなり、該第1
定電位線から構成された前記導電線部分は、前記基板上
で第1及び第2画像信号線群を囲み、前記第2定電位線
から構成された前記導電線部分は、前記基板上で前記第
1基板上で前記制御信号線を囲むことを特徴とする。
【0023】請求項7に記載の電気光学装置によれば、
第1及び第2画像信号線群は、例えば接地電位の負電源
を供給するための第1定電位線から構成された導電線部
分により、基板上で囲まれている。制御信号線は、例え
ば正電源を供給するための第2定電位線から構成された
導電線部分により、基板上で囲まれている。従って、画
像信号線は、第1基板上で制御信号線から2重にシール
ドされた構成が得られる。
【0024】請求項8に記載の電気光学装置は請求項1
から7のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記導電線は、前記複数の画素電極により規定される画
面表示領域及び前記複数のデータ線を前記基板上で囲む
ように延設されたこと特徴とする。
【0025】請求項8に記載の電気光学装置によれば、
導電線により、画面表示領域及び複数のデータ線は、基
板上で囲まれているので、当該画面表示領域及び複数の
データ線も、クロック信号線等の制御信号線からシール
ドされることになる。従って、データ信号供給手段から
出力されたデータ信号、スイッチング素子や画素電極に
到達したデータ信号等における、高周波のクロックノイ
ズ等の発生を低減できる。
【0026】請求項9に記載の電気光学装置は請求項8
に記載の電気光学装置において、前記基板に対向して対
向基板が設けられており、前記画面表示領域の輪郭に沿
って前記基板及び対向基板のうち少なくとも一方に形成
された遮光性の周辺見切りを更に備えており、前記導電
線は前記周辺見切りに対向する位置において前記周辺見
切りに沿って前記基板に設けられた部分を含むことを特
徴とする。
【0027】請求項9に記載の電気光学装置によれば、
導電線は、基板の周辺見切り下に設けられているので、
TFTアレイ基板上の省スペース化が図られ、例えば、
走査線駆動回路やデータ線駆動回路を基板の周辺部分に
余裕を持って形成することができ、導電線形成により液
晶装置における有効表示面積の減少することも殆ど又は
全くない。
【0028】請求項10に記載の電気光学装置は請求項
1から9のいずれか一項に記載の液晶装置において、前
記導電線及び前記データ線は、同一の低抵抗金属材料か
ら形成されたことを特徴とする。
【0029】請求項10に記載の電気光学装置によれ
ば、導電線は例えば、Al(アルミニウム)等の、デー
タ線と同一の低抵抗金属材料から形成されているので、
導電線の引き回し領域が、たとえ長くても、導電線の抵
抗は実用上十分に低く抑えられる。即ち、抵抗増加によ
りシールドの効果を下げることなく、例えば他の配線や
回路等の隙間を縫ってジグザグに導電線を長く配線した
り、画面表示領域等までも含めた広い領域に導電線を長
く配線することが可能となるので、比較的簡単な構成に
より、当該シールドの効果を全体として、より高めるこ
とが出来る。更に、当該電気光学装置の製造プロセスに
おいて、導電線及びデータ線を、同一の低抵抗金属材料
から同一工程により形成できる。即ち、導電線を形成す
ることによる製造プロセスの増加を最低限に抑えること
ができる。
【0030】請求項11に記載の電気光学装置は請求項
1から10のいずれか一項に記載の電気光学装置におい
て、前記画素電極に所定量の容量を付与する容量線を更
に備えており、該容量線が前記導電線に接続されたこと
を特徴とする。
【0031】請求項11に記載の電気光学装置によれ
ば、容量線により画素電極に所定量の容量が付与されて
いるので、デューティー比が小さくても高精細な表示が
可能とされる。そして、容量線は導電線に接続されてい
る。従って、容量線の電位変動によるスイッチング素子
や画素電極への悪影響は防止されている。しかも、容量
線を定電位とするための配線を導電線で兼用でき、更
に、容量線を定電位にするために必要な外部入力端子
も、例えば、前述の第3外部入力端子或いは導電線専用
の外部入力端子で兼用できる。
【0032】請求項12に記載の電気光学装置は請求項
1から11のいずれか一項に記載の電気光学装置におい
て、走査信号を前記複数の走査線に順次供給する走査信
号供給手段を前記基板上に更に備えており、前記導電線
は、前記走査信号供給手段に定電位の走査線駆動用電源
を供給する走査線駆動用定電位線から構成された部分を
含むことを特徴とする。
【0033】請求項12に記載の電気光学装置によれ
ば、走査線駆動用定電位線から構成された導電線部分に
より、画像信号線は、制御信号線から電気的にシールド
されている。従って、クロック信号の周波数が高い場合
でも、制御信号線から画像信号線への高周波のクロック
ノイズ等の飛び込みを低減できる。
【0034】請求項13に記載の電気光学装置は請求項
12に記載の電気光学装置において、前記走査信号供給
手段は、前記複数の画素電極により規定される画面表示
領域の両側に設けられており、前記走査線駆動用定電位
線から構成された前記導電線部分は、前記画面表示領域
及び前記複数のデータ線を前記基板上で囲むように且つ
前記走査線供給手段に前記走査線駆動用電源を冗長的に
供給するように延設されている。
【0035】請求項13に記載の電気光学装置によれ
ば、走査線駆動用定電位線から構成された導電線部分に
より、画面表示領域及び複数のデータ線は、基板上で囲
まれているので、当該画面表示領域及び複数のデータ線
も、クロック信号線等の制御信号線からシールドされる
ことになる。従って、データ信号供給手段から出力され
たデータ信号、スイッチング素子や画素電極に到達した
データ信号等における、高周波のクロックノイズ等の発
生を低減できる。更に、走査線駆動用定電位線から構成
された導電線部分は、画面表示領域の両側に設けられた
走査線供給手段に走査線駆動用電源を冗長的に供給する
ように延設されているので、たとえ、走査線駆動用定電
位線から構成された導電線部分や、それ以外の部分で走
査線駆動用定電位線に断線が生じても、装置欠陥になり
難いので有利である。
【0036】請求項14に記載の電気光学装置は請求項
1から13のいずれか一項に記載の電気光学装置におい
て、前記データ信号供給手段は、前記画像信号をサンプ
リングするサンプリング回路と、前記制御信号に基づい
て該サンプリング回路を駆動するデータ線駆動回路とを
備えており、前記第1画像信号線群に含まれる画像信号
線と前記第2画像信号線群に含まれる画像信号線とは、
前記データ線駆動回路と前記サンプリング回路との間に
おいて、少なくとも1本の画像信号線毎に前記データ線
駆動回路の両側から櫛歯状に交互に引き回されているこ
とを特徴とする。
【0037】請求項14に記載の電気光学装置によれ
ば、第1画像信号線群に含まれる画像信号線(例えば、
奇数番目のデータ線に対応する画像信号線VID1、
3、5、7、…)と第2画像信号線群に含まれる画像信
号線(例えば、偶数番目のデータ線に対応する画像信号
線VID2、4、6、8、…)とは、少なくとも1本の
画像信号線毎にデータ線駆動回路の両側から櫛歯状に交
互に引き回されている。従って、データ線駆動回路の周
囲で画像信号線やデータ線を規則正しく且つバランス良
く配線することができる。
【0038】請求項15に記載の電気光学装置は請求項
14に記載の電気光学装置において、前記データ信号供
給手段は、前記データ線毎に前記データ信号の電圧極性
を反転し、前記第1画像信号線群に含まれる画像信号線
と前記第2画像信号線群に含まれる画像信号線とは、相
隣接する2本のデータ線に対応する2本の画像信号線を
対にして前記データ線駆動回路の両側から櫛歯状に交互
に引き回されていることを特徴とする。
【0039】請求項15に記載の電気光学装置によれ
ば、データ信号供給手段により、データ線毎にデータ信
号の電圧極性が反転され、所謂1S反転やドット反転と
いった反転駆動が行われ、表示画面上のフリッカが低減
される。ここで、第1画像信号線群に含まれる画像信号
線(例えば、相隣接する2本のデータ線に対応する2本
おきの画像信号線VID1、2、5、6…)と第2画像
信号線群に含まれる画像信号線(例えば、相隣接する2
本のデータ線に対応する2本おきの画像信号線VID
3、4、7、8…)とは、相隣接する2本のデータ線に
対応する2本の画像信号線を対にしてデータ線駆動回路
の両側から櫛歯状に交互に引き回されている。従って、
相隣接する画像信号線には逆極性の画像信号が供給され
ることになり、同一のノイズ源に起因したノイズ成分に
ついては、これら両者間で打ち消し合う効果が働くの
で、ノイズを低減する上で有利である。
【0040】請求項16に記載の電子機器は、請求項1
から15に記載の電気光学装置を備えたことを特徴とす
る。
【0041】請求項16に記載の電子機器によれば、電
子機器は、上述した本願発明の液晶装置を備えており、
高周波のクロックノイズ等が低減されており、高品位の
画像表示が可能となる。
【0042】本発明のこのような作用及び他の利得は次
に説明する実施の形態から明らかにする。
【0043】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
【0044】(液晶装置の構成)電気光学装置の一例と
して、液晶装置の実施の形態の構成について図1から図
8に基づいて説明する。図1は、液晶装置の実施の形態
におけるTFTアレイ基板上に設けられた導電線(以
下、シールド線と称す。)を含む各種配線、周辺回路等
の構成を示す平面図であり、図2は、図1のシールド線
のより詳細な2次元的レイアウトを示す平面図であり、
図3(a)及び(b)は夫々、シールド線、画像信号線
及びクロック信号線等の配線を示す図2のA−A’断面
図及びB−B’断面図であり、図5は、図1の画素部分
の拡大平面図であり、図6は、TFTアレイ基板をその
上に形成された各構成要素と共に対向基板の側から見た
平面図であり、図7は、対向基板を含めて示す図6のH
−H’断面図である。図8は、図1の画像信号線の2次
元的レイアウトの一例を示す概略平面図(図8(a))
及び他の例を示す概略平面図(図8(b))である。
【0045】図1において、液晶装置200は、例えば
石英基板、ハードガラス等からなるTFTアレイ基板1
を備えている。TFTアレイ基板1上には、マトリクス
状に設けられた複数の画素電極11と、X方向に複数配
列されており夫々がY方向に沿って伸びるデータ線35
と、Y方向に複数配列されており夫々がX方向に沿って
伸びる走査線31と、各データ線35と画素電極11と
の間に夫々介在すると共に該間における導通状態及び非
導通状態を、走査線31を介して夫々供給される走査信
号に応じて夫々制御するスイッチング素子の一例として
の複数のTFT30とが形成されている。またTFTア
レイ基板1上には、後述の蓄積容量(図9参照)のため
の配線である容量線31’が、走査線31に沿ってほぼ
平行に形成されている。
【0046】TFTアレイ基板1上には更に、データ信
号供給手段の一例を構成するサンプリング回路301及
びデータ線駆動回路101と、走査信号供給手段の一例
を構成する走査線駆動回路104とが形成されている。
また、複数の画素電極11により規定される画面表示領
域(即ち、実際に液晶の配向状態変化により画像が表示
される液晶パネルの領域)の上辺には、画面表示領域の
両側に設けられた走査線駆動回路104間をつなぐため
の複数の配線105が設けられており、画面表示領域の
四隅には、TFTアレイ基板1と対向基板との間で電気
的導通をとるための導通材からなる銀点106が設けら
れている。但し、上下導通箇所は少なくとも1カ所で良
い。以下図1から図8の説明において、TFTアレイ基
板1の下辺に沿って複数設けられた外部入力端子102
を介して入力される信号名称と、その信号配線とは、説
明の容易化のために同一のアルファベット記号を信号及
び配線の後に夫々付加して参照する(例えば、信号名称
である“クロック信号CLX”に対し、その信号配線を
“配線CLX”と呼ぶ)ことにする。
【0047】走査線駆動回路104は、外部制御回路か
ら外部入力端子102並びに配線VSSY及びVDDY
を介して供給される、走査線駆動回路104用の負電源
VSSY及び正電源VDDYを電源として用いて、スタ
ート信号DYの入力により内蔵シフトレジスタ回路をス
タートさせる。そして、外部入力端子102並びに配線
CLY及びCLY’を介して供給される、走査線駆動回
路104の内蔵シフトレジスタ回路用の基準クロック信
号CLY及びその反転クロック信号CLY’に基づく所
定タイミングで、走査線31に走査信号をパルス的に線
順次で印加する。
【0048】データ線駆動回路101は、外部制御回路
から外部入力端子102並びに信号配線VSSX及びV
DDXを介して供給される、データ線駆動回路用の負電
源VSSX及び正電源VDDXを電源として用いて、ス
タート信号DXの入力により内蔵シフトレジスタ回路を
スタートさせる。そして、外部入力端子102並びに配
線CLX及びCLX’を介して供給される、データ線駆
動回路101の内蔵シフトレジスタ回路用の基準クロッ
ク信号CLX及びその反転クロック信号CLX’に基づ
き、走査線駆動回路104が走査信号を印加するタイミ
ングに合わせて、外部入力端子102及び配線VID1
〜VID12を介して供給される例えば12相展開され
た画像信号VID1〜VID12夫々について、データ
線35毎にサンプリング回路駆動信号をサンプリング回
路301にサンプリング回路駆動信号線306を介して
所定タイミングで供給する。
【0049】サンプリング回路301は、TFT302
を各データ線35毎に備えており、配線VID1〜VI
D12がTFT302のソース電極に接続されており、
サンプリング回路駆動信号線306がTFT302のゲ
ート電極に接続されている。そして、画像信号VID1
〜VID12が入力されると、これらの画像信号をサン
プリングする。また、サンプリング回路駆動信号線30
6を介して、データ線駆動回路101からサンプリング
回路駆動信号が入力されると、画像信号VID1〜VI
D12夫々についてサンプリングされた画像信号を、1
2本の隣接するデータ線35からなるグループ毎に順次
印加する。
【0050】以上のように、データ線駆動回路101と
サンプリング回路301とは、12相展開された画像信
号VID1〜VID12をデータ線35にデータ信号と
して供給するように構成されている。本実施の形態では
隣接する12本のデータ線35に接続されるサンプリン
グ回路301を同時に選択し、12本のデータ線35か
らなるグループ毎に順次転送していく方式を述べたが、
データ線35を6本毎に選択してもよいし、24本毎に
選択してもよい。或いは、2本以上の任意の本数を同時
に選択してもよい。また、サンプリング回路301のT
FT302の能力が高ければ、データ線毎に順次に選択
してもよい。この際、少なくとも画像信号の相展開数だ
け、画像信号用の外部入力端子102及び画像信号線が
必要なことは言うまでもない。本実施の形態では特に、
以下に述べるようにデータ線駆動回路101の両側から
配線VID1〜VID12が引き回されているので、こ
の本数(相展開数)は多くてもTFTアレイ基板1上に
バランス良く配線できる。尚、画像信号の相展開数とサ
ンプリング回路301を同時に選択する数が相等しくな
るように構成してもよいし、前者が後者よりも多くなる
ように構成してもよい。
【0051】図2に示すように、データ線駆動回路10
1は、スタート信号DXが入力されると、基準クロック
信号CLX及びその反転クロック信号CLK’に基づく
転送信号の順次生成を開始するシフトレジスタ回路10
1aと、シフトレジスタ回路101aからの転送信号を
波形整形しバッファリングした後、サンプリング回路駆
動信号線306を介してサンプリング回路301に供給
する波形制御回路101b及びバッファ回路101cと
を備えている。また、サンプリング回路301は、12
相展開された画像信号VID1〜VID12に対応して
TFT302が12個ずつパラレルに各サンプリング回
路駆動信号線306に接続されている。即ち、TFT3
02から構成されるスイッチS1〜S12が左から1本
目のサンプリング回路駆動信号線306に接続されてお
り、スイッチS13〜S24が左から2本目のサンプリ
ング回路駆動信号線306に接続されており、スイッチ
Sn-11〜Snが右端のサンプリング回路駆動信号線3
06に接続されている。図1では省略し図2で示したイ
ネーブル信号ENB1及びENB2は、波形制御回路1
01b内に設けられたイネーブル回路に入力される。こ
のイネーブル回路では、シフトレジスタ回路101aか
ら順次出力されるパルスの幅を、イネーブル信号ENB
1及びENB2のパルス幅に制限することにより、サン
プリング回路301の選択期間を制御する。これによ
り、データ線12本分ずつ離れて同一の配線(VID1
〜12)から画像信号を受けるデータ線35間における
ゴーストの発生を防止する。従って、イネーブル信号E
NB1及びENB2は、クロック信号CLX及びCL
X’と同じく、水平走査期間よりも短い周期を持つ高周
波制御信号に属する。他方、シフトレジスタ回路101
aに入力されるスタート信号DXは、クロック信号CL
Y及びCLY’や走査線駆動回路側のシフトレジスタに
入力されるスタート信号DYと同じく、水平走査期間よ
りも短くない周期を持つ低周波制御信号に属する。
【0052】ここで、シフトレジスタ回路101aの具
体的な回路構成及び動作について図3を参照して説明す
る。尚、図3(a)は、イネーブル回路を含むシフトレ
ジスタ回路を示す回路図であり、図3(b)は、このシ
フトレジスタ回路における各種信号のタイミングチャー
トである。
【0053】先ず、図3(a)において、シフトレジス
タ回路101aの各段の出力に対応してイネーブル回路
112が夫々設けられている。シフトレジスタ回路10
1aの各段は、右方向(左から右へ向かう方向)に対応
する転送方向で各段から転送信号が順次出力されるよう
に、所定周期の基準クロック信号CLX及びその反転信
号CLX’の2値レベルが変化する毎に転送信号に帰還
をかけて次段に転送する2つのクロックドインバータを
夫々含んで構成されている。また、イネーブル回路11
2は、シフトレジスタ回路101aの奇数段目から出力
される転送信号のパルス幅を第1イネーブル信号ENB
1のパルス幅に制限すると共に偶数段目から出力される
転送信号のパルス幅を第2イネーブル信号ENB2のパ
ルス幅に制限するように、転送信号とイネーブル信号E
NB1又はENB2との排他的論理積をとるNAND回
路と、その結果を反転させるインバータ回路とから構成
されている。シフトレジスタ回路101aには、転送信
号の転送をスタートさせるための信号DXが図中左側か
ら入力される。
【0054】図3(b)のタイミングチャートに示すタ
イミングで、この信号DX、クロック信号CLX及びそ
の反転信号CLX’と、第1及び第2イネーブル信号E
NB1及びENB2とが入力されると、上述のように構
成されたシフトレジスタ回路101aからは、クロック
信号CLXの半周期だけ順次遅れる転送信号が順次出力
される。すると、イネーブル回路112により、この転
送信号のパルス幅が信号ENB1及びENB2のパルス
幅に制限されて、クロック信号CLXのパルス幅よりも
幅の狭いパルスから夫々なるサンプリング回路駆動信号
Q1、Q2、Q3、…、Qn(但し、nは奇数)が、図
2に示した波形制御回路101b及びバッファ回路10
1cを介してサンプリング回路301に順次供給され
る。
【0055】本実施の形態では特に、図1及び図2に示
すように、TFTアレイ基板1には、負電源VSSY用
の配線VSSYを兼ねた定電位のシールド線80、負電
源VSSX用の配線VSSXを兼ねた定電位のシールド
線80’、正電源VDDX用の配線VDDXを兼ねた定
電位のシールド線82、及び正電源VDDY用の配線V
DDYを兼ねた定電位のシールド線86が配線されてい
る。これらのシールド線80、80’、82及び86に
より、画像信号線である配線VID1〜VID12は、配
線CLX及びCLX’並びに配線ENB1及びENB2
から電気的にシールドされている。従って、クロック信
号CLXの周波数が高い場合でも、高周波制御信号線で
ある配線CLX及びCLX’並びに配線ENB1及びE
NB2から配線VID1〜VID12への高周波のクロッ
クノイズ等の飛び込みを低減できる。
【0056】しかも、図1及び図2に示したように、第
1画像信号線群の一例を構成する奇数番目の画像信号線
VID1、3、5、7、9及び11は、TFTアレイ基
板1上をX方向に見てデータ線駆動回路101の右側へ
引き回されており、第2画像信号線群の一例を構成する
偶数番目の画像信号線VID2、4、6、8、10及び
12は、TFTアレイ基板1上でデータ線駆動回路10
1の左側へ引き回されている。従って、例えば12相展
開というように比較的多相の相展開数を行うことによ
り、サンプリング回路301に供給される画像信号VI
D1〜12の周波数を下げつつ、多数の配線VID1〜
12については、データ線駆動回路101の両側にバラ
ンス良く配置できる。この結果、サンプリング回路30
1及びデータ線駆動回路101からなるデータ信号供給
手段を形成する領域をTFTアレイ基板1上に容易に確
保することができる。従って、限られた基板サイズにお
ける画面の大型化が図られる。
【0057】本実施の形態では特に、図2に示したよう
に、定電位のシールド線80’により、画像信号線たる
配線VID1〜12は、前述の高周波制御信号に属する
クロック信号CLX及びCLX’並びにイネーブル信号
ENB1及びENB2を供給する高周波制御信号線たる
配線CLX及びCLX’並びに配線ENB1及びENB
2から電気的にシールドされている。従って、クロック
信号の周波数が高い場合でも、これらの高周波制御信号
線から配線VID1〜12への高周波のクロックノイズ
等の飛び込みを低減できる。他方、前述の低周波制御信
号に属するスタート信号DX及びDY、並びにクロック
信号CLY及びCLY’については、配線VID1〜1
2上の画像信号や、これに基づいて供給されたデータ線
35上のデータ信号中の高周波ノイズの原因とはならな
い。このため、低周波制御信号線たる配線DX、DY、
CLY及びCLY’は、定電位のシールド線によりシー
ルドしてもよく、シールドしなくてもよい。本実施の形
態では、図2に示したように、右側では配線VID1、
3、…、11は、定電位の配線VDDYからなるシール
ド線86により配線DY、CLY及びCLY’からシー
ルドされており、左側では配線VID2、4、…、12
は定電位の配線VSSYからなるシールド線80により
配線DYからシールドされている。また、配線DXから
は、シールド線80’により配線VID1〜12はシー
ルドされている。
【0058】更に本実施の形態では特に、右側(奇数番
目)の画像信号線群の中で高周波制御信号線たる配線C
LX及びCLX’に近い側に位置する配線VID11
は、配線VSSX及びVDDXから夫々なる2本のシー
ルド線80’及び82の存在により、これらの配線CL
X及びCLX’から離間されており、且つ電気的にシー
ルドされている。また、左側(偶数番目)の画像信号線
群の中で高周波制御信号線たる配線CLX及びCLX’
に近い側に位置する配線VID12は、配線VSSXか
らなる1本のシールド線80’及び低周波制御信号線た
る配線DXの存在により、これらの配線CLX及びCL
X’から離間されており、且つ電気的にシールドされて
いる。即ち、画像信号やデータ信号中の高周波ノイズの
原因とはならない低周波制御信号線に属する配線DX
を、高周波制御信号線たる配線CLX及びCLX’と配
線VID12との間に、シールド線80’と共に配置す
ることにより、配線CLX及びCLX’のVID12に
対するクロックノイズ等の悪影響を更に低減できる。一
般に距離及び障害物の介在に応じて電磁波は減少するの
で、配線CLX及びCLX’や配線ENB1及びENB
2と配線VID1〜12との間にシールド線(配線8
0、80’、82、86等の定電位の配線)や低周波制
御信号線(配線DX、DY、CLY、CLY’等の低周
波制御信号が供給される配線)をなるべく多く配線する
構成により、クロックノイズを発生させる電磁波が減少
して、クロックノイズ等が低減する。このように、シー
ルド線以外に低周波制御信号線を高周波制御信号線と画
像信号線との間に介在させることはTFT基板1上スペ
ースの有効利用及びノイズ低減の観点から見て有利であ
る。
【0059】また図2に示したように本実施の形態で
は、TFTアレイ基板1の周辺部上において、配線VI
D1〜12に夫々接続された外部入力端子102は両側
に配置されており、その間に配線ENB1、ENB2、
CLX’及びCLXに接続された外部入力端子102が
集中配置されている。そして、配線VID12に接続さ
れた外部入力端子102と配線ENB1に接続された外
部入力端子102との間に、シールド線80’(配線V
SSX)に接続された外部入力端子102が配置されて
いる。また、配線VID11に接続された外部入力端子
102と配線CLXに接続された外部入力端子102と
の間に、シールド線80’(配線VSSX)に接続され
た外部入力端子102が配置されている。従って、配線
VID1〜12と配線ENB1、ENB2、CLX’及
びCLXとの間にシールド線80’を配線する構成を容
易に得ることができる。特に、液晶装置200に入力さ
れる前段階で、例えば、表示情報処理回路等の外部回路
から液晶装置200への配線中で、クロック信号CLX
等が、画像信号VID1〜12に対しクロックノイズ等
を発生させてしまう事態を効果的に阻止し得る。このよ
うに本実施の形態によれば、液晶装置200に入力され
る前後において、クロック信号用の配線から画像信号用
の配線への高周波のクロックノイズの飛び込み等を低減
できる。尚、より好ましくは、TFTアレイ基板1の周
辺部において外部入力端子102を形成可能な領域にお
いて、配線VID1〜12用の外部入力端子102を可
能な限り両側(右側及び左側)に寄せて配置すると共
に、中央に集中配置される配線CLX’等用の外部入力
端子102との間に可能な限り間隔を空けて、この間隔
にシールド線80’等用の外部入力端子102を配置す
る。
【0060】本実施の形態では、配線VSSY、VSS
X、VDDX及びVSSYを夫々延設してシールド線8
0、80’、82及び86とすることにより、外部入力
端子や配線を共用することが可能となり、装置構成の簡
略化と省スペース化を図ることが出来る。また、シール
ド線80、80’、82及び86の電位は、このように
定電位線との共用化により、容易に定電位とされる。但
し、電源用の配線とシールド線を別個に配線してもよ
い。
【0061】本実施の形態では、図2に示すように、負
電源VSSXが入力される外部入力端子102が2つ設
けられている。そして、配線VID1〜VID12は、
負電源VSSXの電位(負電位)とされたシールド線8
0’により、TFTアレイ基板1上で囲まれている。特
に、シフトレジスタ回路101aと波形制御回路101
bとの間にも、データ線35と同じAl等の金属層から
形成されたシールド線80’は延設されている。そし
て、延設されたシールド線80’の先端部は、後述のよ
うに第1層間絶縁層を介してAl等の金属層の下方にお
いて、例えば走査線31と同じポリシリコン等の導電性
層から形成されたシールド線接続部81を介して、波形
制御回路101b及びバッファ回路101cを囲むよう
にしてシールド線80’に接続されている。
【0062】他方、図2に示すように、配線CLX及び
CLX’は、データ線駆動回路101に隣接する部分に
おいては、正電源VDDXの電位(正電位)とされたシ
ールド線82により、TFTアレイ基板1上で囲まれて
いる。特に、波形制御回路101bとバッファ回路10
1cとの間にも、データ線35と同じAl等の金属層か
ら形成されたシールド線82は延設されており、その先
端部は、例えば走査線31と同じポリシリコン等の導電
性層から形成されたシールド線接続部83を介して波形
制御回路101b及びシフトレジスタ回路101aを囲
むようにしてシールド線82に接続されている。
【0063】従って、配線VID1〜VID12は、T
FTアレイ基板1上で配線CLX及びCLX’並びに配
線ENB1及びENB2から2重にシールドされた構成
が採られており、シフトレジスタ回路101a並びに波
形制御回路101b及びバッファ回路101cに対する
シールドも信頼性が高いものとされている。但し、この
ように囲む構成を採らなくても、配線CLX、CL
X’、ENB1及びENB2と配線VID1〜VID1
2との間にシールド線80、80’、82及び86が少
なくとも一本介在するように構成すれば、シールドの効
果は多少なりとも得られる。
【0064】本実施の形態では図1及び図2に示したよ
うに、シールド線80により、画面表示領域及び複数の
データ線35は、TFTアレイ基板1上で囲まれてい
る。このため、当該画面表示領域及び複数のデータ線3
5も、配線CLX、CLX’、ENB1及びENB2か
らシールドされている。従って、データ線駆動回路10
1から出力されたサンプリング回路駆動信号、TFT3
0や画素電極11に到達したデータ信号等における、高
周波のクロックノイズの発生等を低減できる。但し、こ
のように画面表示領域までも囲む構成を採らなくても、
サンプリング回路301に至るまでの配線VID1〜V
ID6をシールド線80、80’、82又は86により
シールドするように構成すれば、シールドの効果は多少
なりとも得られる。この場合図1から分かるように、シ
ールド線80は、配線VSSYから延設されており、画
面表示領域の両側に設けられた走査線駆動回路104に
電源信号VSSYを冗長的に供給するように延設されて
いる。このため、たとえ、シールド線80或いは配線V
SSYに断線が生じても、装置欠陥になり難いので有利
である。
【0065】図4(a)及び(b)の断面図に夫々示す
ように、外部入力端子102に接続された各種配線D
Y、VSSY、…、VDDXは、例えば、Al(アルミ
ニウム)等の、データ線35と同一の低抵抗金属材料か
ら形成されている。従って、シールド線80(配線VS
SY)、80’(配線VSSX)、82(配線VDD
X)及び86(配線VDDY)の引き回し領域が、たと
え長くても、各シールド線80、80’、82及び86
の抵抗は実用上十分に低く抑えられる。即ち、図2に示
したように、他の各種配線やシフトレジスタ回路101
a並びに波形制御回路101b及びバッファ回路101
cの隙間を縫ってジグザグにシールド線82や80’を
長く配線でき、更に画面表示領域までも含めた広い領域
にシールド線80を長く配線できる。このように比較的
簡単な構成により、当該シールドの効果を全体として高
めることが出来る。また図4(a)及び(b)に示すよ
うに、各種配線DY、VSSY、…、VDDXは、TF
Tアレイ基板1に形成された第1層間絶縁層42上に、
即ち同一層上に形成されている。従って、シールドの効
果がより効率良く発揮される。更に、このように構成す
ると、液晶装置200の製造プロセスにおいて、各種配
線DY、VSSY、…、VDDXを、例えば、Al層等
の同一の低抵抗金属層から同一工程により一括して形成
できるので、製造上有利である。
【0066】尚、図1から図4に示した外部入力端子1
02から入力される信号LCCOMは、共通電極の電源
信号であり、配線LCCOM及び前述の銀点106を介
して、後述の対向基板に設けられた共通電極(図9参
照)に供給される。
【0067】ここで図5の平面図に示すように、容量線
31’は、TFTアレイ基板1上において走査線31
(ゲート電極)と平行に、例えば走査線31と同じく導
電性のポリシリコン層等から形成されており、シールド
線80にコンタクトホール80aを介して接続されてい
る。このように構成すれば、容量線31’を定電位とす
るための配線をシールド線80で兼用でき、容量線3
1’を定電位にするために必要な外部入力端子も、シー
ルド線80用の外部入力端子102で兼用できる。
【0068】本実施の形態では特に、サンプリング回路
301は、図1中斜線領域で示すように且つ図6及び図
7に示すように、対向基板2に形成された遮光性の周辺
見切り53に対向する位置においてTFTアレイ基板1
上に設けられており、データ線駆動回路101及び走査
線駆動回路104は、液晶層50に面しないTFTアレ
イ基板1の狭く細長い周辺部分上に設けられている。T
FTアレイ基板1の上には、画面表示領域の周囲におい
て両基板を貼り合わせて液晶層50を包囲するシール部
材の一例としての光硬化性樹脂からなるシール材52
が、画面表示領域に沿って設けられている。そして、対
向基板2上における画面表示領域とシール材52との間
には、遮光性の周辺見切り53が設けられている。
【0069】周辺見切り53は、後に画面表示領域に対
応して開口部が設けられた遮光性のケースにTFTアレ
イ基板1が入れられた場合に、当該画面表示領域が製造
誤差等により当該ケースの開口の縁に隠れてしまわない
ように、即ち、例えばTFTアレイ基板1のケースに対
する数百μm程度のずれを許容するように、画面表示領
域の周囲に少なくとも500μm以上の幅を持つ帯状の
遮光性材料から形成されたものである。このような遮光
性の周辺見切り53は、例えば、Cr(クロム)、Ni
(ニッケル)、Al(アルミニウム)等の金属材料を用
いたスパッタリング、フォトリソグラフィ工程及びエッ
チング工程等により対向基板2に形成される。或いは、
カーボンやTi(チタン)をフォトレジストに分散した
樹脂ブラックなどの材料から形成される。また、TFT
アレイ基板1上に遮光性の周辺見切り53を設けてもよ
い。周辺見切り53をTFTアレイ基板1上に内蔵すれ
ば、TFTアレイ基板1と対向基板2との貼り合わせ工
程での精度のばらつきで画素の開口領域が影響を受ける
ことがないため、液晶パネルの透過率を高精度に維持す
ることができる。
【0070】シール材52の外側の領域には、画面表示
領域の下辺に沿ってデータ線駆動回路101及び外部入
力端子(実装端子)102が設けられており、画面表示
領域の左右の2辺に沿って走査線駆動回路104が画面
表示領域の両側に設けられている。そして、シール材5
2とほぼ同じ輪郭を持つ対向基板2が当該シール材52
によりTFTアレイ基板1に固着されている。
【0071】以上のようにシールド線80及びサンプリ
ング回路301は、TFTアレイ基板1上の周辺見切り
53の下に設けられているので、TFTアレイ基板1上
の省スペース化が図られ、例えば、走査線駆動回路10
4やデータ線駆動回路101をTFTアレイ基板1の周
辺部分に余裕を持って形成することができ、シールド線
80の形成により液晶装置200における有効表示面積
が減少することも殆ど又は全くない。
【0072】図8(a)に、図1及び図2に示した走査
線駆動回路101とサンプリング回路301との間にお
ける配線VID1〜12の引き回し方式を拡大して示
す。同図において、奇数番目の画像信号線たる配線VI
D1、…、11と偶数番目の画像信号たる配線VID
2、…、12とは、各配線毎に両側から櫛歯状に交互に
引き回されている。従って、データ線駆動回路101の
周囲において、配線VID1〜12及びサンプリング回
路駆動信号線306は、大変規則性良く且つバランス良
く配線さている。
【0073】ところで、本実施の形態では、液晶を直流
駆動により劣化させないためや表示画面上のフリッカを
防止するため等に、液晶駆動電圧を反転させる各種の方
式、例えば、フィールド又はフレーム反転駆動、走査線
反転駆動(所謂1H反転駆動)、データ線反転駆動(所
謂1S反転駆動)、ドット反転駆動などを採用可能であ
る。ここで特に、1S反転やドット反転といった相隣接
するデータ線間で電圧極性を反転させて液晶駆動を行う
場合には、図8(a)に示したように一本の配線VID
1〜12毎に櫛歯状にするよりも、図8(b)に示すよ
うに、相隣接する2本のデータ線35に対応する2本の
配線VID1及び2、5及び6等を夫々一対として2本
おきに一方の側(例えば右側)から引き回すと共に、そ
れら以外の相隣接する2本のデータ線35に対応する2
本の配線VID3及び4、7及び8等を夫々一対として
2本おきに逆側(例えば左側)から引き回すと共に、デ
ータ線駆動回路101とサンプリング回路301の間で
2本の配線を一対として夫々両側から櫛歯状にするのが
より好ましい。このように配線すれば、TFTアレイ基
板1上で相隣接する各対の配線1及び2、3及び4、…
から供給される画像信号は夫々逆極性とされてデータ線
35に供給されるので、これらの信号中に存在する同一
のノイズ源に起因したノイズ成分については、これら各
対をなす両者間で打ち消し合う効果が働くので、ノイズ
を低減するのに役立つ。
【0074】(液晶パネル部分の構成)次に、液晶装置
200が含む液晶パネル部分の具体的構成について図9
及び図10を参照して説明する。ここに、図9は液晶パ
ネルのTFT30部分における断面図であり、図10は
周辺見切りの下における液晶パネルのシールド線80に
沿った断面図である。尚、図9及び図10においては、
各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとする
ため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【0075】図9の断面図において、液晶パネル10
は、各画素に設けられるTFT30部分において、TF
Tアレイ基板1並びにその上に積層された半導体層3
2、ゲート絶縁層33、走査線31(ゲート電極)、第
1層間絶縁層42、データ線35(ソース電極)、第2
層間絶縁層43、画素電極11及び配向膜12を備えて
いる。液晶パネル10はまた、例えばガラス基板から成
る対向基板2並びにその上に積層された共通電極21、
配向膜22及び遮光層23を備えている。液晶パネル1
0は更に、これらの両基板間に挟持された液晶層50を
備えている。
【0076】ここでは先ず、これらの層のうち、TFT
30を除く各層の構成について順に説明する。
【0077】第1及び第2層間絶縁層42及び43は夫
々、5000〜15000Å程度の厚みを持つNSG、
PSG、BSG、BPSGなどのシリケートガラス膜、
窒化シリコン膜や酸化シリコン膜等からなる。尚、TF
Tアレイ基板1上に、TFT30の下地となる層間絶縁
層をシリケートガラス膜、窒化シリコン膜や酸化シリコ
ン膜等から形成してもよい。
【0078】画素電極11は例えば、ITO膜(Ind
ium Tin Oxide膜)などの透明導電性薄膜
からなる。このような画素電極11は、スパッタリング
処理等によりITO膜等を約500〜2000Åの厚さ
に堆積した後、フォトリソグラフィ工程、エッチング工
程を施すこと等により形成される。尚、当該液晶パネル
10を反射型の液晶装置に用いる場合には、Al等の反
射率の高い不透明な材料から画素電極11を形成しても
よい。
【0079】配向膜12は例えば、ポリイミド薄膜など
の有機薄膜からなる。このような配向膜12は、例えば
ポリイミド系の塗布液を塗布した後、所定のプレティル
ト角を持つように且つ所定方向でラビング処理を施すこ
と等により形成される。
【0080】共通電極21は、対向基板2の全面に渡っ
て形成されている。このような共通電極21は、例えば
スパッタリング処理等によりITO膜等を約500〜2
000Åの厚さに堆積して形成される。
【0081】配向膜22は、例えば、ポリイミド薄膜な
どの有機薄膜からなる。このような配向膜22は、例え
ばポリイミド系の塗布液を塗布した後、所定のプレティ
ルト角を持つように且つ所定方向でラビング処理を施す
こと等により形成される。
【0082】遮光層23は、TFT30に対向する所定
領域に設けられている。このような遮光層23は、前述
の周辺見切り53同様に、CrやNiなどの金属材料を
用いたスパッタリング、フォトリソグラフィ及びエッチ
ング等の工程により形成されたり、カーボンやTiをフ
ォトレジストに分散した樹脂ブラックなどの材料から形
成される。遮光層23は、TFT30の半導体層(ポリ
シリコン膜)32に対する遮光の他に、コントラストの
向上、色材の混色防止などの機能を有する。
【0083】液晶層50は、画素電極11と共通電極2
1とが対面するように配置されたTFTアレイ基板1と
対向基板2との間において、シール材52(図6及び図
7参照)により囲まれた空間に液晶が真空吸引等により
封入されることにより形成される。液晶層50は、画素
電極11からの電界が印加されていない状態で配向膜1
2及び22により所定の配向状態を採る。液晶層50
は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合し
た液晶からなる。シール材52は、二つの基板1及び2
をそれらの周辺で貼り合わせるための、例えば光硬化性
樹脂や熱硬化性樹脂からなる接着剤であり、両基板間の
距離を所定値とするためのスペーサが混入されている。
【0084】次に、TFT30に係る各層の構成につい
て順に説明する。
【0085】TFT30は、走査線31(ゲート電
極)、走査線31からの電界によりチャネルが形成され
る半導体層32、走査線31と半導体層32とを絶縁す
るゲート絶縁層33、半導体層32に形成されたソース
領域34、データ線35(ソース電極)、及び半導体層
32に形成されたドレイン領域36を備えている。ドレ
イン領域36には、複数の画素電極11のうちの対応す
る一つが接続されている。ソース領域34及びドレイン
領域36は後述のように、半導体層32に対し、n型又
はp型のチャネルを形成するかに応じて所定濃度のN型
用又はP型用のドーパントをドープすることにより形成
されている。N型チャネルのTFTは、動作速度が速い
という利点があり、画素のスイッチング素子であるTF
T30として用いられることが多い。
【0086】TFT30を構成する半導体層32は、例
えば、TFTアレイ基板1上にa−Si(アモルファス
シリコン)膜を形成後、アニール処理を施して約500
〜2000Åの厚さに固相成長させることにより形成す
る。この際、Nチャネル型のTFT30の場合には、S
b(アンチモン)、As(砒素)、P(リン)などのV
族元素のドーパントを用いたイオン注入等によりドープ
してもよい。また、pチャネル型のTFT30の場合に
は、B(ボロン)、Ga(ガリウム)、In(インジウ
ム)などのIII族元素のドーパントを用いたイオン注入
等によりドープする。特にTFT30をLDD(Lig
htly Doped Drain)構造を持つNチャ
ネル型のTFTとする場合、P型の半導体層32に、ソ
ース領域34及びドレイン領域36のうちチャネル側に
夫々隣接する一部にPなどのV族元素のドーパントによ
り低濃度ドープ領域を形成し、同じくPなどのV族元素
のドーパントにより高濃度ドープ領域を形成する。ま
た、Pチャネル型のTFT30とする場合、N型の半導
体層32に、 BなどのIII族元素のドーパントを用いて
ソース領域34及びドレイン領域36を形成する。この
ようにLDD構造とした場合、ショートチャネル効果を
低減できる利点が得られる。尚、TFT30は、LDD
構造における低濃度ドープ領域にイオン注入したオフセ
ット構造のTFTとしてもよいし、ゲート電極をマスク
として高濃度の不純物イオンをドープすることにより自
己整合的に高濃度なソース及びドレイン領域を形成する
セルフアライン型のTFTとしてもよい。
【0087】また本実施の形態では、図9において、T
FT30のソース・ドレイン間に、ゲート絶縁膜2を介
して、同一の走査信号が供給される2つのゲート電極3
1を設けて、デユアルゲート(ダブルゲート)構造のT
FTとしてもよい。これにより、TFT30のリーク電
流を低減することができる。また、デユアルゲート構造
のTFTを、上述のLDD構造、或いはオフセット構造
を持つようにすれば、更にTFT30のリーク電流を低
減することができ、高いコントラスト比を実現すること
ができる。また、デユアルゲート構造により、冗長性を
持たすことができ、大幅に画素欠陥を低減できるだけで
なく、高温動作時でも、リーク電流が低いため、高コン
トラスト比の画質を実現することができる。尚、TFT
30のソース・ドレイン間に設けるゲート電極31は3
つ以上でもよいことは言うまでもない。
【0088】ゲート絶縁層33は、半導体層32を約9
00〜1300℃の温度により熱酸化することにより、
300〜1500Å程度の比較的薄い厚さの熱酸化膜を
形成して得る。
【0089】走査線31(ゲート電極)は、減圧CVD
法等によりポリシリコン膜を堆積した後、フォトリソグ
ラフィ工程、エッチング工程等により形成される。或い
は、W(タングステン)、Mo(モリブデン)等の高融
点金属膜又は金属シリサイド膜から形成されてもよい。
この場合、走査線31(ゲート電極)を、遮光層23が
覆う領域の一部又は全部に対応する遮光膜として配置す
れば、金属膜や金属シリサイド膜の持つ遮光性により、
遮光層23の一部又は全部を省略することも可能とな
る。この場合特に、対向基板2とTFTアレイ基板1と
の貼り合わせずれによる画素開口率の低下を防ぐことが
出来る利点がある。
【0090】データ線35(ソース電極)は、画素電極
11と同様にITO膜等の透明導電性薄膜から形成して
もよい。或いは、スパッタリング処理等により、約10
00〜5000ナの厚さに堆積されたAl等の低抵抗金
属や金属シリサイド等から形成してもよい。
【0091】また、第1層間絶縁層42には、ソース領
域34へ通じるコンタクトホール37及びドレイン領域
36へ通じるコンタクトホール38が夫々形成されてい
る。このソース領域34へのコンタクトホール37を介
して、データ線35(ソース電極)はソース領域34に
電気的接続される。更に、第2層間絶縁層43には、ド
レイン領域36へのコンタクトホール38が形成されて
いる。このドレイン領域36へのコンタクトホール38
を介して、画素電極11はドレイン領域36に電気的接
続される。前述の画素電極11は、このように構成され
た第2層間絶縁層43の上面に設けられている。各コン
タクトホールは、例えば、反応性エッチング、反応性イ
オンビームエッチング等のドライエッチングにより形成
される。
【0092】尚、一般にはチャネルが形成される半導体
層32は、光が入射すると光電変換効果により光電流が
発生してしまいTFT30のトランジスタ特性が劣化す
るが、本実施の形態では、対向基板2には各TFT30
に夫々対向する位置に遮光層23が形成されているの
で、入射光が半導体層32に入射することが防止され
る。更にこれに加えて又は代えて、ゲート電極を上側か
ら覆うようにデータ線35(ソース電極)をAl等の不
透明な金属薄膜から形成すれば、遮光層23と共に又は
単独で、半導体層32への入射光(即ち、図9で上側か
らの光)の入射を効果的に防ぐことが出来る。
【0093】図9において、画素電極11には蓄積容量
70が夫々設けられている。この蓄積容量70は、より
具体的には、半導体層32と同一工程により形成される
第1蓄積容量電極層32’、ゲート絶縁層33と同一工
程により形成される絶縁層33’、走査線31と同一工
程により形成される容量線31’(第2蓄積容量電
極)、第1及び第2層間絶縁層42及び43、並びに第
1及び第2層間絶縁層42及び43を介して容量線3
1’に対向する画素電極11の一部から構成されてい
る。このように蓄積容量70が設けられているため、デ
ューティー比が小さくても高精細な表示が可能とされ
る。
【0094】図10の断面図に示すように、周辺見切り
53に対向し且つ複数の走査線31の上方の位置におい
て第1層間絶縁層42上をシールド線80は通過する。
そして、このシールド線80は、その殆どの部分が、前
述したデータ線(ソース電極)35と同一工程で形成さ
れたAl等の金属薄膜からなる低抵抗な配線である。こ
のように液晶装置200の製造プロセスにおいて、シー
ルド線80とデータ線35とを一括して形成できるの
で、製造上有利である。
【0095】本実施の形態では特に、TFT30はポリ
シリコンタイプのTFTであるので、TFT30の形成
時に同一薄膜形成工程で、サンプリング回路301、デ
ータ線駆動回路101、走査線駆動回路104等の同じ
くポリシリコンTFTタイプのTFT302等から構成
された周辺回路を形成できるので製造上有利である。例
えば、これらの周辺回路は、Nチャネル型ポリシリコン
TFT及びPチャネル型ポリシリコンTFTから構成さ
れる相補構造の複数のTFTからTFTアレイ基板1上
の周辺部分に形成される。
【0096】尚、図9及び図10には示されていない
が、液晶パネル10においては、対向基板2の投射光が
入射する側及びTFTアレイ基板1の投射光が出射する
側には夫々、例えば、TN(ツイステッドネマティッ
ク)モード、 STN(スーパーTN)モード、D−S
TN(ダブル−STN)モード等の動作モードや、ノー
マリーホワイトモード/ノーマリーブラックモードの別
に応じて、偏光フィルム、位相差フィルム、偏光板など
が所定の方向で配置される。
【0097】また、以上説明した液晶パネル10は、カ
ラー液晶プロジェクタに適用されるため、3つの液晶パ
ネル10がRGB用のライトバルブとして夫々用いら
れ、各パネルには夫々RGB色分解用のダイクロイック
ミラーを介して分解された各色の光が入射光として夫々
入射されることになる。従って、各実施の形態では、対
向基板2に、カラーフィルタは設けられていない。しか
しながら、液晶パネル10においても遮光層23の形成
されていない画素電極11に対向する所定領域にRGB
のカラーフィルタをその保護膜と共に、対向基板2上に
形成してもよい。このようにすれば、液晶プロジェクタ
以外の直視型や反射型のカラー液晶テレビなどのカラー
液晶装置に本実施の形態の液晶パネルを適用できる。更
に、対向基板2上に1画素1個対応するようにマイクロ
レンズを形成してもよい。このようにすれば、入射光の
集光効率を向上することで、明るい液晶パネルが実現で
きる。更にまた、対向基板2上に、何層もの屈折率の相
違する干渉層を堆積することで、光の干渉を利用して、
RGB色を作り出すダイクロイックフィルタを形成して
もよい。このダイクロイックフィルタ付き対向基板によ
れば、より明るいカラー液晶パネルが実現できる。
【0098】液晶パネル10において、TFTアレイ基
板1側における液晶分子の配向不良を抑制するために、
第2層間絶縁層43の上に更に平坦化膜をスピンコート
等で塗布してもよく、又はCMP処理を施してもよい。
或いは、第2層間絶縁層43を平坦化膜で形成してもよ
い。
【0099】液晶パネル10のスイッチング素子は、正
スタガ型又はコプラナー型のポリシリコンTFTである
として説明したが、逆スタガ型のTFTやアモルファス
シリコンTFT等の他の形式のTFTに対しても、本実
施の形態は有効である。
【0100】液晶パネル10においては、一例として液
晶層50をネマティック液晶から構成したが、液晶を高
分子中に微小粒として分散させた高分子分散型液晶を用
いれば、配向膜12及び22、並びに前述の偏光フィル
ム、偏光板等が不要となり、光利用効率が高まることに
よる液晶パネルの高輝度化や低消費電力化の利点が得ら
れる。更に、画素電極11をAl等の反射率の高い金属
膜から構成することにより、液晶パネル10を反射型液
晶装置に適用する場合には、電圧無印加状態で液晶分子
がほぼ垂直配向されたSH(スーパーホメオトロピッ
ク)型液晶などを用いても良い。更にまた、液晶パネル
10においては、液晶層50に対し垂直な電界(縦電
界)を印加するように対向基板2の側に共通電極21を
設けているが、液晶層50に平行な電界(横電界)を印
加するように一対の横電界発生用の電極から画素電極1
1を夫々構成する(即ち、対向基板2の側には縦電界発
生用の電極を設けることなく、TFTアレイ基板1の側
に横電界発生用の電極を設ける)ことも可能である。こ
のように横電界を用いると、縦電界を用いた場合よりも
視野角を広げる上で有利である。その他、各種の液晶材
料(液晶層)、動作モード、液晶配列、駆動方法等に本
実施の形態を適用することが可能である。
【0101】以上説明した実施の形態において更に、周
辺見切り53下やTFTアレイ基板1の周辺部に、プリ
チャージ回路、検査回路等の周知の周辺回路を設けても
よい。プリチャージ回路は、コントラスト比の向上、デ
ータ線の電位レベルの安定、表示画面上のラインむらの
低減等を目的として、データ線に対し、データ線駆動回
路から供給されるデータ信号に先行するタイミングで、
プリチャージ信号を供給することにより、データ信号を
データ線に書き込む際の負荷を軽減する回路である。例
えば、特開平7−295520号公報に、このようなプ
リチャージ回路の一例が開示されている。他方、検査回
路は、周辺見切り53下やTFTアレイ基板の周辺部
に、製造途中や出荷時の当該液晶装置の品質、欠陥等を
検査するための回路である。
【0102】また、以上の実施の形態において、特開平
9−127497号公報、特公平3−52611号公
報、特開平3−125123号公報、特開平8−171
101号公報等に開示されているように、TFTアレイ
基板1上においてTFT30に対向する位置(即ち、T
FT30の下側)にも、例えばW(タングステン)、M
o(モリブデン)等の高融点金属や金属シリサイドから
なる遮光層を設けてもよい。このようにTFT30の下
側にも遮光層を設ければ、TFTアレイ基板1の側から
の戻り光等がTFT30に入射するのを未然に防ぐこと
ができる。従って、当該液晶装置200を液晶プロジェ
クタ用のライトバルブとして好適に用いることが出来
る。
【0103】更にまた、以上の実施の形態において、T
FT30に代えてMIM(Metal Insulator Metal)等
の2端子型非線形素子等からスイッチング素子を構成し
てもよい。この場合、データ線及び走査線のうち一方の
線を対向基板に配置して対向電極として機能させ、TF
Tアレイ基板に設けられた他方の線と画素電極との間に
スイッチング素子を夫々配置して液晶駆動する。このよ
うに構成しても、画素信号線やデータ線をクロック信号
線からシールドすることにより、高周波のクロックノイ
ズの画像信号やデータ信号への飛び込みを防止する効果
は発揮される。
【0104】(液晶装置の動作)次に、以上のように構
成された液晶装置200の動作について図1を参照して
説明する。
【0105】先ず、走査線駆動回路104は、所定タイ
ミングで走査線31に走査信号をパルス的に線順次で印
加する。
【0106】これと並行して、12本の配線VID1〜
VID12からパラレルな画像信号を受けると、サンプ
リング回路301は、これらの画像信号をサンプリング
する。データ線駆動回路101は、走査線駆動回路10
4がゲート電圧を印加するタイミングに合わせて、12
本の配線VID1〜VID12夫々について一つのデー
タ線毎にサンプリング回路駆動信号を供給して、サンプ
リング回路301のTFT302をオン状態とする。こ
れにより、隣接する12本のデータ線35に対して、サ
ンプリング回路301にサンプリングされたデータ信号
を順次印加する。即ち、データ線駆動回路101とサン
プリング回路301により、配線VID1〜VID12
から入力された12相展開されたパラレルな画像信号V
ID1〜VID12は、データ線35に供給される。
【0107】このように、走査信号(ゲート電圧)及び
データ信号(ソース電圧)の両方が印加されたTFT3
0においては、ソース領域34、半導体層32に形成さ
れたチャネル及びドレイン領域36を介して画素電極1
1に電圧が印加される。そして、この画素電極11の電
圧は、ソース電圧が印加された時間よりも例えば3桁も
長い時間だけ蓄積容量(図9参照)により保持される。
ここで特に、シールド線80、80’、82及び86に
より、配線VID1〜VID12は、配線CLX及びC
LX’並びに配線ENB1及びENB2からシールドさ
れているので、クロック信号CLXの周波数が高い場合
でも、配線CLX及びCLX’並びに配線ENB1及び
ENB2から配線VID1〜VID12への高周波のク
ロックノイズ等の飛び込みを低減できる。
【0108】以上のように、画素電極11に電圧が印加
されると、液晶層50におけるこの画素電極11と共通
電極21とに挟まれた部分における液晶の配向状態が変
化し、ノーマリーホワイトモードであれば、印加された
電圧に応じて入射光がこの液晶部分を通過不可能とさ
れ、ノーマリーブラックモードであれば、印加された電
圧に応じて入射光がこの液晶部分を通過可能とされ、全
体として液晶パネル10からは画像信号に応じたコント
ラストを持つ光が出射する。
【0109】以上の結果、表示すべき画像の解像度が高
く、高周波のシリアルな画像信号VID1〜VID12
が入力される場合にも、これに対応して周波数が高いク
ロック信号CLXを用いつつ、高周波のクロックノイズ
の発生により画質が劣化することは殆ど又は全く無くな
り、高品位の画像表示が可能とされる。しかも、12相
展開という比較的多数の相に相展開した結果、画像信号
の周波数を落とすことにより、通常性能のサンプリング
回路によりサンプリングを行うことが可能とされてい
る。
【0110】(電子機器)次に、以上詳細に説明した液
晶装置200を備えた電子機器の実施の形態について図
11から図15を参照して説明する。
【0111】先ず図11に、このように液晶装置200
を備えた電子機器の概略構成を示す。
【0112】図11において、電子機器は、表示情報出
力源1000、表示情報処理回路1002、駆動回路1
004、液晶パネル10、クロック発生回路1008並
びに電源回路1010を備えて構成されている。表示情
報出力源1000は、ROM(Read Only Memory)、R
AM(Random Access Memory)、光ディスク装置などの
メモリ、テレビ信号を同調して出力する同調回路等を含
み、クロック発生回路1008からのクロック信号に基
づいて、所定フォーマットの画像信号などの表示情報を
表示情報処理回路1002に出力する。表示情報処理回
路1002は、増幅・極性反転回路、相展開回路、ロー
テーション回路、ガンマ補正回路、クランプ回路等の周
知の各種処理回路を含んで構成されており、クロック信
号に基づいて入力された表示情報からデジタル信号を順
次生成し、クロック信号CLKと共に駆動回路1004に
出力する。駆動回路1004は、液晶パネル10を駆動
する。電源回路1010は、上述の各回路に所定電源を
供給する。尚、液晶パネル10を構成するTFTアレイ
基板の上に、駆動回路1004を搭載してもよく、これ
に加えて表示情報処理回路1002を搭載してもよい。
【0113】次に図12から図15に、このように構成
された電子機器の具体例を夫々示す。
【0114】図12において、電子機器の一例たる液晶
プロジェクタ1100は、上述した駆動回路1004が
TFTアレイ基板上に搭載された液晶パネル10を含む
液晶モジュールを3個用意し、夫々RGB用のライトバ
ルブ100R、100G及び100Bとして用いたプロ
ジェクタとして構成されている。液晶プロジェクタ11
00では、メタルハライドランプ等の白色光源のランプ
ユニット1102から投射光が発せられると、3枚のミ
ラー1106及び2枚のダイクロイックミラー1108
によって、RGBの3原色に対応する光成分R、G、B
に分けられ、各色に対応するライトバルブ100R、1
00G及び100Bに夫々導かれる。この際特にB光
は、長い光路による光損失を防ぐために、入射レンズ1
122、リレーレンズ1123及び出射レンズ1124
からなるリレーレンズ系1121を介して導かれる。そ
して、ライトバルブ100R、100G及び100Bに
より夫々変調された3原色に対応する光成分は、ダイク
ロイックプリズム1112により再度合成された後、投
射レンズ1114を介してスクリーン1120にカラー
画像として投射される。
【0115】本実施の形態においては特に、前述のよう
に遮光層をTFTの下側にも設けておけば、当該液晶パ
ネル10からの入射光に基づく液晶プロジェクタ内の投
射光学系による反射光、入射光が通過する際のTFTア
レイ基板の表面からの反射光、他の液晶パネルから出射
した後にダイクロイックプリズム1112を突き抜けて
くる入射光の一部(R光及びG光の一部)等が、戻り光
としてTFTアレイ基板の側から入射しても、画素電極
のスイッチング用のTFT等のチャネルに対する遮光を
十分に行うことができる。この場合、小型化に適したプ
リズムを投射光学系に用いても、各液晶パネルのTFT
アレイ基板とプリズムとの間において、戻り光防止用の
ARフィルムを貼り付けたり、偏光板にAR被膜処理を
施したりすることが不要となるので、構成を小型且つ簡
易化する上で大変有利である。
【0116】図13において、電子機器の他の例たるマ
ルチメディア対応のラップトップ型のパーソナルコンピ
ュータ(PC)1200は、上述した液晶パネル10が
トップカバーケース内に備えられており、更にCPU、
メモリ、モデム等を収容すると共にキーボード1202
が組み込まれた本体1204を備えている。
【0117】図14において、電子機器の他の例たるペ
ージャ1300は、金属フレーム1302内に前述の駆
動回路1004がTFTアレイ基板上に搭載されて液晶
モジュールをなす液晶パネル10が、バックライト13
06aを含むライトガイド1306、回路基板130
8、第1及び第2のシールド板1310及び1312、
二つの弾性導電体1314及び1316、並びにフィル
ムキャリアテープ1318と共に収容されている。この
例の場合、前述の表示情報処理回路1002(図11参
照)は、回路基板1308に搭載してもよく、液晶パネ
ル10のTFTアレイ基板上に搭載してもよい。更に、
前述の駆動回路1004を回路基板1308上に搭載す
ることも可能である。
【0118】尚、図14に示す例はページャであるの
で、回路基板1308等が設けられている。しかしなが
ら、駆動回路1004や更に表示情報処理回路1002
を搭載して液晶モジュールをなす液晶パネル10の場合
には、金属フレーム1302内に液晶パネル10を固定
したものを液晶装置として、或いはこれに加えてライト
ガイド1306を組み込んだバックライト式の液晶装置
として、生産、販売、使用等することも可能である。
【0119】また図15に示すように、駆動回路100
4や表示情報処理回路1002を搭載しない液晶パネル
10の場合には、駆動回路1004や表示情報処理回路
1002を含むIC1324がポリイミドテープ132
2上に実装されたTCP(Tape Carrier Package)1
320に、TFTアレイ基板1の周辺部に設けられた異
方性導電フィルムを介して物理的且つ電気的に接続し
て、液晶装置として、生産、販売、使用等することも可
能である。
【0120】以上図12から図15を参照して説明した
電子機器の他にも、液晶テレビ、ビューファインダ型又
はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲー
ション装置、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、エン
ジニアリング・ワークステーション(EWS)、携帯電
話、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた装
置等などが図11に示した電子機器の例として挙げられ
る。
【0121】以上説明したように、本実施の形態によれ
ば、高周波のクロックノイズの発生が低減されており、
高品位の画像表示が可能であり、しかも基板サイズに比
べて画面表示領域が大きい液晶装置200を備えた各種
の電子機器を実現できる。
【0122】
【発明の効果】本発明の電気光学装置によれば、基板に
配線された定電位の導電線により、画像信号線は、クロ
ック信号線等の制御信号線からシールドされているの
で、クロック信号線から画像信号線への高周波のクロッ
クノイズ等の飛び込みを低減でき、高解像度の画像を表
示するための高周波数の画像信号に応じて高品位の画像
表示を行える。しかも、画像信号線をデータ信号供給手
段の両側へ引き回わす構成により、多相展開に対応する
多数の画像信号線を配線する場合にも、データ信号供給
手段の両側にバランス良く配線でき、限られた基板サイ
ズでの画面の大型化を図ることも可能となる。また、画
面表示領域及び複数のデータ線をもシールドすることに
より、データ線上のデータ信号等における、高周波のク
ロックノイズの発生を低減でき、より高品位の画像表示
が可能となる。
【0123】また、本発明の電子機器によれば、高周波
のクロックノイズが低減されており、基板サイズに比べ
て画面表示領域が大きい高品位の画像表示が可能な、液
晶プロジェクタ、パーソナルコンピュータ、ページャ等
の様々な電子機器を実現可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 液晶装置の実施の形態においてTFTアレイ
基板上に形成されたシールド線を含む各種配線、周辺回
路等の概略平面図である。
【図2】 図1のシールド線の2次元的レイアウトをよ
り詳細に示す概略平面図である。
【図3】 図2に示したシフトレジスタ回路における回
路図(a)及びタイミングチャート(b)である。
【図4】 図1のTFTアレイ基板上に形成されたシー
ルド線、画像信号線、クロック信号線のA−A’断面図
(a)及びB−B’断面図(b)である。
【図5】 図1のTFTアレイ基板上に形成された画素
電極、走査線、データ等の画面表示領域端部における拡
大平面図である。
【図6】 図1の液晶装置の全体構成を示す平面図であ
る。
【図7】 図1の液晶装置の全体構成を示す断面図であ
る。
【図8】 図1の画像信号線(配線VID1〜12)の
2次元的レイアウトの一例を示す概略平面図(a)及び
他の例を示す概略平面図(b)である。
【図9】 図1の液晶装置の画面表示領域に設けられた
TFT部分における断面図である。
【図10】 図1の液晶装置の周辺見切り領域に設けら
れたシールド線部分における断面図である。
【図11】 本発明による電子機器の実施の形態の概略
構成を示すブロック図である。
【図12】 電子機器の一例としての液晶プロジェクタ
を示す断面図である。
【図13】 電子機器の他の例としてのパーソナルコン
ピュータを示す正面図である。
【図14】 電子機器の一例としてのページャを示す分
解斜視図である。
【図15】 電子機器の一例としてのTCPを用いた液
晶装置を示す斜視図である。
【符号の説明】
1…TFTアレイ基板 2…対向基板 10…液晶パネル 11…画素電極 12…配向膜 21…共通電極 22…配向膜 23…遮光層 30…TFT 31…走査線(ゲート電極) 32…半導体層 33…ゲート絶縁層 34…ソース領域 35…データ線(ソース電極) 36…ドレイン領域 37、38…コンタクトホール 42…第1層間絶縁層 43…第2層間絶縁層 50…液晶層 52…シール材 53…周辺見切り 70…蓄積容量 80、80’、82、86…シールド線(定電位線) 101…データ線駆動回路 102…外部入力端子(実装端子) 104…走査線駆動回路 112…イネーブル回路 200…液晶装置 301…サンプリング回路 302…TFT

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に複数のデータ線と、該複数のデ
    ータ線に交差する複数の走査線と、前記複数のデータ線
    及び走査線に接続された複数のスイッチング素子と、前
    記複数のスイッチング素子に接続された複数の画素電極
    と、画像信号が供給される複数の画像信号線と、クロッ
    ク信号を含む制御信号が供給される複数の制御信号線
    と、前記画像信号線及び前記制御信号線を夫々介して前
    記画像信号及び前記制御信号が入力され、前記画像信号
    に対応するデータ信号を前記制御信号に基づいて前記複
    数のデータ線に供給するデータ信号供給手段とを備えて
    おり、 前記複数の画像信号線のうち第1画像信号線群は前記基
    板上で前記データ信号供給手段の一方の側へ引き回され
    ており、前記複数の画像信号線のうち第2画像信号線群
    は前記第1基板上で前記データ信号供給手段の他方の側
    へ引き回されており、前記第1及び第2画像信号線群を
    前記複数の制御信号線から夫々電気的にシールドする少
    なくとも1本の導電線を前記基板上に更に備えたことを
    特徴とする電気光学装置。
  2. 【請求項2】 前記導電線は、前記複数の制御信号線の
    うち少なくとも前記画像信号の水平走査期間よりも短い
    周期を持つ高周波制御信号を供給する高周波制御信号線
    から、前記第1及び第2画像信号線群をシールドするこ
    とを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
  3. 【請求項3】 前記第1及び第2画像信号線群と前記高
    周波制御信号線との間には、前記導電線と共に前記複数
    の制御信号線のうち少なくとも前記画像信号の水平走査
    期間よりも短くない周期を持つ低周波制御信号を供給す
    る低周波制御信号線が配線されていることを特徴とする
    請求項2に記載の電気光学装置。
  4. 【請求項4】 前記第1画像信号線群に接続されており
    外部画像信号源から前記画像信号が夫々入力される複数
    の第1外部入力端子と、前記第2画像信号線群に接続さ
    れており前記外部画像信号源から前記画像信号が夫々入
    力される複数の第2外部入力端子と、前記制御信号線に
    接続されており外部制御信号源から前記制御信号が夫々
    入力される複数の第3外部入力端子と、前記導電線に夫
    々接続された複数の第4外部入力端子とを前記基板の周
    辺部上に更に備えており、前記第1及び第2外部入力端
    子の間には、前記第3外部入力端子が配置されており、
    前記第1及び第3外部入力端子の間並びに前記第3及び
    第2外部入力端子の間には、前記第4外部入力端子が夫
    々配置されていることを特徴とする請求項1に記載の電
    気光学装置。
  5. 【請求項5】 前記導電線は、前記複数の制御信号線の
    うち少なくとも前記画像信号の水平走査期間よりも短い
    周期を持つ高周波制御信号を供給する高周波制御信号線
    から、前記第1及び第2画像信号線群をシールドし、 前記第3外部入力端子のうち前記第4外部入力端子に隣
    接する端子は、前記複数の制御信号線のうち少なくとも
    前記画像信号の水平走査期間よりも短くない周期を持つ
    低周波制御信号を供給する低周波制御信号線に接続され
    ていることを特徴とする請求項4に記載の電気光学装
    置。
  6. 【請求項6】 前記導電線は、前記データ信号供給手段
    に定電位のデータ線駆動用電源を供給するデータ線駆動
    用定電位線から構成された部分を含むことを特徴とする
    請求項1から5のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  7. 【請求項7】 前記データ線駆動用定電位線は、相異な
    る定電位の電源を前記データ信号供給手段に供給する第
    1及び第2定電位線からなり、 該第1定電位線から構成された前記導電線部分は、前記
    基板上で前記第1及び第2画像信号線群を囲み、 前記第2定電位線から構成された前記導電線部分は、前
    記基板上で前記制御信号線を囲むことを特徴とする請求
    項6に記載の電気光学装置。
  8. 【請求項8】 前記導電線は、前記複数の画素電極によ
    り規定される画面表示領域及び前記複数のデータ線を前
    記基板上で囲むように延設されたこと特徴とする請求項
    1から7のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  9. 【請求項9】 前記基板に対向して対向基板が設けられ
    ており、前記画面表示領域の輪郭に沿って前記基板及び
    対向基板のうち少なくとも一方に形成された遮光性の周
    辺見切りを更に備えており、 前記導電線は前記周辺見切りに対向する位置において前
    記周辺見切りに沿って前記基板に設けられた部分を含む
    ことを特徴とする請求項8に記載の電気光学装置。
  10. 【請求項10】 前記導電線及び前記データ線は、同一
    の低抵抗金属材料から形成されたことを特徴とする請求
    項1から9のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  11. 【請求項11】 前記画素電極に所定量の容量を付与す
    る容量線を前記基板上に更に備えており、該容量線が前
    記導電線に接続されたことを特徴とする請求項1から1
    0のいずれか一項に記載の電気光学装置。
  12. 【請求項12】 走査信号を前記複数の走査線に供給す
    る走査信号供給手段を前記基板上に更に備えており、 前記導電線は、前記走査信号供給手段に定電位の走査線
    駆動用電源を供給する走査線駆動用定電位線から構成さ
    れた部分を含むことを特徴とする請求項1から11のい
    ずれか一項に記載の電気光学装置。
  13. 【請求項13】 前記走査信号供給手段は、前記複数の
    画素電極により規定される画面表示領域の両側に設けら
    れており、 前記走査線駆動用定電位線から構成された前記導電線部
    分は、前記画面表示領域及び前記複数のデータ線を前記
    第1基板上で囲むように且つ前記走査線供給手段に前記
    走査線駆動用電源を冗長的に供給するように延設されて
    いることを特徴とする請求項12に記載の電気光学装
    置。
  14. 【請求項14】 前記データ信号供給手段は、前記画像
    信号をサンプリングするサンプリング回路と、前記制御
    信号に基づいて該サンプリング回路を駆動するデータ線
    駆動回路とを備えており、 前記第1画像信号線群に含まれる画像信号線と前記第2
    画像信号線群に含まれる画像信号線とは、前記データ線
    駆動回路と前記サンプリング回路との間において、少な
    くとも1本の画像信号線毎に前記データ線駆動回路の両
    側から櫛歯状に交互に引き回されていることを特徴とす
    る請求項1から13のいずれか一項に記載の電気光学装
    置。
  15. 【請求項15】 前記データ信号供給手段は、前記デー
    タ線毎に前記データ信号の電圧極性を反転し、 前記第1画像信号線群に含まれる画像信号線と前記第2
    画像信号線群に含まれる画像信号線とは、相隣接する2
    本のデータ線に対応する2本の画像信号線を対にして前
    記データ線駆動回路の両側から櫛歯状に交互に引き回さ
    れていることを特徴とする請求項14に記載の電気光学
    装置。
  16. 【請求項16】 請求項1から15に記載の電気光学装
    置を備えたことを特徴とする電子機器。
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