JPH11201902A - 誘導結合されたプラズマトーチのための取付け装置 - Google Patents
誘導結合されたプラズマトーチのための取付け装置Info
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- JPH11201902A JPH11201902A JP10293630A JP29363098A JPH11201902A JP H11201902 A JPH11201902 A JP H11201902A JP 10293630 A JP10293630 A JP 10293630A JP 29363098 A JP29363098 A JP 29363098A JP H11201902 A JPH11201902 A JP H11201902A
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- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
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- H05H1/24—Generating plasma
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Abstract
容易な取外し及び交換を可能にするような新規の取付け
装置を提供する。 【解決手段】 ハウジングアセンブリ34が、受け部材
40と、電気的な接触リング68と、中心アパーチュア
50を備えたガスブロック48とを有している。取付け
アセンブリ32が、取付け部材64と、第2のガスブロ
ック70と、ガス管18と、試料噴射管24とを有して
いる。第2のガスブロックは、ガス管内へ延びた内部通
路78を有している。
Description
ラズマ発生器、特にこのような発生器のための取付装置
に関する。
器は、通常、分光分析、微細粉体の処理、材料の溶融、
化学反応等に使用される。これらの適用例は、プラズマ
に固有に関連した高温から生じており、この高温は、電
子の励起と、プラズマガス及び噴射された材料のイオン
化とを生ぜしめるのに十分に高い。プラズマ発生は、質
量分光分析のための、及び、低圧においては、蒸着工程
のための機器において利用されるイオンを生ぜしめるた
めにも利用される。ICP発生器は、負荷コイルを介し
て10〜100MHzの高周波範囲に広く連結すること
によって高周波電子発振器によって駆動される。高周波
に関する問題は、ラジオ、コンピュータ、ビデオ及び関
連した制御機器等の補助的な機器に干渉するおそれがあ
る放射である。
取り囲まれており、このハウジング区画は、大気からプ
ラズマを絶縁したり、光放射から人間を保護したり、高
周波放射を含んだりすることを含む複数の目的を達す
る。発生器は、コイルを通過してプラズマ発生ガスを搬
送するための、及びプラズマに試料を導入するための管
を有している。このような試料は、ネブライザ等の試料
源から供給され、この試料源は、通常、プラズマの熱か
らの保護のためにハウジング区画の外側に配置されてい
る。管及びネブライザ又は別の試料源を含むプラズマ発
生器の構成部材を修理及び交換する必要がある。既存の
装置の場合、部材の取外し及び交換等の内部の処理のた
めに開放されなければならず、このことは、ガス及び試
料の管がコイル内へ延びているので手間がかかる。
い場合、特に、溶融された試料を搬送するために有機溶
剤が使用されている場合には問題が生じる。先端をプラ
ズマの底部に近すぎる場合には、プラズマ放電からの熱
が、先端に形成する炭素堆積物を生じるおそれがある。
この堆積物は、インジェクタにプラズマへの試料流を遮
断させることによって分析性能に干渉する。他方では、
先端がプラズマから遠すぎると、試料の出費が著しく多
く、試料はプラズマ内ではなくプラズマの周囲へ提供さ
れてしまう。毎回分解を必要とする有意な試し及び誤り
なしに、適切な位置を見いだすことは困難であり、。し
たがって、先端の位置を最適化するために、動作中にプ
ラズマ形成負荷コイルに対してガス管の軸線方向位置を
調整する必要がある。
課題は、誘導結合されたプラズマ発生器の構成部材の容
易な取外し及び交換を可能にするような新規の取付け装
置を提供することである。別の課題は、ハウジングアセ
ンブリから容易に取り外され、また、ハウジングアセン
ブリ内で交換される構成部材の取付けアセンブリを提供
することである。さらに、別の課題は、工具を用いずに
このような取外し及び交換を提供することである。さら
に別の課題は、高周波放出の遮蔽を有するこのような取
付け装置を提供することである。さらに別の課題は、プ
ラズマ発生中に、プラズマ形成負荷コイルに対してガス
管の位置を調整することができるような取付け装置を提
供することである。さらに別の課題は、交換時に、火花
又は高周波始動リード線の自動的な接触を可能にするよ
うな取付け装置を提供することである。
に本発明の構成では、ハウジングアセンブリが設けられ
ており、該ハウジングアセンブリが、壁開口を備えたハ
ウジング壁から形成されたハウジングと、ハウジングに
取り付けられていて、壁開口を貫通して延びた軸線を有
する負荷コイルと、ハウジングの殆ど外側でハウジング
壁に取り付けられていて壁開口と整合した中心開口を有
する受け部材と、該受け部材に取り付けられた環状の第
1の電気的な接触素子と、貫通した中心アパーチュアを
備えた第1のガスブロックと、中心アパーチュアを中心
開口に整合させながら第1のガスブロックをハウジング
壁に取り付けるための取付け手段とから成っており、前
記第1のガスブロックが、プラズマ形成ガスを受け取
る、中心アパーチュアにまで延びた外部通路を有してお
り、負荷コイルが、高周波エネルギを受け取るようにな
っており、ハウジング壁と、受け部材と、第1の接触素
子とが、導電性でかつ互いに電気的に接触しており、取
付けアセンブリが設けられており、該取付けアセンブリ
が、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材
と、該取付け部材に取り付けられた環状の第2の電気的
な接触素子と、取付け部材に取り付けられていて中心ア
パーチュア内で第1のガスブロックに嵌合するように形
成された第2のガスブロックと、該第2のガスブロック
から延びるように該第2のガスブロックに取り付けられ
たガス管とから成っており、第2のガスブロックが、該
第2のガスブロックを貫通してガス管にまで延びた内部
通路を有しており、取付け部材と、第2の接触素子と
が、導電性でかつ相互に電気的に接触しており、ハウジ
ングアセンブリへの取付けアセンブリの取外し可能な係
合のための係合手段が設けられており、ハウジングアセ
ンブリと取付けアセンブリとが、協働するように構成さ
れているので、係合時に、取付け部材が受け部材に嵌合
させられ、第2のガスブロックが第1のガスブロックに
嵌合させられ、第1の接点素子と、第2の接点素子と
が、電気的に接触し、ガス管が負荷コイルと同軸的に延
び、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内に供
給するように内部通路が外部通路を整合し、負荷コイル
と、ガス管とが、高周波エネルギとのプラズマ形成ガス
の誘導結合によってプラズマを生ぜしめるように、協働
するように位置決めされるようにした。
成によれば、受け部材に嵌合するように形成された取付
け部材と、該取付け部材に取り付けられた環状の第2の
電気的な接触素子と、取付け部材に取り付けられてい
て、中心アパーチュアにおいて第1のガスブロックに嵌
合するように形成された第2のガスブロックと、第2の
ガスブロックから延びるように該第2のガスブロックに
取り付けられたガス管と、ハウジングアセンブリへの取
付けアセンブリの取外し可能な係合のための係合手段と
から成っており、第2のガスブロックが、該第2のガス
ブロックを貫通してガス管内へ延びた内部通路を有して
おり、取付け部材と、第2の接触素子とが、導電性であ
り、互いに電気的に接触しており、前記係合手段が、協
働するように形成されたハウジングアセンブリと取付け
アセンブリとから成っており、係合させられながら、取
付け部材が受け部材に嵌合させられ、第2のガスブロッ
クが、第1のガスブロックに嵌合させられ、第1の接触
素子と、第2の接触素子とが、電気的に接触し、ガス管
が、負荷コイルと同軸的に延びており、プラズマ形成ガ
スを負荷コイルにまでガス管内で搬送するために内部通
路が外部通路と整合しており、高周波エネルギとのプラ
ズマ形成ガスの誘導結合によってプラズマを生ぜしめる
ために、負荷コイルと、ガス管とが、協働するように位
置決めされているようにした。
ラズマ発生器のための取付け装置であって、この装置
が、ハウジングアセンブリと、取付けアセンブリと、取
付けアセンブリをハウジングアセンブリに取外し可能に
係合させるための係合手段とから成っているものによっ
て少なくとも部分的に解決された。ハウジングアセンブ
リは、ハウジングと、ハウジングに取り付けられた負荷
コイルと、ハウジングの殆ど外側でハウジング壁に取り
付けられており、コイル軸線と整合した中心開口を有す
る受け部材と、壁の開口とを有している。環状の第1の
電気的な接触素子が、受け部材に取り付けられている。
第1のガスブロックは、このガスブロックを貫通した中
心アパーチュアを有している。第1のガスブロックを、
中心アパーチュアが中心開口と整合した状態でハウジン
グ壁に取り付けるために、取付け手段が設けられてい
る。第1のガスブロックは、プラズマ形成ガスを受け取
る、中心アパーチュアにまで延びた外部通路を有してい
る。負荷コイルは、高周波エネルギを受け取るようにな
っており、ハウジング壁と、受け部材と、第1の接触部
材とは、導電性であり、互いに電気的に接触している。
ように形成された取付け部材と、取付け部材に取り付け
られた環状の第2の電気的な接触素子と、取付け部材に
取り付けられており、中心アパーチュアにおいて第1の
ガスブロックに嵌合するように形成された第2のガスブ
ロックと、第2のガスブロックから延びるように第2の
ガスブロックに取り付けられたガス管とを有している。
第2のガスブロックは、貫通してガス管内へ延びた内部
通路を有しており、取付け部材と、第2の接触素子と
は、導電性であり、互いに電気的に接触している。
リとは、協働するように形成されており、これにより、
係合時に、取付け部材が受け部材に嵌合させられ、第2
のガスブロックが第1のガスブロックに嵌合させられ、
第1の接触素子と第2の接触素子とが電気的に接触させ
られ、ガス管が同軸的に負荷コイルにまで延び、プラズ
マ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内で搬送するため
に内部通路が外部通路と整合し、プラズマ形成ガスを高
周波エネルギと誘導結合させることによってプラズマを
生ぜしめるために負荷コイルとガス管とが、協働するよ
うに位置決めされる。
アセンブリが、さらに、ガス管内へ同軸的に延びるよう
に取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射管を有
している。噴射管は、プラズマ内への噴射のために試料
材料を受け入れるようになっている。ネブライザアセン
ブリ等の試料源は、プラズマ内に試料材料を噴射するた
めに噴射管が試料源から延びながら、取付け部材におい
て保持されていてよい。取付け部材は、ガス管内で噴射
管に沿って突出した管状の突出部を有していると有利で
あり、この突出部は、高周波遮蔽のためのカットオフを
越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に高
い比を有する軸線方向のボアを有している。
は、負荷コイルに対するガス管の軸線方向の位置決めを
提供するために調整可能である。このために、係合手段
が、ハウジングアセンブリに対する取付けアセンブリの
選択的な軸線方向の位置決めのための位置決め手段と、
ハウジングアセンブリに対して定置の回転可能な位置に
取付けアセンブリを保持するための回転可能な保持手段
とから成っている。第1の接触手段と、第2の接触手段
とが、軸線方向の位置決めに拘わらず電気的な接触を保
持するように、協働するようになっている。取付け手段
が、ハウジングの壁に対する軸線方向の位置決めの自由
度を有しながら、回転方向で定置の位置において第1の
ガスブロックをハウジングの壁に保持するための保持手
段と、内部通路が外部通路と整合しているように、軸線
方向の位置決めに拘わらず、第1のガスブロックを、第
2のガスブロックに設けられた当て付け位置にまで軸線
方向に押し付ける押付け手段とから成っている。
につき詳しく説明する。
光光度計(例えばPerkin−Elmer社製のOp
imaTM3000、Optima4000又はP−5
00)、又は質量分析器(例えばPerkin−Elm
er社製のElan)と共に使用されるような慣用の誘
電結合されたプラズマ系に適応させられている。この系
は、トーチのハウジング14に取り付けられた負荷コイ
ル12を有しており、ハウジング14は、高周波遮蔽の
ために閉鎖されており、プラズマが発生される部分に不
活性ガスを含んでいる。コイルは、通常、例えば27M
Hzの高周波を有する振動回路16から高周波エネルギ
を受け取るようになっている。適切な回路は米国特許第
4766287号明細書(モリスロエ他)に記載されて
いるが、振動器の性質又は詳細は本発明にとって重要で
はない。コイルは、振動回路の一部を形成していてよ
い。
て)の別の材料から形成されたガス管18は、負荷コイ
ル12にまで延びており、通常、この負荷コイル12を
短い距離だけ貫通している。アルゴン等のプラズマ形成
ガス19は、管のコイル端部20において出るように管
を通過させられる。コイルによってガスを高周波エネル
ギと誘導結合することにより、端部でプラズマ放電22
が形成される。分光分析のための放射を行うために、又
は材料を処理するためにプラズマが使用される場合に
は、試料噴射管24(ガス管の材料と類似の材料から成
っている)が、端部26がコイルの近傍に位置するよう
に、ガス管内に同軸的に位置決めされている。有利に
は、ガス流の制御のために、中間管28(ガス管の材料
と類似の材料から成っている)が、ガス管と噴射管との
間に同軸的に配置されており、プラズマ形成ガス19
が、ガス管内を中間管の外側で搬送される。主ガスと同
じタイプであってよい補助ガス30は、噴射管の端部付
近の箇所にまで、中間管の内側で噴射管の外側を搬送さ
れてよい。
ジングアセンブリ34と、装置の別の定置の構成部材と
に、取外し可能に係合することができる取付アセンブリ
32に、前記構成部材の一部を組み込むことに関する。
ハウジングアセンブリにおいては、負荷コイル12が通
常の接続手段によって振動回路16に取り付けられてお
り、この振動回路16自体は、ハウジングへ直接に取り
付けられる慣用の取付け部材(図示せず)を有してい
る。コイルは、ハウジングの壁36に設けられた円形の
開口39の中心を貫通した軸線38を有している。リン
グ状の受け部材40は、ハウジングの殆ど外側でハウジ
ングの壁に取り付けられている。
設けられた、外方に面した環状のスロット42に、スロ
ットに部分的に被さるように突出した環状の肩部44に
よって保持されている(ここで及び請求項で使用されて
いるように、“外方”及び“外方へ”という言葉はハウ
ジングの外側かつハウジングから離れるように向いた方
向を示しており、“内方”及び“内方へ”という言葉は
ハウジング内を向いた方向を示している)。接触素子
は、高周波放射を遮蔽するために一般的に使用されるタ
イプの、ばね材料から形成された1対の向き合ったフィ
ンガリングから形成されていてよい。接触のために単純
なリング等の別の手段が使用されてよいが、接触系は高
周波遮蔽のために効果的であることが望ましい。ハウジ
ングの壁36と、受け部材40と、接触素子46とは、
導電性(一般的に金属製)であり、これらの部材は、互
いに(直接に又は間接に)電気的に接触しており、ま
た、接地されている。
て、第1のガスブロック48は、有利には壁の内側にお
いて、受け部材40に隣接して、ハウジングの壁36へ
の取付け手段49を有している。この実施例の場合の取
付け手段は、ねじ(1つを図示)を備えているか又は接
着剤等の他のあらゆる適切な手段であってよい。ガスブ
ロックは、壁の開口30と整合して貫通した円筒状の中
心アパーチュア50を有している。この円筒状のアパー
チュアは、ハウジング内へ行くに従って直径がより小さ
くなるようにテーパしていると有利である。ガスブロッ
クは、ハウジングの壁に直接に取り付けられているか、
又は受け部材への直接な取付けによって間接的に取り付
けられていてよい。間接的に取り付けられている場合に
は、受け部材又はブロック(又は両方)は、壁に取り付
けられている。取付け(図示せず)は、ねじ山付きの構
成部材内にねじ込まれる等、慣用的に行われる。
けの構造的な変更が存在してよい。例えば、実際の壁
は、受け部材の外周に取り付けられるフランジを備えな
がら、受け部材の縁部で終わっていてよい。このような
場合には、請求項を含む明細書中の目的のために、壁
は、内方に面した受け部材の面を有していると考えら
れ、この場合、第1のガスブロック48はこの内面に直
接に取り付けられている。また、したがって、受け部材
は、実際、壁が凹んでいるかのように壁の境界内に配置
されていてよく、“ハウジングの殆ど外側”という言葉
は、このような構成を含んでいる。
8を貫通して中央アパーチュア50にまで横方向に延び
た第1の外部通路52を有している。外部通路52の外
端部は、慣用のガスレギュレータと弁(図示せず)とを
介してガス源56へ延びたガスライン54によって、プ
ラズマを形成するガス19を受け取るようになってい
る。補助ガス30が使用されている場合には、ガスライ
ン60とガス源62とから中央アパーチュア50にまで
同様に延びた第2の補助的な外部通路58が設けられて
いる。
嵌合するように形成された取付け部材64を有してお
り、この取付け部材64は、例えば受け部材に被さる外
側リム66を備えた浅いカップの形状を有している。環
状の第2の接触素子が取付け部材に保持されており、こ
の接触素子は、第1の接触素子と接触するように適応し
ている。第1の接触素子が1対のフィンガリング46と
して形成されている場合、第2の手段は、電気的に接触
されるようにフィンガリングの間に挿入される帯材68
である(構造上は、帯材は取付け部材の一部として形成
されていてよい)。択一的に、より単純な第1の接触リ
ングが用いられている場合には、第2の接触素子は、前
記のような十分な遮蔽に対する当然の考慮を払いなが
ら、例えば単純な平らなリングであってもよい。
ゆる適切な手段(図示せず)によって取付け部材に同軸
的に取り付けられている。このガスブロック70は、中
心ボア72を有しており、この中心ボア72には、ガス
管18が一方の端部にOリング74を備えながら保持さ
れており、これによりガス管18は中心ボアから同軸的
に延びている。補助的な中間管28が用いられている場
合には、この中間管28も、Oリング76を備えながら
ボアの狭まった部分において、内側のガスブロックに取
り付けられている。第2のガスブロック70と管とは、
ガス管18の側壁に設けられた孔80を含む第1の内部
通路78を有しており、この内部通路78は、このガス
管18内へ横方向内向きに延びている。第2の補助的な
内部通路82も、中心ボア72内へ横方向に延びてお
り、これによりガスを補助的な中間管28内へ、有利に
はこの中間管28の内端部84においてガスを方向付け
るようになっている。噴射管24が使用されている場合
には、噴射管24は、補助的な管を通ってコイル12に
まで延びるように、取付け部材64と内側のガスブロッ
ク70とを同軸的に貫通しながら保持されている。横方
向の通路は全体的に半径方向に延びている必要はなく、
ガス源と都合よく接続するように個々のガスブロック内
で適宜に方向付けられていてよい。
ガスをガス管18へ供給するために第1の内部通路78
が第1の外部通路52と整合した状態で外側のガスブロ
ック48に嵌合されるように形成されている。同様に、
補助的な内部通路82は、補助ガスを補助的な中間管2
8へ供給するために補助的な外部通路58と整合させら
れている。第2のガスブロック70の外面に設けられた
溝に組み付けられた2対のOリング86,88は、個々
の通路をシールしている。2つのガスブロックの係合面
のテーパは、容易な取外しを可能にする。ガスブロック
の材料は、適切な、耐高周波の、臨界的でない、硬質プ
ラスチックである。しかしながら、金属はコイルに近す
ぎないことが望ましい。
リ90に設けられた噴霧室96等の試料源、又はキャリ
ヤガスを備えた粉体供給装置から延びている。通常、ネ
ブライザの噴霧室には、直角のガスジェットオリフィス
を備えた管91の近くに位置した試料オリフィス93が
設けられており、オリフィスはICPの軸線38から横
方向にずれている。ネブライザアセンブリ又は他の試料
源は、あらゆる適切な手段、例えばねじ、クランピン
グ、又は、(図示したように)ネブライザの交換を可能
にするために部材に永久に取り付けられた定置の部分9
2と、クランプ及び/又はねじを用いて取り付けられる
取外し可能な部分94とから形成されたブラケットを用
いて、取付け部材64又は第2のガスブロック70に保
持されていてよい。噴霧室96は、ネブライザから延び
た短いスリーブ98と連通している。噴射管は、霧化さ
れた試料をネブライザ室からプラズマ内へ搬送するため
に1対のOリング100を用いてスリーブ内にに保持さ
れている。
に、取付け部材は、ガス管に設けられた噴射管に沿って
コイルに向かって途中まで突出した、導電性の管状の突
出部102を有している。突出部102は、高周波干渉
コードと一致するように高周波遮蔽のためのカットオフ
を越えた導波管を提供するために、長さ対直径の十分に
高い比を備えた軸線方向のボア104を有している。こ
のことを行うためには、比は少なくとも8:1であるこ
とが望ましい。
じ、クランプ、縁部と受け部材とにねじ山を設ける(回
して係合させるために)等のあらゆる実用的な手段を用
いてハウジングアセンブリ34に取外し可能に係合させ
られている。適切な手段(図2)は、受け部材40から
半径方向外方へ突出した2つまたは3つ以上のアーチ状
に間隔を置いて配置されたピン106を利用している。
取付け部材のリム66に設けられた対応して開放した斜
めのスロット108によって、取外しが容易な回転係合
が可能である。取付けアセンブリが係合させられている
場合には、取付け手段64は受け部材40に嵌合させら
れており、第2のガスブロック70は第1のガスブロッ
ク48に嵌合させられており、第2の接触素子68は第
1の接触素子46と電気的に接触しており、ガス管18
は負荷コイル12と同軸的に延びており、内部通路7
8,82は、ガス管内にガスを搬送して負荷コイルにお
いて排出されるように外部通路52,58と個々に整合
しており、負荷コイルとガス管とは、プラズマ形成ガス
を高周波エネルギと誘導結合することによってプラズマ
22を生ぜしめるために、協働するように位置決めされ
ている。高周波の逃げは効果的に制限される。
波パルスは、プラズマを生ぜしめるために使用される。
パルスは、始動電動機からのリード線113に取り付け
られたねじ112によって定置のガスブロック48に保
持されたばねクリップ110によって、ガス管18内へ
向けられてよい。取付けアセンブリが係合させられてい
る場合には、ばねクリップは、導管の壁に埋め込まれた
金属製の接触子114に接触している。このように、取
付けアセンブリがハウジングアセンブリに挿入される
と、始動電動機の接続が自動的に形成される。
材、中心アパーチュア、第2のガスブロックは円筒状で
あると有利であり、これにより、係合手段は、取付け手
段を受け部材に回転可能に係合させることができる。し
かしながら、他の係合手段がスリップクランプ又は蝶ね
じとして使用されている場合には、このような構成部材
及び表面は、横断面で見て楕円形又は四角形等の他のあ
らゆる所望の輪郭であってよい。
及びプラズマに対して軸線方向に調整することができる
実施例が、図3、図4及び図5に示されている。基本的
な構成は図1の実施例の場合と同じであり、適当な箇所
では符号が同じである。いくつかの特徴は、図1の場合
とほぼ同じ機能を有しているので再度詳しく説明してい
ない。したがって、負荷コイル12は閉じられたハウジ
ング14に取り付けられており、この負荷コイルは高周
波エネルギを受け取るようになっている。ガス管18は
プラズマ22が形成されるコイルにまで延びており、試
料噴射管24が同軸的に位置決めされていてよい。選択
的に、中間管24が同軸的に配置されていてもよい。管
は取付けアセンブリ32へ組み込まれており、この取付
けアセンブリ32は、ハウジングの壁36を有するハウ
ジングアセンブリ34と係合している。リング状の受け
部材40は、ハウジングの壁の外側に取り付けられてい
る。フィンガリング46又は同様のものが、受け部材に
設けられた環状のスロット42内に保持されている。
1のガスブロック48は壁36への取付け手段49を有
しており、ガスブロックは、図1の実施例の場合と同じ
形式で、源(図示せず)からガスを受け取る外部ガス通
路52,58を有している。取付けアセンブリ32は、
受け部材に嵌合するように形成された取付け部材64を
有している。接触する帯材68′(以下に説明するよう
に細長い)は、電気的な接触のためにフィンガリングの
間に挿入されている。第2のガスブロック70は、ガス
管18がOリング74を用いて第2のガスブロック内に
保持されながら、取付け部材に同軸的に取り付けられて
いる。第2のブロックは、図1の場合に図示及び説明し
たように、内部ガス通路78,82を有している。試料
噴射管24が使用されている場合には、この試料噴射管
24は、取付け部材64と内側のガスブロック70とを
貫通して同軸的に保持されており、これにより、補助的
な管28を貫通してコイル12にまで延びている。第2
のガスブロック70は、個々のガスと試料とを管内へ搬
送するために内部通路が外部通路と整合しながら、第1
のガスブロック48に嵌合するように形成されている。
ネブライザアセンブリ90、若しくは別の試料噴射系
も、火花プラズマイグナイタ(図示せず)等の同様の部
材を備えた前の実施例の場合と同じである。
2は、コイル12及びプラズマ22に対する管端部の選
択的な位置決めを可能にするために軸線方向で位置決め
可能である。第1のガスブロック48の取付けは、保持
手段49によって行われ、この保持手段49はハウジン
グの壁に対する軸線方向位置決めの自由度を有しなが
ら、第1のガスブロック48を回転方向で定置にハウジ
ングの壁に保持している。この実施例の場合には、これ
は、壁36にねじ込まれた、アーチ状に間隔をおいて配
置された保持ねじ120(1つを図示)を用いて達成さ
れる。保持ねじ120は、第1のガスブロックに設けら
れた個々のボア122を貫通しており、ボア122は、
ルーズなすべりばめを許容する。コイル側のボアの端部
において又はコイル側のボアの端部の近くにおいて、肩
部124は、壁から離れるように延長させられた位置に
おいてガスブロックをねじ頭126に対して止めてい
る。ねじに配置されたばね128は、壁側のボアの狭く
なった部分において、ねじ頭126と第2の肩部130
との間で圧縮されており、これにより、取付けアセンブ
リの軸線方向の位置132とは無関係に、第2のガスブ
ロック70を、壁に向かって、第2のガスブロックにお
ける当接位置にまで軸線方向に押し付け、これにより、
内部通路は外部通路と軸線方向で整合している(図1に
示したように)。
おける取付けアセンブリの係合は、選択的な軸線方向の
位置決め132を許容する。電気的な接触を維持するた
めに、受け部材に設けられたスロット42と、取付け部
材から延びた帯材68′とは、それぞれ、位置決め範囲
に亘って電気的な接触維持するために、軸線方向に(軸
線38に対して平行に)協働的に延長している。
れた位置に締め付けるためにねじを保持しながら、受け
部材への取付け部材の単純なすべりばめ等の、あらゆる
所望の形式で行われてよい。しかしながら、有利な側面
においては、位置決めは回転によってより正確さを有し
ながら行われる。このためには、取付け部材64はフラ
ンジ136を有しており、係合手段が、フランジに被せ
はめられる連結リング134から成っている。
整合させられた、ハウジングから外向きに開放した少な
くとも1つの孔137を有している。各孔のための頭な
しピン138は、それぞれの頭なしピンが対応する孔に
スライド可能に挿入されるように、フランジに取り付け
られており、これにより、取付け部材と受け部材との相
対的な回転を阻止しながら、軸線方向の位置決めを許容
している。
たフランジ140を有しており、このフランジ140
は、アーチ状に間隔を置いて配置された複数の部分的な
環状のスロット142を有している。各スロットには、
頭部145を備えたボルト144が取付けフランジ14
4に取り付けられている。スロットに配置されたボルト
は、相対的な回転方向の位置決めの範囲内での自由度を
有しながら、連結リングを取付け部材に対して保持して
いる。
り、このスカート148は、内側に面した縁部150
と、スカートにアーチ状に間隔を置いて配置された、縁
部150において開放した複数の斜めに設けられたスロ
ット152とを有している(図4)。このような各スロ
ット152のために、受け部材40の円筒状の外面には
突起154が取り付けられており、各突起154が、斜
めに設けられたスロット内へ、有利には貫通して延びて
いる。したがって、連結リングは取付けアセンブリと共
に、取り外し可能な係合のために、受け部材と突起とか
ら取り外し可能であり、突起を備えた受け部材に沿った
連結リングの回転は、軸線方向の位置決めを生ぜしめ
る。
管内で噴射管に沿って被さるように突出した管状の突出
部102′を有しており、この突出部102′は、高周
波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供するた
めに、長さL対直径Dの十分に高い比を有する軸線方向
のボア104を有している。この実施例の場合には、取
付け部材と受け部材とは、管状の突出部が受け部材にル
ーズに嵌合するように、協働するように形成されている
と有利であり、これにより軸線方向調整のための場所を
提供する。低摩擦材料から形成された支持シリンダ15
6は、受け部材40内での突出部102′の回転を容易
にするために使用されていてよい。Oリング158は、
図1に示したOリング72,76,86,88と同じ機
能を有する。ねじ160はガスブロック70にねじ込ま
れる。ネブライザアセンブリ90は、図1に示したよう
にブラケット92,94を用いて保持されている。
波式の始動装置109が、リード線113を介して、ね
じによってガスブロックに取り付けられたばねクリップ
110に接続されている。取付けアセンブリの係合に基
づき、クリップが、導管の壁に埋め込まれた金属製の接
触子114に接触する。
グ、 16 振動回路、18 ガス管、 20 コイル
端部、 22 プラズマ放電、 24 試料噴射管、
26 端部、 28 中間管、 30 補助ガス、 3
2 取付けアセンブリ、 34 ハウジングアセンブ
リ、 36 壁、 38 軸線、 40受け部材、 4
2 スロット、 44 肩部、 46 接触素子、 4
8 第1のガスブロック、 49 保持手段、 50
中心開口、 52 ガス通路、54 ガスライン、 5
6 ガス源、 58 外部通路、 60 ガスライン、
62 ガス源、 64 取付け部材、 66 外側リ
ム、 68 帯材、 70 第2のガスブロック、 7
4,76 Oリング、 78 第1の内部通路、80
孔、 82 内部通路、 84 内端部、 86,88
Oリング、90 管、 92 定置部分、 93 試
料オリフィス、 94 取外し可能部分、 96 噴霧
室、 98 スリーブ、 102 突出部、 104
ボア、106 ピン、 108 スロット、 110
ばねクリップ、 112 ねじ、 113 リード線、
114 接触子、 122 ボア、 124 肩部、
126 ねじ頭、 128 ばね、 130 第2の
肩部、 132 軸線方向位置決め、 134 連結リ
ング、 136 フランジ、 137 孔、138 頭
無しピン、 140 フランジ、 142 スロット、
144 ボルト、 145 頭部、 148 スカー
ト、 150 縁部、 152 スロット、 153
開放部、 154 突起、 156 支持シリンダ、
158Oリング、 160 ねじ
Claims (46)
- 【請求項1】 誘導結合されたプラズマ発生器のための
取付け装置であって、 ハウジングアセンブリが設けられており、該ハウジング
アセンブリが、壁開口を備えたハウジング壁から形成さ
れたハウジングと、ハウジングに取り付けられていて、
壁開口を貫通して延びた軸線を有する負荷コイルと、ハ
ウジングの殆ど外側でハウジング壁に取り付けられてい
て壁開口と整合した中心開口を有する受け部材と、該受
け部材に取り付けられた環状の第1の電気的な接触素子
と、貫通した中心アパーチュアを備えた第1のガスブロ
ックと、中心アパーチュアを中心開口に整合させながら
第1のガスブロックをハウジング壁に取り付けるための
取付け手段とから成っており、前記第1のガスブロック
が、プラズマ形成ガスを受け取る、中心アパーチュアに
まで延びた外部通路を有しており、負荷コイルが、高周
波エネルギを受け取るようになっており、ハウジング壁
と、受け部材と、第1の接触素子とが、導電性でかつ互
いに電気的に接触しており、 取付けアセンブリが設けられており、該取付けアセンブ
リが、受け部材に嵌合するように形成された取付け部材
と、該取付け部材に取り付けられた環状の第2の電気的
な接触素子と、取付け部材に取り付けられていて中心ア
パーチュア内で第1のガスブロックに嵌合するように形
成された第2のガスブロックと、該第2のガスブロック
から延びるように該第2のガスブロックに取り付けられ
たガス管とから成っており、第2のガスブロックが、該
第2のガスブロックを貫通してガス管にまで延びた内部
通路を有しており、取付け部材と、第2の接触素子と
が、導電性でかつ相互に電気的に接触しており、 ハウジングアセンブリへの取付けアセンブリの取外し可
能な係合のための係合手段が設けられており、ハウジン
グアセンブリと取付けアセンブリとが、協働するように
構成されているので、係合時に、取付け部材が受け部材
に嵌合させられ、第2のガスブロックが第1のガスブロ
ックに嵌合させられ、第1の接点素子と、第2の接点素
子とが、電気的に接触し、ガス管が負荷コイルと同軸的
に延び、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内
に供給するように内部通路が外部通路を整合し、負荷コ
イルと、ガス管とが、高周波エネルギとのプラズマ形成
ガスの誘導結合によってプラズマを生ぜしめるように、
協働するように位置決めされるようになっていることを
特徴とする、誘導結合されたプラズマトーチのための取
付け装置。 - 【請求項2】 受け部材が、ハウジングから外方に面し
た環状のスロットを有しており、第1の接点素子が、前
記スロットに保持された1対の向き合ったフィンガリン
グから成っており、第2の接点素子が、接点帯材から成
っており、これにより、取付けアセンブリが係合させら
れながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられる
ように帯材が、フィンガリングの間に挿入されるように
なっている、請求項1記載の装置。 - 【請求項3】 受け部材と、取付け部材と、中心アパー
チュアと、第2のガスブロックとが、円筒状であり、前
記係合手段が、受け部材に取付け部材を回転させて係合
させるための手段から成っている、請求項1記載の装
置。 - 【請求項4】 前記取付けアセンブリが、さらに、ガス
管内へ同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り
付けられた試料噴射管を有しており、該試料噴射管が、
プラズマへの噴射のための試料材料を受け取るようにな
っている、請求項1記載の装置。 - 【請求項5】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管と
噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有してお
り、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間
管の外側を搬送されるようになっており、第1のガスブ
ロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにま
で延びた補助的な外部通路を有しており、第2のガスブ
ロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有して
おり、これにより、取付けアセンブリが係合されなが
ら、補助ガスを中間管内へ搬送するために補助的な内部
通路が補助的な外部通路と整合するようになっている、
請求項4記載の装置。 - 【請求項6】 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿っ
て突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、高
周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供する
ために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向の
ボアを有している、請求項4記載の装置。 - 【請求項7】 取付けアセンブリが、さらに、試料材料
をプラズマ内へ噴射するために噴射管が試料源から延び
たまま、試料材料の試料源を取付け部材に保持するため
の手段を有している、請求項4記載の装置。 - 【請求項8】 前記試料源が、ネブライザである、請求
項7記載の装置。 - 【請求項9】 受け部材が、ハウジングから外方に面し
た環状のスロットを有しており、第1の接触素子が、前
記スロットに保持された1対の向き合ったフィンガリン
グから成っており、第2の接触素子が、環状の帯材から
成っており、これにより、取付けアセンブリが係合させ
られながら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられ
るように帯材がフィンガリングの間に挿入されるように
なっており、 受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第2
のガスブロックとが円筒状であり、係合手段が、受け部
材に取付け部材を回転可能に係合させるための手段から
成っており、 取付けアセンブリが、さらに、ガス管内へ同軸的に延び
るように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射
管を有しており、該試料噴射管が、プラズマ内へ噴射す
るための試料材料を受け取るようになっており、 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状
の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のため
のカットオフを越えた導波管を提供するために長さ対直
径の十分に高い比を有する軸線方向ボアを有しており、 取付けアセンブリが、さらに、プラズマ内に試料材料を
噴射するためにネブライザから噴射管が延びながら、取
付け部材にネブライザを保持するための手段を有してい
る、請求項1記載の装置。 - 【請求項10】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有してお
り、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内で中間
管の外側を搬送されるようになっており、第1のガスブ
ロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにま
で延びた補助的な外部通路を有しており、第2のガスブ
ロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有して
おり、取付けアセンブリが係合させられながら、中間管
内に補助ガスを搬送するために、補助的な内部通路が補
助的な外部通路と整合するようになっている、請求項9
記載の装置。 - 【請求項11】 前記係合手段が、ハウジングアセンブ
リに対する取付けアセンブリの選択的な軸線方向の位置
決めのための位置決め手段と、ハウジングアセンブリに
対して定置の回転位置に取付けアセンブリを保持するた
めの、回転する保持手段とから成っており、第1の接触
手段と、第2の接触手段とが、軸線方向の位置に拘わら
ず電気的に接触したままであるように、協働するように
なっており、 前記取付け手段が、ハウジング壁に対する軸線方向の位
置決めの自由度を有しながら回転方向では定置の位置に
第1のガスブロックをハウジング壁に保持するための保
持手段と、内部通路が外部通路と整合したままであるよ
うに、軸線方向の位置に拘わらず第1のガスブロックを
第2のガスブロック上の当て付け位置にまで軸線方向に
押し付けるための押付け手段とから成っており、これに
より、前記位置決め手段が、負荷コイルに対するガス管
の軸線方向の位置決めを提供するようになっている、請
求項1記載の装置。 - 【請求項12】 受け部材が、ハウジングから外方に面
した環状のスロットを有しており、前記第1の接触素子
が、前記スロットに保持された1対の向き合ったフィン
ガリングから成っており、第2の接点素子が、接触する
帯材から成っており、これにより、取付けアセンブリが
係合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触
させられるように帯材がフィンガリングの間に挿入され
るようになっており、スロットと帯材とがそれぞれ、電
気的な接触状態に止まるために軸線方向に協働するよう
に延長している、請求項11記載の装置。 - 【請求項13】 受け部材と、取付け部材と、中心アパ
ーチュアと、第2のガスブロックとが、円筒状であり、
係合手段が、取付け手段に嵌合された連結リングと、相
対的な回転位置決めの自由度を有しながら取付け部材に
連結リングを保持するためのリテーナとから成ってお
り、位置決め手段が、選択的な軸線方向の位置決めのた
めに連結リングを受け部材と回転可能に係合させるため
の手段から成っている、請求項11記載の装置。 - 【請求項14】 取付けシリンダが、受け部材に沿って
外方へ半径方向に延びるための取付けフランジを有して
おり、連結リングが、取付けフランジに被せはめられて
おり、かつ受け部材に被さるように延びるためのスカー
トを有しており、 回転保持手段が、軸線に対して平行なハウジングから外
方へ開放した少なくとも1つの孔を有する受け部材と、
フランジに取り付けられた少なくとも1つのピンとから
成っており、各ピンが、対応する孔にスライド可能に挿
入されるようになっており、 位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付け
アセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部
材へのスカート斜めの回転する係合から成っている、請
求項13記載の装置。 - 【請求項15】 連結リングが、アーチ状に間隔を置い
て配置された複数の部分的に環状のスロットを有する半
径方向内向きのフランジを有しており、リテーナが、取
付けフランジに取り付けられた対応する複数のボルトか
ら成っており、各ボルトが、環状のスロットを貫通して
おり、また、相対的な回転する位置決めの自由度を有し
ながら、連結リングを取付け部材に同軸的に保持するた
めの頭部を有しており、 回転係合が、内縁部と、アーチ状に間隔を置いて配置さ
れかつ内縁部において開放した複数の斜めのスロットと
を有するスカートから成っており、リテーナが、それぞ
れが斜めのスロット内へ延びながら取付け部材に取り付
けられた対応する複数の突起から成っており、これによ
り、連結リングが、取外し可能な係合のために突起から
取外し可能であり、突起を備えた取付け部材上での連結
リングの回転が、軸線方向の位置決めを行うようになっ
ている、請求項14記載の装置。 - 【請求項16】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
内に同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付
けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、内端部
を有しており、該内側端部からプラズマ内への噴射のた
めに試料材料を受け取るようになっており、この場合、
位置決め手段が、さらに、プラズマに対する内端部の軸
線方向の位置決めを提供するようになっている、請求項
11記載の装置。 - 【請求項17】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有してお
り、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間
管の外側で搬送されるようになっており、第1のガスブ
ロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにま
で延びた補助的な外部通路を有しており、第2のガスブ
ロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有して
おり、これにより、取付けアセンブリが係合させられな
がら、補助ガスを中間管内に搬送するために補助的な内
部通路が補助的な外部通路と整合するようになってい
る、請求項16記載の装置。 - 【請求項18】 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿
って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、
高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供す
るために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向
のボアを有している、請求項17記載の装置。 - 【請求項19】 取付け部材と受け部材とが、管状の突
出部が受け部材にルーズに嵌合するために、協働するよ
うに形成されている、請求項18記載の装置。 - 【請求項20】 取付けアセンブリが、さらに、試料材
料をプラズマ内に噴射するために噴射管が試料源から延
びながら、試料材料の試料源を取付け部材に保持するた
めの手段を有している、請求項16記載の装置。 - 【請求項21】 試料源が、ネブライザである、請求項
20記載の装置。 - 【請求項22】 受け部材が、ハウジングから外方へ面
した環状のスロットを有しており、第1の接触素子が、
前記スロット内に保持された1対の向き合ったフィンガ
リングから成っており、第2の接触素子が、接触帯材か
ら成っており、これにより、取付け部材が係合させられ
ながら、前記帯材が、高周波遮蔽のために電気的に接触
させられるようにフィンガリングの間に挿入されるよう
になっており、スロットと帯材とがそれぞれ、電気的な
接触状態に止まるために軸線方向に、協働するように延
長しており、 受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第2
のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付
け部材に嵌合させられた連結リングと、相対的な回転す
る位置決めの自由度を有しながら、取付け部材に連結リ
ングを保持するためのリテーナとから成っており、位置
決め手段が、選択的な軸線方向の位置決めのために連結
リングを受け部材と係合させるための手段から成ってお
り、 取付けアセンブリが、さらに、ガス管内に同軸的に延び
るように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射
管を有しており、該噴射管が、内端部を有しており、該
内端部からプラズマへの噴射のために試料材料を受け取
るようになっており、位置決め手段が、さらに、プラズ
マに対する内端部の軸線方向の位置決めを提供するよう
になっており、 取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に
同軸的に配置された中間管を有しており、これにより、
プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間管の外側で搬送さ
れるようになっており、第1のガスブロックが、補助ガ
スを受け取る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な
外部通路を有しており、第2のガスブロックが、中間管
内に延びた補助的な内部通路を有しており、これによ
り、取付けアセンブリが係合させられながら、補助ガス
を中間管内に搬送するために補助的な内部通路が補助的
な外部通路と整合するようになっており、 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状
の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のため
のカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対
直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有してお
り、取付け部材と、受け部材とが、管状の突出部が受け
部材にルーズに嵌合するように、協働するように形成さ
れており、 取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内へ
噴射するように噴射管がネブライザから延びながら、ネ
ブライザを取付け部材に保持するための手段を有してい
る、請求項11記載の装置。 - 【請求項23】 取付けシリンダが、受け部材に沿って
半径方向外向きに延びるための取付けフランジを有して
おり、連結リングが、前記フランジに沿って嵌合させら
れ、また、受け部材に沿って延びるためのスカートを有
しており、 回転保持手段が、軸線に対して平行に設けられていてハ
ウジングから外方へ開放した少なくとも1つの孔を有す
る受け部材と、フランジに取り付けられた少なくとも1
つのピンとから成っており、各ピンが、対応する孔にス
ライド可能に挿入されており、 位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付け
アセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部
材へのスカートの斜めの回転する係合から成っており、 連結リングが、アーチ状に間隔を置いて配置された複数
の部分環状のスロットを有する半径方向内向きのフラン
ジを有しており、リテーナが、取付けフランジに取り付
けられた対応する複数のボルトから成っており、相対的
な回転による位置決めの自由度を有しながら、取付け部
材と同軸的に連結リングを保持するために、各突起が、
部分環状のスロットを貫通していてかつ頭部を有してお
り、 前記回転する係合が、内縁部と、アーチ状に間隔を置い
て配置されていて前記内縁部において開放した複数の斜
めのスロットとを有するスカートから成っており、リテ
ーナが、それぞれが1つのスロット内へ延びながら取付
け部材に取り付けられた対応する複数の突起から成って
おり、連結リングが、取外し可能な係合のために突起か
ら取外し可能であり、突起を用いた取付け部材上での取
付けリングの回転が、軸線方向での位置決めを行うよう
になっている、請求項22記載の装置。 - 【請求項24】 誘導結合されたプラズマ発生器のハウ
ジングアセンブリに取り付けるための取付けアセンブリ
であって、 ハウジングアセンブリが、壁開口を備えたハウジング壁
から形成されたハウジングと、ハウジングに取り付けら
れていて、壁開口を貫通して延びた軸線を有する負荷コ
イルと、ハウジングの殆ど外側でハウジング壁に取り付
けられていて、壁開口と整合した中心開口を有する受け
部材と、該受け部材に取り付けられた環状の第1の電気
的な接触素子と、貫通した中心アパーチュアを備えた第
1のガスブロックと、中心アパーチュアを中心開口に整
合させながら第1のガスブロックをハウジング壁に取り
付けるための取付け手段とを有しており、前記第1のガ
スブロックが、プラズマ形成ガスを受け取る、中心アパ
ーチュアにまで延びた外部通路を有しており、負荷コイ
ルが、高周波エネルギを受け取るようになっており、ハ
ウジング壁と、受け部材と、第1の接触素子とが、導電
性であり、互いに電気的に接触している形式のものにお
いて、 取付けアセンブリが、受け部材に嵌合するように形成さ
れた取付け部材と、該取付け部材に取り付けられた環状
の第2の電気的な接触素子と、取付け部材に取り付けら
れていて、中心アパーチュアにおいて第1のガスブロッ
クに嵌合するように形成された第2のガスブロックと、
第2のガスブロックから延びるように該第2のガスブロ
ックに取り付けられたガス管と、ハウジングアセンブリ
への取付けアセンブリの取外し可能な係合のための係合
手段とから成っており、第2のガスブロックが、該第2
のガスブロックを貫通してガス管内へ延びた内部通路を
有しており、取付け部材と、第2の接触素子とが、導電
性であり、互いに電気的に接触しており、 前記係合手段が、協働するように形成されたハウジング
アセンブリと取付けアセンブリとから成っており、係合
させられながら、取付け部材が受け部材に嵌合させら
れ、第2のガスブロックが、第1のガスブロックに嵌合
させられ、第1の接触素子と、第2の接触素子とが、電
気的に接触し、ガス管が、負荷コイルと同軸的に延びて
おり、プラズマ形成ガスを負荷コイルにまでガス管内で
搬送するために内部通路が外部通路と整合しており、高
周波エネルギとのプラズマ形成ガスの誘導結合によって
プラズマを生ぜしめるために、負荷コイルと、ガス管と
が、協働するように位置決めされていることを特徴とす
る、取付けアセンブリ。 - 【請求項25】 受け部材が、ハウジングから外方へ面
した環状のスロットを有しており、第1の接触素子が、
前記スロット内に保持された1対の向き合ったフィンガ
リングから成っており、第2の接触素子が、接触帯材か
ら成っており、取付けアセンブリが係合させられなが
ら、高周波遮蔽のために電気的に接触させられるよう
に、帯材がフィンガリングの間に挿入されるようになっ
ている、請求項24記載のアセンブリ。 - 【請求項26】 受け部材と、取付け部材と、中心アパ
ーチュアと、第2のガスブロックとが円筒状であり、係
合手段が、受け部材に取付け部材を回転係合させるため
の手段から成っている、請求項24記載のアセンブリ。 - 【請求項27】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
内を同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付
けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、プラズ
マ内に噴射するために試料材料を受け取るようになって
いる、請求項24記載のアセンブリ。 - 【請求項28】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有してお
り、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内で中間
管の外側を搬送されるようになっており、第1のガスブ
ロックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにま
で延びた補助的な外部通路を有しており、第2のガスブ
ロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有して
おり、これにより、取付け部材が係合させられながら、
補助ガスを中間管内へ搬送するために補助的な内部通路
が補助的な外部通路と整合するようになっている、請求
項27記載のアセンブリ。 - 【請求項29】 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿
って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、
高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供す
るために、長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向
のボアを有している、請求項27記載のアセンブリ。 - 【請求項30】 取付けアセンブリが、さらに、試料材
料をプラズマ内へ噴射するために噴射管が試料源から延
びながら、試料材料の試料源を取付け部材に保持するた
めの手段を有している、請求項27記載のアセンブリ。 - 【請求項31】 試料源が、ネブライザである、請求項
30記載のアセンブリ。 - 【請求項32】 受け部材が、ハウジングから外方に面
した環状のスロットを有しており、第1の接触素子が、
前記スロット内に保持された1対の向き合ったフィンガ
リングから成っており、第2の接触素子が、環状の帯材
から成っており、取付けアセンブリが係合させられなが
ら、帯材が、高周波遮蔽のために電気的に接触させられ
るようにフィンガリングの間に挿入されるようになって
おり、 受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第2
のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付
け部材を受け部材に回転係合させるための手段から成っ
ており、 取付けアセンブリが、さらに、ガス管内で同軸的に延び
るように取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴射
管を有しており、該噴射管が、プラズマ内へ噴射するた
めに試料材料を受け取るようになっており、 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した突出
部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のためのカッ
トオフを越えた導波管を提供するために、長さ対直径の
十分に高い比を有する軸線方向のボアを有しており、 取付けアセンブリが、さらに、試料材料をプラズマ内へ
噴射するために噴射管がネブライザから延びながら、取
付け部材にネブライザを保持するための手段を有してい
る、請求項24記載のアセンブリ。 - 【請求項33】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有してお
り、これにより、プラズマ形成ガスがガス管内を中間管
の外側で搬送されるようになっており、第1のガスブロ
ックが、補助ガスを受け取る、中心アパーチュアにまで
延びた補助的な外部通路を有しており、第2のガスブロ
ックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有してお
り、これにより、取付けアセンブリが係合させられなが
ら、補助ガスを中間管内へ搬送するために、補助的な内
部通路が補助的な外部通路と整合するようになってい
る、請求項32記載のアセンブリ。 - 【請求項34】 係合手段が、ハウジングアセンブリに
対する取付けアセンブリの選択的な軸線方向の位置決め
のための位置決め手段と、ハウジングアセンブリに対し
て回転方向で定置の位置に取付けアセンブリを保持する
ための回転保持手段とから成っており、第1の接触手段
と、第2の接触手段とが、軸線方向の位置に拘わらず電
気的に接触した状態に止まるように、協働するようにな
っており、 取付け手段が、ハウジング壁に対する軸線方向の位置決
めの自由度を有しながら、回転方向で定置の位置に第1
のガスブロックをハウジング壁に保持するための保持手
段と、内部通路が外部通路と整合したままであるように
軸線方向の位置に拘わらずに第1のガスブロックを第2
のガスブロック上の当て付け位置にまで押し付けるため
の押付け手段とから成っており、これにより、位置決め
手段が、負荷コイルに対するガス管の軸線方向の位置決
めを提供するようになっている、請求項24記載のアセ
ンブリ。 - 【請求項35】 受け部材が、ハウジングから外方へ面
した環状のスロットを有しており、第1の接触素子が、
前記スロットにおいて保持された1対の向き合ったフィ
ンガリングから成っており、第2の接触素子が、接触帯
材から成っており、これにより、取付けアセンブリが係
合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触さ
せられるように帯材がフィンガリングの間に挿入される
ようになっており、スロットと帯材とがそれぞれ、電気
的な接触状態に止まるように軸線方向で、協働するよう
に延長させられている、請求項34記載のアセンブリ。 - 【請求項36】 受け部材と、取付け部材と、中心アパ
ーチュアと、第2のガスブロックとが、円筒状であり、
係合手段が、取付け部材に取付けらっれた連結リング
と、相対的な回転位置決めの自由度を有しながら取付け
部材に連結リングを保持するためのリテーナとから成っ
ており、位置決め手段が、選択的な軸線方向の位置決め
のために受け部材に連結リングを回転可能に係合させる
ための手段から成っている、請求項34記載のアセンブ
リ。 - 【請求項37】 取付けシリンダが、受け部材に沿って
半径方向外向きに延びるための取付けフランジを有して
おり、この場合、連結リングが、前記フランジに沿って
取り付けらていて、かつ受け部材に沿って延びるための
スカートを有しており、 回転可能な保持手段が、軸線に対して平行に設けられて
いてハウジングから外方へ開放した少なくとも1つの孔
を有する受け部材と、それぞれが対応する孔にスライド
可能に挿入されるようにフランジに取り付けられた1つ
のピンとから成っており、 位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付け
アセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部
材へのスカートの斜めの回転可能な係合から成ってい
る、請求項36記載のアセンブリ。 - 【請求項38】 連結リングが、アーチ状に間隔を置い
て配置された、複数の部分環状のスロットを有する半径
方向内方に延びたフランジを有しており、リテーナが、
取付けフランジに取り付けられた対応する複数のボルト
から成っており、各ボルトが、環状のスロットを貫通し
て延びており、かつ、相対的な回転位置決めの自由度を
有しながら取付け部材と同軸的に連結リングを保持する
ために頭部を有しており、リテーナが、さらに、周方向
で取付け部材に取り付けられた、対応した複数のアーチ
状に間隔を置いて配置された突起を有しており、 回転係合が、内方に面した縁部と、アーチ状に間隔を置
いて配置されていて内方の縁部において開放した複数の
斜めのスロットとを有するスカートから成っており、前
記斜めのスロットが、係合のために突起を収容するよう
になっており、これにより、連結リングが、取外し可能
名係合のために突起から取外し可能であり、突起を用い
た取付け部材上での連結リングの回転が、軸線方向の位
置決めを生ぜしめるようになっている、請求項37記載
のアセンブリ。 - 【請求項39】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
内へ同軸的に延びるように取付け部材を貫通して取り付
けられた試料噴射管を有しており、該噴射管が、内端部
を有しており、かつ、該内端部からプラズマ内への噴射
のために試料材料を受け入れるようになっており、この
場合、位置決め手段が、さらに、プラズマに対する内端
部の軸線方向の位置決めを提供するようになっている、
請求項34記載のアセンブリ。 - 【請求項40】 取付けアセンブリが、さらに、ガス管
と噴射管との間に同軸的に配置された中間管を有してお
り、これにより、プラズマ形成ガスが、ガス管内を中間
管の外側で搬送されるようになっており、第1のガスブ
ロックが、補助ガスを受け入れる、中心アパーチュアに
まで延びた補助的な外部通路を有しており、第2のガス
ブロックが、中間管内に延びた補助的な内部通路を有し
ており、これにより、取付けアセンブリが係合させられ
ながら、補助ガスを中間管内に搬送するために補助的な
内部通路が補助的な外部通路と整合するようになってい
る、請求項39記載のアセンブリ。 - 【請求項41】 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿
って突出した管状の突出部を有しており、該突出部が、
高周波遮蔽のためのカットオフを越えた導波管を提供す
るために長さ対直径の十分に高い比を有する軸線方向の
ボアを有している、請求項40記載のアセンブリ。 - 【請求項42】 取付け部材と、受け部材とが、管状の
突出部を受け部材にルーズに嵌合させるために、協働す
るように形成されている、請求項41記載のアセンブ
リ。 - 【請求項43】 取付けアセンブリが、さらに、試料材
料をプラズマ内に噴射させるために、噴射管が試料源か
ら延びながら、試料材料の試料源を取付け部材に保持す
るための手段を有している、請求項39記載のアセンブ
リ。 - 【請求項44】 試料源が、ネブライザである、請求項
43記載のアセンブリ。 - 【請求項45】 受け部材が、ハウジングから外方に面
した環状のスロットを有しており、第1の接触素子が、
前記スロットにおいて保持された1対の向き合ったフィ
ンガリングから成っており、第2の接触素子が、接触帯
材から成っており、これにより、取付けアセンブリが係
合させられながら、高周波遮蔽のために電気的に接触さ
せられるように、前記帯材がフィンガリングの間に挿入
されるようになっており、スロットと帯材とのそれぞれ
が、電気的な接触状態に止まるように、軸線方向で、協
働するように延長させられており、 受け部材と、取付け部材と、中心アパーチュアと、第2
のガスブロックとが、円筒状であり、係合手段が、取付
け部材に取り付けられた連結リングと、相対的な回転位
置決めの自由度を有しながら取付け部材に連結リングを
保持するためのリテーナとから成っており、位置決め手
段が、選択的な軸線方向の位置決めのために、連結リン
グを受け部材と係合させるための手段から成っており、 取付けアセンブリが、さらに、ガス管内で同軸的に延び
るように、取付け部材を貫通して取り付けられた試料噴
射管を有しており、該噴射管が、内端部を有しており、
かつ、内端部からプラズマ内へ噴射するために、試料材
料を受け取るようになっており、この場合、位置決め手
段が、さらに、プラズマに対する内端部の軸線方向の位
置決めを提供するようになっており、 取付けアセンブリが、さらに、ガス管と噴射管との間に
配置された中間管を有しており、これにより、プラズマ
形成ガスがガス管内を中間管の外側で搬送されるように
なっており、第1のガスブロックが、補助ガスを受け取
る、中心アパーチュアにまで延びた補助的な外部通路を
有しており、第2のガスブロックが、中間管内に延びた
補助的な内部通路を有しており、これにより、取付けア
センブリが係合させられながら、補助ガスを中間管内に
搬送するために補助的な内部通路が補助的な外部通路と
整合するようになっており、 取付け部材が、ガス管内で噴射管に沿って突出した管状
の突出部を有しており、該突出部が、高周波遮蔽のため
のカットオフを越えた導波管を提供するために、長さ対
直径の十分に高い比を有する軸線方向のボアを有してお
り、取付け部材と、受け部材とが、管状の突出部が受け
部材にルーズに嵌合するために、協働するように形成さ
れており、 取付け部材が、さらに、試料材料をプラズマ内に噴射す
るために、噴射管がネブライザから延びながらネブライ
ザを取付け部材に保持するための手段を有している、請
求項34記載のアセンブリ。 - 【請求項46】 取付けシリンダが、受け部材に沿って
半径方向外方へ延びるための取付けフランジを有してお
り、この場合、連結リングが、前記フランジに沿って嵌
合させられておりかつ受け部材に沿って延びるためのス
カートを有しており、 回転保持手段が、軸線に対して平行に設けられた、ハウ
ジングから外方へ開放している少なくとも1つの孔を有
する受け部材と、それぞれが対応する孔にスライド可能
に挿入されるようにフランジに取り付けられた少なくと
も1つのピンとから成っており、 位置決め手段が、ハウジングアセンブリに対する取付け
アセンブリの軸線方向の位置決めを行うために、受け部
材へのスカートの斜めの回転係合から成っており、 連結リングが、アーチ状に間隔を置いて配置された複数
の部分環状のスロットを有する半径方向内向きに延びた
フランジを有しており、リテーナが、取付けフランジに
取り付けられた、対応する複数のボルトから成ってお
り、各ボルトが、部分環状のスロットを貫通して延びて
おり、かつ、相対的な回転による位置決めの自由度を有
しながら、連結リングを取付け部材と同軸的に保持する
ための頭部を有しており、リテーナが、さらに、取付け
部材に周方向に沿って取り付けられた、アーチ状に間隔
を置いて配置された、対応した複数の突起を有してお
り、 回転可能な係合は、内方に面した縁部と、アーチ状に間
隔を置いて配置されていて前記内縁部において開放した
複数の斜めのスロットとを有するスカートから成ってお
り、該斜めのスロットが、突起の係合のために突起を収
容するようになっており、これにより、連結リングが、
取外し可能な係合のために突起から取外し可能であり、
突起を用いた取付け部材上での連結リングの回転が、軸
線方向の位置決めを生ぜしめるようになっている、請求
項45記載のアセンブリ。
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