JPH035896Y2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH035896Y2 JPH035896Y2 JP1985046615U JP4661585U JPH035896Y2 JP H035896 Y2 JPH035896 Y2 JP H035896Y2 JP 1985046615 U JP1985046615 U JP 1985046615U JP 4661585 U JP4661585 U JP 4661585U JP H035896 Y2 JPH035896 Y2 JP H035896Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- carrier gas
- gas introduction
- tube
- introducing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 claims description 14
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 8
- 239000000112 cooling gas Substances 0.000 claims description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 7
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000003575 carbonaceous material Substances 0.000 claims 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 47
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005674 electromagnetic induction Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000006199 nebulizer Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
産業上の利用分野
本考案は、ICP（高周波プラズマ発光）分析装
置用の試料直接導入装置に関する。
置用の試料直接導入装置に関する。
従来の技術
高周波誘導プラズマを光源とする発光分光分析
装置においては、試料を溶液化し、ネブライザに
供給されるキヤリアガスによる試料溶液を霧化し
てチエンバに噴出させ、霧化した試料粒子をトー
チに導入し、高周波磁界の電磁誘導により発生す
るプラズマ炎によつて励起させ、その際に発光す
る光のスペクトルと強度から試料の定性、定量を
行なう。そして、トーチに導入し得ない比較的粒
子重量の重い試料粒子をチエンバに連接されたド
レン排出装置に導入し、排液する処理を行なつて
いる。
装置においては、試料を溶液化し、ネブライザに
供給されるキヤリアガスによる試料溶液を霧化し
てチエンバに噴出させ、霧化した試料粒子をトー
チに導入し、高周波磁界の電磁誘導により発生す
るプラズマ炎によつて励起させ、その際に発光す
る光のスペクトルと強度から試料の定性、定量を
行なう。そして、トーチに導入し得ない比較的粒
子重量の重い試料粒子をチエンバに連接されたド
レン排出装置に導入し、排液する処理を行なつて
いる。
考案が解決しようとする問題点
前記したように試料溶液化のための前記処理作
業を行なつており、特に粘性の高い液化試料、粉
体や固体試料などの溶液化の際には比較的長い時
間を必要とし、しかもこれを分析対象が変る毎に
しなければならず、煩らわしいものとなつてい
る。さらに、試料を溶液化するため、試料が希釈
化され、検出感度が低くなる点で問題となつてい
る。
業を行なつており、特に粘性の高い液化試料、粉
体や固体試料などの溶液化の際には比較的長い時
間を必要とし、しかもこれを分析対象が変る毎に
しなければならず、煩らわしいものとなつてい
る。さらに、試料を溶液化するため、試料が希釈
化され、検出感度が低くなる点で問題となつてい
る。
そこで、本考案は、前記した問題点を解決すべ
く、液体、粉体、固体試料のいずれかであつても
溶液化のための前記処理作業を必要とせず、しか
も検出感度の高いICP分析装置用の試料直接導入
装置を提供することを目的とする。
く、液体、粉体、固体試料のいずれかであつても
溶液化のための前記処理作業を必要とせず、しか
も検出感度の高いICP分析装置用の試料直接導入
装置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
本考案は、前記目的を達成するため、冷却ガス
導入用の第１の管と、プラズマガス導入用の第２
の管と、キヤリアガス導入用の第３の管とからな
るトーチと、先端に試料充填部を有するカーボン
製の試料容器と、前記試料容器が装着され、かつ
前記第３の管の所定位置に挿入された移動棒とか
らなるICP分析装置用の試料直接導入装置にあ
る。
導入用の第１の管と、プラズマガス導入用の第２
の管と、キヤリアガス導入用の第３の管とからな
るトーチと、先端に試料充填部を有するカーボン
製の試料容器と、前記試料容器が装着され、かつ
前記第３の管の所定位置に挿入された移動棒とか
らなるICP分析装置用の試料直接導入装置にあ
る。
作 用
試料充填部に試料を充填した試料容器を移動体
によりトーチのキヤリアガス導入用の第３の管の
所定位置迄挿入する。そして、プラズマ炎により
試料容器を加熱し、試料充填部の試料のすべてを
気化し、励起する。
によりトーチのキヤリアガス導入用の第３の管の
所定位置迄挿入する。そして、プラズマ炎により
試料容器を加熱し、試料充填部の試料のすべてを
気化し、励起する。
実施例
以下に本考案の実施例を、その断面を示す第１
図に基づいて説明する。
図に基づいて説明する。
同図において、Ｔはトーチで、冷却ガス導入用
の第１の管１と、プラズマガス導入用の第２の管
２と、キヤリアガス導入用の第３の管３とにより
構成されている。４は絶縁性を有しかつ耐熱性を
有するガラスにより構成されており、キヤリアガ
ス導入用の第３の管３に対し矢印方向に挿脱自在
の移動棒であつて、その頚部にはアダプタ５が装
着されている。６はその先端に試料充填部６ａが
設けられたカーボン製の試料容器であり、アダプ
タ５に着脱自在となつている。試料容器６をカー
ボン製とした理由は、カーボンが３，000℃乃至
６，000℃の温度に耐える耐熱性を有しまた不純
物を包含しないからである。７は、トーチＴの先
端部に設けられた高周波誘導コイルであり、８は
プラズマ炎である。
の第１の管１と、プラズマガス導入用の第２の管
２と、キヤリアガス導入用の第３の管３とにより
構成されている。４は絶縁性を有しかつ耐熱性を
有するガラスにより構成されており、キヤリアガ
ス導入用の第３の管３に対し矢印方向に挿脱自在
の移動棒であつて、その頚部にはアダプタ５が装
着されている。６はその先端に試料充填部６ａが
設けられたカーボン製の試料容器であり、アダプ
タ５に着脱自在となつている。試料容器６をカー
ボン製とした理由は、カーボンが３，000℃乃至
６，000℃の温度に耐える耐熱性を有しまた不純
物を包含しないからである。７は、トーチＴの先
端部に設けられた高周波誘導コイルであり、８は
プラズマ炎である。
次に、本実施例装置の作用を説明すると、移動
棒４をキヤリアガス導入用の第３の管３から取出
し、試料容器６の試料充填部６ａに液体、粉体又
は固定試料を充填した後に、キヤリアガス導入用
の第３の管３に図示の所定位置まで挿入する。次
いで、冷却ガス導入用の第１の管１と、プラズマ
ガス導入用の第２の管２と、キヤリアガス導入用
の第３の管３とを介して冷却ガス、プラズマガス
とキヤリアガスとを供給すると共に、高周波誘導
コイル７に高周波電流を加え、プラズマ炎８を発
生させる。これにより試料充填部６ａの試料は
３，000℃乃至６，000℃の温度で加熱され、試料
のすべてが気化されて励起される。このときの励
起光のスペクトル波長とその強度から試料の定
性、定量を行なう。
棒４をキヤリアガス導入用の第３の管３から取出
し、試料容器６の試料充填部６ａに液体、粉体又
は固定試料を充填した後に、キヤリアガス導入用
の第３の管３に図示の所定位置まで挿入する。次
いで、冷却ガス導入用の第１の管１と、プラズマ
ガス導入用の第２の管２と、キヤリアガス導入用
の第３の管３とを介して冷却ガス、プラズマガス
とキヤリアガスとを供給すると共に、高周波誘導
コイル７に高周波電流を加え、プラズマ炎８を発
生させる。これにより試料充填部６ａの試料は
３，000℃乃至６，000℃の温度で加熱され、試料
のすべてが気化されて励起される。このときの励
起光のスペクトル波長とその強度から試料の定
性、定量を行なう。
考案の効果
以上述べたように、本考案によれば、上端外周
部に高周波誘導コイルを具備する冷却ガス導入管
の内側に、プラズマガス導入管及びキヤリアガス
導入管の順にそれぞれ間隙を介して配設してなる
トーチを形成する一方、先端に試料充填部を具備
するカーボン製の試料容器を装着した試料移動棒
をキヤリアガス導入管に間隙を介して挿入可能に
構成し、その試料容器が高周波誘導コイルに達す
るように構成したので、トーチ自体が具備する高
周波誘導コイルにより発生されるプラズマ炎によ
り試料挿入棒先端の試料充填部内試料を気化する
ことができる。したがつて、試料充填部に液体、
固体、粉体試料を溶液化のための前処理作業を必
要とすることなく充填することができ、溶液化に
よる試料の希釈化がないので、試料量の少ない割
りに検出感度を高くすることができる。
部に高周波誘導コイルを具備する冷却ガス導入管
の内側に、プラズマガス導入管及びキヤリアガス
導入管の順にそれぞれ間隙を介して配設してなる
トーチを形成する一方、先端に試料充填部を具備
するカーボン製の試料容器を装着した試料移動棒
をキヤリアガス導入管に間隙を介して挿入可能に
構成し、その試料容器が高周波誘導コイルに達す
るように構成したので、トーチ自体が具備する高
周波誘導コイルにより発生されるプラズマ炎によ
り試料挿入棒先端の試料充填部内試料を気化する
ことができる。したがつて、試料充填部に液体、
固体、粉体試料を溶液化のための前処理作業を必
要とすることなく充填することができ、溶液化に
よる試料の希釈化がないので、試料量の少ない割
りに検出感度を高くすることができる。
また、トーチにより発生されるプラズマ炎自体
により試料を加熱気化するので、試料気化用の励
起電源を別個に設ける必要がなく、さらに、従来
装置のように試料のドレン排出装置を設ける必要
もないので、設備を簡単にすることができ、コス
トの低減を図ることができる。
により試料を加熱気化するので、試料気化用の励
起電源を別個に設ける必要がなく、さらに、従来
装置のように試料のドレン排出装置を設ける必要
もないので、設備を簡単にすることができ、コス
トの低減を図ることができる。
第１図は、本考案の実施例装置の断面図であ
る。 １は冷却ガス導入用の第１の管、２はプラズマ
ガス導入用の第２の管、３はキヤリアガス導入用
の第３の管、４は移動棒、５はアダプタ、６はカ
ーボン製の試料容器、６ａは試料充填部、７は高
周波誘導コイル、８はプラズマ炎、Ｔはトーチを
示す。
る。 １は冷却ガス導入用の第１の管、２はプラズマ
ガス導入用の第２の管、３はキヤリアガス導入用
の第３の管、４は移動棒、５はアダプタ、６はカ
ーボン製の試料容器、６ａは試料充填部、７は高
周波誘導コイル、８はプラズマ炎、Ｔはトーチを
示す。
Claims (1)
- 上端外周部に高周波誘導コイルを具備する冷却
ガス導入管の内側に、プラズマガス導入管及びキ
ヤリアガス導入管の順にそれぞれ間隙を介して配
設してなるトーチと、先端に試料充填部を具備す
るカーボン製の試料容器と、該試料容器が上記高
周波誘導コイルに達するように上記キヤリアガス
導入管に間隙を介して挿入される試料移動棒とを
有することを特徴とするICP分析装置用の試料直
接導入装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985046615U JPH035896Y2 (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985046615U JPH035896Y2 (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61161750U JPS61161750U (ja) | 1986-10-07 |
| JPH035896Y2 true JPH035896Y2 (ja) | 1991-02-14 |
Family
ID=30561179
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985046615U Expired JPH035896Y2 (ja) | 1985-03-29 | 1985-03-29 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH035896Y2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS531995U (ja) * | 1976-06-24 | 1978-01-10 | ||
| JPS604845A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-11 | Shimadzu Corp | フレ−ムレス原子化装置 |
-
1985
- 1985-03-29 JP JP1985046615U patent/JPH035896Y2/ja not_active Expired
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS531995U (ja) * | 1976-06-24 | 1978-01-10 | ||
| JPS604845A (ja) * | 1983-06-22 | 1985-01-11 | Shimadzu Corp | フレ−ムレス原子化装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61161750U (ja) | 1986-10-07 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Jin et al. | A microwave plasma torch assembly for atomic emission spectrometry | |
| Greenfield et al. | High-pressure plasmas as spectroscopic emission sources | |
| Okamoto | Annular-shaped microwave-induced nitrogen plasma at atmospheric pressure for emission spectrometry of solutions | |
| JP2008544454A (ja) | 増強装置及びその使用方法 | |
| Kleinmann et al. | High-frequency excitation of independently vaporized samples in emission spectrometry | |
| CN109187496B (zh) | 一种基于电热蒸发和尖端放电的原子发射光谱分析装置 | |
| JPH035896Y2 (ja) | ||
| CN107591310A (zh) | 一种石墨炉电热蒸发进样装置离子源及其等离子体质谱仪 | |
| US4727236A (en) | Combination induction plasma tube and current concentrator for introducing a sample into a plasma | |
| EP0510127B1 (en) | Method and apparatus for analytical sample preparation | |
| JP5207369B2 (ja) | 分析装置 | |
| KR19990063580A (ko) | 조정 가능한 분사기가 구비된 플라즈마 토오치와 이 토오치를사용하는 가스 분석기 | |
| US5760897A (en) | Process for atomising electrolytes and the chemical analysis thereof | |
| US3923398A (en) | Apparatus and method for flame atomization | |
| Duan et al. | Comparative studies of surfatron and microwave plasma torch sources for determination of mercury by atomic emission spectrometry | |
| US5731872A (en) | Plasma manipulator | |
| JPH0151939B2 (ja) | ||
| JP2823584B2 (ja) | 原子吸収分光計用電磁石 | |
| CN207233698U (zh) | 一种石墨炉电热蒸发进样装置离子源及其等离子体质谱仪 | |
| Goltz et al. | Inductively heated vaporizer for inductively coupled plasma mass spectrometry | |
| JPH03231141A (ja) | 分析試料の原子化方法 | |
| JPH06260134A (ja) | 加熱気化誘導結合プラズマ質量分析装置 | |
| McCaffrey et al. | Carbon furnace for sample introduction into a metastable nitrogen plasma | |
| Marshall et al. | Atomic spectrometry update—atomic emission spectrometry | |
| JP2003075408A (ja) | 固体試料の金属元素分析方法およびその分析装置 |