JP5207369B2 - 分析装置 - Google Patents
分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5207369B2 JP5207369B2 JP2008173199A JP2008173199A JP5207369B2 JP 5207369 B2 JP5207369 B2 JP 5207369B2 JP 2008173199 A JP2008173199 A JP 2008173199A JP 2008173199 A JP2008173199 A JP 2008173199A JP 5207369 B2 JP5207369 B2 JP 5207369B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- torch
- plasma
- tube
- light
- tip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Investigating, Analyzing Materials By Fluorescence Or Luminescence (AREA)
Description
また、上記の目的を達成するため、第2の発明は、外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、トーチ基底部を保持するためのトーチホルダーの、トーチ基底部との対面部分を光の反射材で被覆したことを特徴とする。
また、上記の目的を達成するため、第3の発明は、外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、トーチ基底部の外面若しくは内面の全部又は一部を光の吸収材で被覆したことを特徴とする。
また、上記の目的を達成するため、第5の発明は、外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、トーチ基底部は、外側から内側に向かって外側管、中間管及びインジェクター管の順で構成された三重管からなり、中間管の外面若しくは内面を光の反射材で被覆するとともに、インジェクター管の外面を光の吸収材で被覆したことを特徴とする。
プラズマがプラズマトーチからはみ出して存在する場合において、該プラズマトーチの外部に該プラズマを包囲するように反射筒25を設け、該反射筒の内面に反射材を施し、プラズマから放射される光をプラズマ中心部に反射させるものである。
図1(a)に示すタイプのトーチの実施例を示す。プラズマトーチは石英ガラス製で、外側管の外径は20mm、長さは91mmと、通常の誘導結合プラズマ発光法及び誘導結合プラズマ質量分析法で使用されているものと同じサイズとした。このトーチにおいてトーチ基底部のうち、インジェクターチューブのボールジョイント部、及び外側ガス接続管、並びに中間ガス接続管を除いた部分に金を膜厚約0.3μmで真空蒸着させた。さらに、この蒸着膜を保護するため、蒸着膜の上にカプトン(登録商標)膜を巻きつけた。真空蒸着された金薄膜がコイルに近づきすぎると誘導電流のため加熱されて劣化するため、金薄膜の先端はインジェクターチューブの先端とほぼ一致させた。なお、この蒸着膜によって、外側管の外側に設置したテスラーコイルを放電させて種電子を生成することができなくなるため、外側ガス接続管から放電線を外側管と中間管の間に設置し、種電子を生成する方式を採用した。もちろん、種電子の生成はこの方式以外のものも使用できる。なお、ここに記したトーチの寸法、材質、蒸着させる金属の種類、膜厚はこれらに限定されるものではない。
2 中間管
3 インジェクターチューブ
4 コイル
5 光反射材
6 光吸収材
7 プラズマ
8 分析試料
9 トーチホルダー
10 プラズマ中心部
11 インダクション領域
12 非導電性スリット
13 接地用導電材
14 先端部光反射材
15 基底部光反射材
16 非導電性スリット
17 外側ガス接続管
18 中間ガス接続管
19 トーチ先端部
20 トーチ基底部
21 下側ホルダー
22 上側ホルダー
23 蝶つがい
24 固定具
25 反射筒
Claims (5)
- 外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、前記トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、前記トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、
前記トーチ基底部の外面若しくは内面の全部又は一部を光の反射材で被覆したことを特徴とする分析装置。 - 外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、前記トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、前記トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、
前記トーチ基底部を保持するためのトーチホルダーの、前記トーチ基底部との対面部分を光の反射材で被覆したことを特徴とする分析装置。 - 外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、前記トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、前記トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、
前記トーチ基底部の外面若しくは内面の全部又は一部を光の吸収材で被覆したことを特徴とする分析装置。 - 外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、前記トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、前記トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、
前記トーチ基底部は、外側から内側に向かって前記外側管、中間管及びインジェクター管の順で構成された三重管からなり、
前記外側管の外面若しくは内面を光の反射材で被覆するとともに、前記インジェクター管の外面を光の吸収材で被覆したことを特徴とする分析装置。 - 外側管の外面にコイルが巻かれたトーチ先端部と、前記トーチ先端部内のプラズマに試料を導入するためのトーチ基底部とを備えるプラズマトーチの、前記トーチ先端部内のプラズマから発せられる光を用いて分析を行う分析装置において、
前記トーチ基底部は、外側から内側に向かって前記外側管、中間管及びインジェクター管の順で構成された三重管からなり、
前記中間管の外面若しくは内面を光の反射材で被覆するとともに、前記インジェクター管の外面を光の吸収材で被覆したことを特徴とする分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008173199A JP5207369B2 (ja) | 2008-07-02 | 2008-07-02 | 分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008173199A JP5207369B2 (ja) | 2008-07-02 | 2008-07-02 | 分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010014466A JP2010014466A (ja) | 2010-01-21 |
JP5207369B2 true JP5207369B2 (ja) | 2013-06-12 |
Family
ID=41700716
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008173199A Expired - Fee Related JP5207369B2 (ja) | 2008-07-02 | 2008-07-02 | 分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5207369B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012130825A (ja) * | 2010-12-20 | 2012-07-12 | Kagawa Univ | ナノ粒子の製造方法、ナノ粒子およびナノ粒子製造装置 |
KR101142040B1 (ko) | 2011-08-04 | 2012-05-14 | 가부시키가이샤 엘에스 노바 | 다중분리필터 및 이를 이용하여 제조되는 항산화수 |
JP6870340B2 (ja) * | 2017-01-23 | 2021-05-12 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 耐ガンマ線反射膜 |
JP6870341B2 (ja) * | 2017-01-23 | 2021-05-12 | 東洋製罐グループホールディングス株式会社 | 耐ガンマ線反射膜 |
JP7028486B2 (ja) * | 2018-11-16 | 2022-03-02 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | プラズマトーチ、プラズマ発生装置および分析装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0718798B2 (ja) * | 1984-02-27 | 1995-03-06 | 株式会社島津製作所 | 高周波誘導結合プラズマ発光分光分析装置 |
JPH0241564Y2 (ja) * | 1985-08-30 | 1990-11-06 | ||
JPH01150481A (ja) * | 1987-12-07 | 1989-06-13 | Denki Kogyo Co Ltd | プラズマトーチ |
-
2008
- 2008-07-02 JP JP2008173199A patent/JP5207369B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010014466A (ja) | 2010-01-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US8147647B2 (en) | Method and arrangement for cleaning optical surfaces in plasma-based radiation sources | |
JP5207369B2 (ja) | 分析装置 | |
Jankowski et al. | Microwave induced plasma analytical spectrometry | |
Meyer et al. | Dielectric barrier discharges in analytical chemistry | |
Okamoto | Annular-shaped microwave-induced nitrogen plasma at atmospheric pressure for emission spectrometry of solutions | |
CA2738053C (en) | Photoemission induced electron ionization | |
CN106304602A (zh) | 一种微波耦合等离子体谐振腔 | |
AU2011248185B2 (en) | Oxidation resistant induction devices | |
JP3521218B2 (ja) | 金属−絶縁性セラミック複合サンプラー及びスキマー | |
JP2008544454A (ja) | 増強装置及びその使用方法 | |
Iwai et al. | Fundamental properties of a touchable high‐power pulsed microplasma jet and its application as a desorption/ionization source for ambient mass spectrometry | |
EP4052279A1 (en) | Ion source | |
JP5581477B2 (ja) | プラズマを用いたサンプリング法およびサンプリング装置 | |
Struzzi et al. | Fluorination of vertically aligned carbon nanotubes: from CF4 plasma chemistry to surface functionalization | |
Matoušek et al. | Chemical vapour generation of silver: reduced palladium as permanent reaction modifier for enhanced performance | |
US20170135190A1 (en) | Capacitively coupled devices and oscillators | |
Iwai et al. | Development of the atmospheric plasma soft-ablation method (APSA) for elemental analysis of materials on heat-sensitive substrates | |
Stephens | Applications of the zeeman effect to analytical atomic spectroscopy—IV: Capacitively-coupled radiofrequency spectral sources | |
JP2008130430A (ja) | 高周波イオン源 | |
US10039177B2 (en) | Source hollow body and EUV plasma light source comprising such a source hollow body | |
JPH07220690A (ja) | 誘電体バリア放電ランプ | |
US8742332B2 (en) | Mass spectrometer and mass spectrometry method | |
JP7408097B2 (ja) | 放電イオン化検出器およびガスクロマトグラフ分析装置 | |
Okamoto et al. | High-power microwave-induced helium plasma at atmospheric pressure for trace element analysis | |
US20200292496A1 (en) | Photoionization detector ultraviolet lamp |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20100304 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20120214 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120403 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120525 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20121204 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130117 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20130212 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20130214 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160301 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |