JPH11201869A - エキシマレーザとその検査装置及びその検査方法 - Google Patents
エキシマレーザとその検査装置及びその検査方法Info
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- JPH11201869A JPH11201869A JP1327198A JP1327198A JPH11201869A JP H11201869 A JPH11201869 A JP H11201869A JP 1327198 A JP1327198 A JP 1327198A JP 1327198 A JP1327198 A JP 1327198A JP H11201869 A JPH11201869 A JP H11201869A
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Abstract
正確に検査するための検査装置を提供する。 【解決手段】 エキシマレーザ16の光品位を検査する
ために、エキシマレーザ16の筐体17内に検査装置1
8を設置するための空間30及び検査装置18の位置決
め手段49を設け、検査装置18を各検査項目を検査す
るための着脱自在な検査ユニット及びレーザ光3を各検
査ユニットに導くためのビーム切り出しユニット44か
ら構成し、これを前記空間30に挿入して検査を行な
う。
Description
の波長及びビーム特性等の光品位を短時間で測定でき
る、エキシマレーザとその検査装置及び検査方法に関す
る。
露光装置(以下ステッパと言う)の光源として、エキシ
マレーザの実用化が進められている。これは、エキシマ
レーザの波長が短いことから、加工の際にレンズなどの
光学素子によって微細なパターンを解像できるので、よ
り精密な加工が可能であることによる。
振する光は、その波長のスペクトル幅である線幅がステ
ッパ用としては広く、しかも中心波長が変動しているの
で、そのままではレンズなどの光学素子を透過する際に
色収差や焦点ボケが生じて露光ミスの原因となる。その
ため、エキシマレーザの共振器内にグレーティングやエ
タロンなどの波長選択素子を搭載して、前記線幅を狭く
し、かつ前記中心波長を安定化する狭帯域化という技術
が知られている。
を説明する。図10は本願の出願人が特開平1−440
80号公報に開示したエキシマレーザ16の一例であ
る。同図において、レーザガスはチャンバ1の内部にお
いて放電によって励起され、レーザ光3が発振する。レ
ーザ光3は後部ウィンドウ5から出射し、第1エタロン
7及び第2エタロン8を通過する間に選択された波長だ
けを発振させることで前記狭帯域化を行なう。
じ光路を逆向きに通過し、再び第1エタロン7及び第2
エタロン8を通過して波長選択され、チャンバ1内に戻
って増幅され、前部ウィンドウ11を透過し、その一部
がフロントミラー12を透過して図中右方向へ出射す
る。これらの構成が筐体17の内部に設置されている。
第1エタロン7、第2エタロン8及びリアミラー10を
総称して、狭帯域化ユニット19と呼ぶ。なお、この狭
帯域化ユニット19は、グレーティング又はプリズム又
はエタロンの組み合わせ等で構成される場合もある。
22と接続した際の構成を示す。エキシマレーザ16か
ら出射したレーザ光3は、レーザ光3が外に漏れないよ
うに半密閉された外部ダクト20の内部を通り、光軸調
整用のミラー24で光軸を調整されてステッパ22に入
射し、この内部で半導体ウェハを露光するための光源と
なる。
せるためには、前記線幅と中心波長(以下、これらを波
長特性と言う)の他にも、レーザのパルス発振ごとのエ
ネルギーを示すパルスエネルギー、レーザビームの断面
形状及び位置を示すビームプロファイル、ビームの発散
角及び進行方向を示すビームダイバージェンス、及びレ
ーザ光3がパルス発振する時間の幅を示すパルスデュレ
ーションなどを所定の値にしなければならない。しかし
ながら、すべての項目に関して常時監視を行なうとなる
と、検査装置をエキシマレーザ16に幾つも設けなけれ
ばならず、エキシマレーザ16が複雑で高価な構成にな
る。
パルスエネルギーや波長特性など一部の項目(以下監視
項目と言う)に関しては筐体17の内部に常設のモニタ
ー部14を設け、レーザ光3の一部をビームスプリッタ
2で分割してこのモニター部14に入射し、これら監視
項目を常にモニターしている。同図において、狭帯域化
ユニット19、エキシマレーザ16に電圧を供給するレ
ーザ電源15、モニター部14は例えばパソコン等で構
成されるレーザコントローラ23に接続されており、エ
キシマレーザ16はこのレーザコントローラ23からの
指令によって制御され、レーザ発振を行なう。
ては、図13に示すように定期点検や修理などのメンテ
ナンスの際や、ステッパ22の露光に異常が起きた際な
どに、検査装置18を筐体17の外部に取りつけて前記
検査項目に関する検査を行なっている。チャンバ1の交
換や光学部品の清掃などのメンテナンスの終了後、外部
ダクト20の一部を取り外し、そこに検査装置18を挿
入する。
化等によって内蔵された測定器の特性が変化したりする
ことがあり、従って定期的に較正確認が必要である。前
記パルスエネルギーを測定する場合を例にとって、その
手順を図14に示す。まず図13における検査装置18
の位置に、パルスエネルギーを測定するためのカロリー
メータを設置してパルスエネルギーEを測定し(ステッ
プS2)、モニター部14から出力される電圧Vを測定
し(ステップS4)、電圧VからパルスエネルギーEを
求めるための換算係数Gを、数1に従って計算で求める
(ステップS6)。
し(ステップS8)。較正を終了する(ステップS
9)。
ビームのプロファイルを検査するビームプロファイラ4
1を示す。図中左方から入射したレーザ光3はミラー1
3又はビームスプリッタ34で図中下向きに反射され、
転写レンズ25で例えばCCD等からなる2次元の検出
器アレイ26に投影されてビームの断面形状及びその位
置を測定され、これがステッパ22の光源として好適か
どうかを検査される。
として前記波長特性を検査する波長検出器36を示す。
レーザ光3は、ミラー13又はビームスプリッタ34で
図中下向きに反射され、拡散板59を介して分光用のエ
タロン28に入射する。エタロン28を透過した光は集
光レンズ25で集光され、この集光レンズ25の集光面
に、その波長に応じた干渉縞38が形成される。例えば
MOS型素子のアレイからなるラインセンサ27を前記
集光レンズ25の焦点面に配置して、その強度分布を測
定することによって、レーザ光3の前記波長特性を測定
することができる。このとき、波長の基準である水銀ラ
ンプの光により発生する干渉縞38と、レーザ光3によ
り発生する干渉縞38とを比較し、絶対波長の測定を行
なうこともある。
マレーザ16とステッパ22との間に挿入して検査を行
なっており、一つの検査が終了した後、次の検査装置1
8を挿入するようにしている。そして、すべての検査が
終了した後、外部ダクト20を取りつけて光軸をミラー
24で調整し、露光に好適な光がステッパ22に導かれ
るようにしている。
エキシマレーザの検査装置には、次に示すような問題点
がある。
レーザ16とステッパ22との間の外部ダクト20を取
り外さなければならず、この際に作業者がエキシマレー
ザ16やミラー24を動かしてしまい、光軸が大きくず
れることがあり、この再調整に長時間を要する。
に対して精密に位置決めしなければならず、この位置決
めに長時間を要する。さらに、検査項目ごとに異なる検
査装置を設置しなければならず、この設置に長時間を要
する。
1の交換や光学部品の交換を行なうため、エキシマレー
ザ16の光軸がステッパ22に対してずれる。このた
め、外部ダクト20内にミラー24等を設け、メンテナ
ンス終了後にステッパ22にレーザ光3を導き、光軸が
メンテナンス前と同じになるように調整しているが、こ
の調整にはステッパ22の内部に導かれたレーザ光3を
別の手段で観察しながら行なわなければならず、作業に
熟練を要し、長時間が必要である。
レーザ16の状態や性能が変化するが、メンテナンスの
前後でこれらのデータを比較していないため、メンテナ
ンスの効果が不明である。
期的に較正が必要であり、従来はこの作業を図14で説
明したように手動で行なっていたため、これに長時間を
要している。
ッタ34で、レーザ光3を検査装置18に導いている。
ミラー13を使用している場合はレーザ光3はこれを透
過せず、ステッパ22にレーザ光3を導くことはできな
い。また、ビームスプリッタ34を使用している場合は
これを透過する際にレーザ光3の光軸がずれ、ステッパ
22にレーザ光3を導くためには光軸の再調整が必要と
なり、多大な時間を要する。すなわち、ステッパ22に
レーザ光3を導いて稼働させながら検査を行なうことが
困難であり、露光の結果と検査の結果とを対比させるの
が困難である。
たものであり、短い所要時間で、しかも熟練を必要とせ
ず、エキシマレーザ装置の性能を多数の項目において検
査できるエキシマレーザとその検査装置及び検査方法を
提供することを目的としている。
的を達成するために、請求項1に記載の発明は、発振す
るレーザ光3の光品位が検査されるエキシマレーザ16
において、前記エキシマレーザ16の筐体17内に、エ
キシマレーザ16の性能を検査する検査装置18、又は
エキシマレーザ16のビームを前記検査装置18に導く
ためのビーム切り出しユニット44を挿入する空間30
を設けている。
内に検査装置挿入用の空間を設けたことで、前記エキシ
マレーザとこれを使用する外部装置(例えばステッパ)
との間に設けられ、かつビームを伝送するための外部ダ
クトを取り外すことなく検査が行なえる。これにより、
外部ダクト取り外しの際に起こり得る光軸ずれの問題が
起こらないので、検査が容易に行なえるとともに検査に
要する時間が短縮できる。
記載のエキシマレーザ16において、前記検査装置1
8、又は前記ビーム切り出しユニット44を着脱自在と
し、かつ装着時にエキシマレーザ16に対して位置決め
する位置決め手段49を備えている。
レーザに対して検査装置又はビーム切り出しユニットを
着脱容易に取りつけられ、かつ位置決め容易な位置決め
手段を備えているので、これらのユニットを検査装置に
挿入する際の取りつけ及び位置決めに長時間を要するこ
とがなく、検査を常に一定の位置で行なえるので、デー
タの比較が容易である。また、位置決めの繰り返し精度
を向上させることができるので光路のずれなどによる測
定ミスがなく、高い検査精度を得ることができる。
レーザ16から発振するレーザ光3の光品位を検査する
エキシマレーザの検査装置18において、個々の検査項
目を測定する少なくとも1台の検査ユニット36,4
1,51,52と、レーザ光3の光軸上に配置されてレ
ーザ光3を前記検査ユニット36,41,51,52に
導くためのビーム切り出しユニット44とを任意に組み
合わせ可能としている。
をビーム切り出しユニットと個々の検査項目を測定する
検査ユニットとを組み合わせ可能な構成としているの
で、この検査ユニットを目的とする検査項目に適合する
検査ユニットに交換することによって複数の検査項目を
まとめて測定でき、検査装置の交換に要する時間を短縮
できる。また、複数の検査ユニットで同時に検査を行な
えるので、検査時間を短縮できる。
に記載のエキシマレーザの検査装置18において、前記
検査ユニットが、少なくとも、ビームの断面形状と位置
を測定するビームプロファイラ41、ビームの発散角と
進行方向とを測定するビームダイバージェンス測定装置
51、レーザ光3の中心波長と線幅からなる波長特性を
測定する波長検出器36、レーザ光3のパルス発振する
際の時間幅を測定するパルスデュレーション測定装置、
又はレーザ光3のパルスエネルギーを測定するパルスエ
ネルギー測定装置52のいずれか一つである。
計測装置の少なくともいずれか一つを設置することによ
って、例えばステッパの露光などの加工に必要なレーザ
光の一つの特性を知ることができ、検査結果に異常があ
ればその対策を行なうことによって光源として好適なレ
ーザ装置を得ることができる。
に記載のエキシマレーザの検査装置18において、前記
ビーム切り出しユニット44が、同じ厚みで同じ材質の
2個のビームスプリッタを少なくとも1組以上備え、前
記2個のビームスプリッタは、それぞれの法線が同一平
面上で交わり、かつ前記レーザ光3が各ビームスプリッ
タに入射する入射角が略等しくなるように配置されてい
る。
じビームスプリッタを互いに法線が同一平面上で交わ
り、かつ入射角が等しくなるように八の字に組み合わせ
ることによって、レーザ光の光路の変化をキャンセルす
ることができる。これを組み合わせてビーム切り出しユ
ニットを構成しているので、光軸を変化させることなく
例えばステッパなどの相手装置に光を入射させながら検
査を行なえる。これにより、例えばステッパの露光結果
と検査結果を密接に対比させることができ、露光の問題
などが起きたときに原因を究明するのが容易である。
に記載のエキシマレーザの検査装置18において、前記
検査装置18の内部を清浄な不活性ガスでパージするパ
ージ手段50を備えている。
段により清浄な不活性ガスで、検査装置内部をパージし
ている。これによって、レーザ光との反応で光学部品か
ら発生する有機物を検査装置内部から追い出すことがで
きるので、この有機物がレーザ光と反応して光学部品を
破損するという現象が起きるのを防ぎ、光学部品の寿命
を延ばすことができる。なお、パージ手段としては例え
ば窒素などの不活性ガスを供給する配管と、この不活性
ガスを排出する小孔から構成することができる。
レーザ16から発振するレーザ光3の光品位を検査する
エキシマレーザの検査方法において、エキシマレーザ1
6にあらかじめ設けられた空間30に、検査装置18を
メンテナンス前に設置し、メンテナンスの前後でレーザ
光3の各光品位の検査を行なってこの検査結果を比較
し、検査後のエキシマレーザ16の良否を判断するよう
にしている。
ンスの前後で検査結果を比較している。これにより、メ
ンテナンスの効果が把握できるとともに、メンテナンス
の効果がなかった場合やメンテナンスによってレーザの
性能が却って劣化した場合などに、即座に再度メンテナ
ンスを行なうことができるので、早い段階で再調整が可
能となり、やり直し作業の短縮化によりトータルのメン
テナンス時間を短縮できる。
レーザ16から発振するレーザ光3の光品位を検査する
検査方法において、検査時に設置される検査装置18か
ら得た検査データと、エキシマレーザ16の内部に常設
されたモニター部14から得たデータを比較し、前記検
査データに基づいて、前記モニター部14を自動的に較
正するようにしている。
設されたモニター部と検査時に設置される検査装置とを
通信ライン等で接続することによって両者から得られた
データを自動的に比較することが可能となり、モニター
部から得られたデータを検査データに換算するための換
算係数を自動的に較正することができる。これによっ
て、従来手動でモニター部の較正に要していた時間より
も、短時間で容易に較正を行なえる。
に係わる実施形態を詳細に説明する。なお、図において
同一の符号を付したものは、従来例と同一の構成を表す
ものとし、説明を省略する。
説明する。図1は、本実施形態に係わるエキシマレーザ
16の構成図である。同図において、常設のモニター部
14は固定台31の上に固定され、このモニター部14
と筐体17の壁の間には、検査装置18挿入用に点線で
囲まれた空間30が設けられている。この空間30に
は、通常のレーザ発振時には内部ダクト33が設置され
ており、レーザ光3が外部に漏れないようにカバーして
いる。このとき、外側にある筐体17が光漏れを防ぐカ
バーの役割を果たしているので、内部ダクト33の構造
や取りつけは外部ダクト20に比べて簡単なものでよ
い。
16の構成図を示す。メンテナンス時に内部ダクト33
を取り外し、その空間30に検査装置18を挿入し、検
査を行なう。内部ダクト33は、外部ダクト20のよう
にその内部に光軸調整用のミラー24を備えていないの
で、これを外しても光軸がずれることはない。
に位置決めされており、この位置決めの一例を、図3に
レーザの平面図で示す。前記固定台31の上には、ガイ
ドレール37が設置されており、検査装置18は、この
ガイドレール37に沿って移動自在な例えばローラや褶
動部材からなる移動手段(図示せず)を備えており、こ
の移動手段により図中下側からこのガイドレール37に
沿って移動してストッパ32によって位置決めされ、固
定ブロック29で固定される。これらのストッパ32、
固定ブロック29、ガイドレール37及び前記移動手段
等により、位置決め手段49を構成している。
ザの平面図で示す。固定台31の上には、位置決めピン
39,40が設置されている。まず、位置決めピン40
を検査装置18及び固定台31に設けられた位置決め孔
に嵌め、その回転方向の位置を位置決めピン39によっ
て位置決めし、これをボルト42によって固定する。
の一例を図5に示す。同図において検査装置18は、第
1のビームスプリッタ34及び第2のビームスプリッタ
35で構成されるビーム切り出しユニット44と、ビー
ムの前記プロファイルを測定するビームプロファイラ4
1及びレーザ光3の前記波長特性を測定する波長検出器
36の各検査ユニットとから構成されている。
3は、その一部を第1のビームスプリッタ34で例えば
図中下方に反射され、前記ビームプロファイラ41に入
射する。ここでレーザ光3は、ビームの断面形状及びそ
の位置を測定され、これがステッパ22の光源として好
適かどうかを検査される。
したレーザ光3は、その一部を第2のビームスプリッタ
35で例えば図中上方に反射され、前記波長検出器36
に入射する。ここでレーザ光3は、前記波長特性を測定
され、これがステッパ22の光源として好適かどうかを
検査される。
成された検査コントローラ21に接続され、この検査コ
ントローラ21からの指令に応じて計測をおこなってい
る。この検査コントローラ21は、各検査ユニットから
検査データを収集し、記録することも行なう。また、こ
の検査コントローラ21はレーザコントローラ23にも
接続されており、レーザコントローラ23からの指令に
従って検査を実行する。
ット44に対して図中点線の位置で着脱可能かつ位置決
め容易となっており、この着脱及び位置決め方法の一例
について図6、図7に基づいて説明する。図6におい
て、ビーム切り出しユニット44には開口部53及びネ
ジを切ったネジ穴4が設けてある。各検査ユニット(図
では例えばビームプロファイラ41)にも穴6が設けて
あり、この穴6からボルトでビーム切り出しユニット4
4に固定するようにしている。各検査ユニットには開口
部57が設けてあり、レーザ光3はこの開口部57を通
過して各検査ユニットの内部に入射する。図7に、検査
ユニットの詳細図を示す。検査ユニットのビーム切り出
しユニット44と接する面9には前記開口部53の形状
に合わせた突起部54が設けられており、突起部54を
開口部53の内側に嵌挿させることによって、検査ユニ
ットの位置決めを容易に行なうことができる。
て、第1のビームスプリッタ34と第2のビームスプリ
ッタ35とを同じ厚みで同じ材質とし、それぞれの法線
が同一平面上で交わり、かつ前記レーザ光3が各ビーム
スプリッタに入射する入射角が略等しくなるように八の
字に配置することが好ましい。これにより、これらのビ
ームスプリッタ34,35に入射するレーザ光3の入射
角が同じで向きが反対となるので、ビームスプリッタ3
4,35を透過したことによる光路の変化をキャンセル
することができ、レーザ光3の光軸が検査装置18を通
過する前と後で変わらないようにできる。
8にフローチャートで示す。まず、内部ダクト33を外
し、筐体17内の空間30に検査装置18を挿入する
(ステップS12)。次に、メンテナンス前の状態でレ
ーザ発振を行ない(ステップS14)、その検査デー
タ、例えば前記波長特性及び前記ビームプロファイルを
検査コントローラ21で収集し、記録する(ステップS
16)。その後レーザのメンテナンスを行ない(ステッ
プS18)、メンテナンス終了時点でレーザの発振を行
ない(ステップS20)、メンテナンス後の検査データ
を検査コントローラ21で収集し(ステップS22)、
これをメンテナンス前の検査データと比較して、前記波
長特性や前記ビームプロファイルの変動などがないかを
チェックする(ステップS28)。このとき比較の結果
がNGならば、ステップS18に戻ってメンテナンスの
一部を再度やり直す。ステップS28で比較の結果がO
Kなら、検査を終了する(ステップS30)。
れたモニター部14では、検査装置18による検査と同
時に、前記監視項目の計測を行なうことができる。これ
らのデータを監視データと言うが、レーザコントローラ
23と検査コントローラ21とを接続することによっ
て、前記監視データと検査装置18で測定した検査デー
タとをレーザコントローラ23で比較することができ
る。これにより、前記図14のフローチャートで示した
モニター部14の較正手順を自動化することができる。
しユニット44のみが入るような大きさにして、ミラー
などを使ってレーザ光3を筐体17の外部に設置された
検査装置18に導くようにしてもよい。
7の壁の間に設けたが、これをモニター部14とフロン
トミラー12の間に設けてもよい。
たようにレーザ光3のビームの発散角と進行方向とを測
定するビームダイバージェンス測定装置、ビームのパル
スエネルギーを測定するパルスエネルギー測定装置、レ
ーザ光3の前記パルスデュレーションを測定するパルス
デュレーション測定装置などがあり、これらを順次設置
して検査を行なうようにする。
内に空間30を設けており、ここに検査装置18を設置
するので、検査装置18を設置する際に内部ダクト33
を外すだけで検査装置18の挿入が可能である。この内
部ダクト33は前述の理由により外部ダクト20に比べ
て構造が簡単で、着脱が容易である。しかも、内部に光
軸合わせ用のミラー24を備えていないため、これを着
脱することによって光軸が狂うという可能性がなく、光
軸合わせの必要がない。
してビームダイバージェンス測定装置51を設置するこ
とによって、レーザ光3の進行方向及び発散角を常に測
定し、光軸がずれないように監視及び調整を行ないなが
ら、メンテナンスや他の検査項目の測定を行なえる。ま
た、光軸がずれてもステッパ22にレーザ光3を導くこ
となく、エキシマレーザ16の光学部品を調整してレー
ザ単体で光軸を合わせることができるので、メンテナン
ス後に外部ダクト20の内部にあるミラー24を動かし
て光軸を調整する必要がなく、メンテナンスに要する時
間を短縮することができる。
をそれぞれ着脱可能で、かつ位置決めが容易な検査ユニ
ットから構成して、各ユニット単位でこれを交換するよ
うにしているので、検査装置18全体を交換するのに比
べれば、交換に要する時間を短縮することができる。
18はエキシマレーザ16に対する位置決め手段49を
備えており、従来は長時間を必要としたレーザ光3に対
する検査装置18の位置決めを短時間で行なえるように
なる。また、位置決め手段49によって検査装置18を
レーザ光3の光軸に対して精密に、かつ繰り返し精度よ
く位置決め可能であり、検査の精度を向上させることが
できる。
て、一対のビームスプリッタ34,35を前記八の字に
配置することによって、これらを透過したことによる光
路の変化をキャンセルすることができる。これにより、
検査装置18を設置した状態でステッパ22にレーザ光
3を導き、ステッパ22を稼働させながら検査を行なう
ことができるので、露光に不具合が生じたときなどの原
因の究明が容易である。
タを比較するようにしているので、メンテナンスの効果
が正確に把握でき、メンテナンスによってレーザの性能
が劣化するような場合も再度メンテナンスを行なうこと
で、容易にレーザの性能を回復させることができる。
たモニター部14と、検査装置18とを接続しており、
両者から得たデータを比較してモニター部14から得た
データを検査データに換算するための換算係数Gを自動
で較正できるので、これまで手動で行なっていた較正の
ための時間を短縮できる。
明する。同図において、検査装置18は、前記波長検出
器36、前記ビームプロファイラ41、前記ビームダイ
バージェンス測定装置51及び前記パルスエネルギー測
定装置52の各検査ユニットを組み合わせたものであ
る。
第1のビームスプリッタ34で図中上向きに反射され、
レーザのパルス発振ごとのエネルギーを測定するパルス
エネルギー測定装置52に入射する。このパルスエネル
ギー測定装置52にはカロリーメータ45が備えられて
おり、その測定値と第1のビームスプリッタ34の反射
率から、ビームのエネルギーを演算することができる。
或いは、パルスエネルギーの測定を正確にするため、図
中点線の位置に一時的にミラー55を設置して、レーザ
光3をすべてカロリーメータ45に入射させ、そのパル
スエネルギーを測定してもよい。
ーザ光3の一部は、第2のビームスプリッタ35で図中
下向きに反射され、ビームの進行方向と発散角とを測定
するビームダイバージェンス測定装置51に入射する。
ビームダイバージェンス測定装置51は、例えばCCD
等からなる2次元の検出器アレイ48と集光レンズ56
とからなり、入射したレーザ光3を集光レンズ56で検
出器アレイ48に集光し、その焦点の大きさと場所とを
検出することでビームの進行方向と発散角とを測定する
ことができる。これがメンテナンスの前後で変化してい
ないかどうかを知ることによって、ステッパ22に入射
するレーザ光3のビームの進行方向と発散角とが正しい
状態にあるかどうかを検査することができる。
過したレーザ光3の一部は、第3のビームスプリッタ4
6で反射して前記ビームプロファイラ41に入射し、こ
こでビームの断面形状及びその位置を測定される。ま
た、第3のビームスプリッタ46を透過したレーザ光3
の一部は、第4のビームスプリッタ47で反射して前記
波長検出器36に入射し、ここでその波長特性を測定さ
れる。もちろん、さらに前記ビームデュレーション測定
装置など、他の検査ユニットを接続することも可能であ
る。
パージ手段50として窒素配管43及び小孔58が備え
られている。この窒素配管43からは窒素気体が連続的
に供給され、小孔58から排出されるようになってお
り、検査装置18の内部を常に清浄な雰囲気に保つこと
ができる。これは、検査装置18内部のエタロン28な
どの光学部品や筐体内壁に、紫外線光であるレーザ光3
にさらされてゴミ等の有機物が発生し、この有機物が紫
外線光と反応して光学部品表面に付着し、破損するとい
う現象が起きるのを防ぐためである。
査項目に適した検査ユニットをまとめて備えた検査装置
18をあらかじめ空間30に設置することにより、必要
な検査をすべて完了することができるので、検査ユニッ
トを交換する必要がなく、検査に要する時間を短縮する
ことができる。エキシマレーザ16の光品位を検査する
検査方法において、検査時に設置される検査装置18か
ら得た検査データと、エキシマレーザ16の内部に常設
されたモニター部14から得たデータを比較し、前記モ
ニター部14から得たデータを検査データに換算するた
めの換算係数を、自動的に較正するようにしている。
ことによって、前記発生する有機物を除くことができ、
光学部品の破損を防いでその寿命を延ばすことができ
る。
ージェンス測定装置51を備えているので、レーザ光3
の進行方向及び発散角を常に測定し、光軸が狂わないよ
うにレーザを調整しながらメンテナンスや他の検査項目
の測定を行なえる。これにより、メンテナンス及び検査
の後の光軸調整が不要もしくは時間が短縮される。
体17内に検査装置18挿入用の空間30及び位置決め
手段49を設け、検査装置18をビーム切り出しユニッ
ト44とそれぞれ着脱可能な個々の検査ユニットとを組
み合わせた構成としている。これにより、検査の際に外
部ダクト20を外す必要がなく、しかも検査装置18の
位置決めが容易であり、かつ位置決め精度が向上するの
で検査精度を向上させることができる。さらに、検査ユ
ニットの交換によって各種の検査を行なえるので、設置
が簡単であり検査時間が短縮できる。
たモニター部14と検査装置18とを接続しており、両
者から得たデータを比較してモニター部14から得たデ
ータを検査データに換算するための換算係数Gを自動で
較正できるので、これまで手動で行なっていた較正のた
めの時間を短縮できる。
供給するパージ手段を備えているので、光学部品の寿命
を延ばすことができる。
比較するようにしているので、メンテナンスの効果が明
確に把握でき、メンテナンスによって悪影響が出た場合
にもすぐに修正が可能である。
テッパを接続した場合を例にとって説明したが、本発明
はエキシマレーザの検査装置及び検査方法に係わるもの
であり、エキシマレーザを光源として使用する装置であ
れば、特にステッパにこだわるものではない。
の構成図。
チャート。
4…ボルト穴、5…後部ウィンドウ、6…穴、7…第1
エタロン、8…第2エタロン、9…面、10…リアミラ
ー、11…前部ウィンドウ、12…フロントミラー、1
3…ミラー、14…モニター部、15…レーザ電源、1
6…エキシマレーザ、17…筐体、18…検査装置、1
9…狭帯域化ユニット、20…外部ダクト、21…検査
コントローラ、22…ステッパ、23…レーザコントロ
ーラ、24…ミラー、25…集光レンズ、26…検出器
アレイ、27…ラインセンサ、28…エタロン、29…
固定ブロック、30…空間、31…固定台、32…スト
ッパ、33…内部ダクト、34…第1ビームスプリッ
タ、35…第2ビームスプリッタ、36…波長検出器、
37…ガイドレール、38…干渉縞、39…位置決めピ
ン、40…位置決めピン、41…ビームプロファイラ、
42…ボルト、43…窒素配管、44…ビーム切り出し
ユニット、45…カロリーメータ、46…第3ビームス
プリッタ、47…第4ビームスプリッタ、48…検出器
アレイ、49…位置決め手段、50…パージ手段、51
…ビームダイバージェンス測定装置、52…パルスエネ
ルギー測定装置、53…開口部、54…突起部、55…
ミラー、56…集光レンズ、57…開口部、58…小
孔、59…拡散板。
Claims (8)
- 【請求項1】 発振するレーザ光(3) の光品位が検査さ
れるエキシマレーザ(16)において、 前記エキシマレーザ(16)の筐体(17)内に、エキシマレー
ザ(16)の性能を検査する検査装置(18)、又はエキシマレ
ーザ(16)のビームを前記検査装置(18)に導くためのビー
ム切り出しユニット(44)を挿入する空間(30)を設けたこ
とを特徴とするエキシマレーザ(16)。 - 【請求項2】 請求項1記載のエキシマレーザ(16)にお
いて、 前記検査装置(18)、又は前記ビーム切り出しユニット(4
4)を着脱自在とし、かつ装着時にエキシマレーザ(16)に
対して位置決めする位置決め手段(49)を備えたことを特
徴とするエキシマレーザ(16)。 - 【請求項3】 エキシマレーザ(16)から発振するレーザ
光(3) の光品位を検査するエキシマレーザの検査装置(1
8)において、 個々の検査項目を測定する少なくとも1台の検査ユニッ
ト(36,41,51,52) と、 レーザ光(3) の光軸上に配置されてレーザ光(3) を前記
検査ユニット(36,41,51,52) に導くためのビーム切り出
しユニット(44)とを任意に組み合わせ可能としたことを
特徴とするエキシマレーザの検査装置(18)。 - 【請求項4】 請求項3に記載のエキシマレーザの検査
装置(18)において、 前記検査ユニットが、少なくとも、ビームの断面形状と
位置を測定するビームプロファイラ(41)、ビームの発散
角と進行方向とを測定するビームダイバージェンス測定
装置(51)、レーザ光(3) の中心波長と線幅からなる波長
特性を測定する波長検出器(36)、レーザ光(3) のパルス
発振する際の時間幅を測定するパルスデュレーション測
定装置、又はレーザ光(3) のパルスエネルギーを測定す
るパルスエネルギー測定装置(52)のいずれか一つである
ことを特徴とするエキシマレーザの検査装置(18)。 - 【請求項5】 請求項3に記載のエキシマレーザの検査
装置(18)において、 前記ビーム切り出しユニット(44)が、同じ厚みで同じ材
質の2個のビームスプリッタを少なくとも1組以上備
え、 前記2個のビームスプリッタは、それぞれの法線が同一
平面上で交わり、かつ前記レーザ光(3) が各ビームスプ
リッタに入射する入射角が略等しくなるように配置され
ていることを特徴とするエキシマレーザの検査装置(1
8)。 - 【請求項6】 請求項3に記載のエキシマレーザの検査
装置(18)において、 内部を清浄な不活性ガスでパージするパージ手段(50)を
備えたことを特徴とするエキシマレーザの検査装置(1
8)。 - 【請求項7】 エキシマレーザ(16)から発振するレーザ
光(3) の光品位を検査するエキシマレーザの検査方法に
おいて、 エキシマレーザ(16)にあらかじめ設けられた空間(30)
に、検査装置(18)をメンテナンス前に設置し、 メンテナンスの前後でレーザ光(3) の各光品位の検査を
行なってこの検査結果を比較し、検査後のエキシマレー
ザ(16)の良否を判断するようにしたことを特徴とするエ
キシマレーザの検査方法。 - 【請求項8】 エキシマレーザ(16)から発振するレーザ
光(3) の光品位を検査するエキシマレーザの検査方法に
おいて、 検査時に設置される検査装置(18)から得た検査データ
と、エキシマレーザ(16)の内部に常設されたモニター部
(14)から得たデータとを比較し、 前記検査データに基づいて、前記モニター部(14)を自動
的に較正するようにしたことを特徴とするエキシマレー
ザの検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1327198A JPH11201869A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | エキシマレーザとその検査装置及びその検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1327198A JPH11201869A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | エキシマレーザとその検査装置及びその検査方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005252955A Division JP2006003371A (ja) | 2005-09-01 | 2005-09-01 | エキシマレーザの検査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11201869A true JPH11201869A (ja) | 1999-07-30 |
Family
ID=11828563
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1327198A Pending JPH11201869A (ja) | 1998-01-08 | 1998-01-08 | エキシマレーザとその検査装置及びその検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11201869A (ja) |
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-
1998
- 1998-01-08 JP JP1327198A patent/JPH11201869A/ja active Pending
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A977 | Report on retrieval |
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A521 | Written amendment |
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