JPH11200100A - 金属ストリップの連続電解エッチング方法および装置 - Google Patents

金属ストリップの連続電解エッチング方法および装置

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JPH11200100A
JPH11200100A JP733998A JP733998A JPH11200100A JP H11200100 A JPH11200100 A JP H11200100A JP 733998 A JP733998 A JP 733998A JP 733998 A JP733998 A JP 733998A JP H11200100 A JPH11200100 A JP H11200100A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンダクタロール表面の電蝕を防止し、コン
ダクタロールの寿命を延長することが可能な金属ストリ
ップの連続電解エッチング方法および連続電解エッチン
グ装置の提供。 【解決手段】 金属ストリップを、電解液中に陰極を配
設した電解槽に連続的に通板、浸漬すると共に、電解槽
の電解液の液外に配設された陽極であるコンダクタロー
ルと接触せしめて直接通電を行う金属ストリップの連続
電解エッチング方法において、金属ストリップとコンダ
クタロールとの接触部に電解液を噴霧すると共に、コン
ダクタロール表面と接触する噴霧電解液と電解槽中の電
解液との電気的導通を防止する金属ストリップの連続電
解エッチング方法および該連続電解エッチング方法に用
いる装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、金属ストリップの
連続電解エッチング技術に関し、特に、金属ストリップ
の連続電解エッチング装置に配設されるコンダクタロー
ルの寿命延長が可能な金属ストリップの連続電解エッチ
ング方法および装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、鋼帯など金属ストリップに電気絶
縁性インクでエッチングレジストを印刷した後、電解エ
ッチングによって金属ストリップ表面にエッチングパタ
ーンを形成し、金属ストリップの特性を改善する技術が
開示されている(特公平8−6140号公報参照)。
【0003】図4に、従来の金属ストリップの連続電解
エッチング装置を、側面図によって示す。図4におい
て、1は鋼帯などの金属ストリップ、2はコンダクタロ
ール、3は陰極、4は直流電源、5はエッチング用の電
解液、5aは噴霧電解液、6はポンプ、7はスプレー装
置、8は電解槽、9はバックアップロール、10は金属ス
トリップ浸漬用ロール、Cは金属ストリップ1とコンダ
クタロール2との接触部、fは金属ストリップの通板方
向、fS は金属ストリップの長さ方向を示す。
【0004】金属ストリップ1は、陽極であるコンダク
タロール2と該コンダクタロール2と金属ストリップ1
を介在して相接するように配設されたバックアップロー
ル9との間を通板され、金属ストリップ浸漬用ロール10
によって電解液5に浸漬される。直流電源4からの電流
は、コンダクタロール2→金属ストリップ1→電解液5
→陰極3→直流電源4を経由して流れ、金属ストリップ
1の電解エッチングが行われる。
【0005】この場合、コンダクタロール2を金属スト
リップ1に押し付けて通電する際に、金属ストリップ1
とコンダクタロール2との局部接触によってアークが発
生し、金属ストリップ1にアークスポット疵と呼ばれる
ストリップ表面欠陥が発生する。この問題に対処するた
め、従来は、図4に示すようにスプレー装置7を用い
て、噴霧電解液5a(:電解液5)を、金属ストリップ1
とコンダクタロール2との接触部Cにスプレーする方法
が用いられていた。
【0006】しかし、上記した金属ストリップ1とコン
ダクタロール2との接触部Cに噴霧電解液5aをスプレー
する方法では、アークスポットの発生は防止できる反
面、コンダクタロール表面が電蝕を受け、ロール寿命が
低下する。この結果、従来、コンダクタロールの交換作
業が必要であり、コンダクタロールの電蝕は、電解エッ
チングの生産性向上の阻害要因となっていた。
【0007】また、一般的に、コンダクタロールは、非
常に高価な特殊合金を用いるため、ロール寿命が生産原
価に及ぼす影響は大きく、コンダクタロールの寿命を伸
ばすことは工業的生産という観点で、非常に重要なこと
であった。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記した従
来技術の問題点を解決し、コンダクタロール表面の電蝕
を防止し、コンダクタロールの寿命を延長することが可
能な金属ストリップの連続電解エッチング方法および連
続電解エッチング装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、金属スト
リップを、電解液中に陰極を配設した電解槽に連続的に
通板、浸漬すると共に、前記電解槽の電解液の液外に配
設された陽極であるコンダクタロールと接触せしめて直
接通電を行う金属ストリップの連続電解エッチング方法
において、金属ストリップとコンダクタロールとの接触
部に電解液を噴霧すると共に、コンダクタロール表面と
接触する噴霧電解液と電解槽中の電解液との電気的導通
を防止することを特徴とする金属ストリップの連続電解
エッチング方法である。
【0010】第2の発明は、金属ストリップを、電解液
中に陰極を配設した電解槽に連続的に通板、浸漬すると
共に、前記電解槽の電解液の液外に配設された陽極であ
るコンダクタロールと接触せしめて直接通電を行う金属
ストリップの連続電解エッチング方法において、金属ス
トリップとコンダクタロールとの接触部に電解液を噴霧
すると共に、噴霧した電解液を、前記した電解槽の電解
液中に流入せしめることなく別個に回収し、回収した電
解液を、前記した金属ストリップとコンダクロールとの
接触部に循環、噴霧することを特徴とする金属ストリッ
プの連続電解エッチング方法である。
【0011】すなわち、上記した第2の発明において
は、金属ストリップとコンダクタロールとの接触部に電
解液を噴霧すると共に、噴霧した電解液を、前記した電
解槽の電解液中に直接流入、混合せしめることなく、電
解槽の電解液とは別個に回収し、回収した電解液を、前
記した金属ストリップとコンダクロールとの接触部に循
環、噴霧する。
【0012】第3の発明は、金属ストリップを連続的に
通板、浸漬、電解するための電解槽8と、該電解槽8の
電解液中に配設されると共に金属ストリップと相対向す
る陰極3と、電解槽8の電解液の液外に配設された陽極
であるコンダクタロール2を有する金属ストリップの連
続電解エッチング装置であって、金属ストリップとコン
ダクタロール2との接触部Cに電解液を噴霧するための
スプレー装置7を有し、前記した金属ストリップとコン
ダクタロール2との接触部Cが、金属ストリップの長さ
方向fS かつ水平方向において電解槽8の槽外に配置さ
れると共に、該接触部Cの下方に配設された噴霧電解液
受槽20と、該噴霧電解液受槽20内の電解液を前記スプレ
ー装置7に循環供給するための噴霧電解液循環ポンプ21
および噴霧電解液循環配管22を有することを特徴とする
金属ストリップの連続電解エッチング装置である。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、本発明をさらに詳細に説明
する。図5に、前記したコンダクタロール表面の電蝕の
機構を、金属ストリップとコンダクタロールの表面との
接触部の断面図によって示す。図5において、7aはスプ
レー装置7のスプレー孔、feは金属ストリップ1中を
通電する正規の通電ルート、feL は噴霧電解液5a中を
流れる漏洩通電ルートを示し、その他の符号は前記した
図4と同一の内容を示す。
【0014】図4、図5に示す従来の金属ストリップの
連続電解エッチング装置においては、噴霧電解液5aが、
電解エッチングに使用する電解槽8中のエッチング用の
電解液5中に流入するため、図5に示すように、実線の
矢印fe で示す正規の通電ルートである〔コンダクタロ
ール2→金属ストリップ1→電解液5→陰極3〕の他
に、破線の矢印feLで示す〔コンダクタロール2→噴霧
電解液5a→電解液5→陰極3〕の漏洩通電ルートが発生
し、コンダクタロール2と噴霧電解液5aの間で直接電子
やイオンのやり取りが行われ、コンダクタロール2の金
属が金属イオンとなって溶出し、電蝕すなわちコンダク
タロールのエッチングが生じる。
【0015】本発明の方法によれば、上記問題点を解決
するために、コンダクタロール表面と接触する噴霧電解
液と電解槽中のエッチング用電解液との電気的導通を防
止することによって、上記したコンダクタロールの電蝕
を防止し、コンダクタロールの寿命延長を可能とした
(第1の発明)。また、本発明の方法によれば、上記し
たコンダクタロール表面と接触する噴霧電解液と電解槽
中のエッチング用電解液との電気的導通の防止のため
に、金属ストリップ1とコンダクタロール2との接触部
Cに噴霧する電解液を、金属ストリップの電解エッチン
グに使用するエッチング用電解液と分離し、電解槽8の
エッチング用電解液中へ直接流入せしめることなく別個
に回収し、回収した電解液を、金属ストリップとコンダ
クタロールとの接触部Cに循環、噴霧する(第2の発
明)。
【0016】この結果、〔コンダクタロール2→噴霧電
解液5aによって形成されるコンダクタロール2表面の液
膜→液流→電解槽内の電解液5→陰極3〕の電流の流
れ、すなわちコンダクタロール2から噴霧電解液5aを経
由する電解槽8内の電解液5への電流漏洩を防止し、コ
ンダクタロール2表面の電蝕の防止が可能となった。さ
らに、本発明の装置によれば、前記したコンダクタロー
ル表面と接触する噴霧電解液と電解槽中のエッチング用
電解液との電気的導通の防止のために、金属ストリップ
1とコンダクタロール2との接触部Cを、金属ストリッ
プの長さ方向fS かつ水平方向において電解槽8の槽外
に配置すると共に、該接触部Cの下方に噴霧電解液受槽
20を配設し、噴霧電解液受槽20内の電解液をスプレー装
置7に循環供給するための噴霧電解液循環ポンプ21およ
び噴霧電解液循環配管22を配設することによって、コン
ダクタロール2表面の電蝕を防止することが可能となっ
た(第3の発明)。
【0017】図1に、本発明の金属ストリップの連続電
解エッチング装置(水平セル方式)の一例を、側面図に
よって示す。図1において、5bは回収した噴霧電解液、
20は噴霧電解液受槽、21は噴霧電解液循環ポンプ、22は
噴霧電解液循環配管、23はデフレクタロール、f5bは噴
霧電解液循環配管22内の回収した噴霧電解液5bの流れ方
向を示し、その他の符号は図4、図5と同一の内容を示
す。
【0018】図1に示す本発明の装置においては、コン
ダクタロール2およびスプレー装置7のスプレー孔7aの
両者を、金属ストリップの長さ方向fS かつ水平方向に
おいて電解槽8の槽外に配設し、金属ストリップとコン
ダクタロール2との接触部Cを、金属ストリップの長さ
方向fS かつ水平方向において電解槽8の槽外に配置す
る構成とした。
【0019】また、スプレー装置7からの噴霧電解液5a
は、金属ストリップ1とコンダクタロール2との接触部
Cに噴霧した後、電解槽8内のエッチング用の電解液5
中に流入せしめることなく、上記した接触部Cの下方に
配設した噴霧電解液受槽20中に流入せしめ、回収する。
回収した噴霧電解液5bは、噴霧電解液循環ポンプ21およ
び噴霧電解液循環配管22によって、スプレー装置7に循
環し、スプレー孔7aから金属ストリップ1とコンダクタ
ロール2との接触部Cに循環、噴霧する。
【0020】また、この噴霧電解液受槽20は、コンダク
タロール2および陰極3とは電気的に絶縁しており、噴
霧電解液5aがエッチング用の電解液5と電気的に導通す
ることを防止している。この結果、噴霧電解液5aを通じ
てコンダクタロール2から漏洩電流が流れることがな
く、コンダクタロール表面の電蝕を防止できる。
【0021】なお、本発明において、金属ストリップ1
とコンダクタロール2との接触部Cに噴霧する電解液
は、導電性に優れた溶液であればその組成は制限される
ものではなく、電解質を含有する水溶液が好ましく用い
られる。また、本発明の内容から明らかなように、上記
した噴霧電解液5aは電解槽8内のエッチング用の電解液
5と同一組成である必要はない。
【0022】以上、水平セル方式の金属ストリップの連
続電解エッチング装置について説明したが、本発明は、
ラジアルセル方式、竪型セル方式など、水平セル方式以
外の連続電解エッチング装置にも適用可能である。図2
および図3に、ラジアルセル方式および竪型セル方式の
本発明の金属ストリップの連続電解エッチング装置の一
例を示す。
【0023】図2、図3において、30、41は金属ストリ
ップをエッチング用の電解液5中に浸漬し陰極3と相対
向せしめるためのロールであるシンクロール、40はエッ
チング用の電解液供給のためのノズルヘッダ、42はエッ
チング用の電解液の排出口を示し、その他の符号は図
1、図4、図5と同一の内容を示す。図2、図3に示す
本発明の金属ストリップの連続電解エッチング装置にお
いては、図1に示す装置と同様に、コンダクタロール2
およびスプレー装置7のスプレー孔7aの両者を、金属ス
トリップの長さ方向fS かつ水平方向において電解槽8
の槽外に配設し、金属ストリップ1とコンダクタロール
2との接触部Cを、金属ストリップの長さ方向fS かつ
水平方向において電解槽8の槽外に配置する構成とし
た。
【0024】この結果、〔コンダクタロール2→噴霧電
解液5a→電解槽8内の電解液5→陰極3〕の経路による
電流漏洩を防止し、コンダクタロール2表面の電蝕が防
止可能となった。
【0025】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づきさらに具体的
に説明する。前記した図1に示す金属ストリップの連続
電解エッチング装置を用いて、下記条件下で、鋼帯の下
面である片面にエッチングレジストが印刷された鋼帯の
直接通電による連続電解エッチングを行った。
【0026】〔鋼帯およびエッチングレジストの厚
み:〕 鋼帯板厚;0.22mm エッチングレジストの厚み;1μm エッチングレジストのインク;エポキシ系樹脂を主成分
とするインク 〔電解エッチングの条件:〕 (電解槽エッチング用電解液:) 組成;300g-NaCl/l 、液温;50℃ (通電方式:) 電気量300C/dm2の電解電流一定とした直接通電方式 (噴霧電解液:) 組成;300g-NaCl/l (コンダクタロール:) 材質;ハステロイ 上記した実験の結果、従来、前記した図4の装置におい
ては、電蝕によって、1箇月に1回、コンダクタロール
の交換が必要であったが、図1の装置においては12箇月
以上経過しても電蝕はほとんど見られず、本発明によれ
ば、コンダクタロールの寿命を大幅に延長することが可
能であることが分かった。
【0027】以上、上記した実施例においては、本発明
を水平セル型の金属ストリップの連続電解エッチング装
置に適用した例を示したが、本発明は、前記した本発明
の技術的内容から明らかなように、ラジアルセル方式、
竪型セル方式など、水平セル方式以外の連続電解エッチ
ング装置にも適用可能である。また、本発明は、前記し
た本発明の技術的内容から明らかなように、前記した実
施例に示される金属ストリップの連続電解エッチングに
限定されることはなく、金属ストリップを陽極として該
金属ストリップの表面をエッチングする種々の金属スト
リップの連続電解エッチングに適用可能である。
【0028】
【発明の効果】本発明によれば、コンダクタロール表面
の電蝕を防止でき、コンダクタロールの寿命を延長する
ことが可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の金属ストリップの連続電解エッチング
装置(水平セル方式)の一例を示す側面図である。
【図2】本発明の金属ストリップの連続電解エッチング
装置(ラジアルセル方式)の一例を示す側面図である。
【図3】本発明の金属ストリップの連続電解エッチング
装置(竪型セル方式)の一例を示す側面図である。
【図4】従来の金属ストリップの連続電解エッチング装
置を示す側面図である。
【図5】コンダクタロール表面の電蝕の機構を示す、金
属ストリップとコンダクタロール表面との接触部の断面
図である。
【符号の説明】
1 金属ストリップ 2 コンダクタロール 3 陰極 4 直流電源 5 エッチング用の電解液 5a 噴霧電解液 5b 回収した噴霧電解液 6 ポンプ 7 スプレー装置 7a スプレー装置のスプレー孔 8 電解槽 9 バックアップロール 10 金属ストリップ浸漬用ロール 20 噴霧電解液受槽 21 噴霧電解液循環ポンプ 22 噴霧電解液循環配管 23 デフレクタロール 30、41 シンクロール 40 ノズルヘッダ 42 エッチング用の電解液の排出口 C 金属ストリップとコンダクタロールとの接触部 f 金属ストリップの通板方向 f5b 噴霧電解液循環配管内の回収した噴霧電解液の流
れ方向 fS 金属ストリップの長さ方向 fe 正規の通電ルート feL 漏洩通電ルート

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属ストリップを、電解液中に陰極を配
    設した電解槽に連続的に通板、浸漬すると共に、前記電
    解槽の電解液の液外に配設された陽極であるコンダクタ
    ロールと接触せしめて直接通電を行う金属ストリップの
    連続電解エッチング方法において、金属ストリップとコ
    ンダクタロールとの接触部に電解液を噴霧すると共に、
    コンダクタロール表面と接触する噴霧電解液と電解槽中
    の電解液との電気的導通を防止することを特徴とする金
    属ストリップの連続電解エッチング方法。
  2. 【請求項2】 金属ストリップを、電解液中に陰極を配
    設した電解槽に連続的に通板、浸漬すると共に、前記電
    解槽の電解液の液外に配設された陽極であるコンダクタ
    ロールと接触せしめて直接通電を行う金属ストリップの
    連続電解エッチング方法において、金属ストリップとコ
    ンダクタロールとの接触部に電解液を噴霧すると共に、
    噴霧した電解液を、前記した電解槽の電解液中に流入せ
    しめることなく別個に回収し、回収した電解液を、前記
    した金属ストリップとコンダクロールとの接触部に循
    環、噴霧することを特徴とする金属ストリップの連続電
    解エッチング方法。
  3. 【請求項3】 金属ストリップを連続的に通板、浸漬、
    電解するための電解槽(8) と、該電解槽(8) の電解液中
    に配設されると共に金属ストリップと相対向する陰極
    (3) と、電解槽(8) の電解液の液外に配設された陽極で
    あるコンダクタロール(2) を有する金属ストリップの連
    続電解エッチング装置であって、金属ストリップとコン
    ダクタロール(2) との接触部(C) に電解液を噴霧するた
    めのスプレー装置(7) を有し、前記した金属ストリップ
    とコンダクタロール(2) との接触部(C) が、金属ストリ
    ップの長さ方向fS かつ水平方向において電解槽(8) の
    槽外に配置されると共に、該接触部(C) の下方に配設さ
    れた噴霧電解液受槽(20)と、該噴霧電解液受槽(20)内の
    電解液を前記スプレー装置(7) に循環供給するための噴
    霧電解液循環ポンプ(21)および噴霧電解液循環配管(22)
    を有することを特徴とする金属ストリップの連続電解エ
    ッチング装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005011298A1 (de) * 2005-03-04 2006-09-07 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung und Verfahren zum Ätzen von Substraten
JP2009068073A (ja) * 2007-09-13 2009-04-02 Jfe Steel Kk 鋼板の縦型酸洗装置

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