JPH11199616A - 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 - Google Patents

共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法

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Publication number
JPH11199616A
JPH11199616A JP10013184A JP1318498A JPH11199616A JP H11199616 A JPH11199616 A JP H11199616A JP 10013184 A JP10013184 A JP 10013184A JP 1318498 A JP1318498 A JP 1318498A JP H11199616 A JPH11199616 A JP H11199616A
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JP
Japan
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group
component
alkyl
cyclopentadienyl
catalyst
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Pending
Application number
JP10013184A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhiro Iwase
勝弘 岩瀬
Nobuyuki Uematsu
信之 植松
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Asahi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Asahi Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
Application filed by Asahi Chemical Industry Co Ltd filed Critical Asahi Chemical Industry Co Ltd
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 工業的に用いる上でより簡単に合成でき、ま
た長期保存安定性や活性の再現性の高い新規な触媒系を
提供し、該触媒を用いた共重合体の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 特定の一般式で示される錯体を含有する
重合触媒、及び該触媒成分(A)と(B)アルキルアル
ミニウムオキシ化合物および/または(C)カチオン発
生剤および/または(D)アルキルアルミニウム化合物
および/または(E)アルキルアルカリ金属および/ま
たはアルキルアルカリ土類金属化合物、からなる重合触
媒、及び該重合触媒で重合される共重合体が98. 6〜
53モル%のエチレン及び1.4〜47モル%のスチレ
ンを含むエチレンとスチレンの疑似ランダムコポリマー
である共重合体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規な錯体を含む
重合触媒、及び該触媒によるエチレンとビニル芳香族モ
ノマー共重合体の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】エチレンとビニル芳香族モノマーとの共
重合触媒としては、特開平3−163088号公報や特
開平7−70223号公報などの4族、3族の拘束され
た幾何形状をもつ金属配位錯体が高活性かつ共重合性に
すぐれた触媒系として知られている。しかし、これらの
錯体触媒系は拘束された幾何形状を有するが故に、4価
遷移金属化合物からの合成が難しく、錯体の合成に手間
がかかり、純度の高い錯体が取れないため結果としてコ
スト高になるという問題点があった。また、錯体の長期
保存安定性や活性の再現性も十分ではないという問題点
があり、工業的に用いる上では、課題を残すものであっ
た。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は工業的に用い
る上でより簡単に合成でき、また長期保存安定性や活性
の再現性の高い触媒系を見いだすことを目的としてなさ
れたものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は特定の構造を有
する4族4価錯体が従来の錯体に比べ合成が容易で、か
つ特定の構造(A)を有する4族4価錯体と特定の構造
(B)を有する金属化合物または(C)カチオン発生剤
との組み合わせることにより、従来の錯体触媒系よりも
長期保存安定性がよく、かつ重合活性の再現性の面で遥
かにすぐれているという驚くべき事実に基づいてなされ
たものである。すなわち本発明は、 [1]触媒(A)成分が下記一般式(1)で示される錯
体を含むことを特徴とする重合触媒、
【0005】
【化5】
【0006】(式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシ
クロペンタジエニル基及び置換シクロペンタジエニル基
でMとシクロペンタジエニル基はη5 でπ結合してい
る。R1〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素又はC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良く、また環には共役2重結合を含んだ芳香族性を有
するものも含む。Yは炭素又はSi又はGe元素、Zは
N、P、S、O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C1
2のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキ
シ基、ハロゲンからなるものとする。mは1〜3の整
数、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) [2]下記一般式(1)で示される錯体を含む触媒
(A)成分と(B)成分および/または(C)成分を含
むことを特徴とする重合触媒、
【0007】
【化6】
【0008】(式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシ
クロペンタジエニル基及び置換シクロペンタジエニル基
でMとシクロペンタジエニル基はη5 でπ結合してい
る。R1〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素又はC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良く、また環には共役2重結合を含んだ芳香族性を有
するものも含む。Yは炭素又はSi又はGe元素、Zは
N、P、S、O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C1
2のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキ
シ基、ハロゲンからなるものとする。mは1〜3の整
数、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 [3]下記一般式(1)で示される錯体を含む触媒
(A)成分と(B)成分および/または(C)成分およ
び/または(D)成分を含むことを特徴とする重合触
媒、
【0009】
【化7】
【0010】(式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシ
クロペンタジエニル基及び置換シクロペンタジエニル基
でMとシクロペンタジエニル基はη5 でπ結合してい
る。R1〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素又はC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良い、また環には共役2重結合を含んだ芳香族性を有
するものも含む。Yは炭素又はSi又はGe元素、Zは
N、P、S、O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C1
2のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキ
シ基、ハロゲンからなるものとする。mは1〜3の整
数、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 [4]下記一般式(1)で示される錯体を含む触媒
(A)成分と(B)成分および/または(C)成分およ
び/または(D)成分および/または(E)成分を含む
ことを特徴とする重合触媒、
【0011】
【化8】
【0012】(式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシ
クロペンタジエニル基及び置換シクロペンタジエニル基
でMとシクロペンタジエニル基はη5 でπ結合してい
る。R1〜R4 はそれぞれ同じでも異なっていてもよ
く、水素又はC1〜C12のアルキル基、アルケニル
基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基でこのう
ちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成していて
も良く、また環には共役2重結合を含んだ芳香族性を有
するものも含む。Yは炭素又はSi又はGe元素、Zは
N、P、S、O元素のうちいずれか一つで遷移金属元素
と非共有電子対による相互作用はあるがσ結合は形成し
ていないものとする。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞ
れ同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C1
2のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキ
シ基、ハロゲンからなるものとする。mは1〜3の整
数、nは1〜3の整数で結合しているヘテロ原子の価数
−1に相当する数である。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
ルカリ土類金属化合物
【0013】[5]上記触媒[1]〜[4]のいずれか
に記載の重合触媒で重合される共重合体が98. 6〜5
3モル%のエチレン及び1.4〜47モル%のスチレン
を含むエチレンとスチレンの疑似ランダムコポリマーで
あることを特徴とする共重合体の製造方法、に関するも
のである。
【0014】エチレンとビニル芳香族モノマーの共重合
触媒としては、特開平3−163088号公報や特開平
7−70223号公報などの拘束された幾何形状をもつ
金属配位錯体が開示されているが、これらの錯体触媒系
は拘束された幾何形状を有するが故に、4価遷移金属化
合物からの合成が難しく、錯体の合成に手間がかかり、
純度の高い錯体が取れないため結果としてコスト高にな
るという問題点があった。また、錯体の長期保存安定性
や活性の再現性も十分ではないという問題点があり、工
業的に用いる上では、上記錯体と同等以上の共重合活性
を有し、より簡単に合成でき取り扱いも容易な錯体が望
まれていた。
【0015】本発明者らは、上記の問題点を解決し得る
新規錯体触媒系について鋭意検討した結果、特定の構造
(A)を有するハーフメタロセン系錯体が合成も容易で
あり、錯体の安定性にもすぐれるということと、更に
(A)と(B)アルミニウムオキシ化合物及び/または
(C)カチオン発生剤とを組み合わせ系と、(A)と
(B)及び/または(C)に更に(D)成分を組み合わ
せた系と、(A)と(B)及び/または(C)及び/ま
たは(D)に更に(E)成分を組み合わせた系とが共重
合活性にすぐれ、重合温度範囲も広く、重合温度による
活性の低下も少なく、活性再現性も高いということを見
出し本発明の完成に至ったものである。本発明に係る重
合触媒成分(A)は下記一般式(1)で示される。
【0016】
【化9】
【0017】式中、Mは4族4価の遷移金属でTiまた
はZrまたはHfである。5員環はシクロペンタジエニ
ル基及び置換シクロペンタジエニル基でインデニル基、
フルオレニル基等も含まれる。Mと置換シクロペンタジ
エニル基はη5 でπ結合していて5員環の炭素はそれぞ
れ等価である。R1 〜R4 はそれぞれ同じでも異なって
いてもよく、水素またはC1〜C12のアルキル基、ア
ルケニル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基
でこのうちの任意の2つもしくは3つが結合し環を形成
していても良く、また環にはインデニルやフルオレニル
の様な共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含
まれる。
【0018】Yは炭素又はSi又はGe元素によるアル
キレン、シリレン、ゲルミレン基であり、R5 ,R6
同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C12
のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アリロキ
シ基、アリール基でR5 ,R6 は互いに結合しYを含ん
だヘテロ環を形成していてもかまわない。mは1〜3の
整数である。ZはN、P、S、O元素のうちいずれか一
つで遷移金属元素と非共有電子対による相互作用はある
がσ結合は形成していないものである。R7 はそれぞれ
同じでも異なっていても良く、水素またはC1〜C12
のアルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリロキシ
基、ハロゲンからなるものである。nは1〜3の整数で
結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数であ
る。Z(R7 )nは具体的には下記式(2)に示す化合
物も含むものである。
【0019】
【化10】 (但し、R8 、R9 はそれぞれ同じでも異なっていても
良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、アルコキ
シ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるも
のである。) X1 〜X3 はそれぞれ同じでも異なっていても良く、水
素またはC1〜C12のアルキル基、アルコキシ基、ア
リール基、アリロキシ基、ハロゲンからなるものであ
る。
【0020】一般式(1)および(2)における、R1
〜R9 のアルキル基、アリール基及びアルコキシ基、ア
リロキシ基のアルキル、アリール部分の具体例として
は、水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、sec−ブチ
ル、n−ペンチル、イソペンチル、1−メチルブチル、
2−メチルブチル、1,2−ジメチルプロピル、ネオペ
ンチル、n−ヘキシル、イソヘキシル、1−メチルペン
チル、2−メチルペンチル、3−メチルペンチル、1,
1−ジメチルブチル、2,2−ジメチルブチル、3,3
−ジメチルブチル、1,2−ジメチルブチル、1,3−
ジメチルブチル、1,1−エチルメチルプロピル、1−
エチルブチル、2−エチルブチル、シクロヘキシル、n
−ヘプチル、イソヘプチル、4−メチルヘキシル、3−
メチルヘキシル、2−メチルヘキシル、1−メチルヘキ
シル、1,1−ジメチルペンチル、2,2−ジメチルペ
ンチル、3,3−ジメチルペンチル、4,4−ジメチル
ペンチル、
【0021】1,2−ジメチルペンチル、1,3−ジメ
チルペンチル、1,4−ジメチルペンチル、1−エチル
ペンチル、1−プロピルブチル、2−エチルペンチル、
3−エチルペンチル、1,1−エチルメチルブチル、
1,1−ジエチルプロピル、2,3−ジメチルペンチ
ル、2,4−ジメチルペンチル、3,4−ジメチルペン
チル、1−エチル−2−メチルブチル、1−エチル−3
−メチルブチル、4−メチルシクロヘキシル、3−メチ
ルシクロヘキシル、シクロヘプチル、1,1,2−トリ
メチルブチル、1,1,3−トリメチルブチル、2,
2,1−トリメチルブチル、2,2,3−トリメチルブ
チル、3,3,1−トリメチルブチル、3,3,2−ト
リメチルブチル、1,1,2,2−テトラメチルプロピ
ル、n−オクチル、1−メチルヘプチル、2−メチルヘ
プチル、3−メチルヘプチル、
【0022】4−メチルヘプチル、5−メチルヘプチ
ル、イソオクチル、1−エチルヘキシル2−エチルヘキ
シル、3−エチルヘキシル、4−エチルヘキシル、1,
1−ジメチルヘキシル、2,2−ジメチルヘキシル、
3,3−ジメチルヘキシル、4,4−ジメチルヘキシ
ル、5,5−ジメチルヘキシル、1,2−ジメチルヘキ
シル、1,3−ジメチルヘキシル、1,4−ジメチルヘ
キシル、1,5−ジメチルヘキシル、2,3−ヂメチル
ヘキシル、2,4−ジメチルヘキシル、3,4−ジメチ
ルヘキシル、2,5−ジメチルヘキシル、3,5−ジメ
チルヘキシル、1,1−メチルエチルペンチル、1−エ
チル−2−メチルペンチル、1−エチル−3−メチルペ
ンチル、1−エチル−4−メチルペンチル、2−エチル
−1−メチルペンチル、2,2−エチルメチルペンチ
ル、3,3−エチルメチルペンチル、2−エチル−3−
メチルペンチル、2−エチル−4−メチルペンチル、
【0023】3−エチル−4−メチルペンチル、3−エ
チル−2−メチルペンチル、1,1−ジエチルブチル、
2,2−ジエチルブチル、1,2−ジエチルブチル、
1,1−メチルプロピルブチル、2−メチル−1−プロ
ピルブチル、3メチル−1−プロピルブチル、4−エチ
ルシクロヘキシル、3−エチルシクロヘキシル、3,4
−ジメチルシクロヘキシル、1,1,2−トリメチルペ
ンチル、1,1,3−トリメチルペンチル、1,1,4
−トリメチルペンチル、2,2,1−トリメチルペンチ
ル、2,2,3−トリメチルペンチル、2,2,4−ト
リメチルペンチル、3,3,1−トリメチルペンチル、
3,3,2−トリメチルペンチル、3,3,4−トリメ
チルペンチル、1,2,3−トリメチルペンチル、1,
2,4−トリメチルペンチル、1,3,4−トリメチル
ペンチル、
【0024】1,2,3−トリメチルペンチル、1,
2,4−トリメチルペンチル、1,3,4−トリメチル
ペンチル、1,1,2,2−テトラメチルブチル、1,
1,3,3−テトラメチルブチル、1,1,2,3−テ
トラメチルブチル、2,2,1,3−テトラメチルブチ
ル、1−エチル−1,2−ジメチルブチル、2−エチル
−1,2−ジメチルブチル、1−エチル−2,3−ジメ
チルブチル、n−ノニル、イソノニル、1−メチルオク
チル、2−メチルオクチル、3−メチルオクチル、4−
メチルオクチル、5−メチルオクチル、6−メチルオク
チル、1−エチルヘプチル、2−エチルヘプチル、3−
エチルヘプチル、4−エチルヘプチル、5−エチルヘプ
チル、1,1−ジメチルヘプチル、2,2−ジメチルヘ
プチル、3,3−ジメチルヘプチル、4,4−ジメチル
ヘプチル、5,5−ジメチルヘプチル、6,6−ジメチ
ルヘプチル、1,2−ジメチルヘプチル、
【0025】1,3−ジメチルヘプチル、1,4−ジメ
チルヘプチル、1,5−ジメチルヘプチル、1,6−ジ
メチルヘプチル、2,3−ジメチルヘプチル、2,4−
ジメチルヘプチル、2,5−ジメチルヘプチル、2,6
−ジメチルヘプチル、3,4−ジメチルヘプチル、3,
5−ジメチルヘプチル、3,6−ジメチルヘプチル、
4,5−ジメチルヘプチル、4,6−ジメチルヘプチ
ル、5,6−ジメチルヘプチル、1,1,2−トリメチ
ルヘキシル、1,1,3−トリメチルヘキシル、1,
1,4−トリメチルヘキシル、1,1,5−トリメチル
ヘキシル、2,2,1−トリメチルヘキシル、2,2,
3−トリメチルヘキシル、2,2,4−トリメチルヘキ
シル、2,2,5−トリメチルヘキシル、3,3,1−
トリメチルヘキシル、3,3,2−トリメチルヘキシ
ル、3,3,4−トリメチルヘキシル、
【0026】3,3,5−トリメチルヘキシル、4,
4,1−トリメチルヘキシル、4,4,2−トリメチル
ヘキシル、4,4,3−トリメチルヘキシル、4,4,
5−トリメチルヘキシル、5,5,1−トリメチルヘキ
シル、5,5,2−トリメチルヘキシル、5,5,3−
トリメチルヘキシル、5,5,4−トリメチルヘキシ
ル、1,2,3−トリメチルヘキシル、2,3,4−ト
リメチルヘキシル、3,4,5−トリメチルヘキシル、
1,3,4−トリメチルヘキシル、1,4,5−トリメ
チルヘキシル、2,4,5−トリメチルヘキシル、1,
2,5−トリメチルヘキシル、1,2,4−トリメチル
ヘキシル、1,1−エチルメチルヘキシル、2,2−エ
チルメチルヘキシル、3,3−エチルメチルヘキシル、
4,4−エチルメチルヘキシル、5,5−エチルメチル
ヘキシル、1−エチル−2−メチルヘキシル、1−エチ
ル−3−メチルヘキシル、1−エチル−4−メチルヘキ
シル、
【0027】1−エチル−5−メチルヘキシル,2−エ
チル−1−メチルヘキシル、3−エチル−1−メチルヘ
キシル、3−エチル−2−メチルヘキシル、1,1−ジ
エチルペンチル、2,2−ジエチルペンチル、3,3−
ジエチルペンチル、1,2−ジエチルペンチル、1,3
−ジエチルペンチル、2,3−ジエチルペンチル、1,
1−メチルプロピルペンチル、2,2−メチルプロピル
ペンチル、1−メチル−2−プロピルペンチルn−デシ
ル、イソデシル、1−メチルノニル,2−メチルノニ
ル、3−メチルノニル、4−メチルノニル、5−メチル
ノニル、6−メチルノニル、7−メチルノニル、1−エ
チルオクチル、2−エチルオクチル、3−エチルオクチ
ル、4−エチルオクチル、5−エチルオクチル、6−エ
チルオクチル、1,1−ジメチルオクチル、2,2−ジ
メチルオクチル、3,3−ジメチルオクチル、4,4−
ジメチルオクチル、5,5−ジメチルオクチル、
【0028】6,6−ジメチルオクチル、7,7−ジメ
チルオクチル、1,2−ジメチルオクチル、1,3−ジ
メチルオクチル、1,4−ジメチルオクチル、1,5−
ジメチルオクチル、1,6−ジメチルオクチル、1,7
−ジメチルオクチル、2,3−ジメチルオクチル、2,
4−ジメチルオクチル、2,5−ジメチルオクチル、
2,6−ジメチルオクチル、2,7−ジメチルオクチ
ル、3,4−ジメチルオクチル、3,5−ジメチルオク
チル、3,6−ジメチルオクチル、3,7−ジメチルオ
クチル、4,5−ジメチルオクチル、4,6−ジメチル
オクチル、4,7−ジメチルオクチル、5,6−ジメチ
ルオクチル、5,7−ジメチルオクチル、n−ウンデシ
ル、n−ドデシル、フェニル、ベンジル、p−トリル、
m−トリル、
【0029】キシリル、メシチリル、2,6−ジメチル
フェニル、2,4,6−トリメチルフェニル、2,6−
ジメトキシフェニル、2,4,6−トリメトキシフェニ
ル、2,6−ジイソプロピルフェニル、2,4,6−ト
リイソプロピルフェニル、ナフチル、o−イソプロポキ
シフェニル、2−イソプロピル−6−メチルフェニル、
2−t−ブチル−6−メチルフェニル2−イソブチル−
6−メチルフェニル等が挙げられる。触媒成分(B)の
アルミニウムオキシ化合物としては下記一般式で示され
る有機アルミニウムオキシ化合物のうち少なくとも1つ
の化合物等があげられる。
【0030】
【化11】 (式中、R10〜R14は同じでも異なっていても良く、C
1〜C8までの炭化水素基、nは1〜50までの整数を
表す。) 触媒成分(B)のカチオン発生剤の代表的なものとして
は下記一般式で示される有機ホウ素化合物等があげられ
る。
【0031】
【化12】(BR151617n 、 A(BR15161718n (式中、Aはカチオンである。R15〜R18は同じでも異
なっていても良く、C1〜C14までのハロゲン化アリ
ール基を含む炭化水素基、アルコキシ基、アリロキシ
基、nは1〜4までの整数を表す。)
【0032】ここで、化合物のカチオンAとしては、4
級アミンまたは4級アンモニウム塩またはカルボカチオ
ンまたは価数+1〜4の金属カチオン等があり、具体例
としては、ピリジニウム、2,4−ジニトロ−N,N−
ジエチルアニリニウム、p−ニトロアニリニウム、2,
5−ジクロロアニリン、p−ニトロ−N,N−ジメチル
アニリニウム、キノリニウム、N,N−ジメチルアニリ
ニウム、メチルジフェニルアンモニウム、N,N−ジエ
チルアニリニウム、8−クロロキノリニウム、トリメチ
ルアンモニウム、トリプロピルアンモニウム、トリエチ
ルアンモニウム、トリブチルアンモニウム、トリフェニ
ルカルボカチオン、トリフェニルホスホニウム、アンモ
ニウム、ナトリウム、リチウム、カリウム、セシウム、
カルシウム、マグネシウム等があげられる。
【0033】また、R15〜R18の炭化水素基、及びアル
コキシ基、アリロキシ基の炭化水素基部分の具体例とし
ては、アレチルアセトナト、イソプロピル、フェニル、
ベンジル、p−トリル、m−トリル、キシリル、メシチ
リル、2,6−ジメチルフェニル、2,4,6−トリメ
チルフェニル、2,6−ジメトキシフェニル、2,4,
6−トリメトキシフェニル、2,6−ジイソプロピルフ
ェニル、2,4,6−トリイソプロピルフェニル、ナフ
チル、o−イソプロポキシフェニル、ペンタフルオロフ
ェニルペンタフルオロベンジル、テトラフルオロフェニ
ル、テトラフルオロトリル等があげられる。
【0034】一方、触媒成分(D)のアルキルアルミニ
ウム化合物としては、アルキルアルミニウム等の有機ア
ルミニウム化合物をあげることができる。具体的な化合
物としては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアル
ミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリフェニル
アルミニウム、ジエチルアルミニウムクロリド、ジメチ
ルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロラ
イド、メチルアルミニウムセスキクロリド、エチルアル
ミニウムセスキクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリ
ド、ジイソブチルアルミニウムヒドリド、トリ(2−エ
チルヘキシル)アルミニウム、(2−エチルヘキシル)
アルミニウムジクロリド等が挙げられる。これらの他に
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t−ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。
【0035】これらの化合物のなかでも好ましいものと
しては、トリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニ
ウム、トリイソブチルアルミニウム、ジエチルアルミニ
ウムクロリド、ジメチルアルミニウムクロリド、メチル
アルミニウムセスキクロリド、エチルアルミニウムセス
キクロリド、ジエチルアルミニウムヒドリド、ジイソブ
チルアルミニウムヒドリド等が挙げられる。また、上記
有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化合物とを
予め反応させることで合成される錯体、予め反応させる
ことで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれる。
【0036】また、触媒成分(E)のアルキルアルカリ
金属および/またはアルキルアルカリ土類金属の具体例
としては、有機リチウム化合物、有機ナトリウム化合
物、有機カリウム化合物、有機亜鉛化合物、有機マグネ
シウム化合物、有機アルミニウム化合物、有機カルシウ
ム化合物等を挙げることが出来るが、単独あるいは二種
以上を組み合わせて用いることもできる。
【0037】含Li化合物の具体例としては、メチルリ
チウム、エチルリチウム、n−プロピルリチウム、イソ
プロピルリチウム、n−ブチルリチウム、sec−ブチ
ルリチウム、イソブチルリチウム、t−ブチルリチウ
ム、n−ペンチルリチウム、n−ヘキシルリチウム、フ
ェニルリチウム、シクロペンタジエニルリチウム、m−
トリルリチウム、p−トリルリチウム、キシリルリチウ
ム、ジメチルアミノリチウム、ジエチルアミノリチウ
ム、メトキシリチウム、エトキシリチウム、n−プロポ
キシリチウム、イソプロポキシリチウム、n−ブトキシ
リチウム、sec−ブトキシリチウム、t−ブトキシリ
チウム、ペンチルオキシリチウム、ヘキシルオキシリチ
ウム、ヘプチルオキシリチウム、オクチルオキシリチウ
ム、フェノキシリチウム、4−メチルフェノキシリチウ
ム、ベンジルオキシリチウム、4−メチルベンジルオキ
シリチウム、等が挙げられる。また、トリメチルシリル
リチウム、ジエチルメチルシリルリチウム、ジメチルエ
チルシリルリチウム、トリエチルシリルリチウム、トリ
フェニルシリルリチウム等の有機ケイ素リチウム化合物
でも良い。
【0038】含Na化合物の具体例としては、メチルナ
トリウム、エチルナトリウム、n−プロピルナトリウ
ム、イソプロピルナトリウム、n−ブチルナトリウム、
sec−ブチルナトリウム、イソブチルナトリウム、t
−ブチルナトリウム、n−ペンチルナトリウム、n−ヘ
キシルナトリウム、フェニルナトリウム、シクロペンタ
ジエニルナトリウム、m−トリルナトリウム、p−トリ
ルナトリウム、キシリルナトリウム、ナトリウムナフタ
レン等が挙げられる。
【0039】含K化合物の具体例としては、メチルカリ
ウム、エチルカリウム、n−プロピルカリウム、イソプ
ロピルカリウム、n−ブチルカリウム、sec−ブチル
カリウム、イソブチルカリウム、t−ブチルカリウム、
n−ペンチルカリウム、n−ヘキシルカリウム、トリフ
ェニルメチルカリウム、フェニルカリウム、フェニルエ
チルカリウム、シクロペンタジエニルカリウム、m−ト
リルカリウム、p−トリルカリウム、キシリルカリウ
ム、カリウムナフタレン等が挙げられる。
【0040】含Zn化合物としては、ジエチル亜鉛、ビ
ス(η5 −シクロペンタジエニル)亜鉛、ジフェニル亜
鉛等が挙げられ、さらに含Mg化合物としては、ジメチ
ルマグネシウム、ジエチルマグネシウム、ジブチルマグ
ネシウム、エチルブチルマグネシウム、メチルマグネシ
ウムブロマイド、エチルマグネシウムクロライド、エチ
ルマグネシウムブロマイド、エチルマグネシウムクロラ
イド、フェニルマグネシウムブロマイド、フェニルマグ
ネシウムクロライド、t−ブチルマグネシウムクロライ
ド、t−ブチルマグネシウムブロマイド等が挙げられ
る。
【0041】これらの他にリチウムハイドライド、カリ
ウムハイドライド、ナトリウムハイドライド、カルシウ
ムハイドライド等のアルカリ(土類)金属水素化物や、
ナトリウムアルミニウムハイドライド、カリウムアルミ
ニウムハイドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニ
ウムハイドライド、トリ(t−ブトキシ)アルミニウム
ハイドライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイ
ドライド、ジイソブチルナトリウムアルミニウムハイド
ライド、トリエチルナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエトキシナトリウムアルミニウムハイドライ
ド、トリエチルリチウムアルミニウムハイドライド等の
2種以上の金属を含有する水素化物でも構わない。ま
た、上記有機アルカリ金属化合物と有機アルミニウム化
合物とを予め反応させることで合成される錯体、有機ア
ルカリ金属化合物と有機マグネシウム化合物を予め反応
させることで合成される錯体(ア−ト錯体)等も含まれ
る。
【0042】本発明において使用するのに好適な触媒は
(A)成分である遷移金属化合物と(B)成分のアルキ
ルアルミニウムオキシ化合物、または(A)成分と
(C)成分であるカチオン発生剤、または(A)成分と
(B)成分と(C)成分であるカチオン発生剤、または
(A)成分と(B)成分と(D)成分であるアルキルア
ルミニウム化合物、または(A)成分と(D)成分であ
るアルキルアルミニウム化合物、または(A)成分と
(B)成分と(E)成分であるアルキルアルカリ金属類
もしくはアルキルアルカリ土類金属類、または(A)成
分と(B)成分と(C)成分と(D)成分、または
(A)成分と(B)成分と(C)成分と(E)成分、
(A)成分と(B)成分と(D)成分と(E)成分、
(A)成分と(E)成分の組み合わせがあり、上記の組
み合わせで触媒(A)成分と(B)(C)(D)(E)
成分のいずれかを任意の順序でかつ任意の好適な方法で
組み合わせることによって製造される。
【0043】触媒(A)成分と(B)成分の好ましい触
媒組成比は(A):(B)=1:0.01〜1:100
00、触媒(A)成分と(C)成分の好ましい触媒組成
比は(A):(C)=1:0.01〜1:100、触媒
(A)成分と(D)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(D)=1:0.01〜1:1000、触媒
(A)成分と(E)成分の好ましい触媒組成比は
(A):(E)=1:0.01〜1:100である。
【0044】触媒組成物の調製はあらかじめ、窒素、ア
ルゴン等の不活性ガス雰囲気下、好適な溶媒中で混合す
ることにより行っても良いし、(A)(B)(C)
(D)(E)それぞれの成分を別々にモノマーが共存す
るリアクター内に打ち込んで、リアクター内において調
製しても良い。触媒調製に好適な溶媒はヘキサン、シク
ロヘキサン等、アルカンをはじめとする炭化水素系溶媒
とトルエン、ベンゼン、エチルベンゼン、等の芳香族系
の溶媒があげられる。またこれらの溶媒は前処理におい
て水分等を除去しておくことが好ましい。触媒組成物の
調製温度としては、−20℃〜150℃が最適である。
【0045】本発明の重合方法は、モノマーと触媒の存
在下、減圧、大気圧、加圧のいずれかの条件のもとで、
バルク、溶液、スラリーのいずれの方法でも行うことが
出来る。重合を行うのに好適な温度範囲としては−30
℃〜260℃であり、好ましくは0℃〜200℃であ
る。また、重合においては、窒素、アルゴン等の不活性
ガス雰囲気下で行っても良いし、エチレン雰囲気下で行
っても良く、またエチレン、及び/またはプロピレン及
び/またはブチレンと上記の不活性ガスの混合雰囲気下
でもかまわない。さらに、分子量調節のために上記のガ
スに加えて、水素を共存させてもかまわない。
【0046】また、触媒成分をアルミナ、塩化マグネシ
ウム、シリカのような好適な担体に担持させて用いても
かまわない。また所望ならば、重合に際して溶媒を用い
ることも出来る。重合に用いるのに好適な溶媒として
は、ヘキサン、シクロヘキサン等、アルカンをはじめと
する炭化水素系溶媒とトルエン、ベンゼン、エチルベン
ゼン、等の芳香族系の溶媒があげられる。また、重合に
用いるモノマーとしては、エチレンとスチレンが最も好
適であるが、必要に応じてプロピレン、ブチレン等の他
のオレフィン化合物やα−メチルスチレン、ジフェニル
エチレン等の芳香族ビニル化合物を共存させることが出
来る。
【0047】本重合における好適な触媒量は[(生成ポ
リマー重量)Kg]/[触媒(A)成分1mol]=5
0kg/1mol〜10000000kg/1mol程
度のポリマーを与える量である。本発明における重合後
のポリマーの分離の方法としては、例えば重合液にアセ
トンまたは酸もしくはアルカリを混合したアルコール等
の貧溶媒となる極性溶媒を加えて重合体を沈澱させて回
収する方法、反応液を撹拌下、熱湯中に投入後、溶媒と
共に蒸留回収する方法、または直接反応液を加熱して溶
媒を留去する方法等を挙げることができる。本発明の重
合触媒は第1に触媒の合成が容易でかつ耐熱性が優れ広
い温度領域で重合反応に高活性を示すことである。第2
に貯蔵安定性・活性安定性が極めて優れることである。
したがって触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の重合
活性を持続する。
【0048】
【発明の実施の形態】以下実施例などにより本発明を更
に具体的に説明するが、本発明はこれらにより何ら限定
されるものではない。以下に実施例及び比較例を行なう
にあたり、用いた触媒成分について以下に示す。 [触媒(A)成分] (合成例1) 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N−7−アザインドールの合
【0049】2,3,4,5−テトラメチル−2,4−
シクロペンタジエニルジメチルシリルクロライドの合成 1,2,4,5−テトラメチル−1,3−シクロペンタ
ジエン13.2mmolを200mlのシュレンク管に
入れ窒素置換した。脱水テトラヒドロフラン80mlを
加え、−40℃に冷却した。攪拌しながらn−ブチルリ
チウム13.2mmolをゆっくりと滴下した。溶液白
濁後0℃で2時間攪拌した。ここへジメチルジクロロシ
ラン15mmolを一気に滴下し、一晩攪拌した。反応
後溶媒と過剰のジメチルジクロロシランを減圧下に留去
し、黄色液体を得た。これを減圧蒸留により精製し、次
の反応に用いた。
【0050】2,3,4,5−テトラメチル−2,4ー
シクロペンタジエニルジメチルシリル−N−7−アザイ
ンドールの合成 7−アザインドール13.2mmolを脱水テトラヒド
ロフラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−
ブチルリチウム13.2mmolを加え、1時間攪拌、
室温に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した
2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタ
ジエニルジメチルシリルクロライドのテトラヒドロフラ
ン(THF)溶液を滴下した。1時間攪拌後室温に戻し
1晩攪拌した。反応後減圧乾固し、脱水トルエン40m
lを加え不溶分を濾別。液層を減圧乾固した。淡黄色油
状物3.2gが得られた(収率81.8%)。
【0051】[(N−7−アザインドリル)ジメチルシ
リル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムトリクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N−7−アザインドール5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTiCl4 5mmolを加え一晩攪拌
した。減圧乾固したのち脱水トルエンを10ml加え不
溶分を濾別し、再び減圧乾固した後脱水ヘキサン20m
lを加え−20℃で再結晶をし、目的物を得た。
【0052】(合成例2) 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジエチルアミンの合
成 ジエチルアミン13.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム13.2mmolを加え、1時間攪拌、室温
に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
【0053】[(N,N−ジエチルアミノ)ジメチルシ
リル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムトリクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジエチルアミン5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTiCl4 5mmolを加え一晩攪拌
した。減圧乾固したのち脱水トルエンを10ml加え不
溶分を濾別し、再び減圧乾固した後脱水ヘキサン20m
lを加え−20℃で再結晶をして、目的物を得た。
【0054】(合成例3) 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジメチルアミンの合
成 ジメチルアミンのTHF溶液13.2mmol分を脱水
テトラヒドロフラン40mlに溶解し−40℃まで冷却
した。n−ブチルリチウム13.2mmolを加え、1
時間攪拌、室温に戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先
に合成した2,3,4,5−テトラメチル−2,4−シ
クロペンタジエニルジメチルシリルクロライドのTHF
溶液を滴下した。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌し
た。反応後減圧乾固し、脱水トルエン40mlを加え不
溶分を濾別。液層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得ら
れた。
【0055】[(N,N−ジメチルアミノ)ジメチルシ
リル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロ
ペンタジエニル]チタニウムトリクロライドの合成 2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタ
ジエニルジメチルシリル−N,N−ジメチルアミン5m
molを脱水テトラヒドロフラン20mlに溶解し、0
℃に冷却後n−ブチルリチウム5mmolを加え2時間
攪拌した。続いてTiCl4 5mmolを加え一晩攪拌
した。減圧乾固したのち脱水トルエンを10ml加え不
溶分を濾別し、再び減圧乾固した後脱水ヘキサン20m
lを加え−20℃で再結晶をして、目的物を得た。
【0056】(合成例4) (N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエンの合
成 t−ブチルアミン8.2mmolを脱水テトラヒドロフ
ラン40mlに溶解し−40℃まで冷却した。n−ブチ
ルリチウム8.2mmolを加え、1時間攪拌、室温に
戻し1晩攪拌した。0℃に冷却し、先に合成した2,
3,4,5−テトラメチル−2,4−シクロペンタジエ
ニルジメチルシリルクロライドのTHF溶液を滴下し
た。1時間攪拌後室温に戻し1晩攪拌した。反応後減圧
乾固し、脱水トルエン40mlを加え不溶分を濾別。液
層を減圧乾固した。淡黄色油状物が得られた。
【0057】Ti(thf)3 Cl3 の合成 TiCl3 20mmol分の塩化メチレンーTHF溶液
を窒素置換したシュレンク管にとり塩化メチレンを留去
し、THFを60ml加えたジムロートを取り付け20
時間加熱環流し、生成した水色の錯体を濾別し、脱水ペ
ンタンで2回洗浄した(収率70%)。 [(N−t−ブチルアミド)ジメチルシリル−2,3,
4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタジエニル]
チタニウムジクロリドの合成
【0058】(N−t−ブチルアミノ)ジメチルシリル
−2,3,4,5ーテトラメチル2,4ーシクロペンタ
ジエン5.1mmolを脱水トルエン20mlに溶解
し、−40℃に冷却した。n−BuLi10.2mmo
lを加え2時間攪拌した。これをあらかじめ−78℃に
冷却しトルエン20mlに分散させておいたTi(th
f)3 Cl3 に加えた。15分後AgCl6mmolを
加え、一晩攪拌した。これを減圧乾固し、脱水塩化メチ
レン60mlを加えた。濾過後液層を減圧乾固した。ヘ
キサン20mlで洗浄し目的物を得た。
【0059】
【実施例1】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオー
トクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。ト
ルエンは精製塔を通し、計量管内に280mlサンプリ
ングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を減
圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分とし
てメチルアルミノキサン(MMAO)を20mmol打
ち込み、計量管内のトルエン280mlでリアクタに移
送した。同様にスチレンを920mlサンプリングし脱
気操作を行ったあと、740mlをリアクタ内に移送し
た。リアクタを90℃に加熱し、つぎに(A)成分とし
て[(N−7−アザインドリル)ジメチルシリル−2,
3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタジエ
ニル]チタニウムトリクロライド20μmolのトルエ
ン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管内のスチレン1
80mlで移送した。
【0060】リアクタ内をエチレンで10kg/cm2
に加圧した後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始
した。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度に
エチレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行
った。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理
しポリマーを回収した。ポリマー収量は53g、NMR
測定よりポリマー中のスチレン含量は30wt%であっ
た。
【0061】
【実施例2】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオー
トクレーブ)を接続し、触媒タンク、リアクタ内を窒素
置換した。トルエンは精製塔を通し、計量管内に280
mlサンプリングした後、5分間減圧下で脱気した。リ
アクタ内を減圧にし触媒タンク内に(B)成分としてM
MAOを20mmol打ち込みリアクタに移送した。計
量管内のトルエン280mlをリアクタに移送した。同
様にスチレンを920mlサンプリングし脱気操作を行
ったあと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に
加熱し、つぎに(A)成分として[(N−7−アザイン
ドリル)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打
ち込みリアクタに移送した。
【0062】リアクタ内をエチレンで6kg/cm2
加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始した。
重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエチレ
ンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行った。
重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理しポリ
マーを回収した。ポリマー収量は48g、NMR測定よ
りポリマー中のスチレン含量は40wt%であった。
【0063】
【実施例3】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオー
トクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。ト
ルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプリ
ングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を減
圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(A)成分とし
て[(N−7−アザインドリル)ジメチルシリル−2,
3,4,5−テトラメチル−2,4ーシクロペンタジエ
ニル]チタニウムトリクロライド20μmolのトルエ
ン溶液、(B)成分としてMMAOを20mmolをあ
らかじめ混合したものを打ち込み、計量管内のトルエン
280mlでリアクタに移送した。同様にスチレンを6
00mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、リアク
タ内に移送した。リアクタを90℃に加熱しリアクタ内
をエチレンで10kg/cm2 に加圧後、エチレン供給
ラインを止め、攪拌を開始した。重合に伴いゲージ圧が
下がるため、重合中適度にエチレンを供給し、所定圧を
保ちながら60分重合を行った。重合後、ポリマー溶液
を塩酸メタノール中で処理しポリマーを回収した。ポリ
マー収量は45g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
【0064】
【実施例4】あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例1と
同様の方法で行った。ポリマー収量は44g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は31wt%であっ
た。
【0065】
【実施例5】あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例2と
同様の方法で行った。ポリマー収量は43g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は39wt%であっ
た。
【0066】
【実施例6】あらかじめ作成し、1ヶ月間保存した
(A)、(B)成分の混合物を用いた以外は実施例3と
同様の方法で行った。ポリマー収量は46g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は10wt%であっ
た。
【0067】
【実施例7】(A)成分として[(N,N−ジエチルア
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロ
ライドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。
ポリマー収量は39g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は15wt%であった。
【0068】
【実施例8】(A)成分として[(N,N−ジエチルア
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロ
ライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。
ポリマー収量は51g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は18wt%であった。
【0069】
【実施例9】(A)成分として[(N,N−ジエチルア
ミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル
−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロ
ライドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。
ポリマー収量は47g、NMR測定よりポリマー中のス
チレン含量は6wt%であった。
【0070】
【実施例10】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は38g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は33wt%であった。
【0071】
【実施例11】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は45g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は38wt%であった。
【0072】
【実施例12】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は48g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は12wt%であった。
【0073】
【実施例13】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は37g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は29wt%であった。
【0074】
【実施例14】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は38wt%であった。
【0075】
【実施例15】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は40g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は11wt%であった。
【0076】
【実施例16】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は37g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は27wt%であった。
【0077】
【実施例17】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は40wt%であった。
【0078】
【実施例18】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は35g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は10wt%であった。
【0079】
【実施例19】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオ
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分と
してMMAOを10mmol、(D)成分としてトリメ
チルアルミニウム10mmol打ち込み、計量管内のト
ルエン280mlでリアクタに移送した。同様にスチレ
ンを600mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、
リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つ
ぎに(A)成分として[(N−7−アザインドリル)ジ
メチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4
ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド2
0μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計
量管内のスチレン180mlで移送した。
【0080】リアクタ内をエチレンで10kg/cm2
に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始し
た。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエ
チレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行っ
た。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理し
ポリマーを回収した。ポリマー収量は34g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は43wt%であっ
た。
【0081】
【実施例20】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオ
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(B)成分と
してMMAOを15mmol、(E)成分としてジブチ
ルマグネシウム5mmol打ち込み、計量管内のトルエ
ン280mlでリアクタに移送した。同様にスチレンを
600mlサンプリングし脱気操作を行ったあと、リア
クタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱し、つぎに
(A)成分として[(N−7−アザインドリル)ジメチ
ルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−2,4ーシ
クロペンタジエニル]チタニウムトリクロライド20μ
molのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込み、計量管
内のスチレン180mlで移送した。
【0082】リアクタ内をエチレンで10kg/cm2
に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始し
た。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエ
チレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行っ
た。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理し
ポリマーを回収した。ポリマー収量は31g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は41wt%であっ
た。
【0083】
【実施例21】装置内を窒素置換後、リアクタ(2lオ
ートクレーブ)を接続し、リアクタ内を窒素置換した。
トルエンは精製塔を通し、計量管内に600mlサンプ
リングした後、5分間減圧下で脱気した。リアクタ内を
減圧、計量管を加圧にし、触媒タンク内に(C)成分と
して(C6 5 3 B0.2mmol打ち込み、計量管
内のトルエン280mlでリアクタに移送した。同様に
スチレンを600mlサンプリングし脱気操作を行った
あと、リアクタ内に移送した。リアクタを90℃に加熱
し、つぎに(A)成分として[(N−7−アザインドリ
ル)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリクロラ
イド20μmolのトルエン溶液を触媒タンクに打ち込
み、計量管内のスチレン180mlで移送した。
【0084】リアクタ内をエチレンで10kg/cm2
に加圧後、エチレン供給ラインを止め、攪拌を開始し
た。重合に伴いゲージ圧が下がるため、重合中適度にエ
チレンを供給し、所定圧を保ちながら60分重合を行っ
た。重合後、ポリマー溶液を塩酸メタノール中で処理し
ポリマーを回収した。ポリマー収量は30g、NMR測
定よりポリマー中のスチレン含量は38wt%であっ
た。
【0085】
【実施例22】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例19と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は29g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は8wt%であった。
【0086】
【実施例23】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例20と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は31g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は32wt%であった。
【0087】
【実施例24】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例21と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は29g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は36wt%であった。
【0088】
【実施例25】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例19と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は33g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は27wt%であった。
【0089】
【実施例26】(A)成分として[(N,N−ジエチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例20と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は34g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は34wt%であった。
【0090】
【実施例27】(A)成分として[(N,N−ジメチル
アミノ)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチ
ル−2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムトリク
ロライドを用いた以外は実施例21と同様の方法で行っ
た。ポリマー収量は27g、NMR測定よりポリマー中
のスチレン含量は24wt%であった。
【0091】
【比較例1】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例1と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は32g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
【0092】
【比較例2】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例2と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は34g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0093】
【比較例3】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例4と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は17g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は14wt%であった。
【0094】
【比較例4】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例5と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0095】
【比較例5】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例6と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は12g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は21wt%であった。
【0096】
【比較例6】(A)成分として[(N−t−ブチルアミ
ド)ジメチルシリル−2,3,4,5−テトラメチル−
2,4ーシクロペンタジエニル]チタニウムジクロライ
ドを用いた以外は実施例3と同様の方法で行った。ポリ
マー収量は24g、NMR測定よりポリマー中のスチレ
ン含量は10wt%であった。
【0097】
【発明の効果】本発明の重合触媒は触媒の合成が容易で
かつ耐熱性が優れ広い温度領域で重合反応に高活性を示
し、貯蔵安定性・活性安定性が極めて優れることであ
る。したがって触媒の活性は数カ月たっても殆ど当初の
重合活性を持続する。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 触媒(A)成分が下記一般式(1)で示
    される錯体を含むことを特徴とする重合触媒。 【化1】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
    エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
    ペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1〜R4
    はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素又はC1
    〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
    アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
    くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
    共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
    は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
    のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
    る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
    る。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
    ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
    アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
    らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
    数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
    ある。)
  2. 【請求項2】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
    触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
    を含むことを特徴とする重合触媒。 【化2】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
    エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
    ペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1〜R4
    はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素又はC1
    〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
    アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
    くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
    共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
    は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
    のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
    る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
    る。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
    ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
    アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
    らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
    数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
    ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤
  3. 【請求項3】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
    触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
    および/または(D)成分を含むことを特徴とする重合
    触媒。 【化3】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
    エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
    ペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1〜R4
    はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素又はC1
    〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
    アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
    くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
    共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
    は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
    のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
    る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
    る。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
    ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
    アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
    らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
    数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する数で
    ある。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物
  4. 【請求項4】 下記一般式(1)で示される錯体を含む
    触媒(A)成分と(B)成分および/または(C)成分
    および/または(D)成分および/または(E)成分を
    含むことを特徴とする重合触媒。 【化4】 (式中、Mは4族の遷移金属、5員環はシクロペンタジ
    エニル基及び置換シクロペンタジエニル基でMとシクロ
    ペンタジエニル基はη5 でπ結合している。R1〜R4
    はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、水素又はC1
    〜C12のアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、
    アリール基、アリロキシ基でこのうちの任意の2つもし
    くは3つが結合し環を形成していても良く、また環には
    共役2重結合を含んだ芳香族性を有するものも含む。Y
    は炭素又はSi又はGe元素、ZはN、P、S、O元素
    のうちいずれか一つで遷移金属元素と非共有電子対によ
    る相互作用はあるがσ結合は形成していないものとす
    る。X1 〜X3 、R5 〜R7 はそれぞれ同じでも異なっ
    ていても良く、水素またはC1〜C12のアルキル基、
    アルコキシ基、アリール基、アリロキシ基、ハロゲンか
    らなるものとする。mは1〜3の整数、nは1〜3の整
    数で結合しているヘテロ原子の価数−1に相当する
    数。) (B)アルキルアルミニウムオキシ化合物 (C)カチオン発生剤 (D)アルキルアルミニウム化合物 (E)アルキルアルカリ金属および/またはアルキルア
    ルカリ土類金属化合物
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかに記載の重合触
    媒で重合される共重合体が98. 6〜53モル%のエチ
    レン及び1.4〜47モル%のスチレンを含むエチレン
    とスチレンの疑似ランダムコポリマーであることを特徴
    とする共重合体の製造方法。
JP10013184A 1998-01-08 1998-01-08 共重合体の重合触媒及び該触媒を用いた共重合体の製造方法 Pending JPH11199616A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106317282A (zh) * 2016-08-19 2017-01-11 东华大学 超高分子量乙烯/苯乙烯类共聚物及其制备方法

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