JPH11199388A - 単結晶引上げ装置の不活性ガス回収装置 - Google Patents

単結晶引上げ装置の不活性ガス回収装置

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JPH11199388A
JPH11199388A JP36829397A JP36829397A JPH11199388A JP H11199388 A JPH11199388 A JP H11199388A JP 36829397 A JP36829397 A JP 36829397A JP 36829397 A JP36829397 A JP 36829397A JP H11199388 A JPH11199388 A JP H11199388A
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誠一郎 大塚
Yasushi Kurosawa
靖志 黒澤
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 本発明は、単結晶引上げ装置から不活性ガス
を回収するドライ真空ポンプを効果的に冷却し、ガスの
精製費用を安価にする技術の提供を目的とする。 【解決手段】 単結晶引上げ装置1からドライ真空ポン
プ3で使用済みのアルゴンガスを回収し、このガスを回
収精製装置5で精製した後、循環ライン7を通して循環
させるようにした回収装置において、回収したアルゴン
ガスの一部を熱交換器10を通して冷却し、冷却された
アルゴンガスを冷却ライン11を通してドライ真空ポン
プ3に送り込み冷却する。この際、冷却用のガスとし
て、回収精製装置5を経由したアルゴンガスを使用して
も良い。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコン等の単結
晶引上げ装置で用いられる不活性ガスを回収する装置に
関する。
【0002】
【従来の技術】例えばシリコン等の単結晶を製造する方
法として、吊具で吊下げられる種結晶を不活性ガス雰囲
気化のチャンバ内のシリコン融液に接触させ、回転させ
ながらゆっくりと引上げることで単結晶を育成するいわ
ゆるチョクラルスキー法のような製造方法が知られてい
るが、このようなチャンバ内の不活性ガスをドライ真空
ポンプで回収して循環させる技術が、例えば特開平7−
33581号等に示されている。
【0003】ところで、このようなドライ真空ポンプ
は、チャンバ内で加熱された温度の高い不活性ガスを吸
引することに加えて、吸引したガスがポンプ内のロータ
等で圧縮されて温度が一層高まるため、ポンプ内を効果
的に冷却しなければ、ロータ等とケーシングのクリアラ
ンスが無くなってロックするいわゆるローターロック等
の不具合を生じるようになる。このため、従来では、ポ
ンプ内に外気を導入してロータ等を冷却するようにして
いる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
ポンプ内に外気を導入する場合、不活性ガスと大気が混
ざり合って不活性ガスの純度が低下し、これを循環させ
て再使用するため精製しようとすると精製装置を大型化
しなければならず著しいコスト高になる。
【0005】そこで本発明は、不活性ガスを回収して循
環させるような回収装置において、ドライ真空ポンプを
効果的に冷却しつつ、同時に精製装置の大型化を招くこ
とのない回収装置の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明は、請求項1において、単結晶引上げ装置の不活
性ガスを回収するドライ真空ポンプを備えた不活性ガス
回収装置において、ドライ真空ポンプによって回収され
る不活性ガスの一部を熱交換器を通して冷却し、この冷
却された不活性ガスをドライ真空ポンプの冷却ラインに
送り込んでドライ真空ポンプを冷却するようにした。
【0007】このようにドライ真空ポンプによって回収
した不活性ガスの一部を冷却し、この冷却ガスを冷却ラ
インからポンプ内に送り込んでロータ等を冷却するよう
にすれば、同種の不活性ガスが混じり合うだけで不活性
ガスの純度が低下するような不具合がなくなり、精製装
置を大型化しなくても精製可能で安価に済む。ここで、
ドライ真空ポンプとは、水封式真空ポンプまたは油回転
真空ポンプのようにケーシング内に封水とか、潤滑気密
用の油等の液体を入れて処理ガスが液体に接触するよう
なタイプ以外の乾式の機械式真空ポンプを意味する。
【0008】また請求項2では、単結晶引上げ装置の不
活性ガスを回収するドライ真空ポンプと、回収された不
活性ガスを精製する精製装置とを備えた単結晶引上げ装
置の不活性ガス回収装置において、精製装置を経由した
不活性ガスの一部をドライ真空ポンプの冷却ラインに送
り込んでドライ真空ポンプを冷却するようにした。
【0009】このように精製装置を経由して精製された
不活性ガスあるいは精製途中の不活性ガスを使用して冷
却すれば、精製前の不活性ガスを使用することに較べて
より綺麗であるため、例えばポンプ内に蓄積するSiO
(一酸化ケイ素)微粉等の量を減らすことが出来る等、
ドライ真空ポンプの故障につながる要因を軽減できる。
【0010】また請求項3では、ドライ真空ポンプの冷
却ラインに、ドライ真空ポンプの温度が所定値を越えた
場合に、不活性ガスに代って大気によってドライ真空ポ
ンプを冷却するインタロック機構を設けた。
【0011】ここで、一般的に不活性ガスの比熱は空気
に較べて小さいため、ドライ真空ポンプを不活性ガスで
冷却すると、大気で冷却することに較べて冷却効果が劣
りがちである。一方、真空ポンプの温度が高まりすぎる
とポンプ内のロータ等の熱膨張によってケーシング間と
のクリアランスが無くなり、ロータがロックするロータ
ーロック現象が生じる。そこで、ローターロック等の不
具合の生起を防止するため、ドライ真空ポンプの温度が
所定値を越えた場合に、インターロック機構を介して冷
却ラインに大気が導入されるようにし、ドライ真空ポン
プの安定運転を図ることにした。
【0012】また請求項4では、ドライ真空ポンプに、
ポンプ内部の粉塵を外部に排出するパージラインを接続
した。すなわち、ドライ真空ポンプを不活性ガスで冷却
すれば、回収した不活性ガスに含まれるSiO微粉等の
粉塵がポンプ内に蓄積されやすくなり、ポンプの安定運
転を妨げるようになる。そこで、この粉塵を除去するた
め、ドライ真空ポンプにパージラインを接続し、例えば
操業終了時等に粉塵を外部に排出することが出来るよう
にした。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態について添付
した図面に基づき説明する。ここで図1は本発明に係る
不活性ガス回収装置の第1構成例の概要図、図2は第2
構成例の概要図である。
【0014】本発明に係る不活性ガス回収装置は、例え
ばシリコン単結晶を製造する単結晶引上げ装置のチャン
バ内で使用されるアルゴンガス等の使用済みの不活性ガ
スを回収して精製し、これを循環させて再使用するよう
な装置として構成され、特にアルゴンガスを回収するド
ライ真空ポンプの冷却方式等に特徴を有している。
【0015】この不活性ガス回収装置は、図1の第1構
成例に示すように、単結晶引上げ装置1のチャンバから
回収ライン2を通じて使用済みのアルゴンガスを吸引す
るドライ真空ポンプ3と、このドライ真空ポンプ3で吸
引されたアルゴンガスを回収精製装置5に送り込む精製
ライン4と、この回収精製装置5で精製したアルゴンガ
スを供給ライン6に戻す循環ライン7を備えており、供
給ライン6はアルゴンガスを貯溜するガスタンク8から
引上げ装置1のチャンバに接続されている。
【0016】ここで、使用済みのアルゴンガスを回収す
るドライ真空ポンプ3は、ポンプ内に水、油等の液体が
封入されない乾式の機械式真空ポンプであり、このよう
なドライ真空ポンプ3を使用することで、例えば水封式
真空ポンプ等に較べて処理ガス中に水等の液体または液
体が分解して生成する不純物が混入するような不具合が
なく、また高真空度を得ることが出来るとともに、排気
速度を安定させることが出来る等の各種利点を得ること
が出来るが、ポンプ内のロータ等の冷却には格別の配慮
が必要となる。
【0017】すなわち、ロータ等を大気で冷却すれば、
比較的効果的に冷却することが可能であるが、反面、処
理ガス中に空気成分が混入して不活性ガスの純度が低下
し、回収精製装置5を大型化しなければならないためコ
スト高になる。
【0018】そこで図1に示す第1構成例では、前記精
製ライン4の途中に、アルゴンガスの一部を引き込んで
熱交換器10で冷却した後、ドライ真空ポンプ3に送り
込んでロータ等を冷却する冷却ライン11を接続してい
る。
【0019】因みに、本実施形態におけるドライ真空ポ
ンプ3は、ケーシング内にスクリュー式のロータを備え
ており、冷却ライン11の接続ポートは、ガスが最も圧
縮されてロータの熱が一番高まりやすいガス流路の下流
側とされ、ケーシング内に向けて直接冷却ガスを送り込
むことが出来るようにされている。このため、冷却ガス
の接続ポートより下流側では、処理ガスと冷却ガスが混
じり合って流動することになる。
【0020】ところで図3は、結晶引上げの各工程にお
ける大気で冷却した時のケーシング内の温度(テスト
〜)と、回収したアルゴンガスで冷却した時のケーシ
ング内の温度(テスト、)を測定した実測値であ
る。ここで、温度の測定は、ロータの熱が一番高まりや
すいガス流路下流側のケーシング内にシーズ熱電対をセ
ットして測定した。
【0021】この結果から、アルゴンガスで冷却した時
の温度は大気で冷却した時の温度に較べて全般的に高め
であるが、冷却上充分実用限度内であり有効であること
が確認された。但し、本発明のようにArを冷却ガスと
した場合の方が、20〜30℃ポンプの温度が高くなる
ので、万が一冷却効果が不充分となり実用限度を越えた
場合の事を考えて、冷却ライン11にインタロック機構
12を設けている。
【0022】このインタロック機構12は、例えばシー
ズ熱電対17によってケーシング内の温度を測定し、温
度が所定値以上になったら制御装置18によって大気開
放バルブ13を制御して冷却ライン11に大気を導入
し、アルゴンガスによる冷却を大気による冷却に自動的
に切換えるようにしている。そしてこのような制御によ
ってローターロック等の不具合を完全に防止することが
出来る。
【0023】また、アルゴンガスを利用して冷却すれ
ば、大気で冷却することに較べてガス中に含まれるSi
O微粉等の粉塵が真空ポンプ3内に蓄積しやすくなる。
そこで本発明ではポンプ内に蓄積した粉塵を外部に排出
するパージライン14を設けている。
【0024】このパージライン14は、前記回収ライン
2の途中に接続される大気開放バルブ15と、前記精製
ライン4の途中に接続される大気放出ライン16とを結
ぶラインとして構成され、例えば操業停止等の前に、回
収ライン2のアルゴンガス通路を遮断して大気開放バル
ブ15を開き、ドライ真空ポンプ3内に蓄積する粉塵を
大気放出ライン16から放出するようにする。
【0025】以上のように構成した不活性ガス回収装置
において、単結晶引上げ装置1のチャンバにガスタンク
8から供給されるアルゴンガスを導入して内部を不活性
ガス雰囲気化し、シリコン融液に種結晶を接触させて単
結晶を育成する。この時、シリコン融液を保持する石英
ルツボとシリコン融液の反応によってSiOの微粉が発
生し、またSiOと黒鉛ヒータ等が反応してCOガスや
CO2 ガスが発生するとともに、その他の黒鉛部品等か
ら発生するN2 、H2 等の脱ガスによって、アルゴンガ
ス中には各種の不純ガス等が含まれるようになる。
【0026】ドライ真空ポンプ3は、以上のような不純
ガス等を含んだアルゴンガスを回収し、これを回収精製
装置5に送り込んで精製することで、各種不純ガス等を
除去し、これを循環ライン7から供給ライン6に戻して
循環させるが、精製ライン4の途中から回収ガスの一部
を熱交換器10に送って冷却し、冷却ライン11を通し
てドライ真空ポンプ3を冷却する。
【0027】すなわち、ポンプケーシングの接続ポート
から冷却したアルゴンガスをケーシング内に送り込み、
ロータを冷却することで、ローターロック等の不具合を
防止する。この際、回収したアルゴンガスで冷却するた
め、アルゴンガスの純度が低下するような事態がなく、
回収精製装置5をより安価に構成出来る。
【0028】また、アルゴンガスで冷却中に、真空ポン
プ3の温度が所定値以上になった時は、インタロック機
構12で大気による冷却に自動的に切換わり、また操業
停止等の前には、パージライン14によってポンプ内部
の粉塵を除去するため、ポンプの安定運転が可能であ
る。
【0029】一方、図2は別形態の構成例であり、冷却
用のアルゴンガスとして回収精製装置からの精製済みあ
るいは精製途中のアルゴンガスを利用するようにしたも
のである。すなわち、冷却ライン11の入口側を回収精
製装置5に接続し、精製済みあるいは精製途中のアルゴ
ンガスを用いて冷却する。この場合はドライ真空ポンプ
3のケーシング内に浄化されたアルゴンガスが導入され
るため、例えばポンプ内に蓄積するSiO量を少なくす
ることが出来る等、真空ポンプ3に対する悪影響を抑制
出来る。
【0030】回収精製装置は、不純物の含まれた精製ラ
インのガスからSiO等の微粉の除去、不純ガス成分の
分離などを行ない不活性ガスの精製を行なうが、この精
製途中段階のガス、あるいは精製完了後のガスを冷却用
のガスとして使用する。どの段階のガスを冷却用のガス
として用いるかは、回収精製装置の形態等によりコスト
等を勘案して選択すればよい。
【0031】尚、本発明は、上記実施形態に限定される
ものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の
特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一
な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかな
るものであっても本発明の技術的範囲に包含される。例
えば不活性ガスはアルゴンガス以外でも良く、単結晶引
上げ装置はシリコン以外の単結晶引上げ用でも良い。ま
た回収精製装置を経由した不活性ガスを冷却ガスに用い
る場合にも、熱交換器を通して冷却したガスをドライ真
空ポンプに送り込んでも良い。
【0032】
【発明の効果】以上のように本発明に係る不活性ガス回
収装置は、請求項1のように、ドライ真空ポンプによっ
て回収される不活性ガスの一部を熱交換器を通して冷却
し、この冷却された不活性ガスでドライ真空ポンプを冷
却するようにしたため、不活性ガスの純度が低下するよ
うな不具合がなくなり、精製装置を安価に構成出来る。
また請求項2のように、精製装置を経由した不活性ガス
の一部でドライ真空ポンプを冷却すれば、上記効果の
他、例えばポンプ内に蓄積するSiOの量を減らすこと
が出来る等、ドライ真空ポンプの故障につながる要因を
軽減することができる。
【0033】また請求項3のように、ドライ真空ポンプ
の温度が所定値を越えた場合に、不活性ガスに代って大
気によってドライ真空ポンプを冷却するインタロック機
構を設ければ、ロータ等の温度が異常に高まるような不
具合が防止され、安定した状態で真空ポンプを運転する
ことが出来る。そして請求項4のように、ドライ真空ポ
ンプに、ポンプ内部の粉塵を外部に排出するパージライ
ンを接続すれば、真空ポンプの一層の安定運転が可能で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る不活性ガス回収装置の第1構成例
の概要図である。
【図2】本発明に係る不活性ガス回収装置の第2構成例
の概要図である。
【図3】ポンプケーシング内の温度を測定した結果のグ
ラフである。
【符号の説明】
1…単結晶引上げ装置、 2…回収ライ
ン、3…ドライ真空ポンプ、 4…精製ラ
イン、5…回収精製装置、 6…供給
ライン、7…循環ライン、 8…ガ
スタンク、10…熱交換器、 11
…冷却ライン、12…インタロック機構、
13…大気開放バルブ、14…パージライン、
15…大気開放バルブ、16…大気開放ライン
17…熱電対、18…制御装置。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 単結晶引上げ装置の不活性ガスを回収す
    るドライ真空ポンプを備えた不活性ガス回収装置であっ
    て、前記ドライ真空ポンプによって回収される不活性ガ
    スの一部を熱交換器を通して冷却し、この冷却された不
    活性ガスを前記ドライ真空ポンプの冷却ラインに送り込
    んでドライ真空ポンプを冷却するようにしたことを特徴
    とする単結晶引上げ装置の不活性ガス回収装置。
  2. 【請求項2】 単結晶引上げ装置の不活性ガスを回収す
    るドライ真空ポンプと、回収された不活性ガスを精製す
    る精製装置とを備えた単結晶引上げ装置の不活性ガス回
    収装置であって、前記精製装置を経由した不活性ガスの
    一部を前記ドライ真空ポンプの冷却ラインに送り込んで
    ドライ真空ポンプを冷却するようにしたことを特徴とす
    る単結晶引上げ装置の不活性ガス回収装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2に記載の単結晶引
    上げ装置の不活性ガス回収装置において、前記ドライ真
    空ポンプの冷却ラインには、ドライ真空ポンプの温度が
    所定値を越えた場合に、不活性ガスに代って大気によっ
    てドライ真空ポンプを冷却するインタロック機構が設け
    られたことを特徴とする単結晶引上げ装置の不活性ガス
    回収装置。
  4. 【請求項4】 請求項1乃至請求項3のいずれか1項に
    記載の単結晶引上げ装置の不活性ガス回収装置におい
    て、前記ドライ真空ポンプには、ポンプ内部の粉塵を外
    部に排出するパージラインが接続されることを特徴とす
    る単結晶引上げ装置の不活性ガス回収装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002029884A (ja) * 2000-07-14 2002-01-29 Komatsu Electronic Metals Co Ltd 単結晶引き上げ装置の不活性ガス回収装置
JP2010501766A (ja) * 2006-08-23 2010-01-21 オーリコン レイボルド バキューム ゲーエムベーハー 真空ポンプ装置で自己点火する粉塵を反応させるための方法
JP2011032108A (ja) * 2009-07-30 2011-02-17 Shin Etsu Handotai Co Ltd 不活性ガス回収装置
JP2012066948A (ja) * 2010-09-21 2012-04-05 Covalent Materials Corp シリコン単結晶引上装置のクリーニング方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002029884A (ja) * 2000-07-14 2002-01-29 Komatsu Electronic Metals Co Ltd 単結晶引き上げ装置の不活性ガス回収装置
JP2010501766A (ja) * 2006-08-23 2010-01-21 オーリコン レイボルド バキューム ゲーエムベーハー 真空ポンプ装置で自己点火する粉塵を反応させるための方法
JP2011032108A (ja) * 2009-07-30 2011-02-17 Shin Etsu Handotai Co Ltd 不活性ガス回収装置
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