JPH11197600A - 塗膜の汚染防止処理方法 - Google Patents
塗膜の汚染防止処理方法Info
- Publication number
- JPH11197600A JPH11197600A JP10004389A JP438998A JPH11197600A JP H11197600 A JPH11197600 A JP H11197600A JP 10004389 A JP10004389 A JP 10004389A JP 438998 A JP438998 A JP 438998A JP H11197600 A JPH11197600 A JP H11197600A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- soluble silicate
- silicate
- coating
- coating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 45
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 44
- 238000011109 contamination Methods 0.000 title claims abstract description 6
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 68
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 40
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims abstract description 28
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 claims abstract description 18
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 13
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 28
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 claims description 24
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 19
- -1 alkyl silicate Chemical compound 0.000 claims description 16
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims description 12
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 claims description 2
- 238000010422 painting Methods 0.000 claims 2
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 abstract description 5
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 abstract description 5
- 239000000413 hydrolysate Substances 0.000 abstract 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 abstract 1
- 229910009529 yH2 O Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 235000021317 phosphate Nutrition 0.000 description 26
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N Nitric oxide Chemical compound O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 13
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 13
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 13
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 11
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 10
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 10
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N Guanidine Chemical compound NC(N)=N ZRALSGWEFCBTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 6
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052910 alkali metal silicate Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 description 4
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 150000003013 phosphoric acid derivatives Chemical class 0.000 description 4
- 125000001453 quaternary ammonium group Chemical group 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N N-methyl-guanidine Natural products CNC(N)=N CHJJGSNFBQVOTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N dimethylaminoamidine Natural products CN(C)C(N)=N SWSQBOPZIKWTGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 3
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N lithium metasilicate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-][Si]([O-])=O PAZHGORSDKKUPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052912 lithium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N strontium oxide Chemical compound [O-2].[Sr+2] IATRAKWUXMZMIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 1-ethynyl-2,4-dimethoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C#C)C(OC)=C1 IVORCBKUUYGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 1
- ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N Nitrogen oxide(NO) Natural products O=N ODUCDPQEXGNKDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QKDGGEBMABOMMW-UHFFFAOYSA-I [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[V+5] Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[OH-].[V+5] QKDGGEBMABOMMW-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004566 building material Substances 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-L calcium bis(dihydrogenphosphate) Chemical compound [Ca+2].OP(O)([O-])=O.OP(O)([O-])=O YYRMJZQKEFZXMX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Chemical compound [O-2].[Ca+2] BRPQOXSCLDDYGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000292 calcium oxide Substances 0.000 description 1
- ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N calcium oxide Inorganic materials [Ca]=O ODINCKMPIJJUCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000004568 cement Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 239000004567 concrete Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- RPUZVWKKWXPKIP-UHFFFAOYSA-H dialuminum;hydrogen phosphate Chemical compound [Al+3].[Al+3].OP([O-])([O-])=O.OP([O-])([O-])=O.OP([O-])([O-])=O RPUZVWKKWXPKIP-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N diethyl dimethyl silicate Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)OCC VGWJKDPTLUDSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BSVSPZGXUSFFEG-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane;tetrakis(2-hydroxyethyl)azanium Chemical compound O[Si](O)=O.OCC[N+](CCO)(CCO)CCO BSVSPZGXUSFFEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013007 heat curing Methods 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- CPSYWNLKRDURMG-UHFFFAOYSA-L hydron;manganese(2+);phosphate Chemical compound [Mn+2].OP([O-])([O-])=O CPSYWNLKRDURMG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003472 neutralizing effect Effects 0.000 description 1
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001925 ruthenium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N ruthenium(iv) oxide Chemical compound O=[Ru]=O WOCIAKWEIIZHES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229940071207 sesquicarbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010454 slate Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L strontium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Sr+2] UUCCCPNEFXQJEL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001866 strontium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N tetrabutyl silicate Chemical compound CCCCO[Si](OCCCC)(OCCCC)OCCCC UQMOLLPKNHFRAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N tetramethyl orthosilicate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)OC LFQCEHFDDXELDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N tetraphenyl silicate Chemical compound C=1C=CC=CC=1O[Si](OC=1C=CC=CC=1)(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 ADLSSRLDGACTEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L zinc hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Zn+2] UGZADUVQMDAIAO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910021511 zinc hydroxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940007718 zinc hydroxide Drugs 0.000 description 1
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
など構造物表面に形成された多孔質無機塗膜面に、窒素
酸化物分解性処理剤を含浸させて、該塗膜面の汚れを防
止する処理方法を提供する。 【解決手段】基材に水溶性珪酸塩系塗料が塗装されてな
る多孔質無機塗膜面に、アルキルシリケ−ト又はその低
縮合物の加水分解物、光触媒活性を有する二酸化チタン
及び溶媒を含有する処理剤を浸透塗布する。
Description
ガードレールやトンネル内壁など構造物表面に形成され
た多孔質無機塗膜面に、窒素酸化物分解性処理剤を含浸
させて、該塗膜面の汚れを防止する処理方法に関する。
して、自動車道路周辺の排ガスによる窒素酸化物(No
x)の減少のために、光触媒活性を有する二酸化チタン
等を含む塗料をガードレール、トンネル内壁などに塗装
することが提案されている(例えば特開平7−3311
20号公報など)。
鉛は、光半導体であり、バンドギャップが3eV付近に
あるため、太陽光や人工照明光の照射により容易に励起
され、ホールやOHラジカルが発生し、強い酸化性を示
し、窒素酸化物を酸化させ最終的に硝酸に変化させる作
用を有する。また該光触媒作用により塗膜面が親水化さ
れるため、排気ガスの影響で付着した汚染物を降雨によ
り洗い流されやすくする。
ンなどを含む塗料を構造物面やその表面に形成される既
設の塗装面に塗布すると、光触媒活性酸化チタンが光照
射により強い酸化性を示し、構造物素材やその塗装面を
酸化・分解、劣化させてしまうため、その使用には制限
があった。また光触媒活性酸化チタンなどを含む塗料
は、塗布膜厚が厚くなるとその応力のため硬化時にワレ
やハガレが発生する不具合があった。
を解決すべく鋭意検討した結果、特定の無機塗料を塗装
して形成される多孔質無機塗膜が、光触媒活性を有する
成分の酸化作用によって劣化することがなく、該塗膜に
光触媒活性を有する成分を配合した処理剤を塗布せしめ
ると、多孔質無機塗膜の細孔内部に処理剤が良好に浸透
し、硬化・固定されるので、処理面にワレなどが発生せ
ず、光触媒作用を長期に発揮させることができることを
見出し本発明を完成するに至った。
塗料が塗装されてなる多孔質無機塗膜面に、アルキルシ
リケ−ト又はその低縮合物の加水分解物、光触媒活性を
有する二酸化チタン及び溶媒を含有する処理剤を浸透塗
布し、基材面に形成された塗膜の汚れを防止する処理方
法を提供するものである。
塗料は、通常、水溶性珪酸塩(a)と硬化剤(b)とを
主成分とするものである。
金属珪酸塩、(2)アルミニウム、周期律表第IIA族
に属する金属及び遷移金属から選ばれた金属の酸化物及
び/又は水酸化物と一般式 M2 O・xSiO2 ・yH
2 O(ただし、Mは周期率表第IA族に属するアルカリ
金属、N(CH2 OH)4 、N(C2 H4 OH)4 また
はC(NH2 )2 NHを表し、xおよびyは正数であ
る)で示される水溶性珪酸塩原料(A)とを加熱反応せ
しめて得られる変性水溶性珪酸塩などを挙げることがで
きる。
表第IA族に属するアルカリ金属と珪酸とからなり、一
般式 (Alk)2 O・xSiO2 ・yH2 O[ただ
し、(Alk)は周期率表第IA族に属するアルカリ金
属(Li、K、Na、Csなど)を表し、xおよびyは
正数である]で表すことができるものである。アルカリ
金属珪酸塩としては、珪酸ナトリウム、珪酸リチウム、
珪酸カリウム、珪酸セシウムなどが挙げられ、これらは
通常、水溶液の形態で使用される。
反応させる、アルミニウム、周期律表第IIA族に属す
る金属及び遷移金属から選ばれた金属の酸化物及び/又
は水酸化物としては、酸化アルミニウム、水酸化アルミ
ニウム;酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、酸化
カルシウム、水酸化カルシウム、酸化ストロンチウム、
水酸化ストロンチウム、酸化バリウムなどの周期律表第
IIA族に属する金属の酸化物及び水酸化物;酸化亜
鉛、酸化ジルコニウム、水酸化ジルコニウム、水酸化バ
ナジウムなどの遷移金属の酸化物及び水酸化物を挙げる
ことができる。
上記アルミニウム、周期律表第IIA族に属する金属及
び遷移金属から選ばれた金属の酸化物及び/又は水酸化
物と反応させる水溶性珪酸塩原料(A)は、一般式 M
2 O・xSiO2 ・yH2 O(ただし、Mは周期率表第
IA族に属するアルカリ金属、N(CH2 OH)4 、N
(C2 H4 OH)4 またはC(NH2 )2 NHを表し、
xおよびyは正数である)で示されるものである。この
一般式において、xの数値は、1〜5程度が好適であ
り、yの数値は、最終的に得られる組成物に適当な粘性
を付与し塗装作業性にさしつかえない範囲であれば特に
制限はない。
記アルカリ金属珪酸塩、第4級アンモニウムと珪酸とか
らなる第4級アンモニウム珪酸塩、グアニジンと珪酸と
からなるグアニジン珪酸塩などを挙げることができる。
アルカリ金属珪酸塩、第4級アンモニウム珪酸塩及びグ
アニジン珪酸塩は、いずれも通常、水溶液の形態で使用
される。上記第4級アンモニウム珪酸塩としては、珪酸
テトラメタノールアンモニウム、珪酸テトラエタノール
アンモニウムなどが挙げられる。
散することによって水溶性珪酸塩水溶液とすることがで
きる。水溶性珪酸塩水溶液の濃度が約10〜60重量%
程度の範囲となるように水を加えて最終的に得られる組
成物が塗装時に適した粘度になるように粘度調節を行う
ことが可能である。
の酸化物及び/又は水酸化物の1種又は2種以上の混合
物と上記水溶性珪酸塩原料(A)の1種又は2種以上の
混合物とを、加熱、撹拌して反応させることにより得ら
れる。反応条件は、圧力によって異なるが、常圧ではお
よそ50〜100℃の温度で約3〜72時間程度であ
る。
物及び/又は水酸化物との固形分重量混合比は、前者:
後者の比で、100:0.5〜100:50の範囲が、
得られる被膜の耐水性、耐薬品性、塗膜強度の点などか
ら望ましい。
料のバインダーにおける水溶性珪酸塩としては、上記変
性水溶性珪酸塩(2)が好適である。
は、(1)燐酸、(2)縮合燐酸塩、及び(3)一般式
M2 O・xSiO2 ・y´H2 O(ただし、Mは周期
率表第IA族に属するアルカリ金属、N(CH2 OH)
4 、N(C2 H4 OH)4 またはC(NH2 )2 NHを
表し、xは正数、y´は正数又は0である)で示される
水溶性珪酸塩原料(B)と縮合燐酸塩との反応生成物な
どを挙げることができる。
M´i Oj ・mP2 O5 ・nH2 O(ただしM´は金属
を表し、i,j,mは正数で、かつi/j=2/金属
(M´)の価数、mは0.25以上の数であり、nは0
又は正数を表す。)で表される燐酸塩の1種又は2種以
上の混合物を亜鉛及び/又はマグネシウム及び/又はカ
ルシウムを含む複合酸化物、例えば、ZnO−Ti
O2 、MgO−TiO2 、CaO−TiO2 、MgO−
Fe2 O3 、ZnO−Al2 O3 で表される複合酸化物
で中和し、さらに必要に応じて、乾燥、または加熱焼成
させて粉砕したものを挙げることができる。また縮合燐
酸塩(2)の製造時に、燐酸塩及び複合酸化物に加え、
必要に応じてシリカ粉末、ケイソウ土などの珪酸質粉末
を添加混合して使用してもよい。珪酸質粉末を添加混合
することにより、乾燥、加熱硬化を均一かつ迅速に行う
ことができ、さらに乾燥または加熱焼成して得た生成物
の粉砕もきわめて容易に行うことができるようになる。
珪酸質粉末の配合量は、縮合燐酸塩に対して、50重量
%以下、さらには5〜40重量%の範囲であることが好
適である。
は、例えば第1燐酸カルシウム、第1燐酸マグネシウ
ム、第1燐酸アルミニウム、第1燐酸銅、第1燐酸鉄、
第1燐酸マンガン、第1燐酸亜鉛などの第1燐酸塩;こ
れらの第1燐酸塩に、さらに、2Al2 O3 ・3P2 O
5 ・3H2 O、2CaO・P2 O5 ・H2 O、2MgO
・P2 O5 ・H2 Oのような第2燐酸塩、Al2 O3 ・
2P2 O5 ・3H2 Oのようなセスキ燐酸塩又はCaH
2 P2 O7 等を前記mが0.25以上となるように混合
したものなどを挙げることができる。
縮合燐酸塩との反応生成物(3)である場合において、
水溶性珪酸塩原料(B)は一般式 M2 O・xSiO2
・y´H2 Oで表され前記水溶性珪酸塩原料(A)を包
含するものであり、縮合燐酸塩としては上記縮合燐酸塩
(2)として挙げたものを使用することができる。
塩原料(B)と縮合燐酸塩との反応は、両者を単に混合
するだけで進行する。両者の反応性が強いために単に混
合して反応させると大きな塊状となるために、この系の
反応はサンドミル、アトライターなどの混合分散機器を
用いて粉砕、混合しながら行うことが望ましい。この反
応は、水溶性珪酸塩原料(B)として水溶液の形態のも
のを使用するなど、水の存在下で行うことが好ましく、
こうすることによって反応生成物(3)をスラリー状の
形態で得ることができる。
(B)と縮合燐酸塩との配合比率は、水溶性珪酸塩原料
(B)の固形分100重量部に対して縮合燐酸塩が30
0〜2000重量部の範囲であることが好ましい。
ける硬化剤(b)としては、水溶性珪酸塩原料(B)と
縮合燐酸塩との反応生成物(3)であることが好適であ
る。上記水溶性珪酸塩系塗料のバインダーとしては、塗
料用に使用できる水溶性珪酸塩系バインダーであれば特
に制限なく使用できるが、なかでも、水溶性珪酸塩
(a)として前記変性水溶性珪酸塩(2)を使用し、硬
化剤(b)として水溶性珪酸塩原料(B)と縮合燐酸塩
との反応生成物(3)を使用したものが好適である。
水溶性珪酸塩(a)と硬化剤(b)とを主成分とする場
合、これら両者の構成比率は、水溶性珪酸塩(a)の固
形分100重量部に対し、硬化剤(b)の固形分が10
〜150重量部となる範囲が好適である。
塩(a)が前記変性水溶性珪酸塩(2)であり、硬化剤
(b)が水溶性珪酸塩原料Bと縮合燐酸塩との反応生成
物(3)である場合には、これら両者の構成比率は、変
性水溶性珪酸塩(2)の固形分100重量部に対し、反
応生成物(3)の固形分が60〜150重量部となる範
囲がより好適である。
に応じて、通常、塗料工業において使用されている顔
料、充填剤、流動性調整剤などの添加剤などを配合する
ことができる。
材面にスプレー塗装、刷毛塗り、ローラーコート塗装な
どによって塗装することができる。塗装膜厚は特に限定
されるものではないが、通常、10〜300ミクロン、
さらに好ましくは20〜150ミクロンの範囲であるこ
とが好適である。また塗膜は120〜300℃で約15
〜60分間程度焼付けることにより硬化させることがで
き、多孔質無機塗膜が形成される。
ト、コンクリート、モルタル、珪酸カルシウム板、石膏
ボード、その他の無機質建材、金属などの素材面やその
表面処理面、プライマ−塗装面などが挙げられ、その構
造物としては、例えばガ−ドレ−ル、トンネル内壁表示
物などの自動車道路周辺、ビルなどの建築構造物、橋
梁、タンクなどの土木構造物等の屋外構造物が挙げられ
る。上記多孔質無機塗膜は新設の塗膜でも、既設の旧塗
膜であってもよい。
質無機塗膜面に、アルキルシリケ−ト又はその低縮合物
の加水分解物、光触媒活性を有する二酸化チタン及び溶
媒を含有する処理剤を浸透塗布する。
は、下記一般式
基、nは1以上の整数を示す)で表わされるものであ
る。該アルキル基としては、直鎖状又は分岐状のいずれ
であってもよく、例えばメチル、エチル、n−プロピ
ル、i−プロピル、n−ブチル、i−ブチル、t−ブチ
ル、n−ペンチル、i−ペンチル、ネオペンチル、ヘキ
シル、オクチル基などが挙げられ、特に炭素数1〜3の
低級アルキル基が好適である。上記アルキルシリケ−ト
の好ましい具体例としては、例えばテトラメトキシシラ
ン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、
テトラブトキシシラン、テトラフェノキシシラン、ジメ
トキシジエトキシシラン及びこれらの縮合物が挙げられ
る。これらのものは1種もしくは2種以上組み合わせた
ものも使用できる。
nが1以上のものであるが、好ましくはnが1〜20の
ものである。nが20を越えると溶媒に対する溶解性及
び塗装作業性が悪くなるので好ましくない。
下でアルキルシリケ−ト中のSi量をSiO2 量に換算
して100重量部に対して水3〜70重量部の範囲にな
るように添加して行なう。酸触媒としては、例えば塩
酸、硫酸、硝酸などの無機酸が好ましく、中でも塩酸が
特に好ましい。また、アルキルシリケ−トの加水分解反
応は、アルキルシリケ−トを溶解するアルコ−ル中でお
こなうことができる。使用できるアルコ−ルとしては例
えばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ルなどが好適
である。
は前記一般式で表されるRの一部もしくは全部が水素原
子で置換したものであり、そしてこれらの一部縮合物を
含んでいてもさしつかえない。
二酸化チタンは、粒子径0.5μm以下、好ましくは
0.001〜0.2μmのものが適当であり、アナタ−
ゼ型の二酸化チタンが好適である。好適なアナターゼ型
二酸化チタンの市販品としては、例えば、石原テクノ
(株)製の、「ST−01」、「ST−21」、「ST
−31」などを挙げることができる。また光触媒活性を
向上させるために二酸化チタン表面が白金、銀、銅など
の金属、酸化ルテニウム、酸化ニッケルなどの金属酸化
物で被覆されていてもよい。
トと均一分散させるために予め水、アルコ−ル等の溶媒
で二酸化チタンの分散液として配合することが望まし
い。
使用比は、アルキルシリケ−トをSiO2 量に換算し
て、TiO2 /SiO2 が95/5〜20/80の範囲
が好適である。
二酸化チタンの分散液にアルキルシリケ−トもしくはそ
の加水分解物を撹拌下で混合し調整することができる。
その際、酸触媒を同時に加えて加水分解を進めてもよ
い。両者の混合物として、市販品である、例えば石原テ
クノ(株)製の「ST−K−01」、「ST−K−0
3」などを使用することもできる。
グ剤の固形分調整等のために配合されるものであり、ア
ルコ−ル類が好適である。該アルコ−ルとしては、例え
ばメタノ−ル、エタノ−ル、プロパノ−ルなどが挙げら
れる。該溶媒として、必要に応じて、トルエン、キシレ
ン、n−ヘキサン、石油エ−テル、石油ナフサ等の炭化
水素系、メタノ−ル、エタノ−ル等のアルコ−ル系、ア
セトン、メチルエチルケトン等のケトン系、エチレング
リコ−ル、ジエチレングリコ−ル等のグリコ−ル系、エ
チレングリコ−ルモノメチルエ−テル、エチレングリコ
−ルモノエチルエ−テル等のグリコ−ルエ−テル系など
の有機溶剤を適宜添加してもよい。上記処理剤の固形分
濃度は、20重量%以下、好ましくは0.3〜5重量
%、さらに好ましくは0.5〜4重量%程度が作業性等
の点から好適である。
剤、着色剤、流動性調整剤、その他塗料用添加剤などが
配合できる。
−ラ−塗り、スプレ−などの手段で行なうことができ
る。塗布量は、多孔質無機塗膜面に浸透しきれずに表面
に溜まる程でない限り特に制限はないが、固形分量で
0.5〜30g/m2 の範囲内が好適である。該塗布量
が5g/m2 以下では、通常、多孔質無機塗膜は透水性
を、10g/m2 以上では水遮断性を示すものである。
照射されることにより、光触媒作用を発揮するものであ
り、例えば太陽光の入射しないトンネル中央付近の内壁
などでも、酸化チタンのバンドギャップに相当する38
0nm成分を含むブラックライトなどの光源を用いるこ
とで光触媒作用を発揮させることができる。
説明する。尚、「部」及び「%」は、それぞれ重量基準
によるものとする。
0部と珪酸リチウム(x=4)の25%水溶液40部と
酸化マグネシウム2.5部及び酸化アルミニウム2部を
混合し、撹拌しながら、90℃で10時間反応を行い、
変性珪酸塩水溶液−1を得た。
100部と酸化亜鉛1部と水10部を混合し、撹拌しな
がら、80℃で72時間反応を行い、変性珪酸塩水溶液
−2を得た。
30部からなる燐酸塩(mが約1.2)に水酸化亜鉛2
8部及び水酸化アルミニウム22部を混合し、焼成して
複合酸化物を得た。得られた複合酸化物150部に珪石
粉30部を混合し、160℃で5時間焼成した後、粉砕
して縮合燐酸塩を得た。
ム(x=3)の30%水溶液50部、「JR605」
(テイカ社製、ルチル型酸化チタン、商品名)9部及び
水40部をペブルミルに仕込み、24時間を要して混
合、反応、分散を行いスラリー状硬化剤成分−1を得
た。
硬化剤成分−1とを固形分比が1/1となるように混合
し、水性無機塗料組成物を得た。
硬化剤成分−1とを固形分比が1/1となるように混合
し、水性無機塗料組成物を得た。
を乾燥膜厚で100μmとなるよう塗装し300℃で6
0分間焼き付けて塗装板を得た。次いで、その多孔質無
機塗膜面に、「ST−K03」(石原テクノ社製、二酸
化チタンとエチルシリケ−ト低縮合物の加水分解物との
1:1混合物、固形分10%)を刷毛で塗布量(固形分
量)3g/m2 となるように塗布・浸透させた。これを
20℃、75%RHで24時間放置し処理塗装板を得
た。
で得たものを用いる以外は実施例1と同様にして処理塗
装板を得た。
ニデラックス300白」(関西ペイント社製、アクリル
樹脂系エマルション塗料)を用いて、乾燥膜厚で120
μmとなるよう塗装し常温乾燥して得た塗装板を用いる
以外は実施例1と同様にして処理塗装板を得た。
CELA150」(関西ペイント社製、ポリシロキサン
樹脂系塗料)を用いて、乾燥膜厚で30μmとなるよう
塗装し180℃で20分間焼き付けて得た塗装板を用い
る以外は実施例1と同様にして処理塗装板を得た。
オルトエチルシリケートの低縮合体、平均約6量体、商
品名)を、水及び塩酸触媒の存在下にて縮合してエチル
シリケート縮合体溶液を得た。
わりに、このエチルシリケ−ト加水縮合体溶液を用いる
以外は実施例1と同様にして塗装板を得た。
したがって各種試験を行った。試験結果を後記表1に示
す。
UV促進耐候性試験による。試験条件は、紫外線照射1
6時間(60℃)−水凝結8時間(50℃)を1サイク
ルとして90サイクルまで試験を行い、塗面にワレが発
生したサイクル数を調査し記載した。90サイクルで塗
面にワレが発生しないものについては、90<と記載す
る。
横50mmの大きさに切断し、この塗板を、高さ400
mm、横400mm、奥行500mmの反応容器内に設
置した。反応容器内には雰囲気ガスとして窒素酸化物
(NO)0.1ppmと空気からなっている。反応容器
上部から高圧水銀灯を照射強度2mW/cm2 にて1時
間照射した後、反応容器内の窒素酸化物濃度を「ポータ
ブルNOXアナライザーNOA305」(島津製作所
製、窒素酸化物分析計、商品名)を用いて測定した。窒
素酸化物濃度(ppm)を表示する。
場、南面30度の角度に塗装板を設置し、6ケ月間屋外
暴露試験を行った。試験後の塗装板の汚染程度を暴露し
ていない初期塗板との差(CIE表色系における明度差
ΔL* )で評価した。試験後の塗装板は、水洗せずにそ
のままのもの、及びスポンジを用いて水洗して表面の汚
れを軽く落とした水洗後のものについて測定した。
ンを含む処理剤を多孔質無機塗膜に浸透させるので、塗
布量が多くなってもワレやハガレが生じることがなく、
また細孔内では酸化チタンが均一に分布しており、平滑
塗膜に比べて光触媒の露出表面積が大きいので光触媒能
が非常に高くなる。
辺(トンネル内、自動車の交通量の多い場所周辺)に使
用することによって、自動車の排気ガスなどに高濃度で
含有される窒素酸化物や硫黄酸化物を酸化、分解するこ
とができ、これら有害物の濃度を低下させることがで
き、しかも表面が親水化し、付着した塵埃や油性成分等
の汚染物が雨水などによって洗い流されやすくなり良好
な耐汚染性が長期にわたって得られる。
Claims (4)
- 【請求項1】 基材に水溶性珪酸塩系塗料が塗装されて
なる多孔質無機塗膜面に、アルキルシリケ−ト又はその
低縮合物の加水分解物、光触媒活性を有する二酸化チタ
ン及び溶媒を含有する処理剤を浸透塗布して、基材面に
形成された塗膜の汚れを防止する処理方法。 - 【請求項2】 水溶性珪酸塩系塗料が、(a)水溶性珪
酸塩及び(b)硬化剤を主成分として含有する請求項1
記載の塗装方法。 - 【請求項3】 水溶性珪酸塩(a)が、アルミニウム、
周期律表第IIA族に属する金属及び遷移金属から選ば
れた金属の酸化物及び/又は水酸化物と一般式M2 O・
xSiO2 ・yH2 O(ただし、Mは周期率表第IA族
に属するアルカリ金属、N(CH2 OH)4 、N(C2
H4 OH)4 またはC(NH2 )2 NHを表し、xおよ
びyは正数である)で示される水溶性珪酸塩とを加熱反
応せしめて得られる変性水溶性珪酸塩である請求項2記
載の塗装方法。 - 【請求項4】 硬化剤(b)が、一般式 M2 O・xS
iO2 ・y´H2 O(ただし、Mは周期率表第IA族に
属するアルカリ金属、N(CH2 OH)4 、N(C2 H
4 OH)4 またはC(NH2 )2 NHを表し、xは正
数、y´は正数又は0である)で示される水溶性珪酸塩
と縮合燐酸塩との反応生成物である請求項2又は3記載
の塗装方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10004389A JPH11197600A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 塗膜の汚染防止処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10004389A JPH11197600A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 塗膜の汚染防止処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11197600A true JPH11197600A (ja) | 1999-07-27 |
Family
ID=11583009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10004389A Pending JPH11197600A (ja) | 1998-01-13 | 1998-01-13 | 塗膜の汚染防止処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH11197600A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000023528A1 (fr) * | 1998-10-19 | 2000-04-27 | Toto Ltd. | Materiau resistant aux salissures, procede et dispositif de production et composition de revetement |
FR2797262A1 (fr) * | 1999-08-05 | 2001-02-09 | Mci Sa | Procede de traitement de materiau architectural |
WO2001021722A1 (fr) * | 1999-09-21 | 2001-03-29 | Toto Ltd. | Materiau de revetement hydrophile photocatalytique |
WO2003022936A1 (fr) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Dynic Corporation | Film de revetement destine a la recuperation de petrole et composition de revetement permettant de former le film de revetement |
-
1998
- 1998-01-13 JP JP10004389A patent/JPH11197600A/ja active Pending
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000023528A1 (fr) * | 1998-10-19 | 2000-04-27 | Toto Ltd. | Materiau resistant aux salissures, procede et dispositif de production et composition de revetement |
US6673433B1 (en) | 1998-10-19 | 2004-01-06 | Toto Ltd. | Stainproof material and method for manufacturing the same, and coating composition and apparatus thereof |
FR2797262A1 (fr) * | 1999-08-05 | 2001-02-09 | Mci Sa | Procede de traitement de materiau architectural |
WO2001010793A1 (fr) * | 1999-08-05 | 2001-02-15 | Saint-Gobain Materiaux De Construction | Procede de traitement de materiau architectural |
US6919104B2 (en) | 1999-08-05 | 2005-07-19 | Saint-Gobain Materiaux De Construction | Process for treating architectural material |
WO2001021722A1 (fr) * | 1999-09-21 | 2001-03-29 | Toto Ltd. | Materiau de revetement hydrophile photocatalytique |
WO2003022936A1 (fr) * | 2001-09-07 | 2003-03-20 | Dynic Corporation | Film de revetement destine a la recuperation de petrole et composition de revetement permettant de former le film de revetement |
KR100820264B1 (ko) * | 2001-09-07 | 2008-04-07 | 다이닛쿠 가부시키가이샤 | 유류 회수용 피막 및 그 피막을 형성하기 위한 도료 조성물 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI441678B (zh) | Photocatalyst coating and photocatalyst coating solution | |
TW200540227A (en) | Coating composition having surface depolluting properties | |
CN101525504A (zh) | 具有自分层隔离作用的光催化自清洁涂膜剂及其制备方法 | |
KR101892899B1 (ko) | 내약품성 및 부착강도가 뛰어난 침투성 세라믹코팅제 및 방수도장공법 | |
KR102531955B1 (ko) | 콘크리트 구조물의 표면보수용 도막재 조성물 및 이를 이용한 콘크리트 구조물의 표면보수보강방법 | |
AU2003253363A1 (en) | Ceramic coating for combustion boilers | |
EP1706360B1 (en) | COMPOSITION FOR USE NOx REMOVING TRANSLUCENT COATING | |
JP4287695B2 (ja) | 光触媒体 | |
JP2005138059A (ja) | 速硬化性光触媒体 | |
KR100988287B1 (ko) | 폐유리 분말을 이용한 유/무기 복합모르타르와 이를 이용한 바닥 시공방법 | |
JPH11197600A (ja) | 塗膜の汚染防止処理方法 | |
JPH10195333A (ja) | 窒素酸化物分解性塗膜を形成可能な水性塗料組成物 | |
CN115948084B (zh) | 一种混凝土自清洁有机无机杂化防水涂料及其制备方法 | |
KR101102134B1 (ko) | 환경 친화성 무기계 세라믹 콘크리트 열화방지제의 제조방법 | |
JPH10212809A (ja) | 外壁用建材 | |
US6770690B2 (en) | Silicone rubber compositions for rubber construction materials | |
TWI299284B (en) | Transparent film-forming composition | |
JP4761703B2 (ja) | シリカ分散液 | |
WO1999052983A1 (fr) | Composition de revetement inorganique et film de revetement inorganique hydrophile | |
JPH11302596A (ja) | 有害物質分解性被覆組成物及びこれを塗布した基材 | |
JP2000302422A (ja) | 光触媒膜形成用コーティング組成物 | |
JP2004107204A (ja) | 水系シリカ分散液 | |
JP2000219564A (ja) | セメント組成物 | |
KR102509690B1 (ko) | 세라믹 도료 조성물 | |
WO2024090583A1 (ja) | 無機材料厚膜およびその形成方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20050105 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20070207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070220 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070411 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070605 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20071113 |