JPH1119605A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 純水と薬液とを混合させる混合部に供給する
純水の供給量を一定に維持し、純水供給源側での圧力変
動に起因する処理液の濃度変動を防止する。 【解決手段】 耐圧密閉構造の薬液タンク７内の薬液を
薬液供給路６へ設定圧力で加圧供給して混合部５へ供給
するとともに、純水供給源１７からの純水を純水供給路
１６を介して混合部５へ供給し、純水と薬液とを混合し
た処理液を処理液供給路３を介して処理槽１へ供給す
る。純水供給路１６に純水圧力制御弁１８を設け、混合
部５へ供給される純水の圧力を空気圧の付与によって制
御する。純水圧力センサ２１によって検出された純水の
圧力値に基づいて、純水コントローラ２２から第２の電
空変換器１９に第２の制御信号を出力し、この第２の電
空変換器１９で、混合部５へ供給される純水の圧力が一
定に維持されるように純水圧力制御弁１８に付与される
空気圧を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハや液
晶表示器用ガラス基板などの基板を、純水と薬液とを混
合した処理液で処理する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板処理装置は、従来一般に、
図５の概略構成図に示すように構成されている。すなわ
ち、純水と薬液とを混合した処理液で基板を処理する基
板処理槽０１に処理液供給路０２を介して混合部０３が
接続されている。

【０００３】混合部０３には、薬液供給路０４を介し
て、薬液を貯留する耐圧密閉構造の薬液タンク０５が接
続されている。また、薬液タンク０５には、不活性ガス
である窒素ガスを導入する窒素ガス導入管０６が接続さ
れている。

【０００４】窒素ガス導入管０６には、導入する窒素ガ
スの圧力を制御するガス圧力制御弁０７が設けられ、こ
のガス圧力制御弁０７が、第１の電空変換器０８から所
定圧力の空気圧を付与することにより操作され、薬液タ
ンク０５内に導入する不活性ガス（Ｎ₂ ）の圧力を調整
し、薬液タンク０５から混合部０３に設定量の薬液が供
給される。

【０００５】薬液供給路０４には、薬液の吐出圧を測定
する薬液圧力センサ０９が設けられ、この薬液圧力セン
サ０９に薬液コントローラ０１０が接続されるととも
に、薬液コントローラ０１０に第１の電空変換器０８が
接続されている。

【０００６】薬液コントローラ０１０では、薬液圧力セ
ンサ０９で測定される薬液の吐出圧と設定圧力とを比較
し、その比較結果に基づいて、設定圧力に戻すのに必要
な制御値を求め、その制御値に対応する制御信号を第１
の電空変換器０８に出力し、薬液タンク０５内に導入す
る不活性ガスの圧力が一定に維持されるように、ガス圧
力制御弁０７に付与する空気圧を制御し、薬液タンク０
５からの薬液を薬液供給路０４を介して混合部０３に設
定圧力で加圧供給される。

【０００７】また、混合部０３には、純水供給路０１１
を介して純水供給源０１２が接続されている。純水供給
路０１１には、純水の吐出圧を制御する純水圧力制御弁
０１３が設けられ、この純水圧力制御弁０１３が、第２
の電空変換器０１４から設定圧力の空気圧を付与するこ
とにより操作される。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
ような構成を有する基板処理装置では、次のような問題
がある。すなわち、通常、純水供給源０１２からの純水
ラインが分岐され、それらの分岐された純水ラインとの
接続部が各所に配置され、その接続部に純水供給路０１
１の一端側を接続して使用するようになっている。

【０００９】そのため、純水の使用量が一時的に集中し
たような場合、純水圧力制御弁０１３の一次圧が変動す
る。純水圧力制御弁０１３は、第２の電空変換器０１４
から設定圧力の空気圧を付与することにより、二次圧を
一定に維持するものであるが、上述一次圧の急激な変動
に伴って二次圧も変動し、混合部０３に供給される純水
の流量が微妙に変動してしまう。

【００１０】また、純水圧力制御弁０１３は、一次圧と
二次圧の差圧がある一定の値以上であるときには安定し
て作動するが、純水の使用量が増して、純水圧力制御弁
０１３の一次圧が低くなってくると動作が不安定とな
り、二次圧の変動が生じてくる。この結果、薬液供給側
において、混合部０３に設定量の薬液を供給できるよう
に構成していても、混合部０３から基板処理槽０１に供
給される処理液の濃度が変動するという欠点があった。

【００１１】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、混合部へ供給する純水の供給量を一定
に維持し、純水供給源側での圧力変動に起因する処理液
の濃度変動を防止することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ために、請求項１に記載の発明は、純水と薬液とを混合
して得られた処理液で基板の処理を行う基板処理部と、
前記基板処理部に処理液供給路を介して接続され、純水
と薬液とを混合させる混合部と、前記混合部に一端が接
続され、他端が純水供給源に接続される純水供給路と、
前記純水供給路に設けられ、前記混合部へ供給される純
水の圧力を空気圧を付与することによって制御する純水
圧力制御弁と、前記混合部と前記純水圧力制御弁との間
に設けられ、前記混合部へ供給される純水の圧力値を検
出する純水圧力検出手段と、前記純水圧力検出手段によ
って検出された純水の圧力値に基づいて、前記純水圧力
制御弁に付与される空気圧を制御する純水制御手段と、
を備えたものである。

【００１３】また、請求項２に記載の発明は、請求項１
に記載の基板処理装置において、前記混合部に一端が接
続され、他端が薬液供給源に接続される薬液供給路と、
前記混合部と前記薬液供給源との間に設けられ、前記混
合部へ供給される薬液の圧力値を検出する薬液圧力検出
手段と、前記薬液圧力検出手段によって検出された薬液
の圧力値に基づいて、前記薬液供給源から前記混合部へ
供給される薬液の圧力を制御する薬液制御手段と、をさ
らに備えたものである。

【００１４】また、請求項３に記載の発明は、請求項１
に記載の基板処理装置において、前記混合部に一端が接
続され、他端が薬液供給源に接続される薬液供給路と、
前記混合部と前記薬液供給源との間に設けられ、前記混
合部へ供給される薬液の流量値を検出する薬液流量検出
手段と、前記薬液流量検出手段によって検出された薬液
の流量値に基づいて、前記薬液供給源から前記混合部へ
供給される薬液の流量を制御する薬液制御手段と、をさ
らに備えたものである。

【００１５】また、請求項４に記載の発明は、純水と薬
液とを混合して得られた処理液で基板の処理を行う基板
処理部と、前記基板処理部に処理液供給路を介して接続
され、純水と薬液とを混合させる混合部と、前記混合部
に一端が接続され、他端が薬液供給源に接続される薬液
供給路と、前記薬液供給路に設けられ、前記混合部へ供
給される薬液の圧力値を検出する薬液圧力検出手段と、
前記混合部に一端が接続され、他端が純水供給源に接続
される純水供給路と、前記純水供給路に設けられ、前記
混合部に供給される純水の圧力値を検出する純水圧力検
出手段と、前記薬液圧力検出手段によって検出された圧
力値と前記純水圧力検出手段によって検出された圧力値
とに基づいて、前記混合部へ供給される薬液の供給量と
前記混合部へ供給される純水の供給量とが所定の関係に
維持されるように、前記薬液供給源から前記混合部へ供
給される薬液の圧力を制御する制御手段と、を備えたも
のである。

【００１６】また、請求項５に記載の発明は、請求項４
に記載の基板処理装置において、前記制御手段は、さら
に、前記薬液圧力検出手段によって検出された圧力値と
前記純水圧力検出手段によって検出された圧力値とに基
づいて、前記混合部へ供給される薬液の供給量と前記混
合部へ供給される純水の供給量とが所定の関係に維持さ
れるように、前記純水供給源から前記混合部へ供給され
る薬液の圧力を制御するものである。

【００１７】また、請求項６に記載の発明は、純水と薬
液とを混合して得られた処理液で基板の処理を行う基板
処理部と、前記基板処理部に処理液供給路を介して接続
され、純水と薬液とを混合させる混合部と、前記混合部
に一端が接続され、他端が薬液供給源に接続される薬液
供給路と、前記薬液供給路に設けられ、前記混合部へ供
給される薬液の流量値を検出する薬液流量検出手段と、
前記混合部に一端が接続され、他端が純水供給源に接続
される純水供給路と、前記純水供給路に設けられ、前記
混合部へ供給される純水の流量値を検出する純水流量検
出手段と、前記薬液流量検出手段によって検出された流
量値と前記純水流量検出手段によって検出された流量値
とに基づいて、前記混合部へ供給される薬液の供給量と
前記混合部へ供給される純水の供給量とが所定の関係に
維持されるように、前記薬液供給源から前記混合部へ供
給される薬液の流量を制御する制御手段と、を備えたも
のである。

【００１８】また、請求項７に記載の発明は、請求項６
に記載の基板処理装置において、前記制御手段は、さら
に、前記薬液流量検出手段によって検出された流量値と
前記純水流量検出手段によって検出された流量値とに基
づいて、前記混合部へ供給される薬液の供給量と前記混
合部へ供給される純水の供給量とが所定の関係に維持さ
れるように、前記純水供給源から前記混合部へ供給され
る純水の流量を制御するものである。

【００１９】

【作用】請求項１に記載の発明では、純水と薬液とを混
合させる混合部と純水圧力制御弁との間に設けられた純
水圧力検出手段が、混合部へ供給される純水の圧力値を
検出し、この圧力値に基づいて、純水制御手段が純水圧
力制御弁に付与される空気圧を制御して、混合部へ供給
される純水の圧力を制御している。

【００２０】また、請求項２に記載の発明では、純水と
薬液とを混合させる混合部と薬液供給源との間に設けら
れた薬液圧力検出手段が、混合部へ供給される薬液の圧
力値を検出し、この圧力値に基づいて、薬液制御手段が
薬液供給源から混合部へ供給される薬液の圧力を制御し
ている。

【００２１】また、請求項３に記載の発明では、純水と
薬液とを混合させる混合部と薬液供給源との間に設けら
れた薬液流量検出手段が、混合部へ供給される薬液の流
量値を検出し、この流量値に基づいて、薬液制御手段が
薬液供給源から混合部へ供給される薬液の流量を制御し
ている。

【００２２】また、請求項４に記載の発明では、薬液供
給路に設けられた薬液圧力検出手段が混合部へ供給され
る薬液の圧力値を検出し、純水供給路に設けられた純水
圧力検出手段が混合部へ供給される純水の圧力値を検出
し、制御手段はこれらの圧力値に基づいて、混合部へ供
給される薬液の供給量と混合部へ供給される純水の供給
量とが所定の関係に維持されるように、薬液供給源から
混合部へ供給される薬液の圧力を制御している。

【００２３】また、請求項５に記載の発明では、さら
に、制御手段はこれらの圧力値に基づいて、混合部へ供
給される薬液の供給量と混合部へ供給される純水の供給
量とが所定の関係に維持されるように、純水供給源から
混合部へ供給される純水の圧力を制御している。

【００２４】また、請求項６に記載の発明では、薬液供
給路に設けられた薬液流量検出手段が混合部へ供給され
る薬液の流量値を検出し、純水供給路に設けられた純水
流量検出手段が混合部へ供給される純水の流量値を検出
し、制御手段はこれらの流量値に基づいて、混合部へ供
給される薬液の供給量と混合部へ供給される純水の供給
量とが所定の関係に維持されるように、薬液供給源から
混合部へ供給される薬液の流量を制御している。

【００２５】また、請求項７に記載の発明では、さら
に、制御手段はこれらの流量値に基づいて、混合部へ供
給される薬液の供給量と混合部へ供給される純水の供給
量とが所定の関係に維持されるように、純水供給源から
混合部へ供給される純水の流量を制御している。

【００２６】

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施例を図面に基
づいて詳細に説明する。図１は、本発明に係る基板処理
装置の第１実施例を示す概略構成図である。この基板処
理装置は、半導体ウエハなどの基板を複数枚収納した図
示しないウエハキャリアが浸漬される処理槽１と、この
処理槽１の周囲に、処理槽１から溢れた処理液を滞留す
るためのオーバーフロー槽２とを備えている。

【００２７】処理槽１の底部には、薬液と純水とを混合
した処理液を供給する処理液供給路３の一端側が接続さ
れ、また、このオーバーフロー槽２には、余剰の処理液
を排出する廃液路４が接続されている。

【００２８】処理液供給路３の他端側に混合部５が接続
されている。この混合部５には、薬液供給路６を介し
て、薬液を貯留する耐圧密閉構造の薬液タンク７が接続
されている。薬液タンク７には、薬液タンク７内の薬液
を薬液供給路６に加圧供給するように、不活性ガスであ
る窒素ガスを導入する窒素ガス導入管８を介して窒素ボ
ンベなどの窒素ガス供給源９が接続されている。

【００２９】窒素ガス導入管８には、導入する窒素ガス
の圧力を制御するガス圧力制御弁１０が設けられ、この
ガス圧力制御弁１０は、第１の電空変換器１１から所定
圧力の空気圧を付与することにより操作される。

【００３０】薬液供給路６には、フィルター１２と薬液
開閉弁１３とが設けられている。また、薬液供給路６に
は、薬液タンク７から混合部５へ供給される薬液の圧力
値を検出する薬液圧力センサ１４が設けられ、この薬液
圧力センサ１４が薬液コントローラ１５に接続されると
ともに、さらに、薬液コントローラ１５には、第１の電
空変換器１１が接続されている。

【００３１】薬液コントローラ１５では、薬液圧力セン
サ１４により検出された薬液の圧力値と、予め設定され
ている設定圧力値とを比較し、その比較結果に基づい
て、設定圧力に戻すのに必要な制御値を求め、その制御
値に対応する第１の制御信号を第１の電空変換器１１へ
出力する。この第１の電空変換器１１は、薬液タンク７
内に導入する不活性ガスの圧力が一定に維持されるよう
に、第１の制御信号に基づいてガス圧力制御弁１０に付
与する空気圧を制御する。その結果、薬液タンク７から
の薬液が薬液供給路６を介して混合部５へ設定圧力で加
圧供給される。

【００３２】なお、上記制御値としては、例えば、薬液
用制御値をＣ_M 、設定圧力値をＰ_C、検出された薬液の
圧力値をＰ_CMとしたときに、Ｃ_M ＝Ｐ_C ／Ｐ_CMとして求
められる。

【００３３】混合部５には、純水供給路１６を介して純
水供給源１７が接続されている。純水供給路１６には、
純水の吐出圧を制御する純水圧力制御弁１８と純水開閉
弁２０とが設けられ、この純水圧力制御弁１８が、第２
の電空変換器１９から設定圧力の空気圧を付与すること
により操作される。

【００３４】また、純水供給路１６には、純水供給源１
７から混合部５へ供給される純水の圧力値を検出する純
水圧力センサ２１が設けられ、この純水圧力センサ２１
が純水コントローラ２２に接続されるとともに、さら
に、この純水コントローラ２２には、第２の電空変換器
１９が接続されている。

【００３５】純水コントローラ２２では、純水圧力セン
サ２１により検出された純水の圧力値と、予め設定され
ている設定圧力値とを比較し、その比較結果に基づい
て、設定圧力値に戻すのに必要な制御値を求め、その制
御値に対応する第２の制御信号を第２の電空変換器１９
へ出力する。この第２の電空変換器１９は、混合部５に
供給される純水の圧力が一定に維持されるように、純水
圧力制御弁１８に付与する空気圧を制御する。その結
果、純水供給源１７からの純水が純水供給路１６を介し
て混合部５へ設定圧力で供給される。

【００３６】なお、上記制御値としては、例えば、純水
用制御値をＣ_W 、設定圧力値をＰ_W、検出された薬液の
圧力値をＰ_WMとしたときに、Ｃ_W ＝Ｐ_W ／Ｐ_WMとして求
められる。

【００３７】混合部５には、薬液開閉弁１３ａ，１３ｂ
を介装した薬液供給路６ａ，６ｂを介して複数の他の薬
液タンク（図示せず）が接続され、それらに対しても同
様に、混合部５に薬液が設定圧力で加圧供給される。

【００３８】以上の構成により、純水供給源１７での圧
力変動にかかわらず、混合部５へ薬液を設定圧力で加圧
供給するとともに、混合部５へ純水を設定圧力で供給
し、設定濃度の処理液を得ることができる。

【００３９】図２は、本発明に係る基板処理装置の第２
実施例を示す概略構成図であり、第１実施例と異なると
ころは次の通りである。

【００４０】すなわち、図２に示すように、薬液供給路
６には、薬液タンク７から混合部５へ供給される薬液の
流量値を検出する薬液流量センサ１４Ａが設けられ、こ
の薬液流量センサ１４Ａが薬液コントローラ１５に接続
されているとともに、さらに、薬液コントローラ１５に
は、第１の電空変換器１１が接続されている。

【００４１】薬液コントローラ１５では、薬液流量セン
サ１４Ａにより検出された薬液の流量値と、予め設定さ
れている設定流量値とを比較し、その比較結果に基づい
て、設定流量に戻すのに必要な制御値を求め、その制御
値に対応する制御信号を第１の電空変換器１１に出力す
る。この第１の電空変換器１１は、薬液タンク７内に導
入する不活性ガスの圧力が一定に維持されるように、制
御信号に基づいてガス圧力制御弁１０に付与する空気圧
を制御する。その結果、薬液タンク７からの薬液が薬液
供給路６を介して混合部５へ設定流量に対応する圧力で
加圧供給される。

【００４２】したがって、図１に示す薬液圧力センサ１
４のかわりに薬液流量センサ１４Ａを設けて、薬液の流
量を検出しても、実施例１と同様に、純水供給源１７で
の圧力変動にかかわらず、混合部５へ薬液を設定流量に
したがって加圧供給できる。

【００４３】図３は、本発明に係る基板処理装置の第３
実施例を示す概略構成図である。

【００４４】純水供給路１６には、純水供給源１７から
混合部５へ供給される純水の圧力値を検出する純水圧力
センサ２７が設けられ、この純水圧力センサ２７が薬液
コントローラ２８に接続されている。さらに、薬液コン
トローラ２８には、ガス圧力制御弁１０に対する第１の
電空変換器１１が接続されている。また、薬液供給路６
には、薬液タンク７から混合部５へ供給される薬液の圧
力値を検出する薬液圧力センサ２９が設けられ、この薬
液圧力センサ２９が薬液コントローラ２８に接続されて
いる。

【００４５】この薬液コントローラ２８では、検出され
た純水の圧力値に基づいて、その時点での薬液の圧力値
を入力し、純水の圧力値と混合部５に供給される薬液の
圧力値との相対関係を一定に維持するのに必要な制御値
を求め、その制御値に対応する制御信号を第１の電空変
換器１１に出力する。第１の電空変換器１１は、純水の
圧力、すなわち、混合部５への純水の供給量と、薬液の
圧力、すなわち、混合部５への薬液の供給量との相対関
係を一定に維持するように操作される。その結果、純水
供給源１７での圧力変動にかかわらず、設定濃度の処理
液を得ることができる。

【００４６】また、上記制御値に対応する制御信号は、
第２の電空変換器１９へも出力される。第２の電空変換
器１９は、混合部５への純水の供給量と、混合部５への
薬液の供給量との相対関係を一定に維持するように操作
される。その結果、純水供給源１７での圧力変動にかか
わらず、設定濃度の処理液を得ることができる。

【００４７】なお、上記制御値としては、例えば、制御
値をＣ、純水の設定圧力値をＰ_W 、検出された純水の圧
力値をＰ_WM、薬液の設定圧力値をＰ_C 、検出された薬液
の圧力値をＰ_CMとしたときに、Ｃ＝（Ｐ_C ／Ｐ_CM）×
（Ｐ_WM／Ｐ_W ）として求められるようになっている。

【００４８】図４は、本発明に係る基板処理装置の第４
実施例を示す概略構成図である。純水供給路１６には、
純水供給源１７から混合部５へ供給される純水の流量値
を検出する純水流量センサ２７Ａが設けられ、この純水
流量センサ２７Ａが薬液コントローラ２８に接続されて
いる。また、薬液供給路６には、薬液タンク７から混合
部５へ供給される薬液の流量値を検出する薬液流量セン
サ２９Ａが設けられ、この薬液流量センサ２９Ａが薬液
コントローラ２８に接続されている。

【００４９】この薬液コントローラ２８では、検出され
た純水の流量値に基づいて、その時点での薬液の流量値
を入力し、純水の流量値と薬液の流量値と相対関係を一
定に維持するのに必要な制御値を求め、その制御値に対
応する制御信号を第１の電空変換器１１へ出力する。第
１の電空変換器１１は、純水の流量に対応する純水の供
給量と薬液の流量に対応する薬液の供給量との相対関係
を一定に維持するように操作される。その結果、純水供
給源１７での圧力変動にかかわらず、設定濃度の処理液
を得ることができる。

【００５０】また、第３実施例と同様に、上記制御値に
対応する制御信号は、第２の電空変換器１９へも出力さ
れる。第２の電空変換器１９は、混合部５への純水の供
給量と、混合部５への薬液の供給量との相対関係を一定
に維持するように操作される。その結果、純水供給源１
７での圧力変動にかかわらず、設定濃度の処理液を得る
ことができる。

【００５１】本発明としては、基板を処理槽１内に浸漬
して処理するタイプの基板処理装置に限らず、回転可能
に保持した基板にノズルから処理液を噴出供給して処理
するタイプの基板処理装置にも適用でき、処理槽１や、
基板を回転可能に保持する構成などをして基板処理部と
総称する。

【００５２】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明では、混合部と純水圧力制御弁との間に
設けられた純水圧力検出手段が、混合部へ供給される純
水の圧力値を検出し、この圧力値に基づいて、純水制御
手段が純水圧力制御弁に付与される空気圧を制御して、
混合部へ供給している純水の圧力を制御しているので、
混合部へ供給される純水の供給量を一定にでき、純水供
給源での圧力変動に伴う処理液の濃度の変動を防止でき
る。

【００５３】また、請求項２に記載の発明では、混合部
と薬液供給源との間に設けられた薬液圧力検出手段が、
混合部へ供給される薬液の圧力値を検出し、この圧力値
に基づいて、薬液制御手段が薬液供給源から混合部へ供
給し薬液の圧力を制御しているので、混合部へ供給する
純水の供給量に加えて、混合部へ供給される薬液の供給
量をも一定にでき、純水供給源での圧力変動に伴う処理
液の濃度の変動をさらに効果的に防止できる。

【００５４】また、請求項３に記載の発明では、混合部
と薬液供給源との間に設けられた薬液流量検出手段が、
混合部へ供給される薬液の流量値を検出し、この流量値
に基づいて、薬液制御手段が薬液供給源から混合部へ供
給される薬液の流量を制御しているので、混合部へ供給
する純水の供給量に加えて、混合部へ供給される薬液の
供給量をも一定にでき、純水供給源での圧力変動に伴う
処理液の濃度の変動をさらに効果的に防止できる。

【００５５】また、請求項４に記載の発明では、薬液圧
力検出手段によって検出された薬液の圧力値と純水圧力
検出手段によって検出された純水の圧力値に基づいて、
混合部へ供給される薬液の供給量と混合部へ供給される
純水の供給量とが所定の関係に維持されるように、薬液
供給源から混合部へ供給される薬液の圧力を制御してい
るので、混合部へ供給する薬液の供給量を一定にでき、
純水供給源での圧力変動に伴う処理液の濃度の変動を防
止できる。

【００５６】また、請求項５に記載の発明では、薬液圧
力検出手段によって検出された薬液の圧力値と純水圧力
検出手段によって検出された純水の圧力値に基づいて、
混合部へ供給される薬液の供給量と混合部へ供給される
純水の供給量とが所定の関係に維持されるように、純水
供給源から混合部へ供給される純水の圧力を制御してい
るので、混合部へ供給する薬液の供給量に加えて、混合
部へ供給される純水の供給量をも一定にでき、純水供給
源での圧力変動に伴う処理液の濃度の変動をさらに効果
的に防止できる。

【００５７】また、請求項６に記載の発明では、薬液流
量検出手段によって検出された薬液の流量値と純水流量
検出手段によって検出された純水の流量値に基づいて、
混合部へ供給される薬液の供給量と混合部へ供給される
純水の供給量とが所定の関係に維持されるように、薬液
供給源から混合部へ供給される薬液の流量を制御してい
るので、混合部へ供給する薬液の供給量を一定にでき、
純水供給源での圧力変動に伴う処理液の濃度の変動を防
止できる。

【００５８】また、請求項７に記載の発明では、薬液流
量検出手段によって検出された薬液の流量値と純水流量
検出手段によって検出された純水の流量値に基づいて、
混合部へ供給される薬液の供給量と混合部へ供給される
純水の供給量とが所定の関係に維持されるように、純水
供給源から混合部へ供給される純水の流量を制御してい
るので、混合部へ供給する薬液の供給量に加えて、混合
部へ供給される純水の供給量をも一定にでき、純水供給
源での圧力変動に伴う処理液の濃度の変動をさらに効果
的に防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る基板処理装置の第１実施例を示す
概略構成図である。

【図２】本発明に係る基板処理装置の第２実施例を示す
概略構成図である。

【図３】本発明に係る基板処理装置の第３実施例を示す
概略構成図である。

【図４】本発明に係る基板処理装置の第４実施例を示す
概略構成図である。

【図５】従来例の基板処理装置の概略構成図である。

【符号の説明】

１…処理槽（基板処理部） ３…処理液供給路 ５…混合部 ６…薬液供給路 ７…薬液タンク １６…純水供給路 １７…純水供給源 １８…純水圧力制御弁 ２１…純水圧力センサ ２２…純水コントローラ ２７…純水圧力センサ ２８…薬液コントローラ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】純水と薬液とを混合して得られた処理液で
   基板の処理を行う基板処理部と、 前記基板処理部に処理液供給路を介して接続され、純水
   と薬液とを混合させる混合部と、 前記混合部に一端が接続され、他端が純水供給源に接続
   される純水供給路と、前記純水供給路に設けられ、前記
   混合部へ供給される純水の圧力を空気圧を付与すること
   によって制御する純水圧力制御弁と、 前記混合部と前記純水圧力制御弁との間に設けられ、前
   記混合部へ供給される純水の圧力値を検出する純水圧力
   検出手段と、 前記純水圧力検出手段によって検出された純水の圧力値
   に基づいて、前記純水圧力制御弁に付与される空気圧を
   制御する純水制御手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載の基板処理装置において、 前記混合部に一端が接続され、他端が薬液供給源に接続
   される薬液供給路と、 前記混合部と前記薬液供給源との間に設けられ、前記混
   合部へ供給される薬液の圧力値を検出する薬液圧力検出
   手段と、 前記薬液圧力検出手段によって検出された薬液の圧力値
   に基づいて、前記薬液供給源から前記混合部へ供給され
   る薬液の圧力を制御する薬液制御手段と、 をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
3. 【請求項３】請求項１に記載の基板処理装置において、 前記混合部に一端が接続され、他端が薬液供給源に接続
   される薬液供給路と、 前記混合部と前記薬液供給源との間に設けられ、前記混
   合部へ供給される薬液の流量値を検出する薬液流量検出
   手段と、 前記薬液流量検出手段によって検出された薬液の流量値
   に基づいて、前記薬液供給源から前記混合部へ供給され
   る薬液の流量を制御する薬液制御手段と、 をさらに備えたことを特徴とする基板処理装置。
4. 【請求項４】純水と薬液とを混合して得られた処理液で
   基板の処理を行う基板処理部と、 前記基板処理部に処理液供給路を介して接続され、純水
   と薬液とを混合させる混合部と、 前記混合部に一端が接続され、他端が薬液供給源に接続
   される薬液供給路と、 前記薬液供給路に設けられ、前記混合部へ供給される薬
   液の圧力値を検出する薬液圧力検出手段と、 前記混合部に一端が接続され、他端が純水供給源に接続
   される純水供給路と、 前記純水供給路に設けられ、前記混合部に供給される純
   水の圧力値を検出する純水圧力検出手段と、 前記薬液圧力検出手段によって検出された圧力値と前記
   純水圧力検出手段によって検出された圧力値とに基づい
   て、前記混合部へ供給される薬液の供給量と前記混合部
   へ供給される純水の供給量とが所定の関係に維持される
   ように、前記薬液供給源から前記混合部へ供給される薬
   液の圧力を制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】請求項４に記載の基板処理装置において、 前記制御手段は、さらに、前記薬液圧力検出手段によっ
   て検出された圧力値と前記純水圧力検出手段によって検
   出された圧力値とに基づいて、前記混合部へ供給される
   薬液の供給量と前記混合部へ供給される純水の供給量と
   が所定の関係に維持されるように、前記純水供給源から
   前記混合部へ供給される薬液の圧力を制御することを特
   徴とする基板処理装置。
6. 【請求項６】純水と薬液とを混合して得られた処理液で
   基板の処理を行う基板処理部と、 前記基板処理部に処理液供給路を介して接続され、純水
   と薬液とを混合させる混合部と、 前記混合部に一端が接続され、他端が薬液供給源に接続
   される薬液供給路と、 前記薬液供給路に設けられ、前記混合部へ供給される薬
   液の流量値を検出する薬液流量検出手段と、 前記混合部に一端が接続され、他端が純水供給源に接続
   される純水供給路と、 前記純水供給路に設けられ、前記混合部へ供給される純
   水の流量値を検出する純水流量検出手段と、 前記薬液流量検出手段によって検出された流量値と前記
   純水流量検出手段によって検出された流量値とに基づい
   て、前記混合部へ供給される薬液の供給量と前記混合部
   へ供給される純水の供給量とが所定の関係に維持される
   ように、前記薬液供給源から前記混合部へ供給される薬
   液の流量を制御する制御手段と、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
7. 【請求項７】請求項６に記載の基板処理装置において、 前記制御手段は、さらに、前記薬液流量検出手段によっ
   て検出された流量値と前記純水流量検出手段によって検
   出された流量値とに基づいて、前記混合部へ供給される
   薬液の供給量と前記混合部へ供給される純水の供給量と
   が所定の関係に維持されるように、前記純水供給源から
   前記混合部へ供給される純水の流量を制御することを特
   徴とする基板処理装置。