JPH11195582A

JPH11195582A - 露光装置及び方法

Info

Publication number: JPH11195582A
Application number: JP9366865A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Naraki; 剛楢木
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1997-12-26
Filing date: 1997-12-26
Publication date: 1999-07-21

Abstract

(57)【要約】【課題】複数の光源の状態に応じてこれら複数の光源
から供給される照明光を制御して、効率的で安定した露
光を可能にする。【解決手段】プレート９の交換やアライメントを行っ
ている際に、シャッタ板１２１ａ〜１２１ｃを遮断位置
に移動させて、その後にプレート９交換等が始まるまで
の間に目的の光源１０１ａ〜１０１ｃの交換作業を完了
する。そして、後のプレート９交換等の際に、シャッタ
板１２１ａ〜１２１ｃを非遮断位置に移動させる。この
ようなシーケンスを繰返すことにより、露光装置のライ
ンを停止することなく各光源１０１ａ〜１０１ｃを順次
交換することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板にマスクパタ
ーンを転写するための露光装置及び方法に関し、特に複
数の光源からの照明光を用いてマスクを照明する照明系
を備える露光装置及び方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体露光装置、液晶用露光装置等の露
光装置には、基板を露光するためにマスクを照明するた
めの照明系が組み込まれている。

【０００３】例えば、特開平７−５７９８６号公報に開
示された露光装置の照明系では、光源である複数の水銀
ランプからの照明光をこれらに対向して複数の入射端を
持つライトガイドに導入することにより、各水銀ランプ
からの照明光を加算し、マスクに対する必要な照明光量
を確保している。

【０００４】このような露光装置では、例えば水銀ラン
プが消耗した場合、露光装置の動作を一旦中断し、使用
中の水銀ランプをすべて消灯して、消耗した水銀ランプ
を新たな水銀ランプと交換している。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の露光装
置では、水銀ランプを消灯してランプ交換を行うことと
しているので、ランプ交換中は露光処理が禁止され、ラ
インが停止してしまう。また、水銀ランプは点灯しても
直ちに安定しないので、水銀ランプの出力が安定するま
では露光処理を開始することができず、長時間のライン
停止によってスループットが低下する。

【０００６】そこで、本発明は、複数の光源の状態に応
じてこれら複数の光源から供給される照明光を制御し
て、効率的で安定した露光を可能にする露光装置を提供
することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明の露光装置は、複数の光源（１０１ａ〜１０
１ｃ）からの照明光を用いて基板（９）にマスクパター
ンを転写するものであって、前記複数の光源の光源状態
に応じて、前記複数の光源の少なくとも１つの光源から
出射した照明光を遮断するシャッタ（１２２ａ〜１２２
ｃ）と、前記シャッタを制御するシャッタ制御装置（７
０、７３）とを備えることを特徴とする。

【０００８】また、好ましい態様では、前記シャッタ制
御装置（７０、７３）が、前記光源状態の変化に対して
前記シャッタを所定の時間差で動作させることを特徴と
する。

【０００９】また、好ましい態様では、前記シャッタ制
御装置（７０、７３）が、前記光源状態が安定な点灯状
態において、前記シャッタを非遮断位置に配置させるこ
とを特徴とする。

【００１０】また、好ましい態様では、前記シャッタ
（１２２ａ〜１２２ｃ）が、前記複数の光源毎に複数設
けられたことを特徴とする。

【００１１】また、好ましい態様では、前記シャッタ制
御装置（７０、７３）が、前記複数の光源毎に設けられ
たシャッタをそれぞれ個別に制御することを特徴とす
る。

【００１２】また、好ましい態様では、前記シャッタ制
御装置（７０、７３）が、前記複数の光源のうち交換す
べきいずれかの光源に対応する前記シャッタを遮断位置
に配置させることを特徴とする。

【００１３】また、好ましい態様では、前記シャッタ制
御装置（７０、７３）が、前記照明光が前記基板に供給
されている露光動作中のタイミングを回避して、前記シ
ャッタを遮断位置及び非遮断位置のいずれかに移動させ
ることを特徴とする。

【００１４】また、本発明の露光方法は、複数の光源
（１０１ａ〜１０１ｃ）からの照明光を用いて基板
（９）にマスク（８）のパターンを転写する露光方法で
あって、前記複数の光源の光源状態に応じて、前記複数
の光源の少なくとも１つの光源から出射した前記照明光
を遮断することを特徴とする。

【００１５】また、好ましい態様では、前記照明光の遮
断動作が、前記光源状態の変化に対して所定の時間差で
行われることを特徴とする。

【００１６】また、好ましい態様では、前記照明光が前
記基板（９）に供給されている露光動作中のタイミング
を回避して、前記遮断動作及び前記照明光の非遮断動作
を行うことを特徴とする。

【００１７】また、好ましい態様では、前記露光方法
が、前記露光動作中に前記基板（９）及び前記マスク
（８）を前記照明光に対して相対的に移動させて露光
し、前記照明光の光量に基づいて前記基板及びマスクの
相対的移動速度を調節し、前記照明光の前記基板（９）
に対する露光量を制御することを特徴とする。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施形態である露光装置について説明する。

【００１９】図１は、実施形態の露光装置の全体構造を
説明するための斜視図である。この露光装置は、回路パ
ターンを形成したマスク８を均一に照明する照明光学系
１０と、マスク８上に形成されたの回路パターンをレジ
ストを塗布した基板であるプレート９上に投影する投影
装置２とを備える。露光に際しては、投影装置２及び照
明光学系１０に対して、図示を省略するマスクステージ
上に載置されたマスク８と、プレートステージ６０上に
載置されたプレート９とを同期して移動させる。これに
より、マスク８の回路パターンをプレート９上のレジス
トに漸次転写するいわゆる走査露光が可能になる。

【００２０】なお、この露光装置では、マスク８とプレ
ート９が搬送される方向（走査方向）をＸ軸、マスク８
の平面内でＸ軸と直交する方向をＹ軸、マスク８の法線
方向をＺ軸とした座標系をとっている。

【００２１】図２は、図１に示す照明光学系１０の具体
的な構成の一例を示す図である。例えばｇ線（４３５ｎ
ｍ）、或いはｉ線（３６５ｎｍ）の波長の照明光を含ん
で発生する超高圧水銀ランプ等からなる光源１０１ａ〜
１０１ｃから発生した照明光は、楕円鏡１０２ａ〜１０
２ｃにより集光され、光ファイバをランダムに束ねて構
成したライトガイド１０３に導入される。この際、各楕
円鏡１０２ａ〜１０２ｃによる光源像の形成位置にライ
トガイド１０３の入射端１０３ｐ〜１０３ｒを配置して
照明光の効率的な結合を達成している。

【００２２】ライトガイド１０３に導入された照明光
は、各射出端１０３ａ、１０３ｂに均一な光強度分布の
光源面を形成する。なお、図面中では、簡略のため２つ
の射出端１０３ａ、１０３ｂのみを示しているが、ライ
トガイド１０３は、マスク８上の照明領域１１１ａ〜１
１１ｇの数に対応して照明光を７つに分岐しており、図
示を省略する残り５つの射出端にも均一な光強度分布の
光源面が形成される。

【００２３】ライトガイド１０３から射出した光束は、
リレーレンズ１０４ａ、１０４ｂをそれぞれ介して、フ
ライアイレンズ１０５ａ、１０５ｂに達する。これらの
フライアイレンズ１０５ａ、１０５ｂの射出面側には、
複数の２次光源が形成される。複数の２次光源からの光
は、２次光源形成位置に前側焦点が位置するように配置
されたコンデンサレンズ１０６ａ、１０６ｂを通って、
矩形状の開口部１０７ａ、１０７ｂを有する視野絞り１
０７を均一に照明する。視野絞り１０７を通過した照明
光は、それぞれレンズ１０８ａ、１０８ｂを介して、ミ
ラー１０９ａ、１０９ｂによって光路が９０゜偏向さ
れ、レンズ１１０ａ、１１０ｂに達する。ここで、レン
ズ１０８ａ、１１０ａとレンズ１０８ｂ、１１０ｂと
は、視野絞り１０７とマスク８とを共役にするリレー光
学系であり、レンズ１１０ａ、１１０ｂを通過した照明
光は、視野絞り１０７の開口部１０７ａ、１０７ｂの像
である照明領域１１１ａ、１１１ｂをマスク８上に形成
する。なお、図２においては、説明を簡単にするため
に、照明領域１１１ｃ〜１１１ｇを形成する照明光学系
は、その光軸のみを示している。ライトガイド１０３の
射出端は、前述のように照明領域１１１ａ〜１１１ｇの
数に対応して設けてあり、残りの照明領域１１１ｃ〜１
１１ｇにも、図示省略したライトガイド１０３の射出端
からの均一な照明光が供給される。

【００２４】ライトガイド１０３の各入射端１０３ｐ〜
１０３ｒと、光源１０１ａ〜１０１ｃをそれぞれ内部に
固定した各楕円鏡１０２ａ〜１０２ｃとの間には、照明
光の光路上に進退可能なシャッタ板１２１ａ〜１２１ｃ
がそれぞれ配置されている。各シャッタ板１２１ａ〜１
２１ｃは、エアシリンダ１２２ａ〜１２２ｃによってそ
れぞれ独立に駆動されて、照明光が入射端１０３ｐ〜１
０３ｒに入射することを妨げる遮断位置と、照明光が入
射端１０３ｐ〜１０３ｒに入射することを許容する非遮
断位置との間で移動する。なお、ライトガイド１０３に
はランダム性を持たせてあるので、いずれかの光源１０
１ａ〜１０１ｃからの照明光を遮断しても、ライトガイ
ド１０３の射出端には、常に均一な光強度分布の光源面
が形成される。

【００２５】以上説明した照明光学系１０において、視
野絞り１０７の開口部１０７ａ、１０７ｂの形状は、矩
形状に限ることはない。ただし、開口部１０７ａ、１０
７ｂの形状としては、投影光学系２ａ、２ｂの視野の形
状に可能な限り相似であることが望ましい。また、上述
の如き複数の照明領域１１１ａ〜１１１ｇを形成する照
明装置１０の代わりに、走査方向（Ｘ方向）と直交する
方向（Ｙ方向）に延びた一つの矩形領域でマスク８を照
明する単一の照明光学系を適用してもよい。このような
照明光学系として、例えばＹ方向に延びた棒状の光源を
用いたものが考えられる。

【００２６】図１に示す投影装置２は、マスク８とプレ
ート９との間に適宜配置された複数の投影光学系２ａ〜
２ｇから構成される。各投影光学系２ａ〜２ｇは、マス
ク８上の視野領域８ａ〜８ｇをプレート９上の露光領域
９ａ〜９ｇに等倍の正立像として投影する。なお、各視
野領域８ａ〜８ｇは、図２の照明領域１１１ａ〜１１１
ｇにそれぞれ内包されている。

【００２７】図３は、図１に示す投影光学系２ａ〜２ｇ
の構造を説明するための図である。なお、各投影光学系
２ａ〜２ｇは、それぞれ同じ構成を有するため、図３で
は、投影光学系２ａのみの構造を示している。

【００２８】投影光学系２ａは、変形した２組のダイソ
ン型光学系を組み合わせた構造となっている。すなわ
ち、この投影光学系２ａは、第１部分光学系２１〜２４
と、視野絞り２５と、第２部分光学系２６〜２９とを有
しており、これら第１及び第２部分光学系は、それぞれ
ダイソン型光学系を変形したものとなっている。

【００２９】第１部分光学系は、マスクに対向する直角
プリズム２１と、凸面を直角プリズム２１の反対側に向
けた平凸レンズ成分２２と、凹面を平凸レンズ成分２２
側に向けたメニスカスレンズ成分２３と、直角プリズム
２１の下方に配置された直角プリズム２４とを有する。

【００３０】マスク８を通過した照明光学系からの光
は、直角プリズム２１によって光路を９０゜偏向され、
平凸レンズ成分２２に入射する。平凸レンズ成分２２を
通過した光は、接合面２２ａで屈折して反射面２３ａに
達する。反射面２３ａで反射された光は、接合面２２ａ
で再度屈折され、平凸レンズ成分２２に接合された直角
プリズム２４に達する。この光は、直角プリズム２４に
よって光路を９０゜偏向されて、この直角プリズム２４
の射出面側にマスク８の１次像を形成する。ここで、第
１部分光学系２１〜２４が形成するマスク８の１次像
は、Ｘ方向（光軸方向）の横倍率が正であり、かつ、Ｙ
方向の横倍率が負となる等倍像である。

【００３１】１次像からの光は、第２部分光学系２６〜
２９を介して、マスク８の２次像をプレート９上に形成
する。なお、第２部分光学系の構成は、第１部分光学系
２１〜２４と同一構造を有するため説明を省略する。こ
の第２部分光学糸２６〜２９は、第１部分光学系と同じ
く、Ｘ方向が正かつＹ方向が負となる横倍率の等倍像を
形成する。よって、プレート９上に形成される２次像
は、マスク８の等倍の正立像となる。なお、詳細な説明
は省略するが、投影光学系２ａ（第１及び第２部分光学
系）は、両側テレセントリック光学系となっている。ま
た、第１部分光学系２１〜２４が形成する１次像の位置
に配置される視野絞り２５は、例えば台形状の開口部を
有する。この視野絞り２５により、プレート９上の各露
光領域が台形状に規定される。

【００３２】以上説明した投影光学系２ａにおいて、第
１及び第２部分光学系は、平凸レンズ成分２２、２７と
反射面２３ａ、２８ａとの間を空気とする、いわゆるダ
イソン型光学系そのものの構成であってもよい。

【００３３】図１に戻って、投影光学系２ａ〜２ｇの配
置について説明する。各投影光学系２ａ〜２ｇは、図３
に示すような視野絞り２５によって規定される視野領域
８ａ〜８ｇをそれぞれ有している。これらの視野領域８
ａ〜８ｇの像は、プレート９上の露光領域９ａ〜９ｇに
等倍の正立像として投影される。ここで、投影光学系２
ａ〜２ｄは、視野領域８ａ〜８ｄが図中Ｙ方向に沿って
所定の間隔で配列されるように位置決めされている。ま
た、投影光学系２ｅ〜２ｇは、視野領域８ｅ〜８ｇがＸ
方向に関して視野領域８ａ〜８ｄとは異なる位置であっ
てＹ方向に沿って所定の間隔で配列されるように位置決
めされている。この結果、プレート９上には、一群の投
影光学系２ａ〜２ｄによって、図中Ｙ方向に沿って露光
領域９ａ〜９ｄが形成され、一群の投影光学系２ｅ〜２
ｇによって、Ｙ方向に沿って露光領域９ｅ〜９ｇが形成
される。これらの露光領域９ａ〜９ｇは、視野領域８ａ
〜８ｄの等倍の正立像である。

【００３４】ここで、マスクステージとプレートステー
ジ６０とは、投影装置２及び照明光学系１０に対し、Ｘ
方向に同期して移動する。これにより、プレート９上に
は、照明光学系１０により照明されたマスク８の像が逐
次転写され、所謂走査露光が行われる。マスク８及びプ
レート９の移動により、視野領域８ａ〜８ｇによるマス
ク８全面の走査が完了すると、プレート９上の全面に亘
ってマスク８の像が転写される。

【００３５】図４は、投影光学系２ａ〜２ｇによって規
定される視野領域８ａ〜８ｇと、マスク８との平面的な
位置関係を示す図である。同図において、マスク８上に
は、回路パターンＰＡが形成されており、この回路パタ
ーンＰＡの領域を囲むように遮光部ＬＳＡが設けられて
いる。

【００３６】図中破線にて囲まれる照明領域１１１ａ〜
１１１ｇは、図２に示される照明光学系１０によって均
一に照明される。この照明領域１１１ａ〜１１１ｇ内に
は、前述の視野領域８ａ〜８ｇが配列されている。これ
らの視野領域８ａ〜８ｇは、投影光学系２ａ〜２ｇ内の
視野絞りにより、その形状がほぼ台形状となる。ここ
で、視野領域８ａ〜８ｄの上辺（一対の平行な辺のうち
の短辺）と、視野領域８ｅ〜８ｇの上辺（一対の平行な
辺のうちの短辺）とが対向するように配列されている。
ここで、遮光部ＬＳＡに近接した一対の視野領域８ａ、
８ｄの形状は、そのうち遮光部ＬＳＡ側の辺（一対の平
行な辺以外の辺）が回路パターンＰＡの領域の縁と一致
するように規定されている。なお、両視野領域８ａ、８
ｄはマスク８の遮光部ＬＳＡと重なるような形状であっ
てもよい。

【００３７】視野領域８ａ〜８ｄは、投影光学系２ａ〜
２ｄの占有面積を考慮してそれぞれ離間して配置されて
いる。視野領域８ａ〜８ｄの間の領域については、走査
露光であることを利用して、投影光学系２ｅ〜２ｇで規
定される視野領域８ｅ〜８ｇによって補間することとし
ている。ここで、各視野領域８ａ〜８ｇの走査方向（Ｘ
方向）に沿った幅の総和（すなわち、図１の露光領域９
ａ〜９ｇのＸ方向に沿った幅の総和）は、プレート９全
面にわたって均一な露光量分布を確保するという観点か
ら、Ｙ方向のどの位置においても常に一定としてある。

【００３８】図１に示すプレートステージ６０上には、
Ｙ軸に沿った反射面を有する反射部材６１と、Ｘ軸に沿
った反射面を有する反射部材６２とが設けられている。
また、露光装置本体側には、干渉計として、例えばＨｅ
−Ｎｅ（６３３ｎｍ）等のレーザ光を供給するレーザ光
源６３と、レーザ光源６３からのレーザ光をＸ方向及び
Ｙ方向測定用の一対のレーザ光に分割するビームスプリ
ッタ６４と、ビームスプリッタ６４からのレーザ光を反
射部材６１へ投射するためのプリズム６５と、ビームス
プリッタ６４からのレーザ光を反射部材６２上の２点へ
投射する２ためのプリズム６６、６７とが設けられてい
る。これにより、ステージのＸ方向の位置、Ｙ方向の位
置及びＸＹ平面内での回転を検出することができる。な
お、図１においては、反射部材６１、６２にて反射され
たレーザ光と参照用レーザ光とを干渉させた後に検出す
る検出系について図示を省略している。

【００３９】図５は、図１に示す露光装置の制御機構の
要部を説明する図である。制御装置７０は、マスク移動
装置７１とプレート移動装置７２とを制御して、図１の
マスク８を支持するマスクステージとプレート９を支持
するプレートステージ６０とをこれらの相対的位置関係
が維持されるように同期して移動させる。また、制御装
置７０は、電磁弁駆動装置７３を制御して、図２に示す
各シャッタ板１２１ａ〜１２１ｃを遮断位置と非遮断位
置との間で移動させる各エアシリンダ１２２ａ〜１２２
ｃを適当なタイミングでそれぞれ個別に動作させる。こ
れにより、各光源１０１ａ〜１０１ｃからの照明光を対
応する入射端１０３ｐ〜１０３ｒに入射させるか否かを
適宜設定することができ、各光源１０１ａ〜１０１ｃの
いずれによってマスク８を照明するかを選択することが
できる。また、制御装置７０は、ランプ光源７４を制御
して、各光源１０１ａ〜１０１ｃのＯＮ・ＯＦＦ等の動
作状態を調節するとともに、供給されている電流値に基
づいて光源１０１ａ〜１０１ｃが安定して動作している
か否かを判定する。また、制御装置７０は、センサドラ
イバ７５を制御して、各光センサ７６ａ〜７６ｃを動作
させるとともに、各光センサ７６ａ〜７６ｃの検出出力
に基づいて各光源１０１ａ〜１０１ｃの発光強度を監視
する。なお、センサドライバ７５は、図１のプレートス
テージ６０上の適所に配置された光センサ７７を動作さ
せるとともに、光センサ７７の検出出力を制御装置７０
に出力する。これにより、光源１０１ａ〜１０１ｃを適
当に組み合わせた結果照明光学系１０から出射する照明
光の強度を監視することができる。さらに、制御装置７
０は、コマンドを入力するための入力装置７８やメッセ
ージを表示するための表示装置７９に接続されている。
これにより、オペレータは、露光装置の動作を監視しつ
つ露光装置を所望の状態に維持することができる。

【００４０】以下、制御装置７０の動作について説明す
る。制御装置７０は、例えば各光源１０１ａ〜１０１ｃ
が交換された時期や寿命等に関する情報を光源状態とし
て管理するための記憶装置を内蔵しており、各光源１０
１ａ〜１０１ｃが劣化したり破損する前に、適当なタイ
ミングでこれらの光源１０１ａ〜１０１ｃの交換を指示
する。光源１０１ａ〜１０１ｃの交換自体は、作業者が
行ってもよいし、自動化することもできる。各光源１０
１ａ〜１０１ｃの交換に際しては、制御装置７０自体の
判断、或いは入力装置７８からのコマンドに応じて、基
本的にプレート９の露光動作を行っていない、例えばプ
レート交換時やロットの終了時などのタイミングで、電
磁弁駆動装置７３を動作させて対応するシャッタ板１２
１ａ〜１２１ｃを遮断位置に移動させる。表示装置７９
からのメッセージでシャッタ板１２１ａ〜１２１ｃの動
作完了を確認した後、作業者が寿命の光源１０１ａ〜１
０１ｃを新たなものと交換する。光源１０１ａ〜１０１
ｃの交換後は、光源１０１ａ〜１０１ｃの出力が安定し
た段階でシャッタ板１２１ａ〜１２１ｃを非遮断位置に
移動させて交換作業を終了する。

【００４１】光源１０１ａ〜１０１ｃの交換は、原則と
して全てを同時に行わないこととする。これにより、光
源１０１ａ〜１０１ｃの交換中も露光装置を稼働させる
ことができる。いずれかの光源１０１ａ〜１０１ｃの交
換中は、照明光学系１０から出射する照明光の強度が低
下するので、光センサ７７の検出出力に基づいてマスク
８及びプレート９の走査速度を下げてプレート９上にお
ける露光量を一定値に保つ。

【００４２】なお、特定のプレート９の露光動作中は、
シャッタ板１２１ａ〜１２１ｃの動作を避ける必要があ
る。本実施形態のような走査型の露光装置では、プレー
ト９上に形成される露光パターンに、シャッタ板１２１
ａ〜１２１ｃの動作に起因する露光ムラが生じるからで
ある。したがって、あるプレート９の露光中と次のプレ
ート９の露光中の合間を縫ってシャッタ板１２１ａ〜１
２１ｃを動作させることになる。具体的には、プレート
９の交換やアライメントを行っている際に、シャッタ板
１２１ａ〜１２１ｃを遮断位置に移動させて、次に或い
はその後にプレート９交換等が始まるまでの間に目的の
光源１０１ａ〜１０１ｃの交換作業を完了する。そし
て、新たな光源の動作が安定するのを待って、その後の
プレート９交換等の際に、シャッタ板１２１ａ〜１２１
ｃを非遮断位置に移動させる。このようなシーケンスを
繰り返すことにより、露光装置のラインを停止すること
なく各光源１０１ａ〜１０１ｃを順次交換することがで
きる。

【００４３】各光源１０１ａ〜１０１ｃの交換の必要性
は、記憶装置に管理されている寿命のみに基づいて判断
する必要はない。例えば、各光源１０１ａ〜１０１ｃの
発光強度のゆらぎや強度の急速な低下等の異常を各光セ
ンサ７６ａ〜７６ｃで常時チェックすることができる。
いずれか光源１０１ａ〜１０１ｃでこのような異常が発
生していると判断された場合、対応するシャッタ板１２
１ａ〜１２１ｃを適当なタイミングで遮断位置に移動さ
せ、異常が発生している光源１０１ａ〜１０１ｃを修理
したり、新たな光源と交換する。

【００４４】以上、実施形態に即してこの発明を説明し
たが、この発明は、上記実施形態に限定されるものでは
ない。例えば、シャッタ板１２１ａ〜１２１ｃを１枚と
して、ライトガイド１０３の各入射端１０３ｐ〜１０３
ｒと、光源１０１ａ〜１０１ｃとの間に、この１枚のシ
ャッタ板を順次移動させることとしてもよい。

【００４５】また、以上では、光源１０１ａ〜１０１ｃ
を交換する場合についてのみ説明したが、光源１０１ａ
〜１０１ｃの出力を変更する場合にも、出力が安定する
までは、シャッタ板１２１ａ〜１２１ｃを遮断位置に移
動させて、露光ラインの停止を防止できる。

【００４６】また、ステップアンドリピート方式の露光
装置においても、複数の光源を足し合わせて照明光を得
る場合には、各光源を足し合わせる前に各光源に対応さ
せてシャッタ板を配置し、いずれかの光源の交換時に対
応するシャッタ板を遮断位置に移動させる。このとき、
照明光の全強度が変化しても、プレートの照明領域に照
射される積算露光量をモニタしているため、そのモニタ
値に基づいて積算露光量を制御できる。したがって、常
にシャッタの非遮断位置と遮断位置とを切り換えること
ができる。

【００４７】つまり、ランプを消灯させる場合には、シ
ャッタを遮断位置にした後にランプを消灯し、ランプを
点灯する際には、シャッタを遮断位置にした状態でラン
プを点灯し、ランプが安定状態になったのを確認した後
にシャッタを非遮断位置にする。これらの動作により、
露光動作中であっても、ランプの交換を行うことが可能
となる。

【００４８】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の露光装置によれば、前記複数の光源の光源状態に応じ
て、前記複数の光源の少なくとも１つの光源から出射し
た照明光を遮断するシャッタと、前記シャッタを制御す
るシャッタ制御装置とを備えるので、光源の状態に応じ
て特定の光源の設定を変更する場合、この特定の光源か
らの照明光の供給を一時的に遮断して、かかる設定の変
更がマスクパターンの照明に直接影響を及ぼすことを防
止できる。

【００４９】また、好ましい態様によれば、前記シャッ
タ制御装置が、前記光源状態の変化に対して前記シャッ
タを所定の時間差で動作させるので、特定の光源からの
照明光の供給を露光装置の動作中の適当なタイミングで
遮断することができる。

【００５０】また、好ましい態様によれば、前記シャッ
タ制御装置が、前記光源状態が安定な点灯状態において
前記シャッタを非遮断位置に配置させるので、マスクに
入射する照明光を常に安定したものとすることができ
る。

【００５１】また、好ましい態様によれば、前記シャッ
タが、前記複数の光源毎に複数設けられているので、各
光源からの照明光の供給を簡易に制御できる。

【００５２】また、好ましい態様によれば、前記シャッ
タ制御装置が、前記複数の光源のうち交換すべきいずれ
かの光源に対応する前記シャッタを遮断位置に配置させ
るので、光源の交換に際して露光装置の動作を中断する
必要がない。

【００５３】また、好ましい態様によれば、前記シャッ
タ制御装置が、前記照明光が前記基板に供給されている
露光動作中のタイミングを回避して、前記シャッタを遮
断位置及び非遮断位置のいずれかに移動させるので、特
定の基板の露光動作中に露光条件が変化せず、不均一な
露光を防止して効率的な露光処理を達成することができ
る。

【００５４】また、本発明の露光方法によれば、前記複
数の光源の光源状態に応じて前記複数の光源の少なくと
も１つの光源から出射した前記照明光を遮断するので、
光源の状態に応じて特定の光源の設定を変更する場合、
この特定の光源からの照明光の供給を一時的に遮断し
て、かかる設定の変更がマスクの照明に直接影響を及ぼ
すことを防止できる。

【００５５】また、好ましい態様では、前記照明光の遮
断動作が、前記光源状態の変化に対して所定の時間差で
行われるので、特定の光源からの照明光の供給を露光装
置の動作中の適当なタイミングで遮断することができ
る。

【００５６】また、好ましい態様では、前記照明光が前
記基板に供給されている露光動作中のタイミングを回避
して、前記遮断動作及び前記照明光の非遮断動作を行う
ので、特定の基板の露光動作中に露光条件が変化せず、
不均一な露光を防止して効率的な露光処理を達成するこ
とができる。

【００５７】また、好ましい態様では、前記露光方法
が、前記露光動作中に前記基板及び前記マスクを前記照
明光に対して相対的に移動させて露光し、前記照明光の
光量に基づいて前記基板及びマスクの相対的移動速度を
調節し、前記照明光の前記基板に対する露光量を制御す
るので、走査露光を行う場合に、光源の設定を変更して
も均一な露光が可能になる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態である露光装置を示す斜視
図である。

【図２】図１の露光装置に適用される照明光学系を示す
斜視図である。

【図３】図１の露光装置に適用される投影光学系のレン
ズ構成図である。

【図４】投影光学系による視野領域とマスクとの平面的
な位置関係を示す図である。

【図５】図１の露光装置の制御系を説明する図である。

【符号の説明】

２ａ〜２ｇ投影光学系８マスク９プレート１０照明光学系７０制御装置７４ランプ光源７５センサドライバ７６ａ〜７６ｃ，７７光センサ１０１ａ〜１０１ｃ光源１２１ａ〜１２１ｃシャッタ板１２２ａ〜１２２ｃエアシリンダ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の光源からの照明光を用いて基板に
マスクパターンを転写する露光装置であって、前記複数の光源の光源状態に応じて、前記複数の光源の
少なくとも１つの光源から出射した照明光を遮断するシ
ャッタと、前記シャッタを制御するシャッタ制御装置とを備えるこ
とを特徴とする露光装置。
【請求項２】前記シャッタ制御装置は、前記光源状態
の変化に対して前記シャッタを所定の時間差で動作させ
ることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】前記シャッタ制御装置は、前記光源状態
が安定な点灯状態において、前記シャッタを非遮断位置
に配置させることを特徴とする請求項１、又は２記載の
露光装置。
【請求項４】前記シャッタは、前記複数の光源毎に複
数設けられたことを特徴とする請求項１、２、又は３記
載の露光装置。
【請求項５】前記シャッタ制御装置は、前記複数の光
源毎に設けられたシャッタをそれぞれ個別に制御するこ
とを特徴とする請求項１、２、３、又は４記載の露光装
置。
【請求項６】前記シャッタ制御装置は、前記複数の光
源のうち交換すべきいずれかの光源に対応する前記シャ
ッタを遮断位置に配置させることを特徴とする請求項
１、２、３、４、又は５記載の記載の露光装置。
【請求項７】前記シャッタ制御装置は、前記照明光が
前記基板に供給されている露光動作中のタイミングを回
避して、前記シャッタを遮断位置及び非遮断位置のいず
れかに移動させることを特徴とする請求項１、２、３、
４、５、又は６記載の露光装置。
【請求項８】複数の光源からの照明光を用いて基板に
マスクのパターンを転写する露光方法であって、前記複数の光源の光源状態に応じて、前記複数の光源の
少なくとも１つの光源から出射した前記照明光を遮断す
ることを特徴とする露光方法。
【請求項９】前記照明光の遮断動作は、前記光源状態
の変化に対して所定の時間差で行われることを特徴とす
る請求項８記載の露光方法。
【請求項１０】前記照明光が前記基板に供給されてい
る露光動作中のタイミングを回避して、前記遮断動作及
び前記照明光の非遮断動作を行うことを特徴とする請求
項９記載の露光方法。
【請求項１１】前記露光方法は、前記露光動作中に前
記基板及び前記マスクを前記照明光に対して相対的に移
動させて露光し、前記照明光の光量に基づいて前記基板
及びマスクの相対的移動速度を調節し、前記照明光の前
記基板に対する露光量を制御することを特徴とする請求
項８、９、又は１０記載の露光方法。