JPH11194078A - 透過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法および試料作製装置 - Google Patents
透過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法および試料作製装置Info
- Publication number
- JPH11194078A JPH11194078A JP124998A JP124998A JPH11194078A JP H11194078 A JPH11194078 A JP H11194078A JP 124998 A JP124998 A JP 124998A JP 124998 A JP124998 A JP 124998A JP H11194078 A JPH11194078 A JP H11194078A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- polishing
- electron microscope
- displacement meter
- transmission electron
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透過型電子顕微鏡試料作製時の機械研磨作業
を容易にする。 【解決手段】 研磨試料４をガラス板５にワックスで貼
り付け、試料棒６に取り付ける。試料棒６を回転研磨板
７上に置かれている試料ガイド８にセットし、試料棒６
上にウエイト９を置いて、回転研磨板７を回転し研磨す
る。試料棒６およびウエイト９をセットした後にレーザ
変位計１０のレーザ光１１が試料棒６上に当たるように
置く。レーザ変位計１０で研磨時の試料膜厚を計測しな
がら機械研磨を行う。
を容易にする。 【解決手段】 研磨試料４をガラス板５にワックスで貼
り付け、試料棒６に取り付ける。試料棒６を回転研磨板
７上に置かれている試料ガイド８にセットし、試料棒６
上にウエイト９を置いて、回転研磨板７を回転し研磨す
る。試料棒６およびウエイト９をセットした後にレーザ
変位計１０のレーザ光１１が試料棒６上に当たるように
置く。レーザ変位計１０で研磨時の試料膜厚を計測しな
がら機械研磨を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は透過型電子顕微鏡
観察用の試料作製時の機械研磨による試料作製方法およ
び試料作製装置に関するものである。
観察用の試料作製時の機械研磨による試料作製方法およ
び試料作製装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】加速電圧が１００ｋＶ〜４００ｋＶであ
る汎用の透過型電子顕微鏡で微細な形状が観察できる試
料膜厚は約０．２μｍ以下で、このような薄膜試料の作
製が透過型電子顕微鏡観察では非常に重要である。そこ
で種々の試料作製方法が用いられており、半導体デバイ
スを観察するための一般的な試料作製方法としては切断
および研磨による機械加工で試料膜厚を数１０μｍとし
た後に、イオンミリング装置で試料中央に微小な開口部
を設け、その開口部周辺の膜厚の薄い部分で透過型電子
顕微鏡の観察をする方法がある。
る汎用の透過型電子顕微鏡で微細な形状が観察できる試
料膜厚は約０．２μｍ以下で、このような薄膜試料の作
製が透過型電子顕微鏡観察では非常に重要である。そこ
で種々の試料作製方法が用いられており、半導体デバイ
スを観察するための一般的な試料作製方法としては切断
および研磨による機械加工で試料膜厚を数１０μｍとし
た後に、イオンミリング装置で試料中央に微小な開口部
を設け、その開口部周辺の膜厚の薄い部分で透過型電子
顕微鏡の観察をする方法がある。
【０００３】まず、機械加工とイオンミリングを用いた
試料作製手順を説明する。図３は機械研磨とイオンミリ
ングを用いて半導体デバイスを断面観察するための試料
を作製する手順を説明する図である。まずＳｉウエハ１
を貼り合わせ、切断と研磨との機械加工によって試料膜
厚を５０μｍ以下とした後にイオンビーム２によるスパ
ッタエッチングで試料中央に微小な開口部３を設ける。
この開口部３周辺の膜厚の薄い部分で透過型電子顕微鏡
の観察をする。
試料作製手順を説明する。図３は機械研磨とイオンミリ
ングを用いて半導体デバイスを断面観察するための試料
を作製する手順を説明する図である。まずＳｉウエハ１
を貼り合わせ、切断と研磨との機械加工によって試料膜
厚を５０μｍ以下とした後にイオンビーム２によるスパ
ッタエッチングで試料中央に微小な開口部３を設ける。
この開口部３周辺の膜厚の薄い部分で透過型電子顕微鏡
の観察をする。
【０００４】次に機械加工による従来の試料作製方法を
説明する。図４は従来の機械研磨方法を説明する図であ
る。研磨試料４をガラス板５にワックスで貼り付け、試
料棒６に取り付ける。試料棒６を回転研磨板７上に置か
れている試料ガイド８にセットし、試料棒６上にウエイ
ト９を置いて、回転研磨板７を回転し研磨する。研磨試
料４の膜厚は試料棒６からガラス板５を取り外した後に
段差計にて試料膜厚を測定する。
説明する。図４は従来の機械研磨方法を説明する図であ
る。研磨試料４をガラス板５にワックスで貼り付け、試
料棒６に取り付ける。試料棒６を回転研磨板７上に置か
れている試料ガイド８にセットし、試料棒６上にウエイ
ト９を置いて、回転研磨板７を回転し研磨する。研磨試
料４の膜厚は試料棒６からガラス板５を取り外した後に
段差計にて試料膜厚を測定する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の試料作製方法で
は試料膜厚が所定の膜厚になるまで、研磨試料を貼り付
けているガラス板を試料棒から取り外しての膜厚測定
と、再度ガラス板を研磨棒に取り付けた研磨とを繰り返
すため試料作製に時間を要するという問題があった。
は試料膜厚が所定の膜厚になるまで、研磨試料を貼り付
けているガラス板を試料棒から取り外しての膜厚測定
と、再度ガラス板を研磨棒に取り付けた研磨とを繰り返
すため試料作製に時間を要するという問題があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
めに本発明は、レーザ変位計を用いて機械研磨時に試料
膜厚を計測する透過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法
および試料作製装置である。
めに本発明は、レーザ変位計を用いて機械研磨時に試料
膜厚を計測する透過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法
および試料作製装置である。
【０００７】
【発明の実施の形態】本発明の透過型電子顕微鏡の観察
試料作製方法を図１に示す。
試料作製方法を図１に示す。
【０００８】図１で、４は透過型電子顕微鏡観察をする
ための研磨試料、５は研磨試料４を貼り付けるガラス
板、６はガラス板５を取り付ける試料棒、７は研磨試料
４を研磨する回転研磨板、８は試料棒６をセットする試
料ガイド、９は研磨時に試料棒６上に置くウエイトで、
これらの構成は従来例の図４と同様である。１０はレー
ザ変位計で、１１は変位量を測定するためのレーザ変位
計１０のレーザ光である。研磨試料４のセット方法など
は従来例と同様で、試料棒６およびウエイト９をセット
した後にレーザ変位計１０のレーザ光１１が試料棒６上
に当たるように置く。今回はレーザ変位計として、市販
品（ＬＣ−２４４０、キーエンス（株））を使用した。
このレーザ変位計の測定精度は０．２μｍであり、研磨
時の変動も±２０μｍ以下であり、容易に試料膜厚５０
μｍ以下までに研磨することができる。
ための研磨試料、５は研磨試料４を貼り付けるガラス
板、６はガラス板５を取り付ける試料棒、７は研磨試料
４を研磨する回転研磨板、８は試料棒６をセットする試
料ガイド、９は研磨時に試料棒６上に置くウエイトで、
これらの構成は従来例の図４と同様である。１０はレー
ザ変位計で、１１は変位量を測定するためのレーザ変位
計１０のレーザ光である。研磨試料４のセット方法など
は従来例と同様で、試料棒６およびウエイト９をセット
した後にレーザ変位計１０のレーザ光１１が試料棒６上
に当たるように置く。今回はレーザ変位計として、市販
品（ＬＣ−２４４０、キーエンス（株））を使用した。
このレーザ変位計の測定精度は０．２μｍであり、研磨
時の変動も±２０μｍ以下であり、容易に試料膜厚５０
μｍ以下までに研磨することができる。
【０００９】次にこの研磨方法を用いた研磨装置につい
て説明する。図２はレーザ変位計を用いた研磨装置を説
明するブロック図である。回転研磨機１２上に取り付け
られたレーザ変位計１３で計測された研磨試料の膜厚は
制御器１４へ送られている。制御器１４では試料膜厚変
化から研磨速度を求める。研磨液が減少し、研磨速度が
低下してあらかじめ決められている所定値以下になる
と、制御器１４から研磨液供給の信号が研磨液供給器１
５へ送られ研磨液が供給される。
て説明する。図２はレーザ変位計を用いた研磨装置を説
明するブロック図である。回転研磨機１２上に取り付け
られたレーザ変位計１３で計測された研磨試料の膜厚は
制御器１４へ送られている。制御器１４では試料膜厚変
化から研磨速度を求める。研磨液が減少し、研磨速度が
低下してあらかじめ決められている所定値以下になる
と、制御器１４から研磨液供給の信号が研磨液供給器１
５へ送られ研磨液が供給される。
【００１０】さらに試料研磨が進み、試料膜厚があらか
じめ決められている所定値以下になると、制御器１４か
ら回転研磨機１２へ研磨終了の信号が送られ、研磨を終
了する。
じめ決められている所定値以下になると、制御器１４か
ら回転研磨機１２へ研磨終了の信号が送られ、研磨を終
了する。
【００１１】この発明による透過型電子顕微鏡用の試料
作製方法は、研磨時に研磨試料膜厚を計測できるので、
機械研磨を容易にすることができる。
作製方法は、研磨時に研磨試料膜厚を計測できるので、
機械研磨を容易にすることができる。
【００１２】
【発明の効果】この発明の透過型電子顕微鏡試料用の試
料作製方法および試料作製装置によって透過型電子顕微
鏡の試料作製を容易にすることが出来る。
料作製方法および試料作製装置によって透過型電子顕微
鏡の試料作製を容易にすることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態の試料作製方法を説明す
る模式図
る模式図
【図２】この発明の一実施形態の試料作製装置を説明す
るブロック図
るブロック図
【図３】従来の試料作製手順を説明する図
【図４】従来の試料作製方法を説明する模式図
１ Ｓｉウエハ ２ イオンビーム ３ 開口部 ４ 研磨試料 ５ ガラス板 ６ 試料棒 ７ 回転研磨板 ８ 試料ガイド ９ ウエイト １０ レーザ変位計 １１ レーザ光 １２ 回転研磨機 １３ レーザ変位計 １４ 制御器 １５ 研磨液供給器
Claims (4)
- 【請求項１】 研磨試料を取り付けた研磨試料棒上に、
レーザ変位計のレーザ光が当たるようにして、研磨時の
試料膜厚をレーザ変位計で計測することを特徴とする透
過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法。 - 【請求項２】 研磨試料を取り付けた研磨試料棒上に、
研磨時の試料膜厚を計測するレーザ変位計を取り付けた
ことを特徴とする透過型電子顕微鏡観察用の試料作製装
置。 - 【請求項３】 回転研磨機上に取り付けたレーザ変位計
で計測している研磨試料の膜厚の変化から求めた研磨速
度が所定値以下になると研磨液を供給することを特徴と
する透過型電子顕微鏡観察用の試料作製装置。 - 【請求項４】 回転研磨機上に取り付けたレーザ変位計
で計測している研磨試料の膜厚が所定値以下になると研
磨を終了することを特徴とする透過型電子顕微鏡観察用
の試料作製装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP124998A JPH11194078A (ja) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | 透過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法および試料作製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP124998A JPH11194078A (ja) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | 透過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法および試料作製装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11194078A true JPH11194078A (ja) | 1999-07-21 |
Family
ID=11496185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP124998A Pending JPH11194078A (ja) | 1998-01-07 | 1998-01-07 | 透過型電子顕微鏡観察用の試料作製方法および試料作製装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11194078A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100655580B1 (ko) | 2004-12-24 | 2006-12-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 정전용량 현미경 시편의 제작 방법 |
| CN102519778A (zh) * | 2011-12-26 | 2012-06-27 | 北京工业大学 | 一种便于磨抛透射电镜试样的装置 |
| CN111766127A (zh) * | 2020-07-29 | 2020-10-13 | 郑州飞机装备有限责任公司 | 一种膜层厚度检测方法 |
-
1998
- 1998-01-07 JP JP124998A patent/JPH11194078A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100655580B1 (ko) | 2004-12-24 | 2006-12-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 정전용량 현미경 시편의 제작 방법 |
| CN102519778A (zh) * | 2011-12-26 | 2012-06-27 | 北京工业大学 | 一种便于磨抛透射电镜试样的装置 |
| CN111766127A (zh) * | 2020-07-29 | 2020-10-13 | 郑州飞机装备有限责任公司 | 一种膜层厚度检测方法 |
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