JPH11190896A - 感光材処理装置 - Google Patents

感光材処理装置

Info

Publication number
JPH11190896A
JPH11190896A JP10292019A JP29201998A JPH11190896A JP H11190896 A JPH11190896 A JP H11190896A JP 10292019 A JP10292019 A JP 10292019A JP 29201998 A JP29201998 A JP 29201998A JP H11190896 A JPH11190896 A JP H11190896A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
channel
processing liquid
assembly
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10292019A
Other languages
English (en)
Inventor
John H Rosenburgh
ハワード ローゼンバーグ ジョン
Joseph A Manico
アンソニー マニコ ジョセフ
Jr Ralph L Piccinino
レナード ピッチニーノ,ジュニア ラルフ
David Lynn Patton
リン パットン デビッド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eastman Kodak Co
Original Assignee
Eastman Kodak Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=26735349&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH11190896(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Priority claimed from US08/056,457 external-priority patent/US5353083A/en
Application filed by Eastman Kodak Co filed Critical Eastman Kodak Co
Publication of JPH11190896A publication Critical patent/JPH11190896A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/02Details of liquid circulation
    • G03D3/06Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/02Details of liquid circulation
    • G03D3/06Liquid supply; Liquid circulation outside tanks
    • G03D3/065Liquid supply; Liquid circulation outside tanks replenishment or recovery apparatus
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03DAPPARATUS FOR PROCESSING EXPOSED PHOTOGRAPHIC MATERIALS; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03D3/00Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion
    • G03D3/08Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material
    • G03D3/13Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly
    • G03D3/132Liquid processing apparatus involving immersion; Washing apparatus involving immersion having progressive mechanical movement of exposed material for long films or prints in the shape of strips, e.g. fed by roller assembly fed by roller assembly

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 狭い処理チャネルを利用した処理液の容量の
小さい感光材の処理装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 この感光材処理装置は、処理液の上面の
レベルを、高衝撃装置の処理液出口より低い位置に保持
することによって、処理液のレベル235を正確に維持
するようにしている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明の写真の分野に関し、
更に詳しくは、感光材料の処理装置に関する。感光材料
の処理には例えば現像、ブリーチ、定着、洗浄及び乾燥
などのいくつかの段階を含む。これらの段階は、連続し
たフイルムのウェブ、又はフイルム若しくは写真紙のカ
ットシートを、各ステーションにおいてその処理段階に
適切な処理液を含んだ一連のステーション又はタンクに
順次搬送することにより、それら自体機械化されてい
る。
【0002】写真フイルム処理装置には各種のサイズの
もの、即ち大型の写真完成装置及びマイクロラボがあ
る。大型の写真完成装置は各処理液をほぼ100リット
ル収容できるラックやタンク形態を使用する。小型の写
真完成装置及びマイクロラボはは各処理液をほぼ10リ
ットル収容できるラックやタンク形態を使用する。
【0003】
【従来の技術】処理液に含まれる化学薬品は購入に経費
が嵩み、活性が変化し、感光材料の組成によっては乾燥
を起こして、写真処理中に劣化することがあり、化学薬
品の使用後その化学薬品を安定した雰囲気に置く必要が
ある。このため各種の写真処理装置において処理液の量
を減少することが重要である。従来技術において、現像
する材料の写真処理上の性質を一定に維持するために処
理液に特定の化学物質を追加ないし補足する各種の補充
システムが示唆されている。処理液は一定の補充期間に
おいてのみ、写真処理の特性を満足できる程度に一定に
維持することが可能である。処理液を所定回数使用した
後はその処理液を廃棄して新しい処理液がタンクに追加
される。
【0004】処理液の成分が混合された後、化学薬品の
不安定さ又は化学的な汚染によって起こる活性の劣化に
よって、大きな処理タンクよりも小さな処理タンクの方
がより頻繁に処理液を廃棄することが必要になる。写真
プロセスの幾つかのステップで、不安定な、即ち処理寿
命の短い化学物質を含んだ処理液を使用している。この
ように不安定な化学物質を含んだタンク内の処理液は、
安定した化学物質を含んだタンクよりも、より頻繁に廃
棄することが必要である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来技術において感光
材料を処理するために自動写真処理装置が使用されてき
た。自動写真処理装置は処理液が容量内に浸された搬送
ラックを連続的に配置した構成である。ラック及びタン
クの形状ないし形態は、所定の環境、例えばオフィス、
家庭、コンピュータのある領域などでは不適当であっ
た。
【0006】その理由は、写真処理液が溢れた場合にそ
れに対する対応に欠けること、即ちタンクからラックや
フラッシュを洗浄すべき処理液や雫等に対する対応に欠
けることから装置及び環境を破損することである。ま
た、写真材料はシャッター装置内でジャムを起こすこと
がある。この場合にラックをタンクから切り離してジャ
ム材料を取り除くために写真材料にアクセスしなければ
ならない。ラックやタンクの形状によっては処理液をた
らすことなくラックをタンクから取り外すことは困難で
ある。
【0007】ラック及びタンクの形状は感光材料に活性
の処理液を常時供給する必要性によって基本的には決ま
る。ラック及びタンクの基本的な機能は処理液に対して
適度の撹拌作用を与えることである。適度の撹拌作用は
感光材料の片面又は両面に新鮮な処理液を与え、一方で
処理ずみの処理液を感光材料から除去することである。
従来技術は、各種のサイズの写真処理装置に含まれる各
種のタンクの容積が減少た場合でも、同じ量のフィルム
又は感光用紙を処理することができ、使用済の処理液の
量、即ち廃棄する写真処理液の量を減少できることが示
唆している。小さい容量のタンクを使用した場合におけ
る問題の1つは、処理液を十分に攪拌しなければならな
いことである。
【0008】処理液の衝撃装置による攪拌作用を起こさ
せるために小さな容積を使用する場合において、空気と
処理液の境界面を適正に加減しなければならない。これ
は、非常に少量の処理液を使用する写真処理装置におい
て特に重要である。その理由は、大きな容積の写真処理
装置においては空気と処理液との接する部分の比率が処
理タンク内の処理液の量に比較して小さいからである。
更に、処理液が処理タンク内を循環する速度がタンク内
の処理液の量に対して低いからである。上述の条件下に
おいても、処理液の酸化、結晶化、蒸発は処理液と空気
との境界において問題となる。少量の処理液を使用する
場合、この問題はより大きくなる。というのは、処理液
と写真感光材料の表面積との比率は、従来の処理装置と
比較してはるかに大きくなり、したがって適当に加減し
ない場合は空気と処理液の比率もまた大きくなるからで
ある。
【0009】タンクが物理的に小さな容積である場合
は、その結果としてタンク循環出口と処理液の表面との
間の距離が短くなる。その結果、処理液の表面と循環出
口との間に異物及び渦流が形成される。それにより、過
度の空気が循環システム内に流入し、そして処理液の酸
化、結晶化、蒸発等の問題を生じ、処理装置の性能が劣
化することとなる。
【0010】大きな容積の処理装置の場合は、処理され
る感光材料のに比較して処理液の容積は非常に大きく
なる。感光材料が処理タンクを通過する際、タンクの処
理液の全容量に比較して非常に少量の処理液が移動す
る。小さな容積の処理装置の場合は、処理液の容積に比
較して処理されるべき感光材料のがはるかに大きくな
る。このように、感光材料が処理される際の処理液の移
動量を加減する必要がある。もしこれをしないならば、
処理液の減少によって処理装置の性能が落ちることとな
る。その理由は、処理液の容積が著しく減少するからで
ある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は処理液のレベル
を正確に保持する小容量の感光材料処理装置を提供する
ことにより上述の従来の欠点を克服するものである。更
に上面の作動液は高衝撃装置の処理液出口の下方に落下
しない。したがって、高衝撃装置からの出た処理液は処
理タンクに流入する際に空気に接触することはなくな
る。
【0012】処理液と空気の境界面は、この境界面にお
ける追加の機械的な要素によって著しく減少する。本発
明は、処理中に感光材料によって、又は循環システムの
動揺による処理液のうねりによって変動する処理液を保
持するための手段を提供することである。本発明はまた
処理液内へ空気が捕捉されるのを阻止することによって
処理液の適正な流れ特性を維持する手段を提供すること
である。
【0013】上述の課題は感光材料を処理する低容量の
装置を提供することによって解決される。即ち、写真材
料を処理する装置において、コンテナと、該コンテナ内
部に設置された少なくとも1つの処理アッセンブリと、
該少なくとも1つの処理アッセンブリに近接して配置さ
れた少なくとも1つの搬送アッセンブリと、とを具備す
る処理モジュールを有し、前記少なくとも1つの処理ア
ッセンブリと前記少なくとも1つの搬送アッセンブリに
よって、処理液が流れる実質的に連続した処理チャネル
を形成させ、前記少なくとも1つの処理アッセンブリに
は前記処理液を前記処理チャネルに供給する少なくとも
1つのスロットノズルが設けられ、前記処理液を前記少
なくとも1つのスロットノズルを通して直接供給する少
なくとも1つの供給導管と、前記処理チャネルから前記
処理液を排出するための、前記処理モジュールに設けた
少なくとも1つの排出開口と、前記処理液を前記供給導
管と前記排出開口とを介して前記モジュールを通して循
環させる手段と、処理液の妨げ部分が形成されるのを減
少するために前記処理液の容を加減する手段と、小さ
な容積の前記処理チャネル内の処理液のレベルを一定レ
ベルに保持するために前記循環手段に連結された手段
と、を具備することを特徴とする。
【0014】
【作用】上述の装置は、小容量の感光材料処理装置を通
して処理液を循環させ、一方で循環する処理液の酸化及
び蒸発等を最少にすることができる方法を提供するもの
である。本発明は更に処理液のレベルを一定に維持しな
がら処理装置の開始及び停止を可能とする。上記の事項
を達成し、しかも本発明は処理液の酸化及び蒸発等を防
止する。
【0015】処理装置内の処理液の流れ特性は、各種の
サイズの感光材料が効率良く処理できるように設計され
る。本発明は空気に露出される処理液の面積を最少にす
るものである。衝撃スロットノズルは処理液を感光材料
の片面又は両面に効率良く搬送する方法を提供するもの
であり、一方で写真処理液に接触する空気の境界を減少
する。処理液の酸化及び結晶化の形成が起こる場所は、
これらの境界面においてである。したがって、処理液の
酸化又は結晶化は大幅に減少する。
【0016】この処理装置の他の利点は、処理液装置を
通じて流れる写真処理液が、処理液と循環出口との間で
異物を形成したり又は渦流を形成したりするのを防止す
るように加減されることである。この処理装置の追加の
利点は、処理液装置内の処理液のレベルが、感光材料が
処理装置を通過する際に写真処理液のレベル及び写真処
理液の容積が一定に維持されるように制御されることで
ある。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照して本発明
の実施形態について詳細に説明する。特に図1におい
て、符号10は処理モジュールを示し、単独で設置され
るか、又は他の処理モジュールと結合若しくは組合をし
て感光材料処理用の連続した列のユニットを構成するこ
ともできる。
【0018】処理モジュール10は、コンテナ11、上
方に向いた入口通路100(図2について説明する)、
入口搬送ローラアッセンブリ12、搬送ローラアッセン
ブリ13、出口搬送ローラアッセンブリ15、上方に向
いた出口通路101(図2について説明する)、処理ア
ッセンブリの一部を形成する高衝撃スロットノズル17
a、17b、17c、駆動部16及び回転アッセンブリ
18を具備し、アッセンブリ18は駆動部16を回転す
る周知の手段、例えばモータ、ギア、ベルト、チェーン
等である。コンテナ11内にアクセス穴61が設けられ
る。穴61は複数のモジュール間の連結に使用される。
アッセンブリ12、13、15はその両側でコンテナ1
2内においてコンテナの側壁に近接させて配置され、ス
ロットノズル17a、17b、17cもその両側がコン
テナ11の側壁に近接させて配置される。駆動部16は
ローラアッセンブリ12、13及び15及び回転アッセ
ンブリ18に駆動連結され、アッセンブリ16はアッセ
ンブリ18の動作をアッセンブリ12、13及び15に
伝達するのに使用される。
【0019】ローラアッセンブリ12、13及び15、
及びスロットノズル17a、17b、17cはコンテナ
11に対して挿入及び離脱が容易である。ローラアッセ
ンブリ13は上ローラ22と、底ローラ23と、底ロー
ラ23に対して上ローラ22を圧接状態に維持する緊張
ばね62と、ベアリングブラケット26と、薄くて小さ
い容積の処理チャネル25を有するチャネル部24とか
ら成る。狭いチャネル開口27が部分24の内部に存在
する。部分24の入口側の開口27は部分24の出口側
の開口と同じサイズ及び形状を有する。部分24の入口
側の開口27は、各種の感光材料21の剛性の違いに対
応するように、面取り、テーパ状、半径状であっても良
く、或いは部分24の出口側より大きくても良い。チャ
ネル開口27は処理チャネル25の一部を形成する。ロ
ーラ22及び23は駆動又は被駆動ローラであり、ロー
ラ22及び23はそれぞれのブラケット26によって保
持される。ローラ22及び23は噛合ギア28により回
転される。
【0020】感光材料21はローラアッセンブリ12、
13及び15により処理チャネル25を通して自動的に
A又はBのいずれかの方向へ搬送される。感光材料21
はカットシート又はロール、或いは感光材料21は1つ
のロール状の形態であって且つ同時にカットシート状に
されているものであってもよい。感光材料21は両面又
は片面にエマルジョンを含有する。カバー20がコンテ
ナ11上に設置されると、光遮蔽した被覆体が形成され
る。このように、モジュール10は、図6にて説明する
循環システム60を伴って光遮蔽モジュールとして単独
で設置され、感光材料を処理することができるもの、即
ち、モノバスを構成する。2又はそれ以上のモジュール
10が結合されると多段の連続した処理ユニットが形成
される。1又は2以上のモジュール10の組合も可能で
ある。
【0021】図2は図1のモジュール10の一部を切断
して示すものである。アッセンブリ12、13、及び1
5、ノズル17a、17b、17c、背板9は処理チャ
ネル25、コンテナ11、循環システム60(図5)及
び間隙49a、49b、49c及び40d内に含まれる
処理液の量が最小となるように設計されている。モジュ
ール10の入口において上方に向いたチャネル100は
処理チャネル25の入口を形成する。モジュール10の
出口において上方に向いたチャネル101は処理チャネ
ル25の出口を形成する。アッセンブリ12はアッセン
ブリ13と同様の構造及び機能を有する。アッセンブリ
12は上ローラ30、底ローラ31、底ローラ31に対
して上ローラ30を保持する緊張ばね62(図示せ
ず)、ベアリングブラケット26、及びチャネル部24
から成る。狭い処理チャネル25の部分がチャネル24
によって形成される。チャンネル部24は処理チャンネ
ル25の一部である。ローラ30及び31は駆動又は被
駆動ローラであり、ローラ30及び31はブラケット2
6に連結される。アッセンブリ15はアッセンブリ13
と同様である。ただし、アッセンブリ15はローラ32
及び33と同様の作用をする2つの追加のローラ130
及び131を有する。アッセンブリ15は上ローラ3
2、底ローラ33、緊張ばね62(図示せず)、上ロー
ラ130、底ローラ131、ベアリングブラケット2
6、及びチャネル部24から成る。狭い処理開口部25
の一部がチャネル部24内に形成される。チャネル部2
4は処理チャネル25の一部を形成する。ローラ32、
33、130及び131は駆動又は被駆動ローラであ
り、ローラ32、33、130及び131はブラケット
26に連結される。このようにして、連続した処理チャ
ネルが形成されることが理解されよう。
【0022】背板9及びスロットノズル17a、17
b、17cはコンテナ11に取付けられる。図2に示す
実施形態は感光材料21がその面の一方にエマルジョン
を有する場に使用される。感光材料21のエマルジョン
の側はスロットノズル17a、17b、17cに面して
いる。感光材料21はローラ30及び31間のチャネル
25に入り、背板9とノズル17a間のチャネル25を
通過する。更に感光材料21はローラ22及び23間を
移動し、背板9とノズル17b及び17cとの間を通過
する。次いで感光材料21はローラ32及び33間を通
過し且つローラ130及び131間を通過し処理チャネ
ル25を出る。
【0023】通路48aは間隙49aを、ポート44
a、ポート44(図6)(これについては図6でより詳
細に説明する。)を介して循環システム60に連通さ
れ、通路48bは間隙49bを、ポート45a、ポート
45(図6)を介して循環システム60に連通される。
通路48cは間隙49cを、ポート46a、ポート46
(図6)を介して循環システム60に連通され、且つ通
路48dは間隙49dをポート47a、ポート47(図
6)を介して循環システム60に連通される。スロット
ノズル17aは通路50aを通して循環システム60に
連結されているが、通路50aの入口ポート41aはポ
ート44(図6)を通して循環システム60に連通して
いる。また、スロットノズル17bは通路50bを通し
て循環システム60に連結されているが、この通路の入
口ポート42aはポート42(図6)を介して循環シス
テム60に連通されている。通路50cはノズル17c
を、ポート43a、ポート43(図6)を介して循環シ
ステム60に連通されている。センサ52はコンテナ1
1に連結され、通路51との関連で処理溶液のレベル2
35を保持するために使用される。余分の処理液は溢流
通路51から取り除かれる。
【0024】織物状の面(以下、織物面という)200
又は205は処理チャネル25に面する背板9の表面
に、及び処理チャネル25に面するスロットノズル17
a、17b及び17cの表面に固着される。図3は図2
に示したモジュール10の他の実施形態を一部破断した
断面図で示すものであり、感光材料21は一方の面にエ
マルジョンを有し、且つノズル17d、17e及び17
fはコンテナ11の上部にある。アッセンブリ12、1
3及び15、ノズル17d、17e及び17f、並びに
背板9は処理チャネル25及び間隙49e、49g及び
49hに含まれる処理液の量を最少にするように設計さ
れている。モジュール10の入口において、チャネル1
00は処理チャネル25への入口を構成する。モジュー
ル10の出口において、上向きチャネル101は処理チ
ャネル25の出口を構成する。アッセンブリ12はアッ
センブリ13と同様の構造及び機能を有する。アッセン
ブリ12は上ローラ30、底ローラ31、底ローラ31
に対して上ローラ30を保持する緊張ばね62(図示せ
ず)、ベアリングブラケット26、及びチャネル部24
から成る。狭い処理開口25の部分がチャネル24によ
って形成される。チャンネル24は処理チャンネル25
の一部を形成する。ローラ30、31、130及び13
1は駆動又は被駆動ローラであり、ローラ30、31、
130及び131はブラケット26に連結される。即
ち、ほぼ連続した処理チャネルが提供されることとな
る。
【0025】背板9及びスロットノズル17d、17
e、17fはコンテナ11に固着される。図3に示す実
施形態は感光材料21がその面の一方にエマルジョンを
有する場合に使用される。感光材料21のエマルジョン
の側はスロットノズル17d、17e、17fに面して
いる。感光材料21はローラ30及び31間のチャネル
25に入り、背板9とノズル17dを越えて移動する。
そして感光材料21はローラ22及び23間を通過し、
背板9及びノズル17e及び17f間を通過する。次い
で感光材料21はローラ32及び33間を移動し且つロ
ーラ130及び131間を移動し処理チャネル25を出
る。
【0026】通路48eは間隙49eを、ポート44
b、ポート44(図6)を介して循環システム60に連
通し、且つ通路48fは間隙49fをポート45b、ポ
ート45(図6)を介して循環システム60に連通して
いる。また通路48gは間隙49gをポート46b、ポ
ート46(図6)を介して循環システム60に連通し、
且つ通路48hは間隙49hをポート47b、ポート4
7(図6)を介して循環システム60に連通している。
スロットノズル17dは通路50dを介して循環システ
ム連結されているが、通路50dの入口ポート41bは
ポート41(図6)を介して循環システム60に連通し
ている。またスロットノズル17eは通路50eを介し
て循環システム60に連通している、この通路の入口ポ
ート42bはポート42(図6)を介して循環システム
60に連通している。更に通路50fはノズル17fを
入口ポート43b、ポート43(図6)を介して循環シ
ステム60に連通している。センサ52はコンテナ11
に連通している。センサ52はコンテナ11に連結さ
れ、通路51との関連で処理溶液のレベル235を保持
するために使用される。余分の処理液は溢流通路51か
ら取り除かれる。
【0027】織物面200又は205は処理チャネル2
5に面する背板9の表面に、及び処理チャネル25に面
するスロットノズル17d、17e及び17fの表面に
付着される。図4は図2に示したモジュール10の更に
他の実施形態を一部破断した断面図で示すものであり、
感光材料21は両方の面にエマルジョンを有し、且つノ
ズル17g、17h及び17iはコンテナ11の上部に
あって、感光材料21の1つのエマルジョンの面に面
し、且つノズル17j、17k及び17Lは感光材料2
1の他方のエマルジョンの面に面している。アッセンブ
リ12、13及び15、ノズル17g、17h、17
i、17j、17k及び17Lは処理チャネル25及び
間隙49i、49j、49k及び49Lに含まれる処理
液の量を最少にするように設計されている。モジュール
10の入口において、チャネル100は処理チャネル2
5への入口を構成する。モジュール10の出口におい
て、チャネル101は処理チャネル25への出口を構成
する。アッセンブリ12はアッセンブリ13と同様であ
る。アッセンブリ12は上ローラ30、底ローラ31、
底ローラ31に対して上ローラ30を保持する緊張ばね
2(図示せず)、ベアリングブラケット26、及びチャ
ネル部24から成る。狭い処理チャネル25の一部が部
分24に存在する。チャネル部24は処理チャネル25
の一部である。ローラ30、31、130及び131は
駆動又は被駆動ローラであり、ローラ30、31、13
0及び131はブラケット26に連結される。アッセン
ブリ15はアッセンブリ13と同様である。ただし、ア
ッセンブリ15はローラ32及び33と同様の作用をす
る2つの追加のローラ130及び131を有する。アッ
センブリ15は上ローラ32、底ローラ33、緊張ばね
62(図示せず)、上ローラ130、底ローラ131、
ベアリングブラケット26、及びチャネル部24から成
る。狭い処理開口25の部分が部分24内に形成され
る。チャネル部24は処理チャネル25の一部を形成す
る。ローラ32、33、130及び131は駆動又は被
駆動ローラであり、ローラ32、33、130及び13
1はブラケット26に連結される。
【0028】スロットノズル17g、17h、17iは
コンテナ11の上部に固着される。スロットノズル17
j、17k、17Lはコンテナ11の下部に固着され
る。図4に示す実施形態は感光材料21がその両面にエ
マルジョンを有する場合に使用される。感光材料21の
一方のエマルジョンの側はスロットノズル17g、17
h、17jに面しており、感光材料21の他方のエマル
ジョンの側はスロットノズル17j、17k、17Lに
面している。感光材料21はローラ30及び31間をチ
ャネル25に入り、ノズル17g及び17jを越えて移
動する。そして感光材料21はローラ22及び23間を
移動し、ノズル17h、17k、17i及び17Lを越
えて移動する。この地点において感光材料21はローラ
32及び33間を移動し且つローラ130及び131間
を移動し処理チャネル25を出る。
【0029】通路48iは間隙49iを、ポート44
c、ポート44(図6)を介して循環システム60に連
通し、通路48jは間隙49kを、ポート45c、ポー
ト45(図6)を介して循環システム60に連通する。
通路48kは間隙49Lを、ポート46cを介して循環
システム60に連通し、且つ通路48Lは間隙49jを
ポート47c、ポート47(図6)を介して循環システ
ム60に連通する。スロットノズル17gは通路50g
を介して循環システム60に、ポート41(図6)を介
して通路50gに連通し、且つスロットノズル17hは
通路50hを介して循環システム60に、ポート42
(図6)を介して入口ポート62に連通する。通路50
iはノズル17iを、入口ポート63、ポート43(図
6)を介して循環システム60に連通する。スロットノ
ズル17jは通路50jを介して循環システム60に、
ポート41(図6)を介して入口ポート41に連通し、
且つスロットノズル17kは通路50kを介して循環シ
ステム60に、ポート42(図6)を介して入口ポート
42cに連通する。スロットノズル17Lは通路50L
を介して循環システム60に、ポート43(図6)介し
て入口ポート43cに連通する。センサ52はコンテナ
11に連結され且つセンサ52は通路51に関して処理
溶液のレベル235を保持するために使用される。余分
の処理液は溢流通路51から取り除かれる。感光材料2
1はチャネル入口100に入ってローラ30及び31間
をチャネル25のチャネル部24を通過し、ノズル17
g及び17jを越えて移動する。そして感光材料21は
ローラ22及び23間を通過し、ノズル17h及び17
k、17L及び17iを通過して移動する。ついで感光
材料21はローラ32及び33間を移動し、処理チャネ
ル25を出る。
【0030】通路48iは間隙49iを、ポート44
c、ポート44(図6)を介して循環システム60に連
通し、且つ通路48jは間隙49kを、ポート45c、
ポート45(図6)を介して循環システム60に連通す
る。通路48kは間隙49Lをポート46c、ポート4
6(図6)を介して循環システム60に連通し、且つ通
路48Lは間隙49jを、ポート47c、ポート47
(図6)を介して循環システム60に連通する。センサ
52はコンテナ11に連結され且つセンサ52は通路5
1に関しての処理溶液のレベル235を保持するために
使用される。余分の処理液は溢流通路51から取り除か
れる。
【0031】織物面200又は205は処理チャネル2
5に面するスロットノズル17g、17h、17i、1
7j、17k及び17Lの表面に固着される。図5は処
理液集合溜まり226の斜視図である。処理液はポート
44a,45a、46a及び47a(図2)、ポート4
4b、45b、46b及び47b(図3)及びポート4
4c、45c、46c及び47c(図4)を通じて溜ま
り226に流入する。溜まり226は上部227、底部
228、側部229及び230、及び端壁231及び2
32を有する小容積のコンテナからなる。
【0032】溜まり226は、溜まり226をポート4
4〜47に連結することによって処理液面235(図
2、図3及び図4)と処理液出口との間の距離を延長す
ることにより、処理モジュール10(図1)から異物及
び渦流をなくするために使用される。その距離は側部2
29の高さによって延長される。処理液は溜まり226
を充填している導管44〜47を出る。溜まり226は
導管85より廃液される。
【0033】図6は本発明の装置における処理液循環シ
ステムの概略図である。モジュール10はチャネル25
の容積を最少にするように設計されている。モジュール
10の出口44、45、45及び47は通路85を通し
て循環ポンプ80に連通されている。循環ポンプ80は
通路4を通してチャネル25に連通している。循環ポン
プ80はまた通路63を介して分岐管64に連通され、
分岐管64は通路66によりフィルタ64に連結されて
いる。フィルタ65は熱交換器86に連通され、熱交換
器86はワイヤ68を介して制御ロジック67に連結さ
れている。制御ロジック67はワイヤ70を介して熱交
換器86に連結され、センサ52はワイヤ71を介して
制御ロジック67に連結されている。計量ポンプ72、
73、及び74はそれぞれ通路75、76及び77を介
して分岐管64に連通されている。このように、処理液
はリザーバを使用することなく出口通路から入口通路に
直接汲み上げられる。
【0034】写真溶液を含む写真処理化学物質は計量ポ
ンプ72、73及び74に供給される。感光材料センサ
210が感光材料21(図1)がチャネル25に流入し
たことを検知し、センサ210がワイヤ211を介して
ポンプ72、73及び74、並びに制御ロジック67に
信号を伝達した時、ポンプ72、73及び74は適正量
の化学物質を分岐管64に供給する。分岐管64は写真
処理液を通路66に導入する。
【0035】写真処理液は通路66を通してフィルタ6
5に流入する。フィルタ65は写真処理液に含まれるこ
とのある不純物ないし汚染物を除去する。写真処理液が
フィルタを通過した後、処理液は熱交換器86に流入す
る。センサ52は処理液のレベルを検出し、センサ8は
処理液の温度を検出、それぞれワイヤ71及び7を介し
て制御ロジック67に処理液レベル及び処理液温度を伝
達する。例えば、制御ロジック67は、コネティカット
州・06907・スタンフォード・オメガドライブ1
(1 Omega Drive, Stamford, Connecticut 06907) のオ
メガ・エンジニアリング社 (Omega Engineering, Inc.)
にて製造されているシリーズCN310・ソリッドステ
ート温度コントローラである。ロジック67はセンサ8
で検出された処理液温度と交換器86がワイヤ70を介
してロジック67に伝達した温度とを比較する。ロジッ
ク67は交換器86に情報を伝え処理液の熱を増加又は
減少する。このように、ロジック67及び熱交換器86
は処理液の温度を修正し、処理液の温度を一定レベルに
維持する。
【0036】センサ52はチャネル25内の処理液レベ
ルを検出し、検出した処理液レベルをワイヤ71を介し
て制御ロジック67に伝達する。ロジック67はワイヤ
71を介してセンサ52によって検出された処理液レベ
ルをロジック67に設定されている処理液レベルと比較
する。ロジック67はワイヤ83を介して情報をポンプ
72、73及び74に伝達し、処理液のレベルが低い場
合は処理液を追加する。一旦処理液レベルが所望値に達
すると制御ロジック67はポンプ72、73及び74に
伝達し、処理液の追加を停止する。余分の処理液はモジ
ュール10からポンプで除去されるか、又はレベル・ド
レイン溢流部84から通路81を通してコンテナ82に
除去される。
【0037】次いで処理液は入口41、42及び43を
通してモジュール10に流入する。モジュール10が余
分の処理液を含んでいる場合は余分の処理液は溢流通路
51、ドレイン溢流部84及び通路81を通してリザー
バ82に流れる。リザーバ82に処理液レベルはセンサ
212により監視される。センサ212はワイヤ213
を介して制御ロジック67に連結されている。センサ2
12がリザーバ82に内の処理液の存在を検出した時は
ワイヤ213を介してロジック67に信号が伝達され、
ロジック67はポンプ214を作動する。これによりポ
ンプ214は処理液を分岐管64に汲み上げる。センサ
212が処理液の存在を検出しないときはワイヤ213
を介してロジック67への信号により不作動とされる。
リザーバ82内の処理液が溢流部215に達した時は、
処理液は通路216を通してリザーバ217へ伝わる。
残りの処理液は処理チャネル25を循環し、出口通路4
4、45、46、及び47に到達する。したがって、処
理液は出口通路44、45、46、及び47から導管8
5を通り循環ポンプ80に到達する。本発明の装置内に
含まれる写真処理液は、感光材料に露呈された時は、写
真処理液の量が少ないので、従来技術より一層すばやく
乾燥した状態に達する。
【0038】本発明に係る処理装置は処理液を保持する
ために小さな容積をもつ。処理液の容積を限定する部分
として、狭い処理チャネルが与えられる。例えば写真紙
の使用される処理装置用の処理チャネル25は、処理さ
れる紙の厚さの50倍、好ましくは10倍に等しいか又
はより少ない厚さtを有する。写真フイルムを処理する
処理装置において処理チャネル25の厚さtは感光材料
フイルムの厚さの100倍、好ましくは写真フイルムの
厚さの18倍に等しいか又はより少ない。本発明に係る
処理装置の例として約0.008インチ(0.2mm)の
厚さの処理紙を処理するものはチャネル厚さtは約0.
080インチ(2mm)である。また、約0.0055イ
ンチ(0.14mm)の厚さの処理紙を処理するものはチ
ャネル厚さtは約0.10インチ(2.54mm)であ
る。
【0039】処理モジュール内に規定される処理チャネ
ル25及び循環システム内の処理液の全容積は従来の処
理装置と比較して少ない。特に、特定のモジュールの処
理装置全体(コンテナ11内の処理チャネル25)の処
理液の全量はそのシステム内の処理液の全容積(処理モ
ジュールに対して有効な処理液の全量)の少なくとも4
0パーセントである。好ましくは、処理チャネル25の
容積はそのシステム内の処理液の全容積の約50パーセ
ントである。図示の実施形態では処理チャネルの容積は
処理液の全容積の約60パーセントである。
【0040】典型的にはシステム内の有効な処理液の量
は、処理装置によって、即ちその装置が処理可能な感光
材料の量によって変化するものである。例えば、典型的
な従来技術のマイクロラボ処理器では感光材料(一般に
搬送速度は約50インチ(127cm/分より少ない)を
約5平方フィート(4500cm2 )/分で処理する処理
装置は約17リットルの処理液を有する。本発明により
構成した処理装置では約5リットルである。典型的な従
来技術のミニラボ処理装置については、感光材料(一般
に搬送速度は約50インチ(127cm)/分ないし約2
0インチ(51cm)/分である)を約5平方フィート
(4500cm2 )/分ないし約15平方フィート(1.
35m2 )/分で処理する処理装置は約100リットル
の処理液を有する。本発明により構成した処理装置では
約10リットルである。従来技術の大型のラボ処理装置
については、感光材料(一般に搬送速度は約7〜60フ
ィート(2.1m〜18m)/分)を約50平方フィー
ト(4.5m2 )/分までで処理する処理装置は典型的
に約150〜300リットルの範囲の処理液を有する。
本発明により構成した大型のラボ処理装置では約15〜
100リットルである。本発明により構成したミニラボ
ザイズの処理装置であって感光材料を1分あたり15平
方フィート(1.35m2 )で処理するものは、従来技
術の典型例では約17リットルであるのに対し、処理液
は約7リットルである。
【0041】ある状況では処理液の渦流を生じさせない
ように通路48a〜48L内に及び間隙49a〜49L
に溜まりを設けるのが適当である。このような溜まりの
サイズや形状は処理液が循環される速度及び循環システ
ムの一部を構成する連通路のサイズによるのは勿論であ
る。例えば、ポンプへの通路48a〜48L及び間隙4
9a〜49L内における連通路をできる限り小さくすべ
きであり、しかも処理チャネルからポンプへの連通路が
大きくなればなる程渦流をおこしやすくなる。例えば、
約3〜4ガロン(11〜15リットル)/分の循環速度
を有する場合処理装置においては、循環ポンプへのトレ
イの出口において約4インチ(10cm)のヘッド圧を渦
流なしに維持するように溜まりを設けるのが好ましい。
溜まりはトレイの出口に隣接する局部的な領域にのみ設
ける必要がある。このように、処理装置に要求される流
速に対して有効となるように少ない処理液の量をバラン
スさせることが重要である。
【0042】ノズルを通って処理チャネルへ処理液が効
率的に流れるようにするため、処理液を処理チャネルへ
排出するノズル開口部が次の関係を満たすのが望まし
い。 1 ≦F/A≦ 40 ここで、Fはノズルを通る処理液の流速度で1分当たり
のガロン(×3.8リットル)、Aはノズルの断面積で
平方インチ(×6.5cm2 )で与えられる。即ち、Fを
毎分リットルで表すノズルを通過する溶液の流量、Aを
平方センチメートルを与えられたノズルの断面積とした
とき、 0.59 ≦ F/A ≦ 24 の関係のノズル開口が望ましい。
【0043】上記の関係を満たすノズルにより感光材料
に対する処理液の適当な排出が保証される。以上、本発
明を添付図面を参照して実施形態について詳細に説明し
たが、本発明は上記の実施形態に限定されるものではな
く、本発明の精神ないし範囲内において種々の形態、変
形、修正等が可能であることに留意すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図1】モジュール10の斜視図である。
【図2】モジュール10の一部破断図であって、材料2
1がその1つの面上にエマルジョンを有し、材料21の
エマルジョンの面に向いてコンテナ11の底部にノズル
17a、17b及び17cを有する状態を示す。
【図3】図2のモジュール10の他の実施形態の一部破
断図であって、材料21がその1つの面上にエマルジョ
ンを有し、材料21のエマルジョンの面に向いてコンテ
ナ11の底部にノズル17a、17b及び17cが設け
られている状態を示す。
【図4】図2のモジュール10の更に他の実施形態の一
部破断図であって、材料21がその両面上にエマルジョ
ンを有し、材料21の一方のエマルジョンの面に向いて
コンテナ11の底部にノズル17g、17h及び17i
が、材料21の他方のエマルジョンの面に向いてコンテ
ナ11の底部にノズル17j、17k及び17Lがそれ
ぞれ設けられている状態を示す。
【図5】処理液の集合溜まり部の斜視図である。
【図6】本発明の装置における処理液循環システムの概
略図である。
【符号の説明】
4…通路 7…ワイヤ 8…センサ 9…背板 10…処理モジュール 11…コンテナ 12…搬送ローラアッセンブリ 13…搬送ローラアッセンブリ 15…搬送ローラアッセンブリ 16…駆動部 17a−17L…ノズル 18…回転アッセンブリ 20…カバー 21…感光材料 22…ローラ 23…ローラ 24…チャネル部 25…チャネル 26…支持ブラケット 28…噛合ギア 30…ローラ 31…ローラ 32…ローラ 33…ローラ 41…ポート 41a−41c…入口ポート 42…ポート 42a−42c…入口ポート 43…ポート 43a−43c…入口ポート 44…ポート 44a−44c…ポート 45…ポート 45a−45c…ポート 46…ポート 46a−46c…ポート 47…ポート 47a−47c…ポート 48a−48L…ポート 49a−49L…通路 50a−50L…間隙 51…溢流通路 52…センサ 60…循環システム 61…アクセス穴 62…緊張スプリング 63…通路 64…分岐管 65…フィルタ 67…制御ロジック 68…ワイヤ 70…ワイヤ 71…ワイヤ 72…計量ポンプ 73…計量ポンプ 74…計量ポンプ 75…通路 76…通路 77…通路 80…循環ポンプ 81…通路 82…コンテナ 83…ワイヤ 84…ドレイン溢流部 85…通路 86…熱交換器 100…入口チャネル 101…出口チャネル 130…ローラ 131…ローラ 200…織物面 205…織物面 210…センサ 211…ワイヤ 212…センサ 213…ワイヤ 214…ポンプ 215…溢流部 216…通路 217…リザーバ 226…溜まり部 227…上部 228…底部 229…側部 230…側部 231…端壁 232…端壁 235…処理液レベル
フロントページの続き (72)発明者 ラルフ レナード ピッチニーノ,ジュニ ア アメリカ合衆国,ニューヨーク 14543, ラッシュ,ファイブ ポインツ ロード 665 (72)発明者 デビッド リン パットン アメリカ合衆国,ニューヨーク 14580, ウェブスター,マジェスティック ウエイ 1218

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 写真材料を処理する装置において、 コンテナと、該コンテナ内部に設置された少なくとも1
    つの処理アッセンブリと、該少なくとも1つの処理アッ
    センブリに近接して配置された少なくとも1つの搬送ア
    ッセンブリと、とを具備する処理モジュールを有し、前
    記少なくとも1つの処理アッセンブリと前記少なくとも
    1つの搬送アッセンブリによって、処理液が流れる実質
    的に連続した処理チャネルを形成させ、 前記少なくとも1つの処理アッセンブリには前記処理液
    を前記処理チャネルに直接供給する少なくとも1つのス
    ロットノズルが設けられ、 前記処理液を前記少なくとも1つのスロットノズルを通
    して前記処理チャネルへ直接供給する少なくとも1つの
    供給導管と、 前記処理モジュールから前記処理液を排出するための、
    前記処理モジュールに連結された少なくとも1つの排出
    開口と、 前記処理液を前記供給導管と前記排出開口とを介して前
    記モジュールを通して循環させる手段と、 処理液の妨げ部分が形成されるのを減少するために前記
    処理液の容を加減する手段と、 小さな容積の前記処理チャネル内の処理液のレベルを一
    定レベルに保持するために前記循環手段に連結された手
    段と、を具備することを特徴とする感光材処理装置。
  2. 【請求項2】 前記処理チャネルは、該処理チャネル内
    で処理される写真材料の厚さの約100倍に等しいか又
    は100倍より小さい厚さとなっていることを特徴とす
    る請求項1に記載の感光材処理装置。
  3. 【請求項3】 前記少なくとも1つのスロットノズルの
    出口の流量(リットル/分)が 0.59 ≦ F/A ≦ 24 で規定されていることを特徴とする請求項1又は2に記
    載の感光材処理装置。ここで、Fはリットル/分で表す
    処理液の流量、Aは平方センチメートルで表す前記少な
    くとも1つの前記出口の全面積である。
  4. 【請求項4】 写真材料を処理する装置において、 コンテナと、該コンテナ内部に設置された少なくとも1
    つの処理アッセンブリと、該少なくとも1つの処理アッ
    センブリに近接して配置された少なくとも1つの搬送ア
    ッセンブリと、とを具備する処理モジュールを有し、前
    記少なくとも1つの処理アッセンブリと前記少なくとも
    1つの搬送アッセンブリによって、処理液が流れる実質
    的に連続した処理チャネルを形成させ、該処理チャネル
    の表面は織物面として形成され、 前記少なくとも1つの処理アッセンブリには前記処理液
    を前記処理チャネルに供給する少なくとも1つのスロッ
    トノズルが設けられ、 前記処理液を前記少なくとも1つのスロットノズルを通
    して直接供給する少なくとも1つの供給導管と、 前記処理チャネルから前記処理液を排出するための、前
    記処理モジュールに設けた少なくとも1つの排出開口
    と、 前記処理液を前記供給導管と前記排出開口とを介して前
    記モジュールを通して循環させる手段と、を具備するこ
    とを特徴とする感光材処理装置。
  5. 【請求項5】 前記処理チャネルは、該処理チャネル内
    で処理される写真材料の厚さの約100倍に等しいか又
    は100倍より小さい厚さとなっていることを特徴とす
    る請求項4に記載の感光材処理装置。
  6. 【請求項6】 前記少なくとも1つのスロットノズルの
    出口の流量(リットル/分)が 0.59 ≦ F/A ≦ 24 に規定されていることを特徴とする請求項4又は5に記
    載の感光材処理装置。ここで、Fはリットル/分で表す
    処理液の流量、Aは平方センチメートルで表す前記少な
    くとも1つの前記出口の全面積である。
JP10292019A 1993-05-03 1998-10-14 感光材処理装置 Pending JPH11190896A (ja)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/056,457 US5353083A (en) 1993-05-03 1993-05-03 Closed solution recirculation/shutoff system for an automatic tray processor
US056457 1994-03-10
US08/209,179 US5389994A (en) 1993-05-03 1994-03-10 Closed solution recirculation/shutoff system for an automatic tray processor
US209179 1994-03-10

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6093475A Division JP2928090B2 (ja) 1993-05-03 1994-05-02 感光材処理装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000368834A Division JP2001154327A (ja) 1993-05-03 2000-12-04 感光材処理装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH11190896A true JPH11190896A (ja) 1999-07-13

Family

ID=26735349

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6093475A Expired - Fee Related JP2928090B2 (ja) 1993-05-03 1994-05-02 感光材処理装置
JP10292019A Pending JPH11190896A (ja) 1993-05-03 1998-10-14 感光材処理装置
JP2000368834A Pending JP2001154327A (ja) 1993-05-03 2000-12-04 感光材処理装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP6093475A Expired - Fee Related JP2928090B2 (ja) 1993-05-03 1994-05-02 感光材処理装置

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000368834A Pending JP2001154327A (ja) 1993-05-03 2000-12-04 感光材処理装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US5389994A (ja)
EP (1) EP0623845B1 (ja)
JP (3) JP2928090B2 (ja)
BR (1) BR9401675A (ja)
CA (1) CA2121440C (ja)
DE (1) DE69427426T2 (ja)
TW (1) TW233346B (ja)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5660974A (en) 1994-06-09 1997-08-26 Eastman Kodak Company Color developer containing hydroxylamine antioxidants
US5739896A (en) * 1995-02-03 1998-04-14 Eastman Kodak Company Method and apparatus for digitally printing and developing images onto photosensitive material
US6333144B1 (en) 1998-12-28 2001-12-25 Fuji Photo Film Co., Ltd. Developing processing method and apparatus
GB0026948D0 (en) 2000-11-03 2000-12-20 Eastman Kodak Co Processing photographic material
US6508597B2 (en) 2000-12-18 2003-01-21 Eastman Kodak Company Processing apparatus system
US6761491B2 (en) * 2002-12-09 2004-07-13 Eastman Kodak Company Photographic processor and supply cartridge with an information exchange arrangement
IT1392573B1 (it) * 2008-12-30 2012-03-09 Lavazza Luigi Spa Gruppo di infusione per una macchina per la preparazione di bevande

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4324479A (en) * 1979-11-01 1982-04-13 Sachs Emanuel M Film processing method and apparatus
US4354755A (en) * 1980-04-21 1982-10-19 Ciba-Geigy Ag Apparatus for the processing of photographic material in sheet form
DE3345084C2 (de) * 1983-12-13 1985-10-10 Agfa-Gevaert Ag, 5090 Leverkusen Entwicklungsvorrichtung für horizontal geführte Schichtträger
US4736221A (en) * 1985-10-18 1988-04-05 Fuji Photo Film Co., Ltd. Method and device for processing photographic film using atomized liquid processing agents
FR2592021B1 (fr) * 1985-12-23 1988-02-19 Kodak Pathe Procede et dispositif de convoyage d'un produit passant dans un ou plusieurs liquides de traitement
US4758857A (en) * 1986-04-03 1988-07-19 Nix Company, Ltd. Automatic film developing machine
EP0306976B1 (en) * 1987-09-11 1994-12-14 Fuji Photo Film Co., Ltd. Automatic film processor
JP2807826B2 (ja) * 1988-06-27 1998-10-08 コニカ株式会社 感光材料処理装置
IT1224924B (it) * 1988-07-25 1990-10-29 Durst Phototechnik Srl Macchina sviluppatrice continua per materiale fotografico in formato.
JPH0268548A (ja) * 1988-09-05 1990-03-08 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料処理装置
JPH02210440A (ja) * 1989-02-10 1990-08-21 Fuji Photo Film Co Ltd 画像形成用溶媒塗布装置
JP2804818B2 (ja) * 1989-06-21 1998-09-30 オリンパス光学工業株式会社 液体現像装置
GB9003282D0 (en) * 1990-02-14 1990-04-11 Kodak Ltd Method and apparatus for photographic processing
JPH0553278A (ja) * 1991-08-27 1993-03-05 Fuji Photo Film Co Ltd ハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法
US5179404A (en) * 1992-03-02 1993-01-12 Eastman Kodak Company Anti-web adhering contour surface for a photographic processing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
EP0623845A1 (en) 1994-11-09
DE69427426T2 (de) 2002-04-11
DE69427426D1 (de) 2001-07-19
JPH075661A (ja) 1995-01-10
JP2928090B2 (ja) 1999-07-28
CA2121440A1 (en) 1994-11-04
CA2121440C (en) 1999-03-16
JP2001154327A (ja) 2001-06-08
EP0623845B1 (en) 2001-06-13
BR9401675A (pt) 1995-03-07
TW233346B (en) 1994-11-01
US5389994A (en) 1995-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100237072B1 (ko) 사진처리장치용 슬롯 밀집 구조
JP2981113B2 (ja) 感光材処理装置
JP2726235B2 (ja) 織物面のチャネルを有する感光材処理装置
US5420658A (en) Modular processing channel for an automatic tray processor
JP2928093B2 (ja) モジュラー処理チャネルを有する感光材処理装置
JP2928090B2 (ja) 感光材処理装置
US5355190A (en) Slot impingement for an automatic tray processor
US5313243A (en) Counter cross flow for an automatic tray processor
US5452043A (en) Rack and a tank for a photographic low volume thin tank insert for a rack and a tank photographic processing apparatus
JP2928094B2 (ja) スロットノズルを有する感光材処理装置
US5398094A (en) Slot impingement for an automatic tray processor
US5353088A (en) Automatic tray processor
US5353086A (en) Textured surface with canted channels for an automatic tray processor
US5353083A (en) Closed solution recirculation/shutoff system for an automatic tray processor
US5426480A (en) Photographic film processing apparatus
EP1394609A1 (en) Washing method and apparatus