JPH11189560A - リコペン代謝物の製造法 - Google Patents
リコペン代謝物の製造法Info
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Abstract
合成すること。 【解決手段】 2,6−シクロリコペン−1,5−ジオ
ール(II) 【化43】 を酢酸α−テルピニルから多段階法により製造する方
法。
Description
るリコペンの酸化代謝物の製造のための多段階法、なら
びに該製造法で製造される新規中間体に関する。
リコペンは、癌の化学的予防(予防)に重要な役割を果
たし〔例えば、J.S. Bertram, Pure & Appl. Chem. 66,
1025-1032 (1994)、およびその中で言及される参考文
献;N.I. Krinsky, Nat. Antioxid. Health Dis. 1994,
239-261;J.S. Bertram, Oxid. Stress Aging 1995, 2
21-235;ならびにT. Narisawa et al., Cancer Lett. 1
07 (1), 137-142 (1996)を参照されたい〕、臨床的研究
でのそれらの用途は、充分に確立されている〔A.Bendic
h, Pure & Appl. Chem. 66, 1017-1024 (1994)、および
その中で言及される参考文献〕。Levyらは、式I:
の癌細胞の増殖に対する予防活性を立証している〔Nut
r. Cancer, 24, 257-266 (1995)〕。E. Giovannucciら
は、リコペンに富む食餌が前立腺癌の危険性を低下させ
ることをJ. Natl. Cancer Inst.87, 1767-1776 (1995)
で開示している。
わけトマトに存在する。癌に対する活性に関して、調理
したトマトが生のそれより実質的に活性であるという知
見は、煮沸後にリコペンは、向上した生体利用能を有
し:一方、その生物学的活性化合物は、リコペンの酸化
の生成物または代謝物であり得るという事実のためであ
り得る。ヒトの血漿のカロテノイド含量に関する最近の
研究で、新たなリコペン代謝物、すなわち2,6−シク
ロリコペン−1,5−ジオール、およびおそらく5,6
−ジヒドロキシ−5,6−ジヒドロリコペンが同定され
ている〔F. Khachik et al., J. Cell Biochem. 1995
(Suppl. 22), 236-246および11th International Sympo
sium on Carotenoids, Leiden 1996, O.P.1.3;ならび
にF. Khachik, Book of Abstracts, 213th ACS Nat. Me
eting, San Francisco, April 13-14,1997〕。最初に言
及された式II:
での癌の成長の予防に活性を示す。
の酸化代謝物の二様の合成が報告されている。すなわち
Biosci. Biotechn. Biochem. 59, 2153-2155 (1995; Y.
Lu et al.)、および前述の11th Int. Symp. on Carote
noids, Leiden 1996 (O.P.3.5; F. Khachik etal.) が
それである。これらは部分合成であって、それぞれ、リ
コペン自体から出発する。ここに、(公知の)2,6−
シクロリコペン−1,5−ジオール(II)は、多段階法
によって、すなわち、容易に入手できる酢酸α−テルピ
ニルから出発して製造できることが見出された。この方
法は、リコペンの酸化によって生成される代謝物の最初
の全合成である。
2,6−シクロリコペン−1,5−ジオール(II)を製
造する法であって、式III:
キシル化して、式IV:
ル)−1−メチルシクロヘキサン−1,2−ジオール
〔シクロヘキサンジオール(IV)〕を得る工程と、シク
ロヘキサンジオール(IV)を酸化的に開裂して、式V:
ル)−6−オキソ−ヘプタナール〔ケトアルデヒド
(V)〕を得る工程と、ケトアルデヒド(V)を分子内
アルドール縮合に付して、式VI:
ル)−2−ホルミル−1−メチル−シクロペンタノール
〔シクロペンタノール(VI)〕を得る工程と、シクロペ
ンタノール(VI)をシリル化して、式VII:
ル)−2−ホルミル−1−メチル−1−トリメチルシリ
ルオキシ−シクロペンタン〔ホルミルシクロペンタン
(VII)〕を得る工程と、ホルミルシクロペンタン(VI
I)を、アセトンによるC3鎖延長に、かつそれと同時に
アセチル基の切断のための鹸化に付して、式VIII:
ルエチル)−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシ
−シクロペンチル〕−3−ブテン−2−オン〔シクロペ
ンチルブテノン(VIII)〕を得る工程と、シクロペンチ
ルブテノン(VIII)を臭化ビニルマグネシウムと反応さ
せて、式IX:
ルエチル)−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシ
−シクロペンチル〕−3−メチル−ペンタ−1,4−ジ
エン−3−オール〔ペンタジエノール(IX)〕を得る工
程と、ペンタジエノール(IX)を、シリル化ヒドロキシ
基の脱保護によって式X:
は、ハロゲンイオンまたは硫酸水素イオンを意味する〕
で示される(5−〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロ
キシ−1−メチルエチル)−2−メチル−シクロペンチ
ル〕−3−メチル−ペンタ−2,4−ジエニル)トリフ
ェニルホスホニウム塩〔ホスホニウム塩(X)〕へと転
換する工程と、ホスホニウム塩(X)を式XI:
トリエン−1,8−ジアール〔C1 0ジアール(XI)〕と
のウィッティッヒ反応に付して、式XII:
−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−2−メチル−シクロペンチル〕トリデカ−2,
4,6,8,10,12−ヘキサエナール〔トリデカヘ
キサエナール(XII)〕を得る工程と、トリデカヘキサ
エナール(XII)を、式XIII:
は、ハロゲンイオンまたは硫酸水素イオンを意味する〕
で示される(3,7,11−トリメチルドデカ−2,
4,6,10−テトラエニル)トリフェニルホスホニウ
ム塩〔ホスホニウム塩(XIII)〕とのウィッティッヒ反
応に付して、式IIの2,6−シクロリコペン−1,5−
ジオールを得る工程とを含む方法に関する。
X、XおよびXIIの新規中間体、ならびに個々の工程段階
IV→V、V→VI、VI→VII、VII→VIII、VIII→IX、IX→
X、X+XI→XIIおよびXII+XIII→II、すなわち、新規
中間体と公知最終生成物IIとの製造のための上記の一工
程法にも関する。式IIIの化合物ばかりでなく、式IV、X
IおよびXIIIの化合物は公知であって:とりわけT. Hira
ta et al., Chem. Lett. 1982, 671-674〔シクロヘキサ
ンジオール(IV)〕、ならびに米国特許第5,166,
445号明細書およびHelv. Chim. Acta 75, 1848-1865
(1992)〔ホスホニウム塩(XIII)〕を参照されたい。
キサンジオール(IV)への酸化的ジヒドロキシル化は、
酸化剤の過マンガン酸カリウムを、液体反応媒体中で、
比較的低い温度で用いて実施するのが好都合である。酢
酸α−テルピニル(III)に対する溶媒としては、特に
極性有機溶媒、例えば、脂肪族または環式エーテル、例
えばテトラヒドロフランもしくは低級(特にC1〜C
6の)アルコール、例えばエタノールが考慮される。次
いで、過マンガン酸カリウムを適切には約2〜約7%
(重量/体積)の範囲の濃度で水に溶解し、水溶液で酢
酸α−テルピニルの溶液に徐々に加えるのが好都合であ
る。安全のため(またこれらの条件下で、一般的には反
応が充分に進行するため)、添加は、比較的低い温度、
すなわち、好都合には約0〜約40℃の温度範囲で実施
する;過剰酸化の危険性のため、温度は、この範囲の低
い方の部分に保たなければならない。好都合には、抽出
物の量に対して約0.8〜約1.0当量(eq.)の過マ
ンガン酸カリウムを用いる。その上、添加の際は、反応
混合物を、活発に撹拌し、添加の完了後も更に適切に撹
拌するのが有利である。このようにして、反応は、通
常、約2時間の最大値以内に終了し、そうすると懸濁液
が存在し、所望のシクロヘキサンジオール(IV)が溶液
中に存在する。この生成物を単離するには、懸濁液を濾
過し、濾液を水と混和しない適切な有機溶媒、例えば、
低級ハロゲン化炭化水素(例えば塩化メチレンもしくは
クロロホルム)、脂肪族エーテル(例えばジエチルエー
テルもしくはtert−ブチルメチルエーテル)、または低
級脂肪族エステル(例えば酢酸エチル)で抽出し、例え
ば無水硫酸ナトリウムまたは硫酸マグネシウムで、有機
抽出相を乾燥し、次いで減圧下で蒸発させる。所望なら
ば、通常の方式で、例えば再結晶またはカラムクロマト
グラフィーによって、固体残渣を精製することができ
る。
この酸化剤は、酸化的ジヒドロキシル化にもう一つの形
態で用いることができる;このためには、特に水酸化ア
ルカリ水溶液、例えば水酸化ナトリウムまたは水酸化カ
リウム水溶液によるアルカリ性溶液中での過マンガン酸
カリウム、およびエタノール性水溶液中で硫酸マグネシ
ウムと併用する過マンガン酸カリウムが特に考慮に入れ
られる。いずれの場合も、反応を、例えば約0〜約5℃
の範囲の低い温度で実施し、それによって、別の点で
は、それ自体は公知である方式で反応手順を実施できる
のが好都合である〔Organikum, p.261およびW.T. Weber
et al., Tetr. Lett. 1972, p.4907以下を参照された
い〕。その上、過マンガン酸カリウム以外の酸化剤、特
に四酸化オスミウム/過酸化水素も、考慮に入れられ
る。この場合、代表的には、メタノール、tert−ブタノ
ール、アセトンまたは氷酢酸中の過酸化水素の6〜7%
溶液、および同じ溶媒中の四酸化オスミウムの約0.5
%溶液を酢酸α−テルピニル(III)に加え、反応混合
物を数日間撹拌する。それ以上の詳細については、例え
ば、N.A. Milas et al., J.A.C.S. 58, 1302以下(193
6)を参照されたい。
ジオール(IV)の転換は、例えば、Tetr. Lett. 28, p.
2863以下(1987)に記載されたとおりのグリコール開裂
である。本発明のIV→Vの場合、グリコール開裂は、好
都合には、低温度ないし程々の温度で、酸化剤として酢
酸鉛(IV)〔Pb(OCOCH3)4〕を用い、非プロト
ン性の極性もしくは非極性、またはプロトン性の極性で
さえある有機溶媒中で実施する。この目的に好適な溶媒
は、低級ハロゲン化脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレ
ン;芳香族炭化水素、例えばベンゼンもしくはトルエ
ン;または低級脂肪族カルボン酸、例えば酢酸である。
反応は、適切には、約−20℃〜約50℃の温度範囲、
好ましくは約0℃で実施する。酢酸鉛の量は、好都合に
は、抽出物の量に対して約1.0と約1.5当量との間
にある。所望ならば、この薬剤は、直接に、すなわち希
釈せずに、選んだ溶媒中のシクロヘキサンジオール(I
V)の溶液に加えるか、または2種類の反応物を溶媒に
溶解もしくは懸濁させることができるが、この間は、好
ましくは低い温度、特に5℃未満にあるそれに保ち、ま
たそれぞれの場合に、水分をできるだけ排除する。酢酸
鉛にほとんど不可避的に付随する酢酸を中和するため、
シクロヘキサンジオールの溶液または懸濁液を、酢酸鉛
の添加の前に無水炭酸ナトリウム、またはもう一つのか
なり弱い無機塩基で処理するのが有利であり;この目的
には、好ましくは、粉砕されたか、または微結晶の無水
炭酸ナトリウムを用いる。その上、反応混合物を撹拌す
るのが望ましい。このようにして、反応は、通常、約2
時間以内に終了する。
この混合物に水を適切に加え、それによってその温度が
室温まで上昇するよう放置する。残留固体成分を濾去
し、生成物を含有する有機相を分離した後、所望ならば
それ以上の有機溶媒、例えば塩化メチレンによる抽出に
よって、水相に残留する生成物を得ることができる。
(全)有機相の慣用の処理(例えば無水硫酸ナトリウム
または硫酸マグネシウム上での、乾燥、蒸発、および所
望ならばカラムクロマトグラフィーによる精製)によっ
て、所望のケトアルデヒド(V)が得られる。
クロペンタノール(VI)への分子内アルドール縮合であ
る。この縮合は、好都合には、有機溶媒中、または水中
でさえ、約0℃〜反応混合物の還流温度の範囲の温度、
好ましくは室温〜約50℃の温度で、そして塩基、およ
びやはり有機酸の存在下で該ケトアルデヒドを反応させ
ることによって実施することができる。適切な有機溶媒
は、主として、低級脂肪族および環式エーテル、例えば
ジエチルエーテル、tert−ブチルメチルエーテルまたは
テトラヒドロフラン;低級脂肪族ケトン、例えばアセト
ン;ならびに芳香族炭化水素、例えばベンゼンおよびト
ルエンである。適切な塩基は、一般的には、アミン、例
えばジアルキルアミンおよびトリアルキルアミン、なら
びに窒素含有複素環式化合物、例えばピペリジンおよび
ピロリジンである。考慮される酸は、とりわけ、低級脂
肪族カルボン酸、例えば酢酸、およびスルホン酸、例え
ばp−トルエンスルホン酸である。塩基およびカルボン
酸は、ともに、抽出物を基準にして触媒量(最大約0.
02モル)ないし約1モル当量で用いることができる。
縮合は、通常、100時間の最大値以内には終了してお
り、遅くとも約24時間後には、約1:1の生成物:抽
出物比での平衡が達成されるのが認められる。
して生成されたシクロペンタノール(VI)を、反応混合
物から単離し、所望ならば、それ自体は公知である方式
で、特に塩基性および/または無機酸性の水溶液、例え
ば炭酸ナトリウム、塩酸および/または塩化ナトリウム
の水溶液での洗浄、適切な有機溶媒、例えば、エーテ
ル、例えばtert−ブチルメチルエーテルによる抽出、有
機相の分離および乾燥、この相の蒸発、ならびに所望な
らば、固体残渣の再結晶、および/またはカラムクロマ
トグラフィーによる精製によって、精製することができ
る。
は、とりわけカルテノイドの分野では(本多工程製造法
でのシクロペンタノール(VI)からホルミルシクロペン
タン(VII)へのシリル化でのように)、特に常套的な
反応工程であって、これに関しては無数の刊行物が存在
する〔例えば、F. Kienzle & R.E. Minder, Helv. Chi
m. Acta 61, 242 (1978);A. Haag & C.H. Eugster,
同, 65, 1795 (1982);ならびにD.J. Buschor & C.H. E
ugster, 同, 73, 1002 (1990) を参照されたい〕。トリ
メチルシリル基ばかりでなく、他の保護基も、エノラー
トやグリニャール試薬に対して安定であると同時に酸に
も安定であるならば、着想できる。その他のトリアルキ
ルシリル、メトキシメチル、メトキシエトキシメチルお
よびテトラヒドロピラニルの保護基も、これに属する。
シリル化剤および非プロトン性極性溶媒として用いて、
(トリメチルシリル保護基による)シリル化を実施する
のが好都合であることが見出されている。さらに、通常
のように塩基を用いる。適切な溶媒は、特に、低級のハ
ロゲン化された脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレン;
窒素含有複素環化合物、例えばピリジン;低級脂肪族お
よび環式エーテル、例えばジエチルエーテルもしくはテ
トラヒドロフラン;低級脂肪族アミン、例えばトリエチ
ルアミン;ならびに低級脂肪族アミド、例えばジメチル
ホルムアミドである。適切な塩基は、とりわけ、低級脂
肪族アミン、例えばトリエチルアミン;芳香族アミン、
例えばジメチルアニリン;ならびに窒素を含有する、場
合によりアミノ化された複素環化合物、例えばイミダゾ
ールおよび4−ジメチルアミノピリジンである。明らか
と思われるとおり、アミンは、溶媒としてばかりでな
く、塩基としても役立つことができる。抽出物の量に対
して(1当量を基準に)約2〜約4当量のトリメチルク
ロロシラン、および約2〜約5当量の塩基が、好都合に
も用いられる。
ンタノール(VI)および塩基の溶液に、同じ溶媒に溶か
したシリル化剤を加えることにより、また約−10℃〜
室温の範囲の温度で実施する。その上、添加は、好都合
には、水分をできるだけ排除するために不活性の保護気
体、例えば窒素下で、かつ撹拌しつつ実施する。上記の
条件下では、シリル化は、通常、約24時間以内に終了
している。反応後に得られた混合物の精製は、慣用の方
式で、例えば、固体成分を濾去し、濾液を蒸発させ、固
体残渣を、例えば再結晶および/またはカラムクロマト
グラフィーによって精製することによって実施すること
ができて、多少とも純粋なホルミルシクロペンタン(VI
I)が得られる。
の延長、および同時のホルミルシクロペンタン(VII)
からシクロペンチルブテノン(VIII)への鹸化は、好都
合には、初め、(塩基としての)リチウムジアルキルア
ミドを、リチウムアルキル、例えばn−ブチルリチウム
と第二級アミン、特にジ(C1〜C6)アルキルアミン、
例えばジイソプロピルアミンとから直前に生成し、適切
な有機溶媒、特に非プロトン性極性溶媒中でアセトンと
反応させて、アセトンエノラートを得;次いでエノラー
トをホルミルシクロペンタン(VII)と反応させること
によって実施する。「in situ」でのリチウムジアルキ
ルアミド生成に適した有機溶媒は、一般的には、非プロ
トン性溶媒、例えば低級脂肪族もしくは環式エーテル、
例えばジエチルエーテルもしくはテトラヒドロフラン、
または芳香族炭化水素、例えばトルエンである。この生
成は、その上に、不活性保護気体、例えば窒素の下で、
撹拌しつつ、比較的低い、特に約−10〜約+10℃の
範囲の温度、好ましくは約0℃で実施するのが好都合で
ある。リチウムアルキルおよび第二級アミンは、ほぼ等
モル量で用いるのが適切である。充分な反応期間、すな
わち通常は約1時間以内の後、混合物を、好都合には、
約−70℃に冷却し、その後、アセトンを同じ溶媒中で
加える。好都合には、充分に過剰のリチウムジアルキル
アミドの塩基、特に約1.1〜約2当量をアセトン(1
当量)に対して用いて、アセトンの自己縮合をできるだ
け抑制する。低温度での短い撹拌期間の後、ホルミルシ
クロペンタン(VII)を、好都合にはアセトンの量より
多少少ないモル量で、加える。反応混合物を約−20〜
約0℃まで暖める間に、アセトンは、ホルミルシクロペ
ンタン(VII)と、上記の温度範囲で比較的速やかに反
応する。こうして生成されたシクロペンチルブテノン
(VIII)の単離および精製のためには、混合物を、例え
ば塩化アンモニウム飽和水溶液で処理し、有機相を分離
し、水および/または塩化ナトリウム飽和水溶液で洗浄
し、乾燥剤、例えば無水硫酸ナトリウムまたは硫酸マグ
ネシウム上で乾燥し、有機相を最終的に蒸発させること
ができ;所望ならば、得られた残渣の(より以上の)精
製を、例えば再結晶および/またはカラムクロマトグラ
フィーによって実施することができる。
である。シクロペンチルブテノン(VIII)と臭化ビニル
マグネシウムとを、好都合には、非プロトン性の極性有
機溶媒、例えば、低級脂肪族もしくは環式エーテル、例
えばジエチルエーテルもしくはジメトキシエタン、また
はそれぞれ、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン
もしくはジオキサン、あるいはアミド、例えばヘキサメ
チルホスホルトリアミド中で、かつ約−50〜約0℃、
好ましくは約−40〜約−20℃の温度範囲で互いに反
応させる。好都合には、シクロペンチルブタノン(VII
I)の当量あたり約2〜4当量の臭化ビニルマグネシウ
ムを用いる。脂肪族アミン、例えばトリエチルアミンの
添加は、活性を上昇させるのに役立つ。こうして得られ
たペンタジエノール(IX)の単離および精製は、前記の
工程段階VII→VIIIに関して説明した手順と同様にして
実施することができる。
として、シクロペンチルブテノン(VIII)の自由な第3
級ヒドロキシル基を、好都合には工程段階VI→VIIに類
似のトリメチルシリル化によって、工程段階VIII→VII
の直前に保護することができ;対応する変更された工程
段階VIII→IXの後で、シリル化されたヒドロキシル基を
慣用の方式で脱保護することができ、やはりペンタジエ
ノール(IX)を生じる。
好都合には、極性有機溶媒中のペンタジエノール(IX)
およびハロゲン化トリフェニルホスホニウムまたは硫酸
水素トリフェニルホスホニウムの溶液を数時間撹拌する
ことによって、実施する。低級脂肪族アルコール、例え
ばメタノールおよびエタノール;ならびに低級ハロゲン
化脂肪族炭化水素、例えば塩化メチレンおよびクロロホ
ルムが、そのような溶媒として特に適している。適切に
は、ペンタジエノール(IX)の1当量あたり約1〜約
1.2当量のハロゲン化または硫酸水素トリフェニルホ
スホニウムを用いる。このトリフェニルホスホニウム塩
は、好ましくはハロゲン化物、特に塩化物または臭化物
であり、臭化トリフェニルホスホニウムが特に好適であ
る。反応は、好都合には、約0〜約50℃の温度範囲、
好ましくは室温で、また原則として約12〜約72時間
実施する。こうして得られたホスホニウム塩(X)の単
離および(所望ならば)精製は、それ自体は公知である
方法に従って実施することができる。
目の工程段階、および最後の工程段階は、それぞれの場
合に、特にカロテノイド化学では周知であるウィッティ
ッヒ反応である。いずれの場合も、類似の反応条件を用
いることができるが、一般的には、より強烈な条件、と
りわけ、より高い温度が、最後の工程段階には可能であ
る。二つの反応物は、それぞれ、塩基の存在下、プロト
ン性または非プロトン性極性有機溶媒中で互いに反応さ
せるのが好都合である。そのような溶媒としては、特
に、低級脂肪族アルコール、例えばメタノールおよびエ
タノール;低級ハロゲン化脂肪族炭化水素、例えば塩化
メチレンおよびクロロホルム;脂環族エーテル、例えば
エポキシブタンその他のオキシラン、およびテトラヒド
ロフラン;ジメチルホルムアミド;ならびにジメチルス
ルホキシドが考慮される。
好都合には、約0〜約60℃の範囲の温度、好ましくは
室温で、第二の場合(XII+XIII→II)は、好都合に
は、約0〜約60℃の範囲の温度、好ましくは約40℃
で実施する。その上、それぞれのホスホニウム塩(X)
または(XIII)を、僅かに過剰量で、適切には最高約1
0%過剰として用いるのが望ましい。精製は、好都合に
は、反応後に得られた混合物を水と非プロトン性極性有
機溶媒、例えば低級脂肪族エーテル、エステル、または
ハロゲン化炭化水素、例えばジエチルエーテル、酢酸エ
チル、またはそれぞれ、塩化メチレンもしくはクロロホ
ルムとの間に分配して、有機相を分離し、これを塩化ナ
トリウム飽和水溶液で洗浄し、水相を更に有機溶媒で抽
出し、併せた有機相を、例えば無水硫酸ナトリウムまた
は硫酸マグネシウムで乾燥し、有機相を蒸発させ、これ
を乾燥し、乾燥剤から遊離させ、こうして得られた固体
を、例えばカラムクロマトグラフィーおよび/または再
結晶によって精製することによって実施する。
IおよびIIは、通常、それぞれE/Z−異性体混合物と
して得られ、例えばヘキサンからの、再結晶によって
(全E)−異性体をこれから単離することができる。一
般的には、得られたそれぞれの生成物の異性は、所望な
らば、多工程法全体で制御することができる。したがっ
て、式IIIの(4R)−酢酸α−テルピニル〔(4R)
−III〕から出発して、(1RS,2RS,4R)−I
V、(3R)−V、(1R,2S,3R)−VI、(1
R,2S,3R)−VII、(1′R,2′S,3′R)
−VIII、(1′R,2′S,3′R,3RS)−IX、
(1′R,2′S,3′R)−X、(1′R,2′S,
3′R)−XIIおよび(全E,2R,5R,6S)−II
を順次生成することができる。対応する鏡像異性体は、
(4S)−酢酸α−テルピニルから生成することができ
る。
法の別法として次の方法を示す。式II:
−1,5−ジオールの製造法であって、式III:
キシル化して、式IV:
ル)−1−メチルシクロヘキサン−1,2−ジオール
〔シクロヘキサンジオール(IV)〕を得る工程と;シク
ロヘキサンジオール(IV)を酸化的に開裂して、式V:
ル)−6−オキソ−ヘプタナール〔ケトアルデヒド
(V)〕を得る工程と、ケトアルデヒド(V)を分子内
アルドール縮合に付して、式VI:
ル)−2−ホルミル−1−メチルシクロペンタノール
〔シクロペンタノール(VI)〕を得る工程と、シクロペ
ンタノール(VI)をシリル化して、式VII:
ル)−2−ホルミル−1−メチル−1−トリメチルシリ
ルオキシ−シクロペンタン〔ホルミルシクロペンタン
(VII)〕を得る工程と、ホルミルシクロペンタン(VI
I)を、アセトンによるC3鎖延長、およびそれと同時に
アセチル基の切断のための鹸化に付して、式VIII:
ルエチル)−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシ
−シクロペンチル〕−3−ブテン−2−オン〔シクロペ
ンチルブテノン(VIII)〕を得る工程と、シクロペンチ
ルブテノン(VIII)を、塩基の存在下でのホスホノ酢酸
トリアルキルによるホルナー−エモンスオレフィン化に
付して、式XIV:
ルを意味する〕で示される対応する5−〔5−(1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエチル)−2−メチル−2−トリ
メチルシリルオキシ−シクロペンチル〕−3−メチル−
ペンタ−2,4−ジエン酸アルキル〔ペンタジエン酸エ
ステル(XIV)〕を得る工程と、ペンタジエン酸エステ
ル(XIV)をシリル化されたヒドロキシル基の脱保護に
よって還元して、式XV:
ロキシ−1−メチルエチル)−2−メチル−シクロペン
チル〕−3−メチル−ペンタ−2,4−ジエン−1−オ
ール〔ペンタジエノール(XV)〕を得る工程と、ペンタ
ジエノール(XV)を式X:
は、ハロゲンイオンまたは硫酸水素イオンを意味する〕
で示される(5−〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロ
キシ−1−メチルエチル)−2−メチル−シクロペンチ
ル〕−3−メチル−ペンタ−2,4−ジエニル)−トリ
フェニルホスホニウム塩〔ホスホニウム塩(X)〕へと
転換する工程と、ホスホニウム塩(X)を式XI:
トリエン−1,8−ジアール〔C1 0ジアール(XI)〕と
のウィッティッヒ反応に付して、式XII:
−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−2−メチル−シクロペンチル〕−トリデカ−2,
4,6,8,10,12−ヘキサエナール〔トリデカヘ
キサエナール(XII)〕を得る工程と、トリデカヘキサ
エナール(XII)を、式XIII:
は、ハロゲンイオンまたは硫酸水素イオンを意味する〕
で示される(3,7,11−トリメチル−ドデカ−2,
4,6,10−テトラエニル)トリフェニルホスホニウ
ム塩〔ホスホニウム塩(XIII)〕とのウィッティッヒ反
応に付して、式IIの所望の2,6−シクロリコペン−
1,5−ジオールを得る工程と、を含む方法。
テノン(VIII)をペンタジエノール(IX)を経由してホ
スホニウム塩(X)へと転換するのではなく、それを代
りの二つの中間体を経由してホスホニウム塩(X)へと
転換する工程を含み;この変化形は、三つの工程段階が
関与し、特に、シクロペンチルブテノン(VIII)を塩基
の存在下でのホスホノ酢酸トリアルキルによるホルナー
−エモンス(Horner-Emmans)オレフィン化に付して、
式XIV:
ルを意味する〕で示される対応する5−〔5−(1−ヒ
ドロキシ−1−メチルエチル)−2−メチル−2−トリ
メチルシリルオキシシクロペンチル〕−3−メチルペン
タ−2,4−ジエン酸アルキル〔ペンタジエン酸エステ
ル(XIV)〕を得る工程と、ペンタジエン酸エステル(X
IV)をシリル化されたヒドロキシル基の脱保護によって
還元して、式XV:
ロキシ−1−メチルエチル)−2−メチルシクロペンチ
ル〕−3−メチルペンタ−2,4−ジエン−1−オール
〔ペンタジエノール(XV)〕を得る工程と、ペンタジエ
ノール(XV)を、上に示した式Xの(5−〔2−ヒドロ
キシ−5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2
−メチルシクロペンチル〕−3−メチルペンタ−2,4
−ジエニル)トリフェニルホスホニウム塩〔ホスホニウ
ム塩(X)〕へと転換する工程とを含む。2,6−シク
ロリコペン−1,5−ジオールの製造のための多工程法
の残り、すなわち工程段階X+XI→XIIおよびXII+XIII
→IIは、上に定義かつ記載したとおりに実施する。酢酸
α−テルピニルから出発する式IIのリコペン代謝物2,
6−シクロリコペン−1,5−ジオールの製造のため
の、こうして変更された方法は、本発明の更に一つの態
様を表し、該別法で生成される式XIVおよびXVの新規中
間体はもとより、個々の工程段階VIII→XIV、XIV→XVお
よびXV→X、すなわち該新規中間体の生成のための上に
定義した一段階の工程もそうである。
チルブテノン(VIII)の反応(ホルナー−エモンスオレ
フィン化)は、好都合には、溶媒としての低級脂肪族エ
ーテルまたはジエーテル、例えば、ジメトキシエタン中
で、そして強塩基、特にアルカリ金属水素化物、例えば
水素化ナトリウム;アルカリ金属アルコキシド、例えば
ナトリウムメトキシドもしくはエトキシド;アルキルリ
チウム、例えばブチルリチウム;またはリチウムジアル
キルアミド、例えばリチウムジイソプロピルアミドの存
在下で実施する。反応は、低温度、すなわち約−10℃
未満の温度で実施し;その低い方の限界は、約−60℃
にある。ホスホノ酢酸トリアルキルの冷却溶液を、同じ
溶媒中の強塩基の同様に冷却した懸濁液に、撹拌かつ冷
却しつつ徐々に加え、撹拌期間の後に、同じ溶媒中のシ
クロペンチルブテノン(VIII)の溶液を、それぞれの混
合物の温度を常に約−10℃に未満に保ちつつ加えるこ
とが実際的であることがわかっている。その上、これら
の操作を不活性気体、例えば窒素またはアルゴン下で実
施することが推奨される。最後に、反応混合物を数時
間、例えば5〜15時間撹拌し、次第に室温まで暖まる
よう放置する。こうして得られたペンタジエン酸エステ
ル(XIV)の単離および精製は、工程段階VII→VIIIに関
連して記載した手順と同様に実施することができるが、
塩化アンモニウム飽和水溶液での処理後、そして有機相
の分離前には、抽出のために追加の有機溶媒、例えば酢
酸エチルを加えるのが適切である。
ジエン酸エステル(XIV)のエステル基−COOアルキ
ルの還元、および同様に存在するトリメチルシリルオキ
シ基の脱保護を含む。還元は、好都合には、この目的に
慣用的に用いられる還元剤、特に金属水素化物、例えば
水素化ジイソブチルアルミニウムもしくは水素化アルミ
ニウムリチウム、またはアルコキシ−金属水素化物を用
いて実施する。その上、反応は、好都合には、概して低
い温度で、脂肪族炭化水素、例えばヘキサン;脂肪族も
しくは環式エーテル、例えばジエチルエーテルもしくは
テトラヒドロフラン;低級脂肪族アルコール、例えばエ
タノール;またはその他の水溶性有機溶媒中で実施す
る。水素化ジイソブチルアルミニウムを還元剤として用
いるときは、反応は、例えば、約−40℃の最大値を超
えず、原則として約−60℃にある温度で実施する。し
かし、還元剤によるペンタジエン酸エステル(XIV)の
処理後は、反応混合物を室温まで暖まるよう放置し、そ
の後、例えば酢酸エチルを抽出剤として用いる抽出工程
を含めて、上記の工程段階VII→VIIIに関連して記載し
た手順と同様に精製を実施することもでき、それによっ
て、前記の工程段階VIII→XIVによる精製と同様に、蒸
発させた有機相も、水溶液としての有機または無機の
酸、例えば塩酸(脱保護を生じる)で処理する。次い
で、この酸処理の後、好都合には、水と抽出剤との間で
の分配、(併せた)有機相の乾燥および蒸発、ならびに
所望ならば、例えば再結晶および/またはカラムクロマ
トグラフィーによるそれ以上の精製を実施する。
記のホスホニウム塩形成IX→Xと同様に実施することが
できる、すなわち同等の反応条件を、この反応にも適用
する。
での)製造法で生成される新規中間体、すなわち
エチル)−6−オキソヘプタナール、式VIの3−(1−
アセトキシ−1−メチルエチル)−2−ホルミル−1−
メチルシクロペンタノール、式VIIの3−(1−アセト
キシ−1−メチルエチル)−2−ホルミル−1−メチル
−1−トリメチルシリルオキシ−シクロペンタン、式VI
IIの4−〔5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)
−2−メチル−2−トリメチルシリルオキシ−シクロペ
ンチル〕−3−ブテン−2−オン、式IXの5−〔5−
(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−メチル−
2−トリメチルシリルオキシ−シクロペンチル〕−3−
メチルペンタ−1,4−ジエン−3−オール、式X:
は、ハロゲンイオンまたは硫酸水素イオンを意味する〕
で示される(5−〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロ
キシ−1−メチルエチル)−2−メチル−シクロペンチ
ル〕−3−メチル−ペンタ−2,4−ジエニル)トリフ
ェニルホスホニウム塩、式XIIの2,7,11−トリメ
チル−13−〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ
−1−メチルエチル)−2−メチル−シクロペンチル〕
−トリデカ−2,4,6,8,10,12−ヘキサエナ
ール、式XIV:
ルを意味する〕で示される5−〔5−(1−ヒドロキシ
−1−メチルエチル)−2−メチル−2−トリメチルシ
リルオキシ−シクロペンチル〕−3−メチル−ペンタ−
2,4−ジエン酸アルキルエステル、および式XVの5−
〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ−1−メチル
エチル)−2−メチル−シクロペンチル〕−3−メチル
−ペンタ−2,4−ジエン−1−オール(それぞれの場
合で、(4R)−または(4S)−酢酸α−テルピニル
から出発して生成し得るラセミ体としてか、あるいは上
に示したそれぞれの光学活性形態として)にも関する。
0g(255ミリモル)の溶液を0℃まで冷却した。水
1リットル中の過マンガン酸カリウム50g(316ミ
リモル)の溶液を、活発に撹拌しつつ、2時間以内に滴
加し、冷却の除去後に、反応混合物を更に1時間撹拌し
た。次いで、Celite(商品名:様々な粒度の珪藻土より
なる濾過助剤)越しに混合物を濾過し、濾液を酢酸エチ
ルで抽出した。有機相を、無水硫酸マグネシウム上で乾
燥し、次いで減圧下で蒸発させた。残渣を最小量の酢酸
エチルから再結晶させ、4℃でヘキサンを加え、更に生
成物を得るために、シリカゲルおよびヘキサン/酢酸エ
チル混合物(1:1)を用いたカラムクロマトグラフィ
ーによって、母液を精製し、蒸発によってそれから得ら
れた残渣を、同じようにして再結晶させた。こうして得
た白色針状の4−(1−アセトキシ−1−メチルエチ
ル)−1−メチル−シクロヘキサン−1,2−ジオー
ル、融点:88℃の総収率は、33.77g(148ミ
リモル;理論収率の65%;抽出物のうち5.38gが
回収された)であった。
ら出発して、上記のようにして、シクロヘキサンジオー
ル(IV)を1RS,2RS,4R−ジアステレオマー混
合物として得た;〔α〕D 2 3:−3.3°(CH3OH中
でc=0.04)。
ル−シクロヘキサン−1,2−ジオール33.77g
(148ミリモル)、および微細に粉砕した無水炭酸ナ
トリウム34.88g(327ミリモル)を塩化メチレ
ン1リットルに入れ、混合物を0℃まで冷却した。次い
で、酢酸鉛(IV)(156ミリモル)と酢酸との85:
15混合物93.3gを、温度が6℃を超えないように
して、一部分ずつ混合物に加えた。混合物を1時間撹拌
し、水50mlで処理し、室温まで暖めた。次いで、水−
有機混合物をCeliteをとおして濾過し、有機相を濾液か
ら分離し、水相を塩化メチレンで抽出し、併せた有機相
を無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、乾燥した有機相を
減圧下で蒸発させ、残渣を、固定相としてシリカゲル
を、また溶離剤としてヘキサンと酢酸エチルとの3:2
混合物を用いたカラムクロマトグラフィーによって精製
した。
リモル)の3−(1−アセトキシ−1−メチルエチル)
−6−オキソ−ヘプタナール、融点:24℃を白色のろ
うとして得た;収率は理論の90%であった。
2RS,4R−ジアステレオアイソマー混合物から出発
して、上記のようにして、ケトアルデヒド(V)を3R
−異性体として得た;〔α〕D 2 3:−6.3°(CH3O
H中でc=0.28)。
ソ−ヘプタナール11.59g(51.1ミリモル)を
テトラヒドロフラン250mlに、ピペリジン2.3m
l、酢酸2.3mlおよび水1.15mlとともに溶解し、
溶液を室温で21.5時間撹拌した。次いで、溶液を、
5%炭酸ナトリウム溶液、2N塩酸および塩化ナトリウ
ム飽和溶液で順次洗浄し、水相を、それぞれ、tert−ブ
チルメチルエーテルで抽出した。併せた有機相を、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させ、次い
で、残渣を、固定相としてシリカゲルを、また溶離剤と
してヘキサンと酢酸エチルとの13:7混合物を用いた
カラムクロマトグラフィーによって精製した。
リモル)の3−(1−アセトキシ−1−メチルエチル)
−2−ホルミル−1−メチル−シクロペンタノールを無
色の油状物として得た。収率は、理論の45%であっ
た;用いた抽出物のうち4.76g(20.9ミリモ
ル、41%)が回収されたため、生成物の収率は、転換
を基準にして77%であった。
出発して、上記のようにして、シクロペンタノール(V
I)を1R,2S,3R−異性体として得た;
〔α〕D 2 4:−4.3°(CH3OH中でc=0.3
8)。
ミル−1−メチル−シクロペンタノール620mg(2.
72ミリモル)、およびイミダゾール600mg(7.5
ミリモル)を塩化メチレン10mlに溶解し、塩化メチレ
ン5ml中のトリメチルクロロシラン0.45ml(3.5
6ミリモル)の溶液を、室温で溶液に吹きつけた。反応
混合物を、窒素下、この温度で17時間撹拌した。精製
のため、混合物を濾過し、濾液を減圧下で蒸発させ、残
渣を、シリカゲル、およびヘキサンと酢酸エチルとの1
7:3混合物を用いたカラムクロマトグラフィーによっ
て精製した。
1−メチルエチル)−2−ホルミル−1−メチル−1−
トリメチルシリルオキシ−シクロペンタン490mg
(1.63ミリモル;理論収率の60%)を白色のろう
として得た。
3R−異性体から出発して、上記のようにして、ホルミ
ルシクロペンタン(VII)を1R,2S,3R−異性体
として得た;〔α〕D 2 0:−12℃(CH3OH中でc=
0.076)。
ラヒドロフラン8mlに入れ、ブチルリチウム1.25ml
(2ミリモル、ヘキサン中に1.6M)を、窒素下、0
℃で吹きつけた。混合物を、30分間撹拌し、−70℃
まで冷却し、テトラヒドロフラン1ml中のアセトン11
0μl(1.5ミリモル)を吹きつけた。得られたリチ
ウムジイソプロピルアミドの溶液を、15分間撹拌し、
その後、テトラヒドロフラン1.5ml中の3−(1−ア
セトキシ−1−メチルエチル)−2−ホルミル−1−メ
チル−1−トリメチルシリルオキシ−シクロペンタン3
00mg(1ミリモル)を吹きつけた。反応混合物を、2
時間以内に0℃まで暖め、次いで、塩化アンモニウム飽
和溶液10mlで注意深く処理した。有機相を、分離し、
水および塩化ナトリウム飽和溶液で洗浄し、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥し、最後に減圧下で蒸発させた。残渣
の精製は、例のとおり、シリカゲル、およびヘキサンと
酢酸エチルとの3:1混合物を用いたカラムクロマトグ
ラフィーによって実施した。
キシ−1−メチルエチル)−2−メチル−2−トリメチ
ルシリルオキシ−シクロペンチル〕−3−ブテン−2−
オン210mg(0.7ミリモル;理論収率の70%)を
無色の油状物として得た。
2S,3R−異性体から出発して、上記のようにして、
シクロペンチルブテノン(VIII)を1′R,2′S,
3′R−異性体として得た;〔α〕D 2 2:−116℃
(CH3OH中でc=0.324)。
液6.6ml(6.6ミリモル)をテトラヒドロフラン3
0mlに溶解し、次いで、溶液を窒素下で−50℃まで冷
却した。次いで、テトラヒドロフラン10ml中の4−
〔5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−メ
チル−2−トリメチルシリルオキシ−シクロペンチル〕
−3−ブテン−2−オン490mg(1.64ミリモル)
の溶液を、徐々に吹きつけ、反応混合物を30分間撹拌
し、臭化ビニルマグネシウム(3ミリモルのCH2=C
HMgBr)のエーテル溶液3mlを更に加え、混合物を
0℃まで暖めた。
和溶液20mlで処理し、有機相を分離し、塩化ナトリウ
ム溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧
下で蒸発させた。残渣の精製は、例のとおり、シリカゲ
ル、およびヘキサンと酢酸エチルとの17:8混合物を
用いたカラムクロマトグラフィーによって実施した。
キシ−1−メチルエチル)−2−メチル−2−トリメチ
ルシリルオキシ−シクロペンチル〕−3−メチル−ペン
タ−1,4−ジエン−3−オール190mg(0.58ミ
リモル;理論収率の35%)を無色の油状物として得
た。
R,2′S,3′R−異性体から出発して、上記のよう
にして、ペンタジエノール(IX)を1′R,2′S,
3′R,3RS−異性体混合物として得た;
〔α〕D 2 5:−85℃(CH3OH中でc=0.35
5)。
−メチル−2−トリメチル−シリルオキシ−シクロペン
チル〕−3−メチル−ペンタ−1,4−ジエン−3−オ
ール520mg(1.6ミリモル)、および臭化トリフェ
ニルホスホニウム600mg(1.75ミリモル)を、メ
タノールとクロロホルムとの1:1混合物16mlに溶解
し、溶液を、窒素下、かつ光を排除しつつ、室温で23
時間撹拌した。その後、混合物を蒸発させ、少量の塩化
メチレンに溶解した残渣を、氷冷tert−ブチルメチルエ
ーテル中で沈澱させた。上清を傾瀉し、濾過した後、捕
集した沈澱を、tert−ブチルメチルエーテルで洗浄し、
減圧下で乾燥した。
ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチ
ル)−2−メチル−シクロペンチル〕−3−メチル−ペ
ンタ−2,4−ジエニル)トリフェニルホスホニウム
1.09gを得た。この生成物を、精製せずに、次段階
の工程X+XI→XII(実施例8)に用いた。
ず
S,3′R,3RS−異性体混合物から出発して、上記
のようにして、ホスホニウム塩(X;Ph=フェニル、
X1 -=Br)を1′R,2′S,3′R−異性体として
得た;〔α〕D 2 0:−18.8°(CH3OH中でc=
0.085)。
キシ−1−メチルエチル)−2−メチル−シクロペンチ
ル〕−3−メチル−ペンタ−2,4−ジエニル)トリフ
ェニルホスホニウム200mg(最高0.36ミリモ
ル)、および2,7−ジメチル−2,4,6−オクタト
リエン−1,8−ジアール50mg(0.3ミリモル)を
塩化メチレン2mlに入れ、1N水酸化ナトリウム溶液
1.5mlで処理した。次いで、反応混合物を室温で90
分間撹拌した。精製のために、混合物を塩化メチレンと
水との間で分配し、水相を分離し、有機相を、無水硫酸
マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた。残渣を、
シリカゲル、およびヘキサンと酢酸エチルとの7:3混
合物を用いたカラムクロマトグラフィーによって精製し
た。
ル−13−〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ−
1−メチルエチル)−2−メチル−シクロペンチル〕−
トリデカ−2,4,6,8,10,12−ヘキサエナー
ル33mg(86マイクロモル、理論収率の少なくとも2
8%)をE/Z−異性体混合物の形態で橙色の粉末とし
て得た。ヘキサンからの再結晶の後、(全E)−異性体
としてのこの生成物12mg(31マイクロモル;理論収
率の少なくとも10%)を得た。
1 -=Br)の1′R,2′S,3′R−異性体から出発
して、上記のようにして、トリデカヘキサエナール(XI
I)を1′R,2′S,3′R−異性体として得た。
−〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ−1−メチ
ルエチル)−2−メチル−シクロペンチル〕−トリデカ
−2,4,6,8,10,12−ヘキサエナール59mg
(0.16ミリモル)、および臭化(3,7,11−ト
リメチル−ドデカ−2,4,6,10−テトラエニル)
トリフェニルホスホニウム94mg(0.17ミリモル)
の溶液を、1N水酸化ナトリウム溶液1mlで処理し、反
応混合物を還流温度で90分間加熱した。精製のため、
次いで溶液を酢酸エチルと水との間で分配し、水相を分
離し、有機相を、塩化ナトリウム溶液で洗浄し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、減圧下で蒸発させた。残渣
を、シリカゲル、およびヘキサンと酢酸エチルとの2:
1混合物を用いたカラムクロマトグラフィーによって精
製した。
−1,5−ジオール38mg(67ミリモル;理論収率の
43%)を、(E/Z)−異性体混合物の形態で赤色粉
末として得た。それ以上の精製のためには、これを、例
えばヘキサンから、再結晶させることができ、(全E)
−異性体、分解とともに融点78℃が得られる。
R,2′S,3′R−異性体から出発して、上記のよう
にして、2,6−シクロリコペン−1,5−ジオール
(II)を、下記の円偏光二色性データ(CD)を有する
全E,2R,5R,6S−異性体として得た。
(約20ミリモル)を、アルゴン下でジメトキシメタン
30mlに入れ、混合物を−30℃まで冷却した。次い
で、ジメトキシエタン5.5ml中のホスホノ酢酸トリエ
チル4.5ml(22.5ミリモル)の溶液を、温度が常
に−20℃未満のままであるようにして吹きつけた。混
合物を−25〜−20℃で45分間撹拌し、その後、ジ
メトキシエタン3ml中の4−〔5−(1−ヒドロキシ−
1−メチルエチル)−2−メチル−2−トリメチルシリ
ルオキシ−シクロペンチル〕−3−ブテン−2−オン
(実施例5に記載のとおり調製)2g(6.67ミリモ
ル)の溶液を、温度が常に−15℃未満のままであるよ
うにして吹きつけた。溶液を約16時間撹拌し、その間
に室温まで暖めた。精製のために、塩化アンモニウム飽
和溶液10mlを溶液に注意深く加え、分離した水相を酢
酸エチルで3回抽出し、併せた有機相を塩化ナトリウム
飽和溶液で洗浄し、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、
減圧下で蒸発させた。残渣の精製は、シリカゲルと、ヘ
キサン中15〜40%の酢酸エチルの混合物とを用いる
フラッシュクロマトグラフィーによって実施した。
キシ−1−メチルエチル)−2−メチル−2−トリメチ
ルシリルオキシ−シクロペンチル〕−3−メチル−ペン
タ−2,4−ジエン酸エチル1.19g〔未反応出発材
料1.03gが残留したため、理論収率の48%;反応
したシクロペンチルブタノン(VIII)を基準にして98
%の収率〕を得た。生成物は、無色の油状物として得ら
れ、ペンタジエン酸エステル(XIV)のcis−trans異性
体混合物からなった。
チルエチル)−2−メチル−2−トリメチル−シリルオ
キシ−シクロペンチル〕−3−メチル−ペンタ−2,4
−ジエン酸エチル200mg(0.54ミリモル)をアル
ゴン下で−65℃まで冷却し、水素化ジイソブチルアル
ミニウムの1M溶液4mlを、反応混合物の温度が−60
℃を超えないようにして吹きつけた。溶液を1時間以内
に室温まで暖めた。次いで、塩化アンモニウム飽和溶液
3mlを注意深く吹きつけ、分離した水相を酢酸エチルで
3回抽出し、併せた有機相を蒸発させ、テトラヒドロフ
ラン6mlに溶解し、2Mの塩酸0.5mlで処理した。得
られた溶液を、30分間撹拌し、酢酸エチルと水との間
で分配し、分離した水相を酢酸エチルで3回抽出した。
併せた有機相を、無水硫酸マグネシウム上で乾燥し、蒸
発させ、残渣を、シリカゲルと、ヘキサン中30〜10
0%の酢酸エチルの混合物とを用いるフラッシュカラム
クロマトグラフィーに付した。
5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−メチ
ル−シクロペンチル〕−3−メチル−ペンタ−2,4−
ジエン−1−オール20mg(理論収率の14.5%)を
白色固体として得た。
チルエチル)−2−メチル−シクロペンチル〕−3−メ
チル−ペンタ−2,4−ジエン−1−オール20mg
(0.078ミリモル)、および臭化トリフェニルホス
ホニウム30mg(0.086ミリモル)をメタノール2
mlに溶解し、その溶液を、窒素下で、光を排除しつつ、
室温で29時間撹拌した。その後、反応混合物を氷冷te
rt−ブチルメチルエーテル約100mlに導入し、このよ
うにして生成したホスホニウム塩を沈澱させた。上清の
傾瀉および濾過の後、捕集した沈澱を、tert−ブチルメ
チルエーテルで洗浄し、減圧下で乾燥した。
キシ−5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2
−メチル−シクロペンチル〕−3−メチル−ペンタ−
2,4−ジエニル)トリフェニルホスホニウム29.3
mg(理論収率の65%)を白色固体として得た。この生
成物は、実施例8および9に従って2,6−シクロリコ
ペン−1,5−ジオールへと転換することができる。
Claims (1)
- 【請求項1】 式II: 【化1】 のリコペン代謝物2,6−シクロリコペン−1,5−ジ
オールの製造法であって、式III: 【化2】 の酢酸α−テルピニルを酸化的にジヒドロキシル化し
て、式IV: 【化3】 の4−(1−アセトキシ−1−メチルエチル)−1−メ
チル−シクロヘキサン−1,2−ジオール〔シクロヘキ
サンジオール(IV)〕を得る工程と、シクロヘキサンジ
オール(IV)を酸化的に開裂して、式V: 【化4】 の3−(1−アセトキシ−1−メチルエチル)−6−オ
キソヘプタナール〔ケトアルデヒド(V)〕を得る工程
と、ケトアルデヒド(V)を分子内アルドール縮合に付
して、式VI: 【化5】 の3−(1−アセトキシ−1−メチルエチル)−2−ホ
ルミル−1−メチルシクロペンタノール〔シクロペンタ
ノール(VI)〕を得る工程と、シクロペンタノール(V
I)をシリル化して、式VII: 【化6】 の3−(1−アセトキシ−1−メチルエチル)−2−ホ
ルミル−1−メチル−1−トリメチルシリルオキシ−シ
クロペンタン〔ホルミルシクロペンタン(VII)〕を得
る工程と、ホルミルシクロペンタン(VII)を、アセト
ンによるC3鎖延長および、それと同時にアセチル基の
切断のための鹸化に付して、式VIII: 【化7】 の4−〔5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−
2−メチル−2−トリメチルシリルオキシ−シクロペン
チル〕−3−ブテン−2−オン〔シクロペンチルブテノ
ン(VIII)〕を得る工程と、シクロペンチルブテノン
(VIII)を臭化ビニルマグネシウムと反応させて、式I
X: 【化8】 の5−〔5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−
2−メチル−2−トリメチルシリルオキシ−シクロペン
チル〕−3−メチル−ペンタ−1,4−ジエン−3−オ
ール〔ペンタジエノール(IX)〕を得る工程と、ペンタ
ジエノール(IX)を、シリル化ヒドロキシ基の脱保護に
よって式X: 【化9】 〔式中、Phは、フェニルを意味し、X1 -は、ハロゲン
イオンまたは硫酸水素イオンを意味する〕で示される
(5−〔2−ヒドロキシ−5−(1−ヒドロキシ−1−
メチルエチル)−2−メチル−シクロペンチル〕−3−
メチル−ペンタ−2,4−ジエニル)トリフェニルホス
ホニウム塩〔ホスホニウム塩(X)〕へと転換する工程
と、ホスホニウム塩(X)を式XI: 【化10】 の2,7−ジメチル−2,4,6−オクタトリエン−
1,8−ジアール〔C1 0ジアール(XI)〕とのウィッテ
ィッヒ反応に付して、式XII: 【化11】 の2,7,11−トリメチル−13−〔2−ヒドロキシ
−5−(1−ヒドロキシ−1−メチルエチル)−2−メ
チル−シクロペンチル〕−トリデカ−2,4,6,8,
10,12−ヘキサエナール〔トリデカヘキサエナール
(XII)〕を得る工程と、トリデカヘキサエナール(XI
I)を、式XIII: 【化12】 〔式中、Phは、フェニルを意味し、X2 -は、ハロゲン
イオンまたは硫酸水素イオンを意味する〕で示される
(3,7,11−トリメチル−ドデカ−2,4,6,1
0−テトラエニル)トリフェニルホスホニウム塩〔ホス
ホニウム塩(XIII)〕とのウィッティッヒ反応に付し
て、式IIの2,6−シクロリコペン−1,5−ジオール
を得る工程、を含む方法。
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