JPH11186462A - 半導体装置と電子機器 - Google Patents

半導体装置と電子機器

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JPH11186462A
JPH11186462A JP9350440A JP35044097A JPH11186462A JP H11186462 A JPH11186462 A JP H11186462A JP 9350440 A JP9350440 A JP 9350440A JP 35044097 A JP35044097 A JP 35044097A JP H11186462 A JPH11186462 A JP H11186462A
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wiring film
semiconductor device
elastic material
adhesive
insulating elastic
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Hideyuki Takahashi
秀幸 高橋
Haruhiko Makino
晴彦 牧野
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Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体素子1と、絶縁性樹脂をベース4
とし該半導体素子1の各電極2と接続された配線膜5及
び外部端子7を有する配線フィルム3とを絶縁性弾性材
9を介して接着剤10、10により接着した半導体装置
において、絶縁性弾性材9が低い温度でゴム弾性を失う
ことを防止し、以て半導体装置自身の、更には半導体装
置を用いた電子機器の信頼性を高める。 【解決手段】 絶縁性弾性材9として製造過程及び使用
時の環境下、例えば−65〜155℃の温度範囲下にお
いて常にゴム弾性を持つ材料を用いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置、特に
半導体素子と、絶縁性樹脂をベースとし該半導体素子の
各電極と接続された配線膜及び外部端子を有する配線フ
ィルムとを絶縁性弾性材を介して接着した半導体装置
と、それを用いた電子機器に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置として、半導体素子の各電極
を配線フィルムを介して取り出すようにしたものがあ
り、CSP(チップサイズパッケージ)タイプのものは
その一例である。電極の取り出しに用いる配線フィルム
は例えばポリイミド等の絶縁性樹脂をベースとし、それ
に例えば銅等からなる配線膜を形成したもので、各配線
膜の一端は半導体素子の各電極に例えば直接に接続さ
れ、他端には外部端子となる電極(例えば半田からなる
ボール状電極)が形成されている。そして、その配線フ
ィルムと半導体素子とは接着されている。
【0003】ところで、このような配線フィルムを介し
て半導体素子の電極を取り出すタイプの半導体装置にお
いて必要な配線フィルム・半導体素子間の接続を絶縁性
弾性材を介して行うことが特表平6−504408号公
報により提案されている。それは使用中における温度変
化により、配線フィルムと半導体素子との熱膨張係数の
違いに起因してその間の相対的移動が生じ、半導体素子
の各電極と配線フィルムの電極との間に相対的移動を使
用とする力が作用し、歪みの増大、電極の破壊等が生じ
る。
【0004】そして、上記公報には、絶縁性弾性材を用
いて半導体素子に対して配線フィルムを可動にでき、絶
縁性弾性材の押込コードが約20〜70であるというこ
とが記載されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、本願発
明者の実験によれば、上記公報で紹介された技術では実
用性に乏しいことが判明した。というのは、上述した技
術は一般的な理解では室温以上で弾性があるものを用い
ると解釈されるが、単に室温以上で弾性があるだけでは
製造過程及び使用時の環境下においてゴム弾性を常に保
持することができるとは限らず、例えば−55℃という
ような低い温度下においては要求される効果が期待でき
ないからである。
【0006】この点について詳しく説明する。元来、ゴ
ム弾性材はガラス転位温度以上であればゴム弾性を有す
るが、ガラス転位温度以下ではガラス状になり弾性を失
う。図10は一般的なゴムであるSTYRENE−BU
TADIENE RUBBERについての相対的なヤン
グ率、損失弾性率の温度依存性を示す。具体的には、、
縦軸のFREQUENCYはヤング率(弾性率)に対応
し、同じく縦軸のDAMPINGは損失弾性率に対応す
る。同図において実線はヤング率の温度による変化を示
し、破線は損失弾性率の温度による変化を示す。この図
から、このゴムは−37℃がガラス転位温度であり、そ
れより低い温度ではガラス状になってゴム弾性を失って
しまうのである。
【0007】しかるに、半導体装置は用途等により異な
るも一般的には−65〜150℃の温度範囲で使用が可
能であることが要求され、一般的なゴムを配線フィルム
・半導体素子間の絶縁性弾性材と使用しても−35℃以
下ではゴム弾性を失うことになり、その要求に応えるこ
とはできない。そして、その要求に応える必要性、その
ような要求に応える具体的手段については上記公報には
一切記載がない。
【0008】そこで、本願発明者はその要求に応えるべ
く模索し、本発明を為すに至った。即ち、本発明は半導
体素子と、絶縁性樹脂をベースとし該半導体素子の各電
極と接続された配線膜及び外部端子を有する配線フィル
ムとを絶縁性弾性材を介して接着した半導体装置におい
て、絶縁性弾性材が低い温度でゴム弾性を失うことを防
止し、以て半導体装置自身の、更には半導体装置を用い
た電子機器の信頼性を高めることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】請求項1の半導体装置と
電子機器は、絶縁性弾性材が製造過程及び使用時の環境
下においてゴム弾性を保持する材料からなることを特徴
とする。
【0010】従って、請求項1の半導体装置によれば、
製造過程及び使用時の環境下において常に絶縁性弾性材
がゴム弾性を持つので、温度変化による配線フィルム・
半導体素子間の相対的移動が常に許容される。依って、
絶縁性弾性材がゴム弾性を失うことにより配線フィルム
・半導体素子間の相対的移動が不能になることによって
生じていた半導体素子、特にその電極部近傍における歪
みの増大ないし破壊を防止することができ、半導体装置
の耐寒性、信頼度の向上を図ることができるのである。
【0011】請求項4の電子機器は、半導体素子と、絶
縁性樹脂をベースとし該半導体素子の各電極と接続され
た配線膜及び外部端子を有する配線フィルムとを絶縁性
弾性材を介して接着してなり、該絶縁性弾性材が製造過
程及び使用時の環境下においてゴム弾性を保持する材料
からなる半導体装置を少なくとも有することを特徴とす
る。
【0012】従って、請求項4の電子機器によれば、絶
縁性弾性材として製造過程及び使用時の環境下において
常にゴム弾性を持ち従って温度変化による配線フィルム
・半導体素子間の相対的移動が常に許容されるものを用
いた半導体装置を使用するので、電子機器の耐寒性、信
頼度の向上を図ることができる。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明半導体装置は、半導体素子
と、絶縁性樹脂をベースとし該半導体素子の各電極と接
続された配線膜及び外部端子を有する配線フィルムとを
絶縁性弾性材を介して接着した半導体装置において、上
記絶縁性弾性材が製造過程及び使用時の環境下において
ゴム弾性を保持する材料からなることを特徴とするもの
であり、CSP(チップサイズパッケージ)タイプのも
のに適用することができることは勿論のことBGA(ボ
ールグリッドアレイ)タイプのもの等、半導体素子の各
電極を配線フィルムによりこの外部電極から取り出すタ
イプの半導体装置一般に適用でき、リング(外周リン
グ)を有するものにも有しないものにも適用される。ま
た、配線フィルムの配線膜の一端と半導体素子とを直接
ボンディングするものもあれば、ワイヤ(ボンディング
ワイヤ)を介して接続するワイヤボンド型のものもある
が、本発明半導体装置はそのどれにも適用することがで
きる。
【0014】製造過程とは、半導体素子を配線フィルム
等により実装する過程をいい、ウェハ状態で半導体素子
の各要素を製造するプロセスは含まれない。製造過程及
び使用時の環境下は、半導体装置或いはそれを用いた電
子機器の種類、用途等により異なり、一般の半導体装
置、電子機器においては−65〜155℃であるが、例
えば−50〜120℃でも良い場合もある。そして、本
発明において絶縁性弾性材として用いるものは種類、用
途等により定められた温度範囲においてゴム弾性を保持
する材料であるが、その具体例を挙げると、一つはラバ
ロン(三菱化学株式会社製の商品名)のSシリーズ、M
シリーズ等の一連の製品群がある。これは、熱可塑性エ
ラストマーであり、これのベースポリマーは米国She
ll Chemcal社のS・E・B・S(水添SBS
ブロックコポリマー)を使用している。そして、使用温
度範囲が−65〜120℃であり、耐寒性に優れ、特に
老化性に関しては加硫ゴムよりもかなり好ましい特性を
有し、老化が少ないのである。従って、本発明の実施に
は極めて好適であるといえる。図4はButadien
e Monumerと、Polybutadiene
SBSタイプと、Ethylne/butylene
SEBSタイプについての構造を比較するものである。
【0015】また、EPION(エピオン:鐘淵化学工
業の商品名)は本発明の実施に好適な別の例である。こ
れはポリイソブチレン系液状樹脂で、信頼性評価温度T
gが−50℃以下と低いのである。図5はそのエピオン
の化学構造設計図、図6は同じく硬化反応機構図、図7
は商品ベースでのエピオンの化学構造図、図8はこのエ
ピオン(そのうちの特にB1910B)と、他のエラス
トマーとの貯蔵粘弾性率の温度依存性の比較図である。
図9はエピオンBシリーズの三種の貯蔵粘弾性率の温度
依存性の比較図である。但し、これらは飽くまで一例で
あり、これ以外のものを用いうることはいうまでもな
い。
【0016】本発明半導体装置は各種電子機器に用いる
ことができるが、特に携帯電話等小型化が要求される電
子機器に良く用いられ得る。従って、極寒の地において
使用される携帯電話等の電子機器に本発明半導体装置を
用いることにより、該電子機器の耐寒性を向上させるこ
とができる。
【0017】
【実施例】以下、本発明を図示実施例に従って詳細に説
明する。図1は本発明半導体装置の第1の実施例を示す
ものである。図面において、1は半導体素子、2は該半
導体素子1の表面の周縁部に配設された電極、3は該電
極の取り出しに用いる配線フィルムであり、例えばポリ
イミド等の絶縁性樹脂をベース4とし、その一方の表面
に例えば銅からなる配線膜5を形成し、ベース4に該配
線膜5を露出させる電極形成孔6を形成し、該電極形成
孔6に例えば半田からなるボール電極7を形成したもの
で、このボール電極7が外部端子を成す。
【0018】8はリング(外周リング)で、配線フィル
ム3の一部を成し、半導体素子をボンディングすべきと
ころを囲繞するように形成されており、例えば銅からな
り、補強機能を果たすのみならず、電源の例えばグラン
ド電極と接続されて静電シールド機能を果たし、耐ノイ
ズ性を高める。
【0019】9は絶縁性弾性材で、上記半導体素子1
と、配線フィルム3との間に介在する。10、10は該
絶縁性弾性材9と、半導体素子1及び配線フィルム3と
を接着する接着剤であり、半導体素子1と配線フィルム
3とは、間に絶縁性弾性材9を挟んで接着剤10、10
により接着されている。接着剤10は例えばゴム状のシ
リコーン樹脂或いはエポキシ樹脂等が好適であるが、耐
熱性のある熱可塑材であれば他の樹脂であっても良い。
しかし、可能な限り低い温度でゴム弾性を保持できるも
のが好ましい。従って、例えばエピオンの加熱硬化型:
Aタイプを用いるのも良い。
【0020】11はリング8と絶縁性弾性材9との間に
介在するゴム弾性接着剤である。この材料はできるだけ
接着剤10と同じか同系列の樹脂を用いることが好まし
く、耐熱性、熱可塑性、耐寒性のあることが望まれる。
従って、例えばゴム状のシリコーン樹脂或いはエポキシ
樹脂等が好適であるといえるが、それに限定されないこ
と前述の通りである。例えばエピオンの加熱硬化型:A
タイプを用いるのも良い。
【0021】12、12は該ゴム弾性接着剤11の上下
両側にてリング8と、配線フィルム3及び半導体素子1
との間を固定する接着剤である。該接着剤12、12は
半導体装置強度が問題となる場合に上記ゴム弾性接着剤
11を補強するために形成されるもので、強度が問題に
ならない場合には必要としない。しかし、接着剤12を
必要とするときは、リング8と近似した線膨張係数を有
するものを用いることが好ましい。さもないと接着剤1
2が熱ストレスにより歪みが生じ、補強機能が低下する
おそれがあるからである。
【0022】ところで、上記絶縁性弾性材9は製造過程
及び使用時の環境下においてゴム弾性を保持する材料か
らなる。この材料としては、例えば、ラバロン(三菱化
学株式会社製の商品名)のSシリーズ、Mシリーズ等の
一連の製品群が好適である。これは、熱可塑性エラスト
マーであり、これのベースポリマーは米国ShellC
hemcal社のS・E・B・S(水添SBSブロック
コポリマー)を使用しており、主成分の分子構造は図4
に示すとおりである。これの使用温度範囲は−65〜1
20℃であり、耐寒性に優れ、特に老化性に関しては加
硫ゴムよりもかなり好ましい特性を有し、老化が少な
い。また、EPION(エピオン:鐘淵化学工業の商品
名)も好適である。というのは、これはポリイソブチレ
ン系液状樹脂で、信頼性評価温度Tgが−50℃以下と
低いからである。図5はその化学構造設計を示し、図6
はその硬化反応機構を示し、図7は商品ベースの化学構
造を示す。そして、このようなエピオンは図8、図9に
示すような弾性率温度依存性を有するからである。
【0023】このような半導体装置によれば、製造過程
及び使用時の環境下において常に絶縁性弾性材がゴム弾
性を持つので、温度変化によるリング・配線フィルム・
半導体素子相互間の相対的移動が常に許容されると共
に、リング・配線フィルム・半導体素子間の絶縁性弾性
材を該リングと近似した線膨張率を有する接着剤により
保護することができ、リング付き半導体装置の信頼度を
より高めることができる。
【0024】図2(A)、(B)は上記半導体装置の製
造方法の一例を工程順に示すものである。先ず、図2
(A)に示すように、配線フィルム3と、両面を未反応
接着剤10、10でコーティングした絶縁性弾性材9
(尚、未反応接着材10、10と同じ未反応接着材を絶
縁性弾性材9として形成して接着するようにしても良
く、本発明はこの場合も含む。)、半導体素子1を用意
する。次に、図2(B)に示すように、配線フィルム3
及び半導体素子1を絶縁性弾性材9の両面に上記未反応
接着剤10、10を介して接着し、キュアしてその接着
剤10、10を硬化し、更に、配線フィルム3の各配線
膜5をそれと対応する、半導体素子1の電極2にボンデ
ィングし、更にそのボンディングした配線膜5のベース
4から食み出した部分を該接着剤10と同系の接着剤1
1により封止し固定する。図2(B)はその固定が終了
した状態を示す。
【0025】その後、更にその接着剤11によりゴム弾
性9・リング8間を封止し、しかる後、接着剤12、1
2によりリング8と配線フィルム3及び半導体素子1と
の間を接着剤11両面にて固定する。
【0026】尤も、上記配線膜5のボンディング後に、
接着剤11によりその配線膜5を固めるとき、ついでに
該接着剤11により絶縁性弾性材9とリング8との間を
同時に固めるようにしても良い。勿論、上述したよう
に、接着剤11によりその配線膜5を保護し、キュアに
より該接着剤11を硬化させたのち、更にその接着剤1
1とリング8との間に該接着剤11と同系統の接着剤1
1を充填し固めるようにしても良いが、補強強度をより
高めるという趣旨からその固めに使用する接着剤として
上記接着剤11とは別のより補強効果の強い接着剤を用
いることもできる。
【0027】また更に、接着剤12、12をそのリング
8・絶縁性弾性材9間の接着剤11の両側に形成しても
良いし、強度上必要でなければしなくてもよい。このよ
うに、材料の異なる樹脂材料が接する場合、その間の密
着性が良好であることが耐湿性の面から重要である。ま
た、配線フィルム3と半導体素子1との応力を考えた場
合、これらの接着剤11、12は低応力材(低膨張係
数、低ヤング率、耐寒性良好等の諸性質)である必要が
ある。即ち、インナーリード、半導体素子等が、実装時
の配線フィルムの温度変化に反応して相対的に移動し得
るようにすることが好ましい。従って、絶縁性弾性材9
は勿論のこと、各接着剤10、11、更には接着剤12
にも低温から高温に至る広い範囲でゴム弾性を持つもの
を用いることが好ましい。従って、例えば上述したエピ
オンの加熱硬化型:Aタイプのものが接着剤10、11
等として好適である。
【0028】このような半導体装置によれば、半導体素
子1の電極と配線フィルム3の配線膜5を介して接続さ
れた半田ボール電極7は絶縁性弾性材9、接着剤10、
11、12が広い温度範囲でゴム弾性を保持するので、
組立過程、実装後(使用時も含む)における温度変化に
よる半導体装置の各材料の線熱膨張係数の違いによる歪
をその絶縁性弾性材9等により吸収することができる。
【0029】そして、配線フィルム3の配線膜5は半導
体素子1の電極2にボンディングされたものもされてい
ないものも同じ材料の接着剤10、11により封止され
保護を受けているので、異なる材料の接着剤により封止
ないし保護された場合のように境界で応力が発生しそれ
によるダメージを受けるというおそれはない。
【0030】そして、接着剤10、11、12としてで
きるだけ同じ樹脂、ないし同系統の樹脂を用いることと
すれば、更にこれらと同じ系統の樹脂を絶縁性弾性材9
として用いることにより、その間に生じる応力を非常に
少なくすることができ、応力的に有利にできる。
【0031】そして、配線フィルム3・半導体素子1間
に絶縁性弾性材9を介在させ、該絶縁性弾性材9として
製造過程及び使用時の環境下において常にゴム弾性を持
つものを用いるので、例えば−65ないし155℃の温
度範囲でのヒートサイクル下における過酷な信頼性テス
トにも耐え得る。
【0032】図3は本発明半導体装置を用いた電子機器
の一例(携帯電話)Aを示す一部切欠斜視図で、この電
子機器Aの内部にはマザーボードBに搭載された本発明
に係る半導体装置Cが存在し、配線フィルムの内部回路
の少なくとも一部を成している。
【0033】
【発明の効果】請求項1の半導体装置によれば、製造過
程及び使用時の環境下において常に絶縁性弾性材がゴム
弾性を持つので、温度変化による配線フィルム・半導体
素子間の相対的移動が常に許容される。依って、絶縁性
弾性材がゴム弾性を失うことにより配線フィルム・半導
体素子間の相対的移動が不能になることによって生じて
いた半導体素子、特にその電極部近傍における歪みの増
大ないし破壊を防止することができ、半導体装置の耐寒
性、信頼度の向上を図ることができる。
【0034】請求項2の半導体装置によれば、半導体素
子及び配線フィルムと、絶縁性弾性材との接続を行う接
着剤と同じか同一系統の接着剤により、配線膜の半導体
素子の電極と接続された部分及びその近傍を封止してな
るので、その接着剤間に歪みが生じるおそれがない。従
って、その配線膜が歪みを生じるおそれを伴うことなく
保護され得る 請求項3の半導体装置によれば、リングと配線フィルム
との間の接着剤両面に該リングと近似した線膨張率を有
する接着剤を形成してなるので、該接着剤により半導体
装置をより完全に補強することができ、熱ストレスから
リング、配線フィルム、半導体素子の相互間をより完全
に保護することができる。
【0035】請求項4の電子機器によれば、絶縁性弾性
材として製造過程及び使用時の環境下において常にゴム
弾性を持ち従って温度変化による配線フィルム・半導体
素子間の相対的移動が常に許容されるものを用いた半導
体装置を使用するので、電子機器の耐寒性、信頼度の向
上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明半導体装置の第1の実施例を示す断面図
である。
【図2】(A)、(B)は上記第1の実施例の製造方法
を順に説明する断面図である。
【図3】図1の半導体装置を用いた電子機器(携帯電
話)を示す一部切欠斜視図である。
【図4】Butadiene Monumerと、Po
lybutadiene SBSタイプと、Ethyl
ne/butylene SEBSタイプについて比較
して示す構造図である。
【図5】上記絶縁性弾性材として用い得る材料の一例で
あるエピオンの化学構造設計図である。
【図6】上記エピオンの硬化反応機構図である。
【図7】上記エピオンの商品ベースでの化学構造図であ
る。
【図8】上記エピオン(そのうちの特にB1910B)
と、他のエラストマーとの貯蔵粘弾性率の温度依存性の
比較図である。
【図9】上記エピオンのBシリーズの三種の貯蔵粘弾性
率の温度依存性の比較図である。
【図10】一般的なゴムであるSTYRENE−BUT
ADIENE RUBBERについての相対的なヤング
率、損失弾性率の温度依存性を示し、実線は相対的なヤ
ング率を、破線は相対的な損失弾性率を示す。具体的に
は、縦軸のFREQUENCYはヤング率(弾性率)に
対応し、同じく縦軸のDAMPINGは損失弾性率に対
応する。同図において実線はヤング率の温度による変化
を示し、破線は損失弾性率の温度による変化を示す。
【符号の説明】
1・・・半導体素子、2・・・半導体素子の電極、3・
・・配線フィルム、4・・・ベース、5・・・配線膜、
7・・・外部端子(半田ボール電極)、8・・・リン
グ、9・・・絶縁性弾性材(製造過程及び使用時の環境
下、例えば−65〜155℃の温度範囲下において常に
ゴム弾性を持つ)、10、11、12・・・接着剤、A
・・・電子機器(携帯電話)、B・・・マザーボード、
C・・・半導体装置。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子と、絶縁性樹脂をベースとし
    該半導体素子の各電極と接続された配線膜及び外部端子
    を有する配線フィルムとを絶縁性弾性材を介して接着し
    た半導体装置において、 上記絶縁性弾性材が製造過程及び使用時の環境下におい
    てゴム弾性を保持する材料からなることを特徴とする半
    導体装置。
  2. 【請求項2】 半導体素子及び配線フィルムと、絶縁性
    弾性材との接続を該絶縁性弾性材両表面に形成された接
    着剤にて接着し、 上記配線フィルムの配線膜の上記半導体素子の電極と接
    続された部分及びその近傍を上記接着剤と同じか同一系
    統の接着剤にて封止してなることを特徴とする請求項1
    記載の半導体装置
  3. 【請求項3】 配線フィルムの周縁部に導電性材料から
    なるリングを有し、 上記リングと配線フィルム間に接着剤が充填され、 上記リングと上記配線フィルムとの間の接着剤両面に該
    リングと近似した線膨張率を有する接着剤を形成してな
    ることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 【請求項4】 半導体素子と、絶縁性樹脂をベースとし
    該半導体素子の各電極と接続された配線膜及び外部端子
    を有する配線フィルムとを絶縁性弾性材を介して接着し
    てなり、該絶縁性弾性材が製造過程及び使用時の環境下
    においてゴム弾性を保持する材料からなる半導体装置を
    少なくとも有することを特徴とする電子機器。
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