JPH11172122A - 高減衰材料組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高分子鎖間の相互作用を制御することにより、
高いｔａｎδを発現することができる高減衰材料組成物
を提供すること。 【解決手段】ベースポリマーである塩素化ポリエチレン
１００重量％に減衰性添加剤としてスルフェンアミド系
添加剤、チアゾール系添加剤、チウラム系添加剤、グア
ニジン系添加剤、ベンゾトリアゾール系添加剤、ジチオ
カルバミン酸塩系、顔料、ピリジン系添加剤、潤滑油添
加剤、エポキシ樹脂硬化促進剤、ウレタン触媒、ヒンダ
ードアミン系添加剤あるいはイソシアヌル酸誘導物のう
ちいずれかをそれぞれ１００重量％ずつ配合して、所定
の加工成形処理を施す。得られる高減衰材料組成物は、
ベースポリマーの鎖状分子間に働く分子間ポテンシャル
を均一化させ、高いｔａｎδを安定して発現することが
できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高減衰材料組成物
に関し、さらに詳しくは、音響ルームの遮音壁、建築構
造体の遮音間仕切、車両の防音壁等に適用される振動や
騒音を吸収する制振材・防音材としての高減衰材料組成
物に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の高減衰材料組成物としての高分
子系材料は、典型的な粘弾性挙動を呈するものであり、
その材料微小部が何等かの原因で振動すると、夫々の材
料微小部に、複素正弦歪（ε^*）が発生し、これにより
複素正弦応力（σ^*）が発生する。複素弾性係数（Ｅ
^* ）は、次式に示したように、これらの比をとったもの
である。 複素弾性係数（Ｅ^* ）＝複素正弦応力
（σ^*）／複素正弦歪（ε^*）

【０００３】この複素弾性係数（Ｅ^* ）の実数部は、材
料の弾性的な性質に係る貯蔵弾性係数（Ｅ’）と定義さ
れ、その虚数部は、材料の粘性的な性質に係る損失弾性
係数（Ｅ”）と定義される。損失正接（ｔａｎδ）は、
次式に示したように、これらの比をとったものである。 損失正接（ｔａｎδ）＝損失弾性係数（Ｅ”）／貯蔵弾
性係数（Ｅ’）

【０００４】この損失正接（以下、単に「ｔａｎδ」と
する）は、防音・制振特性を決定する因子の一つであ
り、この値が高いほど力学的エネルギーを電気あるいは
熱エネルギーとして吸収・放出して、優れた吸音性や制
振性等の機械特性を示すことが知られている。従来、高
減衰材料組成物のｔａｎδとして求められる値は、０．
５以上である。

【０００５】この従来の要求特性を満たした高減衰材料
組成物として、例えば、高分子系複合材料が知られてい
る。この高分子系複合材料はポリマーアロイ或いは高分
子網目構造（ＩＰＮ技術）を有する高分子化合物をベー
スポリマーとしており、これに充填剤（マイカ剤等）や
可塑剤を添加し、所定の製造工程を経て得られたもので
ある。この場合に、ベースポリマーとしては各種ゴム、
高分子樹脂材料の他に、エラストマー樹脂材料等が用い
られている。

【０００６】しかし、このような高分子系複合材料のｔ
ａｎδの値は、ベースポリマーとして各種ゴム材料（硬
質ゴム、ニトリルゴム、ウレタンゴム、充填ゴム）を用
いた場合は、０．３〜１．０程度、ベースポリマーとし
て高分子樹脂材料（ポリスチレン、ポリイソブチレン、
サルファイドゴム、加硫、ポリメタクリル酸メチル、可
塑化ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリテトラフルオ
ロエチレン）を用いた場合は、１．０〜２．０程度であ
る。

【０００７】また、他の高減衰材料としては、ベースポ
リマーとしてポリ塩化ビニル（或いは、これを含む高分
子）を用い、これに種々の添加剤、可塑剤などを配合し
た例がよく知られている。例えば、特開平５−６５３８
２号公報に開示された高減衰材料組成物は、配合物質と
して縮合多環式化合物を用いており、そのｔａｎδは、
０．９８〜１．７程度である。また特開平５−５９２４
１号公報に開示されたものは、配合物質として、石油系
樹脂及び可塑剤を用いており、そのｔａｎδは、０．９
〜１．８５程度である

【０００８】更にまた、特開平４−１１７４５５号公
報、特開平４−７８３３６号公報、特開平４−５７８３
５号公報、特開平４−４１５４２号公報、特開平４−１
５２４５号公報等に開示された高減衰材料組成物もま
た、上述と同様にＰＶＣ（ポリ塩化ビニル）をベースポ
リマーとし、これに種々の添加剤を配合したものである
が、そのｔａｎδは、約１．０前後のものが殆どであ
る。

【０００９】一方、ｔａｎδの要求特性を満たしたもの
としては、このような高分子系複合材料の他、所定の製
造工程を経て得られた単独材料からなる高減衰材料が知
られている。従来知られた好適な例としては、塩素化ポ
リエチレンによるものや、上記したポリ塩化ビニルによ
るもの等が挙げられる。

【００１０】塩素化ポリエチレンからなる高減衰材料
は、そのｔａｎδピークは１．０であり、そのピーク温
度は１０℃である。また、ポリ塩化ビニルのｔａｎδピ
ークは１．１程度であり、そのピーク温度は９２℃前後
である。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た種々の高減衰材料は、従来の要求特性（ｔａｎδ≧
０．５）に応えているとはいえ、それが使用される環境
或いは、その用途などの要請からより優れたｔａｎδを
発現できるものが望まれている。また、従来から知られ
ている例によれば、ｔａｎδピーク値が比較的高めのも
のも含まれている（上述した特開平５−６５３８２号公
報、特開平５−５９２４１号公報）が、そのピーク温度
は、室温から著しく離れたところにある。従って、室温
でのｔａｎδは低く、室温環境でこれを使用すると、所
期する減衰性能が得られない。

【００１２】また、上述した従来の高分子系複合材料
（高減衰材料組成物）と、単独材料による高減衰材料と
を比べてみると、高分子系複合材料は、単独品よりも飛
躍的に優れたｔａｎδを発現したものとはいえない。従
って、従来の手法による高減衰材料組成物では、発現で
きるｔａｎδに限界がある。

【００１３】更にまた、上述した単独品は、複合材料に
比べると、比較的安価かつ容易に製造できるという利点
から注目されている。しかしながら、更なる高減衰性能
を付与するためには、これをベースポリマーとして用い
ることを前提に、従来とは異なった観点から材料設計を
行う必要がある。

【００１４】ちなみに、従来の高減衰材料が、より高い
ｔａｎδ値を発現できない原因として、分子間の相互作
用の大きさ、分子間の相互作用の均一さ及び分子の絡み
合いの度合いが挙げられる。

【００１５】図３は、上述した従来の高減衰材料組成物
のミクロ構造を示したものであり、矢示されるＡに係る
部分では、高分子が互いに絡み合っている。しかし、そ
れ以外に矢示されるＢの部分のように、高分子の間には
ファン・デル・ワールス力が働き、約２０〜３０個程の
炭素原子の集団が結合している。

【００１６】したがって、図４に示したように分子間ポ
テンシャルの分布が広くなり、緩和時間の分布幅が広く
なる。ここで、緩和時間の分布幅（Ｈ）と損失弾性係数
（Ｅ”）の関係は、数１で表せるので、緩和時間の分布
幅（Ｈ）が広くなると、損失弾性係数Ｅ”の分布は低く
広がる。また、緩和時間の分布幅（Ｈ）と貯蔵弾性係数
（Ｅ’）の関係は、数２で表せるので、緩和時間の分布
幅が広くなると、貯蔵弾性係数（Ｅ’）の傾きは小さく
なる。つまり、緩和時間の分布が広くなるほど、ｔａｎ
δは小さくなる。

【００１７】

【数１】

【００１８】

【数２】

【００１９】このことから、そのファン・デル・ワール
ス力による相互作用（矢示Ｂに係る部分）を遮断させれ
ば、分子間相互作用を均一にすること、分子間相互作用
の大きさを最適にすること及び分子間の絡み合いを減ら
すことができるので、より高いｔａｎδを発現させるこ
とができると推察される。

【００２０】本発明の解決しようとする課題は、高分子
系ポリマー間の相互作用を減衰性添加剤の配合により制
御することにより、高いｔａｎδを発現することができ
る高減衰材料組成物を提供することにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明の高減衰材料組成物は、極性側鎖を有するベー
スポリマーに、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素
複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基
性物質を１種又は２種以上分散させたことを要旨とする
ものである。この場合に、塩基性物質は、分子レベルで
分散させることが望ましい。

【００２２】このように、高分子のベースポリマー間に
低分子の塩基性物質を分散させるのは、絡み合っていな
い部分に作用するファン・デル・ワールス力が均一にな
っている適切な高分子と低分子の相互作用で置き換え、
分子間ポテンシャルの分布を狭め、その大きさを最適値
まで持っていき、更に分子間の絡み合いを減らすためで
ある。そうすると、貯蔵弾性係数Ｅ’の傾きが急になる
とともに、損失弾性係数Ｅ”のピーク値が高くなり、ｔ
ａｎδが高くなるからである。

【００２３】この場合に、「極性側鎖を有するベースポ
リマー」としては、ゴム、熱可塑性エラストマー、ある
いは、樹脂より選ばれた少なくとも１種又は２種以上の
ベースポリマーからなるものが好適なものとして挙げら
れる。この場合に、「ゴム材料」としては、天然ゴム、
変性天然ゴム、グラフト天然ゴム、環化天然ゴム、塩素
化天然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプレン
ゴム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシ
ル化ニトリルゴム、ニトリルゴム／塩化ビニル樹脂ブレ
ンド、ニトリルゴム／ＥＰＤＭゴムブレンド、ブチルゴ
ム、臭素化ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−
酢酸ビニルゴム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴ
ム、クロロスルホン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレ
ン、エピクロルヒドリンゴム、エピクロルヒドリン−エ
チレンオキシドゴム、メチルシリコンゴム、ビニル−メ
チルシリコンゴム、フェニル−メチルシリコンゴム、フ
ッ化シリコンゴム、フッ素ゴムより選ばれた少なくとも
１種又は２種以上のゴムが好適なものとして挙げられ
る。

【００２４】また、「熱可塑性エラストマー材料」とし
ては、ポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化
ビニル系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可
塑性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマ
ー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド
系熱可塑性エラストマーが好適なものとして挙げられ
る。

【００２５】更にまた、「樹脂材料」としては、ポリ塩
化ビニル、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデ
ン、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリふっ
化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリアクリルニトリ
ル、ポリメチルメタアクリレート、スチレン・アクリル
ニトリル共重合体、アクリルニトリル・ブタジエン・ス
チレン三元共重合体、塩ビ・酢ビ共重合体、アクリル・
塩ビグラフト共重合体、エチレン・塩ビ共重合体、エチ
レン・ビニルアルコール、塩素化塩化ビニルより選ばれ
た少なくとも１種又は２種以上の樹脂が好適なものとし
て挙げられる。

【００２６】この場合に、「塩基性物質」としては、第
２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれ
た塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質、例えばス
ルフェンアミド系添加剤、チアゾール系添加剤、チウラ
ム系添加剤、グアニジン系添加剤、ベンゾトリアゾール
系添加剤、ジチオカルバミン酸塩系添加剤、顔料、ピリ
ジン系添加剤、潤滑油添加剤、エポキシ樹脂硬化促進
剤、ウレタン触媒、イソシアヌル酸誘導物、ヒンダード
アミン系添加剤より選ばれた少なくとも１種又は２種以
上の塩基性の添加剤からなるものが好適なものとして挙
げられる。

【００２７】この場合に、「スルフェンアミド系添加
剤」としては、Ｎ−シクロヘキシルベンゾチアジル−２
−スルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾチア
ジル−２−スルフェンアミド、Ｎ−オキシジエチレンベ
ンゾチアジル−２−スルフェンアミド、Ｎ，Ｎ−ジシク
ロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド等が
好適なものとして挙げられる。

【００２８】「チアゾール系添加剤」としては、２−
（Ｎ，Ｎ−ジエチルチオカルバモイルチオ）ベンゾチア
ゾール、２−（４’−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾ
ール等が好適なものとして挙げられるほか、「チウラム
系添加剤」としては、テトラエチルチウラムジスルフィ
ド、テトラブチルチウラムジスルフィド等が好適なもの
として挙げられる。「グアニジン系添加剤」としては、
１，３−ジフェニルグアニジン、ジ−Ｏ−トリルグアニ
ジン等が好適なものとして挙げられる。

【００２９】また、「ベンゾトリアゾール系添加剤」と
しては、紫外線吸収剤である２−（２−ヒドロキシ−３
−（３，４，５，６−テトラ−ヒドロフタルイミド−メ
チル）−５−メチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、
防錆剤である１−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチル−ヘキシ
ル）アミノメチル］ベンゾトリアゾール、（１，２，３
−ベンゾトリアゾリル−１−メチル）（１，２，４−ト
リアゾリル−１−メチル）−２−エチルヘキシルアミ
ン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンゾトリアゾリルメチル）−ジ
アミノヘキサン、光安定剤である２，２’−メチレンビ
ス｛４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６
−６［（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニ
ル］｝、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−
２エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリア
ゾールメチル）−ラウリルアミン、１−（２−エチルヘ
キシルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール、１−（ラ
ウリルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール、１−（モ
ルホリノメチル）−ベンゾトリアゾール等が好適なもの
として挙げられる。

【００３０】「ジチオカルバミン酸塩系添加剤」として
は、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオ
カルバミン酸テルル等が好適なものとして挙げられるほ
か、「顔料」としては、４，４’，４”−トリスジメチ
ルアミノトリフェニルメタン、２，２’−（１，２−エ
ーテンジイル）ビス（５−メチルベンゾオキサゾール）
とジシクロヘキシルフタレート等が好適なものとして挙
げられ、「ピリジン系添加剤」としては、２，２−ジチ
オジオイリジンのブレンド等が好適なものとして挙げら
れる。

【００３１】「潤滑油添加剤」としては、メチレンビス
（ジブチルジチオカルバメート）「エポキシ樹脂硬化促
進剤」としては、２，４，６−トリ（ジメチルアミノメ
チル）フェノールが、それぞれ好適なものとして挙げら
れる。

【００３２】更にまた、「ウレタン触媒」としては、ジ
モルホリンエーテル、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”−トリス（ジメチ
ルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリアジン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチルアミノプロピル）ア
ミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス（３−ジメチルアミノ
プロピル）アミン等が好適なものとして挙げられる。

【００３３】「イソシアヌル酸誘導物」としては、不飽
和樹脂架橋剤であるトリアリルイソシアヌレート、トリ
ス−（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、トリ
メタアリルイソシアヌレート、トリス−（２，３−ジブ
ロモプロピル）イソシアヌレート等が好適なものとして
挙げられる。「ヒンダードアミン系添加剤」としては、
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ビペリジル／
トリデシル１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレ
ート、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，
β，β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，
８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）
ジエタノールとの縮合物等が好適なものとして挙げられ
る。

【００３４】この場合に、「塩基性物質の体積」は「ベ
ースポリマーの体積」に対して、０．３以上の割合であ
ることが望ましい。塩基性物質の体積比がこの範囲内に
あれば、適度な割合で、この塩基性物質がベースポリマ
ーの高分子鎖に分散し、ベースポリマーと塩基性物質と
の相互作用が良好になる。

【００３５】上記構成を有する高減衰材料組成物とし
て、減性添加剤である第２級アミン、第３級アミン及び
含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上有
するものを配合したので、ベースポリマーの塩素基とア
ミンとの間に双極子−双極子相互作用が働き、緩和時間
の分布が狭くなる。そのため、貯蔵弾性係数Ｅ’の傾き
が急になるとともに、損失弾性係数Ｅ”のピーク値が高
くなる。これにより、より高いｔａｎδが発現されるこ
とになる。従って、本発明に係る高減衰性組成材料によ
れば、振動や騒音が大幅に吸収されることになる。

【００３６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を詳細に説
明する。まず、本発明の各実施例は種々の材料組成で作
製したので、これについて説明する。なお、以下の説明
において「重量％」とは、ベースポリマー１００重量％
に対する配合成分（減衰性添加剤）の重量％を意味する
ものである。

【００３７】初めに表１は、ベースポリマーとして、塩
素化ポリエチレンを用い、これに塩基性の減衰性添加剤
としてスルフェンアミド系添加剤を配合した本発明品
（実施例１〜４）の材料組成及びｔａｎδの測定結果
と、塩素化ポリエチレン単独品による比較品の材料組成
及びｔａｎδの測定結果とを対比して示したものであ
る。採用した塩基性物質はいずれも、第２級アミン又は
第３級アミン又は含窒素複素環から選ばれる塩基を１分
子中に少なくとも２個以上有しており、減衰性添加剤と
して用いたものである。

【００３８】

【表１】

【００３９】本発明品（実施例１〜４）は、ベースポリ
マーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：商
品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添加
剤としてスルフェンアミド系添加剤を配合成分とし、所
定の工程により作製されたものである。

【００４０】本発明品（実施例１〜４）は減衰性添加剤
としてスルフェンアミド系添加剤を配合成分としてい
る。すなわち、実施例１が塩基性物質としてＮ−シクロ
ヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三新
化学工業（株）製：商品名「サンセラーＣＭ」）、実施
例２がＮ−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾチアジル−２−スル
フェンアミド（三新化学工業（株）製：商品名「サンセ
ラーＮＳ−Ｇ」）、実施例３がＮ−オキシジエチレンベ
ンゾチアジル−２−スルフェンアミド（三新化学工業
（株）製：商品名「サンセラーＮＯＢ」）、実施例４が
Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフ
ェンアミド（三新化学工業（株）製：商品名「サンセラ
ーＤＺ」）をそれぞれ配合成分としている。

【００４１】実施例１〜４に用いた塩基性物質の構造式
を表１３に示す。

【００４２】

【表１３】

【００４３】次に、本発明品（実施例１〜４）及び比較
品の作製工程について説明する。まず、上述したベース
ポリマー（塩素化ポリエチレン）１００重量％に、各実
施例の配合成分である塩基性物質を１００重量％ずつ配
合する。これを、室温で約１５〜２０分程度、２本ロー
ルで混練する。次に、この混練材料を、熱プレス機によ
り所定の型枠内で、添加剤の融点より２０℃高い温度
で、１０分程度溶融プレス成形する。そして更に、０℃
の温度条件下、これに１３０ｋｇｆ／ｃｍ² の面圧を掛
けて冷却プレス成形し、これを２ｍｍシートとする。上
述の配合割合では、塩基性物質の体積は、ベースポリマ
ーの体積に対して０．３以上になっている。なお、比較
品は、塩素化ポリエチレン単独品で、同様の工程で作製
している。

【００４４】次に、本発明品（実施例１〜４）及び比較
品のｔａｎδピーク値及びそのピーク温度を測定した。
この測定には、株式会社レオロジ社製のスペクトロメー
タを用い、その測定条件を、歪が０．０５％（一定）、
周波数が１００Ｈｚ（一定）とした。

【００４５】以下、実施例１〜４の測定結果について説
明する。表１に示したように、実施例１〜４のｔａｎδ
ピーク値は、比較品のｔａｎδピーク値より高く、要求
特性（ｔａｎδ≧０．５）を遥かに超えている。実施例
１、３、４は、ｔａｎδピーク値が２．０を超えてお
り、特に実施例４は、そのピーク値が比較品のピーク値
の倍程度になっている。

【００４６】更にまた、これらは、ピーク温度が室温付
近にあるため、常温での使用環境に適したものといえ
る。以上のことから、それぞれのサンプルについて、極
めて良好なものを（◎印）、良好なものを（○印）、一
応の成果を得られたものを（△印）、不良なものを（×
印）の４段階に分けて評価したところ、実施例１、３，
４は、ｔａｎδが非常に高かったことから極めて良好
（◎印）と評価され、実施例２は、ｔａｎδが比較的高
かったことから、良好（○印）と評価された。

【００４７】次に表２は、ベースポリマーとして塩素化
ポリエチレンを用い、これに減衰性添加剤として、チア
ゾール系添加剤、チウラム系添加剤を配合した本発明品
（実施例５〜９）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を
示したものである。

【００４８】

【表２】

【００４９】実施例５〜６は、塩基性物質としてチアゾ
ール系添加剤を配合成分としている。更に詳しくは、実
施例５が塩基性物質として、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチルチ
オカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール（大内新興化学
工業（株）製：商品名「ノクセラー６４」）、実施例６
が２−（４’−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾール
（大内新興化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＭＤ
Ｂ」）を配合している。

【００５０】実施例７〜８は、塩基性物質としてチウラ
ム系添加剤を配合成分としている。更に詳しくは、実施
例７が、テトラエチルチウラムジスルフィド（大内新興
化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＴＥＴ」）を、
実施例８が、テトラブチルチウラムジスルフィド（大内
新興化学工業（株）製：商品名「ノクセラーＴＢＴ」）
を配合している。

【００５１】実施例５〜８に用いた減衰性添加剤の構造
式を表１４に示す。

【００５２】

【表１４】

【００５３】これらの作製工程は実施例１〜４の場合と
同様である。また、同様の方法でｔａｎδピーク値及び
ピーク温度を測定した。以下、その測定結果について説
明する。表２に示したように、実施例５〜８のｔａｎδ
ピーク値は、比較品のｔａｎδピークより高くなってい
る。特に、実施例５〜７は、ピーク値が２．０を超え
た。このことから、表１に示したサンプルと同様の方法
で評価したところ、実施例５，７は極めて良好（◎印）
と評価され、実施例６、８は良好（○印）と評価され
た。

【００５４】次に、表３は、ベースポリマーとして塩素
化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてグアニ
ジン系添加剤を配合した本発明品（実施例９〜１０）の
材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。

【００５５】

【表３】

【００５６】本発明品（実施例９〜１０）は、ベースポ
リマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）製：
商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰性添
加剤としてを配合成分とし、所定の工程により作成され
たものである。

【００５７】実施例９は、１，３−ジフェニルグアニジ
ン（大内化学工業（株）製：「ノクセラーＤ」）を実施
例１０は、ジ−Ｏ−トリルグアニジン（大内化学工業
（株）製：「ノクセラーＤＴ」）をそれぞれ配合してい
る。

【００５８】実施例９〜１０で用いた塩基性物質の構造
式を表１５に示す。

【００５９】

【表１５】

【００６０】なお、これらの作製工程は実施例１〜４の
場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重
量％に、各実施例の配合成分である減衰性添加剤を１０
０重量％ずつ配合している。

【００６１】そして、上述と同様に、実施例９〜１０の
ｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、そ
の結果について説明する。上述と同様に４段階で評価し
た結果、実施例９、１０はピーク値が若干低いことか
ら、やや不良（△印）と評価された。

【００６２】次に、表４及び５は、ベースポリマーとし
て塩素化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質として
ベンゾトリアゾール系添加剤を配合した本発明品（実施
例１１〜２０）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示
したものである。

【００６３】

【表４】

【００６４】

【表５】

【００６５】本発明品（実施例１１〜２０）は、ベース
ポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）
製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰
性添加剤としてベンゾトリアゾール系添加剤を配合成分
とし、所定の工程により作成されたものである。

【００６６】実施例１１は、紫外線吸収剤である２−
（２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒド
ロフタルイミド−メチル）−５−メチルフェニル）−ベ
ンゾトリアゾール（住友化学工業（株）製：商品名「ス
ミソープ２５０」）を、実施例１２は、防錆剤である１
−［Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチ
ル］ベンゾトリアゾール（城北化学工業（株）製：商品
名「ＢＴ−ＬＸ」）を、実施例１３は、（１，２，３−
ベンゾトリアゾリル−１−メチル）（１，２，４−トリ
アゾリル−１−メチル）−２−エチルヘキシルアミン、
（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−ＬＸ」）を、
実施例１４は、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベンゾトリアゾリルメ
チル）−ジアミノヘキサン、（城北化学工業（株）製：
商品名「ＢＴ−ＬＸ」）を、実施例１５は、光安定剤で
ある２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，３−
テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−２−イル）フェニル］｝（旭電化工業（株）
製：商品名「アデカスタブＬＡ３１」）をそれぞれ配合
成分としている。

【００６７】実施例１６は、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリ
アゾールメチル）−２エチルヘキシルアミン（城北化学
工業（株）製：商品名「ＢＴ−３９１」）を、実施例１
７は、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラ
ウリルアミン（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−
４４７」）を、実施例１８は、１−（２−エチルヘキシ
ルアミノメチル）−ベンゾトリアゾール（城北化学工業
（株）製：商品名「ＢＴ−２６０」）を、実施例１９
は、１−（ラウリルアミノメチル）−ベンゾトリアゾー
ル（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−３１６」）
を、実施例２０は、１−（モルホリノメチル）−ベンゾ
トリアゾール（城北化学工業（株）製：商品名「ＢＴ−
２１８」）をそれぞれ配合成分としている。

【００６８】実施例１１〜２０で用いた減衰性添加剤の
構造式を表１６〜１７に示す。

【００６９】

【表１６】

【００７０】

【表１７】

【００７１】なお、これらの作製工程は実施例１〜４の
場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重
量％に、各実施例の配合成分である減衰性添加剤を１０
０重量％ずつ配合している。

【００７２】そして、上述と同様に、実施例１１〜２０
のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、
その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価
した結果、実施例１１、１５はピーク温度が若干室温か
ら離れるもののそのピーク値が非常に高いので極めて良
好（◎印）と評価された。、実施例１２、１３はピーク
値が比較的高いので良好（○印）と評価され、実施例１
３はピーク値が、やや低いので、やや不良（△印）と評
価された。実施例１６〜２０はピーク温度が室温に近
く、そのピーク値も高いので、極めて良好（◎印）と評
価された。

【００７３】次に、表６は、ベースポリマーとして塩素
化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてジチオ
カルバミン酸塩系添加剤、顔料、及びピリジン系添加剤
を配合した本発明品（実施例２１〜２４）の材料組成及
びｔａｎδの測定結果を示したものである。

【００７４】

【表６】

【００７５】本発明品（実施例２１〜２４）は、ベース
ポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）
製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰
性添加剤としてを配合成分とし、所定の工程により作成
されたものである。

【００７６】実施例２１〜２２は、塩基性の減衰性添加
剤としてジチオカルバミン酸塩系添加剤を配合してい
る。更に詳しくは、実施例２１はジブチルジチオカルバ
ミン酸亜鉛（大内化学工業（株）製：商品名「ノクセラ
ーＢＺ−Ｐ」）を、実施例２２はジエチルジチオカルバ
ミン酸テルル（大内化学工業（株）製：商品名「ノクセ
ラーＴＴＴＥ」）を配合している。また、実施例２３は
顔料を配合している。更に詳しくは、実施例２３は、
４，４’，４”−トリスジメチルアミノトリフェニルメ
タン（名古屋片山化学工業（株）製：商品名「ロイコク
リスタルバイオレット」）を配合している。次に、実施
例２４はピリジン系添加剤を配合している。更に詳しく
は、実施例２４は、２，２’−（１，２−エーテンジイ
ル）ビス（５−メチルベンゾオキサゾール）（名古屋片
山化学工業（株）製）を配合している。

【００７７】実施例２１〜２４で用いた塩基性物質の構
造式を表１８に示す。

【００７８】

【表１８】

【００７９】なお、これらの作製工程は実施例１〜４の
場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重
量％に、各実施例（実施例２４を除く）の配合成分であ
る塩基性物質を１００重量％ずつ配合している。但し、
実施例２４は塩基性物質を５０重量％を配合している。

【００８０】そして、上述と同様に、実施例２１〜２４
のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、
その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価
した結果、実施例２１はピーク値が比較的高いことか
ら、良好（○印）と評価された。実施例２３、２４はピ
ーク値が高いことから極めて良好（◎印）と評価され
た。

【００８１】次に表７は、ベースポリマーとして塩素化
ポリエチレンを用い、これに塩基性物質として、潤滑油
添加剤、エポキシ樹脂硬化促進剤を配合した本発明品
（実施例２５〜２９）の材料組成及びｔａｎδの測定結
果を示したものである。

【００８２】

【表７】

【００８３】実施例２５は、塩基性物質として潤滑油添
加剤を配合成分としている。更に詳しくは、実施例１７
はメチレンビス（ジブチルジチオカルバメート）（ＶＡ
ＮＤＥＲＢＩＬＴ社（株）製：商品名「ＶＡＮＬＵＢＥ
７７２３」）を配合成分としている。実施例２６は、塩
基性物質としてエポキシ樹脂硬化促進剤を配合成分とし
ている。更に詳しくは、実施例２６は、２，４，６−ト
リ（ジメチルアミノメチル）フェノール（化薬ヌーリ
（株）製：商品名「ＴＡＰ」）を配合成分としている。
実施例２５〜２６に用いた塩基性物質の構造式を表１９
に示す。

【００８４】

【表１９】

【００８５】これらの作製工程は実施例１〜４の場合と
同様である。また、同様の方法でｔａｎδピーク値及び
ピーク温度を測定した。以下、その測定結果について説
明する。表７に示したように、実施例２５は、ピーク値
が２．０を超えており、非常に高いピーク値を示したの
で、極めて良好（◎印）と評価された。実施例２６はピ
ーク値が比較的高いので良好（○印）と評価された。

【００８６】次に、表８は、ベースポリマーとして塩素
化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてウレタ
ン触媒を配合した本発明品（実施例２７〜３０）の材料
組成及びｔａｎδの測定結果を示したものである。

【００８７】

【表８】

【００８８】本発明品（実施例２７〜３０）は、ベース
ポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）
製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰
性添加剤としてを配合成分とし、所定の工程により作成
されたものである。

【００８９】実施例２７が特殊アミンであるジモルホリ
ンエーテル（サンアプロ（株）製：商品名「Ｕ−ＣＡＴ
２０４１」）を、実施例２８がＮ，Ｎ’，Ｎ”−トリス
（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ−Ｓ−トリア
ジン（サンアプロ（株）製：商品名「ＰＯＬＹＣＡＴ４
１」）を、実施例２９がＮ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメ
チルアミノプロピル）アミン（サアプロ（株）製：商品
名「ＰＯＬＹＣＡＴ９」）を、実施例３０がＮ−メチル
−Ｎ，Ｎ−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）アミン
（サンアプロ（株）製：商品名「ＰＯＬＹＣＡＴ７
７」）をそれぞれ配合成分としている。実施例２７〜３
０で用いた塩基性物質の構造式を表２０に示す。

【００９０】

【表２０】

【００９１】なお、これらの作製工程は実施例１〜４の
場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重
量％に、各実施例の配合成分である塩基性物質を１００
重量％ずつ配合している。

【００９２】そして、上述と同様に、実施例２７〜３０
のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、
その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価
した結果、実施例２７、２８は、ピーク値の高さから極
めて良好（◎印）と評価され、実施例２９、３０は、若
干ピーク値が低いのでやや不良（△印）と評価された。

【００９３】次に、表９は、ベースポリマーとして塩素
化ポリエチレンを用い、これに塩基性物質としてイソシ
アヌル酸誘導物を配合した本発明品（実施例３１〜３
４）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を示したもので
ある。

【００９４】

【表９】

【００９５】本発明品（実施例３１〜３４）は、ベース
ポリマーとして塩素化ポリエチレン（昭和電工（株）
製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）に、塩基性の減衰
性添加剤としてを配合成分とし、所定の工程により作成
されたものである。

【００９６】実施例３１は、不飽和樹脂架橋剤であるト
リアリルイソシアヌレート（日本化成（株）製：商品名
「ＴＡＩＣ」）を、実施例３２は、トリス−（２−ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレート（四国化成（株）製：
商品名「ＴＨＥＩＣ」）、実施例３３は、トリメタアリ
ルイソシアヌレート（日本化成（株）製：商品名「ＴＭ
ＡＩＣ」）、実施例３４は、トリス−（２，３−ジブロ
モプロピル）イソシアヌレート（日本化成（株）製：商
品名「ＴＡＩＣ−６Ｂ」）をそれぞれ配合している。

【００９７】実施例３１〜３４で用いた塩基性物質の構
造式を表２１に示す。

【００９８】

【表２１】

【００９９】なお、これらの作製工程は実施例１〜４の
場合と同様である。すなわち、ベースポリマー１００重
量％に、各実施例の配合成分である減衰性添加剤を１０
０重量％ずつ配合している。

【０１００】そして、上述と同様に、実施例３１〜３４
のｔａｎδピーク値及びピーク温度を測定した。以下、
その結果について説明する。上述と同様に４段階で評価
した結果、実施例３１はピーク値が高いことから、極め
て良好（◎印）と評価され、実施例３２はピーク値が比
較的高いことから、良好（○印）と評価され、実施例３
３、３４は若干ピーク値が低いことから、やや不良（△
印）と評価された。

【０１０１】次に表１０は、ベースポリマーとして塩素
化ポリエチレンを用い、これに減衰性添加剤として、顔
料、ヒンダードアミン系添加剤を配合した本発明品（実
施例３５〜３７）の材料組成及びｔａｎδの測定結果を
示したものである。

【０１０２】

【表１０】

【０１０３】実施例３５は、塩基性物質として顔料を配
合成分としている。更に詳しくは、実施例３５は塩基性
物質として２，２’−（１，２−エーテンジイル）ビス
（５−メチルベンゾオキサゾール）とジシクロヘキシル
フタレートのブレンド（シプロ化成（株）製：商品名
「ＰＨ」）を配合成分としている。

【０１０４】実施例３６〜３７は、塩基性物質としてヒ
ンダードアミン系添加剤を配合成分としている。更に詳
しくは、実施例３６が、１，２，２，６，６−ペンタメ
チル−４−ビペリジル／トリデシル１，２，３，４−ブ
タンテトラカルボキシレート（旭電化工業（株）製：商
品名「アデカスタブＬＡ６２」）を、実施例３７が、
１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，
β’，β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１
０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタ
ノールとの縮合物（旭電化工業（株）製：商品名「アデ
カスタブＬＡ６８」）を配合成分としている。

【０１０５】実施例３５〜３７に用いた塩基性物質の構
造式を表２２〜２３に示す。

【０１０６】

【表２２】

【０１０７】

【表２３】

【０１０８】これらの作製工程は実施例１〜４の場合と
同様である。また、同様の方法でｔａｎδピーク値及び
ピーク温度を測定した。以下、その測定結果について説
明する。表１０に示したように、実施例３５、３６のｔ
ａｎδピーク値は、比較的高いので、良好（○印）と評
価され、実施例３７は、ピーク値が非常に高いことから
極めて良好（◎印）と評価された。

【０１０９】次に、表１１及び表１２は、塩基性の減衰
性添加剤としてＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジ
ル−２−スルフェンアミドを用い、これをベースポリマ
ーに配合した本発明品（実施例３８〜４６）の材料組成
及びｔａｎδの測定結果を示したものである。

【０１１０】

【表１１】

【０１１１】

【表１２】

【０１１２】本発明品（実施例３８〜４６）は、減衰性
添加剤としてＮ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル
−２−スルフェンアミド（三新化学工業（株）製：商品
名「サンセラーＤＺ」）を配合しており、ベースポリマ
ーとして、実施例３８が塩素化ポリエチレン（昭和電工
（株）製：商品名「エラスレン４０１Ａ」）、実施例３
９が塩素化ポリプロピレン（日本製紙（株）製：商品名
「スーパークロン８０３ＬＳ」）、実施例４０がクロロ
プレンゴム（昭和電工・デュポン（株）製：商品名「ネ
オプレンＳＮＤ−８」）、実施例４１がニトリル・ブタ
ジエンゴム（日本ゼオン（株）製：商品名「ニポールＤ
Ｎ−１０１Ｌ」）、実施例４２がエピクロルヒドリンゴ
ム（ダイソー（株）製：商品名「エピクロマーＨ」）、
実施例４３がポリ塩化ビニル（新第一塩ビ（株）製：商
品名「ゼスト１０００Ｚ」）、実施例４４がエチレン−
塩ビコポリマー（大洋塩ビ（株）製：商品名「ＴＥ−２
８００」）、実施例４５が塩ビ・酢ビコポリマー（大洋
塩ビ（株）製：商品名「ＴＶ−８００」）、実施例４６
がアクリル・塩ビグラフトコポリマー（大洋塩ビ（株）
製：商品名「ＴＡ−Ｅ２３０」）を配合成分としてい
る。

【０１１３】そして、実施例３８〜４６の作製工程は上
述と同様である。但し、実施例３８〜４８の測定条件は
歪みが０．０５％（一定）、周波数が１５Ｈｚ（一定）
とした。また同様にしてｔａｎδピーク値及びピーク温
度を測定した。以下、その結果について説明する。

【０１１４】表１１及び表１２に示したように実施例３
８〜４６は、実施例３８を除く他は、全てｔａｎδピー
ク値が３．０を超え、極めて優れた値を示した。実施例
４３は、そのピーク値が５．０を若干下回った程度であ
る。一方、各実施例のピーク温度には、ばらつきが認め
られるが、これにより、使用環境に応じた温度特性の選
択が可能になる。このことから、上述と同様に４段階に
分けて評価したところ、実施例３８〜４６は極めて良好
（◎印）と評価された。

【０１１５】次に、実施例１〜３７のピーク温度につい
て総括的に見てみる。一番低い実施例３０から一番高い
実施例１０まで約１００℃の幅があり、そのピーク温度
において塩素化ポリエチレン単独品のピーク値ｔａｎδ
＝１．１より高いｔａｎδピークを示すことから、本発
明品（実施例１〜３７）は、使用環境に適した高減衰材
料を選択することができる。

【０１１６】また、本実施例で用いた塩基性物質には、
液状のものと粉末状のものがあり、液状の添加剤はピー
ク温度が低く、粉末状の添加剤はその温度が高くなる傾
向にあるようである。

【０１１７】次に、実施例３８〜４６のピーク温度につ
いて説明する。その幅は一番低い実施例２２の１．６℃
から一番高い実施例２３の７８℃となっており、かなり
広いことがわかる。このことから本発明品（実施例１８
〜２６）は０℃以上の様々な環境において使用に適して
いるといえる。

【０１１８】本発明に係る各実施例が、高いｔａｎδを
示すメカニズムを図１及び図２を用いて考察する。ま
ず、図１は、本発明に係る高減衰材料組成物のミクロ構
造を概念的に示したものである。ここで、高分子とは塩
素化ポリエチレン等のベースポリマーを、低分子とはＮ
−シクロヘキシルベンゾチアジル−２−スルフェンアミ
ド等の塩基性物質を表している。この低分子は、高分子
に対する体積比が０．３以上であるので高分子の鎖状分
子間に均等に分散している。

【０１１９】そして、この低分子によって結ばれた高分
子間には、均一な双極子−双極子相互作用が働いてい
る。尚、この分子間相互作用は、この低分子の添加によ
り従来の不均一なファン・デル・ワールス力を弱めてい
る。また矢示Ａに係る部分では高分子が絡み合っている
ところを示している。

【０１２０】また、図２は、図１に示した高減衰材料組
成物の分子間ポテンシャルの高さと頻度との関係を示し
たものである。図に示したように、本発明に係る高減衰
材料組成物は、減衰性添加剤の塩基性、相互作用中の分
子間距離の制御をすることにより、その分子間ポテンシ
ャルの分布が狭く、高さを最適値まで持っていき、分子
間の絡み合いが減るように調節されている。これは、高
分子鎖間の相互作用が小さくなり、代わりに均一な高分
子と低分子の間にできた双極子−双極子相互作用ができ
たものと思われる。

【０１２１】以上、本実施例を順に説明したが、要する
に、本実施例に係る高減衰材料組成物は、ベースポリマ
ーに、減衰性添加剤として第２級アミン、第３級アミン
及び含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以
上含む、例えばスルフェンアミド系添加剤、チアゾール
系添加剤、チウラム系添加剤、紫外線吸収剤、防錆剤、
エポキシ樹脂硬化促進剤、不飽和樹脂架橋剤、ウレタン
触媒、潤滑油添加剤、グアニジン系添加剤、ベンゾトリ
アゾール系添加剤、ジチオカルバミン酸塩系添加剤、顔
料、ピリジン系添加剤、イソシアヌル酸誘導物あるいは
ヒンダードアミン系添加剤のうちいずれかを配合したも
のであるから、ベースポリマーと塩基性物質との相互作
用により、そのｔａｎδが高くなる。更に、本実施例に
よれば、各実施例のピーク温度と各配合成分のガラス転
移温度の関係とに相関関係が認められることから、所期
する温度特性を備えたものが得られる。

【０１２２】本発明は、上記した実施例に何等限定され
るものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々
の改変が可能である。例えば、ベースポリマーとして
は、塩素化ポリエチレン等に代えて、エチレン−ポリ塩
化ビニル、エチレン，酢酸共重合体−ポリ塩化ビニル、
ウレタン−ポリ塩化ビニルの他、変性天然ゴム、グラフ
ト天然ゴム、環化天然ゴム、塩素化天然ゴム、カルボキ
シル化ニトリルゴム、ニトリルゴム／塩化ビニル樹脂ブ
レンド、ニトリルゴム／ＥＰＤＭゴムブレンド、臭素化
ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−酢酸ビニル
ゴム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴム、クロロ
スルホン化ポリエチレン、エピクロルヒドリン−エチレ
ンオキシドゴム、メチルシリコンゴム、ビニル−メチル
シリコンゴム、フェニル−メチルシリコンゴム、フッ化
シリコンゴム、フッ素ゴムや、ポリ塩化ビニル系熱可塑
性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマ
ー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド
系熱可塑性エラストマー等極性側鎖を有するベースポリ
マーを適用することができる。

【０１２３】また、塩基性物質の改変としては、本発明
で用いたもの以外に、第２級アミン、第３級アミン及び
含窒素複素環より選ばれた塩基を１分子中に２個以上含
む塩基性物質であれば何等限定されることなく適用する
ことができる。

【０１２４】

【発明の効果】本発明に係る高減衰材料組成物によれ
ば、極性側鎖を有するベースポリマーに減衰性添加剤と
して、第２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環よ
り選ばれた塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を
分散、特に分子レベルで分散させたものであるから、ベ
ースポリマーの鎖状分子間に働く分子間ポテンシャルを
均一化させることができる。これにより、貯蔵弾性係数
Ｅ’の傾きが急になり、損失弾性係数Ｅ”のピーク値が
高くなる。したがって、本発明に係る高減衰材料組成物
によれば高いｔａｎδを発現することができる。このよ
うな高減衰材料組成物及び高減衰材料は、音響ルームの
遮音壁、建築構造体の遮音間仕切、車両の防音壁等、幅
広い分野に適用することができるため、産業上きわめて
有益なものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る高減衰材料組成物の分子鎖のミク
ロ構造を示した図である。

【図２】本発明に係る高減衰材料組成物の分子間ポテン
シャルの分布を示した図である。

【図３】従来一般に知られる高減衰材料組成物の分子鎖
のミクロ構造を示した図である。

【図４】従来一般に知られる高減衰材料組成物の分子間
ポテンシャルの分布を示した図である。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 極性側鎖を有するベースポリマーに、第
   ２級アミン、第３級アミン及び含窒素複素環より選ばれ
   た塩基を１分子中に２個以上含む塩基性物質を１種又は
   ２種以上分散させたことを特徴とする高減衰材料組成
   物。
2. 【請求項２】 前記ベースポリマーは、天然ゴム、変性
   天然ゴム、グラフト天然ゴム、環化天然ゴム、塩素化天
   然ゴム、スチレン−ブタジエンゴム、クロロプレンゴ
   ム、アクリロニトリル−ブタジエンゴム、カルボキシル
   化ニトリルゴム、ニトリルゴム／塩化ビニル樹脂ブレン
   ド、ニトリルゴム／ＥＰＤＭゴムブレンド、ブチルゴ
   ム、臭素化ブチルゴム、塩素化ブチルゴム、エチレン−
   酢酸ビニルゴム、アクリルゴム、エチレン−アクリルゴ
   ム、クロロスルホン化ポリエチレン、塩素化ポリエチレ
   ン、塩素化ポリプロピレン、エピクロルヒドリンゴム、
   エピクロルヒドリン−エチレンオキシドゴム、メチルシ
   リコンゴム、ビニル−メチルシリコンゴム、フェニル−
   メチルシリコンゴム、フッ化シリコンゴム、フッ素ゴム
   より選ばれた少なくとも１種又は２種以上のゴム材料、
   又はポリスチレン系熱可塑性エラストマー、ポリ塩化ビ
   ニル系熱可塑性エラストマー、ポリオレフィン系熱可塑
   性エラストマー、ポリウレタン系熱可塑性エラストマ
   ー、ポリエステル系熱可塑性エラストマー、ポリアミド
   系熱可塑性エラストマーより選ばれた少なくとも１種又
   は２種以上の熱可塑性エラストマー材料、又はポリ塩化
   ビニル、塩素化ポリプロピレン、ポリ塩化ビニリデン、
   ポリ酢酸ビニル、ポリビニルアルコール、ポリふっ化ビ
   ニル、ポリふっ化ビニリデン、ポリアクリルニトリル、
   ポリメチルメタアクリレート、スチレン・アクリルニト
   リル共重合体、アクリルニトリル・ブタジエン・スチレ
   ン三元共重合体、塩ビ・酢ビ共重合体、アクリル・塩ビ
   グラフト共重合体、エチレン・塩ビ共重合体、エチレン
   ・ビニルアルコール、塩素化塩化ビニルより選ばれた少
   なくとも１種又は２種以上の樹脂材料からなることを特
   徴とする請求項１に記載される高減衰材料組成物。
3. 【請求項３】 前記塩基性物質は、Ｎ−シクロヘキシル
   ベンゾチアジル−２−スルフェンアミド、Ｎ−ｔｅｒｔ
   −ブチルベンゾチアジル−２−スルフェンアミド、Ｎ−
   オキシジエチレンベンゾチアジル−２−スルフェンアミ
   ド、Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルベンゾチアジル−２−ス
   ルフェンアミドより選ばれた少なくとも１種又は２種以
   上のスルフェンアミド系添加剤、２−（Ｎ，Ｎ−ジエチ
   ルチオカルバモイルチオ）ベンゾチアゾール、２−
   （４’−モルホリノジチオ）ベンゾチアゾールより選ば
   れた少なくとも１種又は２種以上のチアゾール系添加
   剤、テトラエチルチウラムジスルフィド、テトラブチル
   チウラムジスルフィドより選ばれた少なくとも１種又は
   ２種以上のチウラム系添加剤、１，３−ジフェニルグア
   ニジン、ジ−Ｏ−トリルグアニジンより選ばれた少なく
   とも１種又は２種以上のグアニジン系添加剤、紫外線吸
   収剤である２−（２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，
   ６−テトラヒドロフタルイミド−メチル）−５−メチル
   フェニル）−ベンゾトリアゾール、防錆剤である１−
   ［Ｎ，Ｎ−ビス（２エチルヘキシル）アミノメチル］ベ
   ンゾトリアゾール、（１，２，３−ベンゾトリアゾリル
   −１−メチル）（１，２，４−トリアゾリル−１−メチ
   ル）−２−エチルヘキシルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（ベ
   ンゾトリアゾリルメチル）−ジアミノヘキサン、光安定
   剤である２，２’−メチレンビス｛４−（１，１，３，
   ３−テトラメチルブチル）−６−６［（２Ｈ−ベンゾト
   リアゾール−２−イル）フェニル］｝、Ｎ，Ｎ−ビス
   （ベンゾトリアゾールメチル）−２エチルヘキシルアミ
   ン、Ｎ，Ｎ−ビス（ベンゾトリアゾールメチル）−ラウ
   リルアミン、１−（２−エチルヘキシルアミノメチル）
   −ベンゾトリアゾール、１−（ラウリルアミノメチル）
   −ベンゾトリアゾール、１−（モルホリノメチル）−ベ
   ンゾトリアゾールより選ばれた少なくとも１種又は２種
   以上のベンゾトリアゾール系添加剤、ジブチルジチオカ
   ルバミン酸亜鉛、ジエチルジチオカルバミン酸テルルよ
   り選ばれた少なくとも１種又は２種以上のジチオカルバ
   ミン酸塩系添加剤、４，４’，４”−トリスジメチルア
   ミノトリフェニルメタン、２，２’−（１，２−エーテ
   ンジイル）ビス（５−メチルベンゾオキサゾール）とジ
   シクロヘキシルフタレートのブレンドより選ばれた少な
   くとも１種又は２種以上の顔料、２，２−ジチオジオピ
   リジン等のピリジン系添加剤、メチレンビス（ジブチル
   ジチオカルバメート）等の潤滑油添加剤、２，４，６−
   トリ（ジメチルアミノメチル）フェノール等のエポキシ
   樹脂硬化促進剤、ジモルホリンエーテル、Ｎ，Ｎ’，
   Ｎ”−トリス（ジメチルアミノプロピル）ヘキサヒドロ
   −Ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（３−ジメチル
   アミノプロピル）アミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ−ビス
   （３−ジメチルアミノプロピル）アミンより選ばれた少
   なくとも１種又は２種以上のウレタン触媒、不飽和樹脂
   架橋剤であるトリアリルイソシアヌレート、トリス−
   （２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、トリメタ
   アリルイソシアヌレート、トリス−（２，３−ジブロモ
   プロピル）イソシアヌレートより選ばれた少なくとも１
   種又は２種以上のイソシアヌル酸誘導物、１，２，２，
   ６，６−ペンタメチル−４−ビペリジル／トリデシル
   １，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，
   ２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６
   −テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β’，
   β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テ
   トラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）ジエタノール
   との縮合物より選ばれた少なくとも１種又は２種以上の
   ヒンダードアミン系添加剤より選ばれた少なくとも１種
   又は２種以上の材料からなることを特徴とする請求項１
   又は２に記載される高減衰材料組成物。
4. 【請求項４】 前記塩基性物質の体積は、前記ベースポ
   リマーの体積に対して０．３以上の割合であることを特
   徴とする請求項１、２又は３に記載される高減衰材料組
   成物。