JPH11170450A - 塩化ビニリデンラテックスのコートフィルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高いガスバリア性を有する、厚さ８μ未満の
塩化ビニリデンラッテクスのコート層を有するフィルム
を提供する。 【解決手段】 塩化ビニリデンラテックスをコートした
フィルムを、塩化ビニリデン共重合体ラテックスの融点
近傍の温度にて加熱処理し、ラテックス粒子を融着させ
た後、同温度近傍で圧延処理をすることによって得ら
れ、圧延方向に長周期を持ち、且つ１軸配向した構造の
フィルム。 【効果】 特に高いガスバリア性を必要とする包装材料
として有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ガスバリア性に優
れた、塩化ビニリデン共重合体ラテックス（以下、ＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸという）のコートフィルム、及びその製造
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】塩化ビニリデン共重合体（以下、ＰＶＤ
Ｃという）は、酸素及び水蒸気に対し、高いガスバリア
性を有するポリマー素材として、古くから知られてい
る。実際、ＰＶＤＣ樹脂フィルムやＰＶＤＣ−ＬＴＸコ
ートフィルムは、生鮮食品、乾燥食品等の包装材料とし
て広く使われている。そして、一般消費者の生活様式の
変化に伴う性能、品質への要求の増大、あるいは包装材
メーカーの大幅な生産技術の改善や多用途化に伴い、Ｐ
ＶＤＣ−ＬＴＸ製造メーカー側でも現在なおＰＶＤＣの
ガスバリア性をはじめ、ブロッキング性、インク密着性
等の改良の努力が続けられている。

【０００３】特に、東レリサーチセンター監修、ＴＲＣ
Ｒ＆Ｄ ＬＩＢＲＡＲＹ、『ガスバリア性・保香性包
装材料の新展開』、（１９９７）ｐ．２〜２４や仲川
勤、高分子、４６巻、３月号、（１９９７）ｐ．１４４
〜１４８を参考にＰＶＤＣ樹脂フィルムやＰＶＤＣ−Ｌ
ＴＸコ−トフィルムのガスバリア性に関する従来の改良
技術を分類すると、欠陥（フィルム中に存在する１．
０ｎｍ以上の大きさの孔や亀裂）、共重合させるモノ
マー組成、結晶性、配向性の各観点からの技術改良
がある。

【０００４】フィルム内に欠陥がある場合、ガス分子は
そこからフィルムを透過し、ガスバリア性が極端に低下
する。従って、の欠陥の観点からの改良とは、フィル
ム内から欠陥の数や大きさを減らす改良技術である。具
体的には、特公平３−５２５０７号公報の様にＰＶＤＣ
−ＬＴＸコートフィルムをＰＶＤＣ−ＬＴＸの融点以下
１０℃〜ＰＶＤＣの分解が許容できる温度で熱処理し、
発生する孔を塞ぐ改良技術がある。しかし、この様な技
術は本来発生してはならない欠陥を抑えるための技術で
あり、以下に述べる他の改良技術のベースとなるもので
あって、この技術自体はＰＶＤＣ−ＬＴＸの持つガスバ
リア性を本質的に高めるようなものではない。従って、
これらの改善を行っても本発明で得られるガスバリア性
には及ばない。

【０００５】ガス分子がフィルムを透過する機構とし
て、欠陥を透過する機構以外に別の機構がある。その機
構は次の段階から構成されていると考えられている。先
ずガス分子がフィルムに吸着あるいは溶解する段階（第
１段階）、次に吸着あるいは溶解したガス分子がフィル
ム内を拡散により浸透して行く段階（第２段階）、そし
て最終的にガス分子がフィルムの他面から脱着する段階
（第３段階）の３つの段階よりなる。

【０００６】上記の共重合させるモノマー組成の観点
からの改良とは、対象とするガス分子を吸着あるいは溶
解しないモノマーを重合モノマーとして選択したり、あ
るいはそのモノマー構成比率を変えるという、第１段階
に対する技術である。具体的には、特公昭５９−４１６
６０号公報、特公昭６０−５３０５５号公報の様に、Ｐ
ＶＤＣ−ＬＴＸ中に８７〜９３ｗｔ％の高い重量率で塩
化ビニリデン（以下、ＶＤＣという）を含有し、メタク
リロニトリル（ＭＡＮ）、アクリロニトリル（ＡＮ）ま
たはメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）等と共重合させ、接
着性、耐沸騰水性を兼ね備えた高バリアラテックスがあ
る。しかし、これらの改良技術ではＶＤＣと共重合でき
るモノマー種は限定されたものになる。また、先述した
仲川勤の文献によれば、モノマー種や組成の変更による
ガスの溶解性の改良によるガスの透過係数への効果も１
桁程度しか期待されない。従って、これらの技術を用い
ても、既に８７〜９３ｗｔ％の高いＶＤＣ重量率を有す
る高バリア用ＰＶＤＣ−ＬＴＸのガスバリア性を高める
ことは出来ない。従って、本発明で得られるガスバリア
性には及ばない。

【０００７】上記の結晶性及びの配向の観点からの
改良技術は、第２段階に対する技術である。先述した仲
川勤の文献によれば、ガスの拡散性の改良によるガスの
透過係数への効果は、最もガスバリア性の向上が期待で
きる観点からの改良であり、その効果は数桁にも及ぶも
のである。の結晶性の観点からの改良技術とは、ガス
分子がフィルムの結晶領域に侵入出来ないことを利用し
たものであり、フィルムの結晶性を高めることでガス分
子が拡散によって通過していく非晶領域の体積を減らす
改良技術である。

【０００８】ＰＶＤＣの結晶性を高める技術として、
Ｋ．Ｏｋｕｄａ、Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ａ、２、
（１９６４）ｐ．１７４９〜１７６４によれば、ＶＤＣ
及び塩化ビニル（以下、ＶＣという）の共重合によるＰ
ＶＤＣ樹脂においては、ＶＤＣ含有量が５６〜１００ｗ
ｔ％でＰＶＤＣの結晶構造が現れ、ＶＤＣの含有量が増
すに従って結晶化度Ｘｃと融点Ｔｍが、夫々ＶＤＣ５６
ｗｔ％でＸｃ＝２０％、Ｔｍ＝１８３℃となり、ＶＤＣ
１００ｗｔ％でＸｃ＝４３％、Ｔｍ＝１９５℃と高まる
ことが報告されている。また、坂井秀樹、上田育雄、コ
ンバーテック、３、（１９９６）ｐ．２９〜３３によれ
ば、ＰＶＤＣ−ＬＴＸの場合、コート時の乾燥温度や乾
燥した後のエージング温度及びエージング時間を調整し
結晶性を高めることが通常に行われていることが報告さ
れている。しかし、ＰＶＤＣ−ＬＴＸの場合、単にコー
トのみを行ったり、エージング条件を改善しても得られ
るＰＶＤＣの結晶化度は高々１０〜４０％程度であり、
この方法では結晶性を高めることには限界があり、ガス
バリア性の飛躍的な向上は望めない。

【０００９】上記の配向の観点からの改良とは、結晶
領域や非晶領域の分子を特定の方向に向かせることで、
非晶領域におけるガス分子の拡散速度を遅らせようとす
る技術である。本発明もこの観点からの改良法の１つで
ある。具体的にＰＶＤＣをはじめポリマーに配向を起こ
す一般的な技術として、延伸法や圧延法がある。これら
を単独、あるいは組み合わせて用いることは通常行われ
ていることである。

【００１０】先ず、延伸技術について述べる。ＰＶＤＣ
−ＬＴＸに関連した延伸技術として、特公昭５１−３１
２７６号公報、特開昭５７−１５０５３６号公報、特開
昭５８−１７７３２１号公報、特開昭６１−１６７５２
８号公報等がある。これらは、未延伸あるいは１軸延伸
した基材フィルムにＰＶＤＣ−ＬＴＸをコートした後、
異なる方向へ１軸延伸または２軸延伸を行い、更に熱処
理を行う技術である。しかし、これらの技術は、従来の
ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの生産性を高めるため
の改良技術にすぎない。

【００１１】即ち、従来基材フィルムの強度を高めるた
めに基材フィルムを延伸し、その後、ガスバリア性を付
与するためにＰＶＤＣ−ＬＴＸをコートするというオフ
ライン工程に対し、基材フィルムの延伸とＰＶＤＣ−Ｌ
ＴＸのコートとを連続的に、あるいは同時に行うことで
生産性を高めることを目的とした技術であって、ＰＶＤ
Ｃ−ＬＴＸコートフィルムの延伸によってＰＶＤＣ層を
配向させることを狙った技術ではない。実際、本発明の
比較例５に示す様にこの様な技術では、ＰＶＤＣ−ＬＴ
ＸコートフィルムのＰＶＤＣ層を配向させることはほと
んど出来ない。しかし、ＰＶＤＣ樹脂に関しては、１軸
延伸によってＰＶＤＣ分子やＰＶＤＣ結晶を配向させる
ことが可能なことが、朝比奈光雄、化学同人、『繊維の
形成と構造の発現（ＩＩ）』、（１９７０）ｐ．１７９
〜１８８に報告されている。朝比奈の文献によれば、Ｖ
ＤＣとＶＣを共重合したＰＶＤＣ樹脂を一旦溶融した後
クエンチし、その後１軸延伸した場合、延伸倍率２．０
以下では配向した非晶が得られ、２．０以上では配向結
晶化が生じると報告されている。

【００１２】次に、圧延技術について述べる。ＰＶＤＣ
に関する圧延技術としては、特開平６−３４４４３６号
公報、特開昭５４−１５９４８３号公報、特開昭５３−
５８５７８号公報がある。しかし、特開平６−３４４４
３６号公報はラテックスではなく樹脂に関する技術であ
り、その目的も低温シール性と直線カット性に重点が置
かれており、ガスバリア性に関しては実施例においても
何ら改善がされていない。特開昭５４−１５９４８３号
公報は、圧延法、延伸法、加熱処理を単独あるいは組合
わせたＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムに関するガスバ
リア向上の技術であるが、ＰＶＤＣ−ＬＴＸのコート層
の厚みは少なくとも８μ以上のフィルムに限定されたも
のである。また、白化度を抑えることを主目的にしてい
るため、実施例では圧延温度は１０３℃で、圧延倍率は
１．１と低い。勿論この様な条件では、ＰＶＤＣ層の配
向は得られず、従って、本発明の構造体とは異なるもの
である。

【００１３】特開昭５３−５８５７８号公報は、ＰＶＤ
Ｃ−ＬＴＸのコートフィルムを軟化点以下の温度で圧延
倍率１．５以上で圧延する技術である。しかし、その実
施例によれば、圧延温度も７０〜８０℃と低く、圧延倍
率も２．２〜２．８と低いものとなっている。従って、
本発明の比較例２及び比較例３から推測される様に、こ
の技術では本発明で規定する構造パラメータを満足させ
ることは出来ない。

【００１４】本発明者は、従来の技術におけるＰＶＤＣ
−ＬＴＸコートフィルムの延伸法や圧延法で配向したＰ
ＶＤＣ層が得られないのは、次の原因によるものと考え
た。即ち、ＰＶＤＣ−ＬＴＸを通常の乾燥条件（１００
〜１２０℃、１０〜６０秒）あるいはエージング条件
（４０〜６０℃、１〜３日間）で処理しただけではＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸのラテックス粒子同士の融着が弱く、延伸
法や圧延法による外力がラテックス粒子全体に均一に伝
わらない。その結果、ラテックス粒子内のＰＶＤＣ分子
またはＰＶＤＣ結晶にも外力が伝わらず、配向したＰＶ
ＤＣ層が得られない。また、仮にＰＶＤＣ−ＬＴＸのラ
テックス粒子同士の融着性が改善されても、ＰＶＤＣ層
と基材フィルムとの結合も弱く、更にＰＶＤＣ層と基材
フィルムとの外力に対する伸び率も異なるため、延伸法
では変形倍率が高くなるとＰＶＤＣ層と基材フィルムと
の間で剥離が生じる。その結果、ＰＶＤＣ層に十分には
外力が伝わらないことになり、配向したＰＶＤＣ層が得
られない。

【００１５】一方、ＰＶＤＣの融点以上で延伸すれば、
ＰＶＤＣ層は基材フィルムから剥離することなく見掛け
上均一に延伸されたＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムが
得られることもある。しかし、その時でも実際にはＰＶ
ＤＣは溶融しており、外力がＰＶＤＣ結晶を配向させる
ことは出来ない。従って、いずれの場合においても従来
の技術におけるＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの延伸
法や圧延法では、ＰＶＤＣ分子またはＰＶＤＣ結晶に外
力は有効に働かないため、ＰＶＤＣ層でのＰＶＤＣ分子
またはＰＶＤＣ結晶の配向、及びＰＶＤＣ層での配向結
晶化は起こらないものと考えられる。

【００１６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の延伸
法ではＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのＰＶＤＣ層で
のＰＶＤＣ分子やＰＶＤＣ結晶を配向させることが出来
ないという欠点を克服し、高いガスバリア性を有する、
厚さ８μ未満のＰＶＤＣ−ＬＴＸコート層を有するフィ
ルム及びその製造法を提供するものである。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記の課題
を解決するためには、ＰＶＤＣ−ＬＴＸのラテックス粒
子同士の融着を強固なものとすると共に、ＰＶＤＣ層の
基材フィルムからの剥離を抑えた延伸処理が必要である
と考えた。そして、それらの一連の処理によって、ＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのＰＶＤＣ層のＰＶＤＣ分
子またはＰＶＤＣ結晶に十分な配向を与えることで課題
は達成されるという考えのもと、本発明者は鋭意研究を
重ねた結果、本発明をなすに至った。

【００１８】即ち、本発明は下記の通りである。 １）ＰＶＤＣ中のＶＤＣ重量率が１００〜６０ｗｔ％の
ＰＶＤＣ−ＬＴＸを用いて、以下に示す構造パラメータ
を満たし、且つ厚さが８μ未満のＰＶＤＣ−ＬＴＸのコ
ート層を有するフィルム。 ［構造パラメ−タ］Ｘ線回折法において、入射Ｘ線とし
てＣｕＫα線（波長０．１５４２ｎｍ）を用いてＰＶＤ
Ｃ−ＬＴＸのコート層を有するフィルム（以下、ＰＶＤ
Ｃ−ＬＴＸコートフィルムという）の面の法線方向（Ｘ
方向）から照射した時、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムと平行に置かれたＸ線回折平面写真（Ｘ線回折用平面
イメージングプレート、以下、ＩＰという）上におい
て、ＰＶＤＣに由来する各散乱ピ−クが次の構造パラメ
ータ１〜３の特徴を持つこと。

【００１９】構造パラメータ１：散乱角２θ＝０．５〜
１．２度（ピーク１）、２θ＝１５〜１６度（ピーク
２）及び２θ＝２４〜２６度（ピーク３）の全てにＰＶ
ＤＣに由来する散乱ピークを持つこと。 構造パラメータ２：ピーク１の散乱強度Ｉ１と２θ＝１
０度の散乱強度Ｉ０の散乱強度比Ｉ１／Ｉ０が３．０以
上であり、且つピーク３の散乱強度Ｉ３とピーク２の散
乱強度Ｉ２の散乱強度比Ｉ３／Ｉ２が１．０以上である
こと。

【００２０】構造パラメータ３：ＩＰ上においてＰＶＤ
Ｃに由来する各散乱ピークの現れる方向（配向β、βは
圧延方向と平行な方向を０度として測った角度）及び配
向の広がりΔβｉ（但し、ｉは各散乱ピークの番号を意
味する。即ちｉ＝１または２である）が、ピーク１では
ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの圧延方向（Ｚ方向、
β＝０度または１８０度の方向）を中心にしてΔβ１＝
０〜６０度に、配向強度β１として０．３以上の散乱ピ
ークを有し、ピーク２ではＺ方向及びＸ方向の両者に垂
直な方向（Ｙ方向、β＝９０度または２７０度の方向）
を中心にしてΔβ２＝０〜４０度に、配向強度β２とし
て０．３以上の散乱ピークを有し、ピーク３ではＺ方向
と３８度なす方向（β＝３８度または１４２度または２
１８度または３２２度の方向）を中心に散乱ピークを有
すること。

【００２１】２）ＰＶＤＣ中のＶＤＣ重量率が１００〜
６０ｗｔ％のＰＶＤＣ−ＬＴＸを基材フィルムにコート
した後、以下の処理１及び処理２を順次行うことを特徴
とする、上記１記載のフィルムの製造法。 処理１：ＰＶＤＣ−ＬＴＸをコートすると同時にまたは
コート乾燥後から、熱処理温度＝ＰＶＤＣ−ＬＴＸの融
点以下３０℃〜融点以上３０℃の温度で、熱処理時間＝
０．０１秒〜６０分間の時間で、ＰＶＤＣ−ＬＴＸをコ
ートした基材フィルム（以下、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコート
フィルムという）に行う熱処理。

【００２２】処理２：処理１を行うと同時にまたは後か
ら、圧延温度＝ＰＶＤＣ−ＬＴＸの融点以下３０℃〜融
点以上３０℃の温度で、圧延速度＝０．０１ｍ／分〜６
００ｍ／分で、圧延倍率Ｌ＝３．０〜７．３で、ＰＶＤ
Ｃ−ＬＴＸコートフィルムに行う圧延処理。 ３）基材フィルムが、ポリスチレン（以下、ＰＳとい
う）、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴとい
う）、ポリプロピレン（以下、ＰＰという）、ポリアミ
ド（以下、Ｎｙという）である上記２記載の製造法。

【００２３】以下、詳細に本発明のＰＶＤＣ−ＬＴＸコ
ートフィルムの構造とその製造法及びその構造の同定法
を順次説明する。 （１）本発明のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの構造 本発明のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの構造は、Ｐ
ＶＤＣ中のＶＤＣ重量率が１００〜６０ｗｔ％、好まし
くは９６〜８５ｗｔ％のＰＶＤＣ−ＬＴＸを用いて、以
下に示す構造パラメータを満たし、且つ厚さが８μ未満
のＰＶＤＣ−ＬＴＸのコート層を有するフィルムであ
る。

【００２４】［構造パラメータ］Ｘ線回折法において、
入射Ｘ線としてＣｕＫα線（波長０．１５４２ｎｍ）を
用いてＰＶＤＣ−ＬＴＸのコート層を有するフィルム
（ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム）の面の法線方向
（Ｘ方向）から照射した時、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフ
ィルムと平行に置かれたＸ線回折平面写真（Ｘ線回折用
平面イメージングプレート、ＩＰ）上においてＰＶＤＣ
に由来する各散乱ピークが次の構造パラメータ１〜３の
特徴を持つこと。なお、ＰＶＤＣに由来する散乱ピーク
とは、以下の同定法で述べる方法により、実際に得られ
るＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのＩＰ上の回折像か
ら、基材フィルムの散乱ピークの影響を差し引いて得ら
れるＰＶＤＣの散乱ピークのことである。

【００２５】構造パラメータ１：散乱角２θ＝０．５〜
１．２度（ピーク１）、２θ＝１５〜１６度（ピーク
２）及び２θ＝２４〜２６度（ピーク３）の全てにＰＶ
ＤＣに由来する散乱ピークを持つこと。 構造パラメータ２：ピーク１の散乱強度Ｉ１と２θ＝１
０度の散乱強度Ｉ０の散乱強度比Ｉ１／Ｉ０が３．０以
上、好ましくは３．５以上であり、且つピーク３の散乱
強度Ｉ３とピーク２の散乱強度Ｉ２の散乱強度比Ｉ３／
Ｉ２が１．０以上、好ましくは１．３以上であること。

【００２６】構造パラメータ３：ＩＰ上においてＰＶＤ
Ｃに由来する各散乱ピークの現れる方向（配向β、βは
圧延方向と平行な方向を０度として測った角度）及び配
向の広がりΔβｉ（ｉは各散乱ピークの番号を意味す
る。即ちｉ＝１または２）が、ピーク１ではＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムの圧延方向（Ｚ方向、β＝０度ま
たは１８０度の方向）を中心にしてΔβ１＝０〜６０
度、好ましくはΔβ１＝０〜５０度に、配向強度β１と
して０．３以上の散乱ピークを有し、ピーク２ではＺ方
向及びＸ方向の両者に垂直な方向（Ｙ方向、β＝９０度
または２７０度の方向）を中心にしてΔβ２＝０〜４０
度、好ましくはΔβ２＝０〜２５度に、配向強度β２と
して０．３以上の散乱ピークを有し、ピーク３ではＺ方
向と３８度なす方向（β＝３８度または１４２度または
２１８度または３２２度の方向）を中心に散乱ピークを
有すること。

【００２７】上記の構造パラメータが規定する構造と
は、Ｔ．Ｔａｋａｇｉ、Ｙ．Ｃｈａｔａｎｉ、Ｔ．Ｋｕ
ｓｕｍｏｔｏ、Ｈ．Ｔａｄｏｋｏｒｏ、Ｐｏｌｙｍ．
Ｊ．、２０、１０、（１９８８）ｐ．８８３〜８９３に
報告されたＰＶＤＣの結晶構造によれば、ピーク２及び
ピーク３の存在及びその配向は、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコー
トフィルムのＰＶＤＣ層のＰＶＤＣ結晶の分子鎖軸（ｂ
軸）がＺ方向を向いた１軸配向に近い構造であることを
示唆する。更に、ピーク１のＺ方向への出現は、先述し
た朝比奈の文献によれば、ＰＶＤＣ層のＰＶＤＣ分子が
ＰＶＤＣ樹脂の１軸延伸と同様に十分に延伸され、配向
結晶化により長周期構造が出現したことを示唆してい
る。従って、構造パラメータ１は、ＰＶＤＣ結晶構造及
びＰＶＤＣの長周期構造の存在を規定し、構造パラメー
タ２は、それらの構造が十分発達していることを規定す
る。また、構造パラメータ３は、それらの構造が特定の
配向、即ちＰＶＤＣ結晶の分子鎖軸がＺ方向を向いてい
る程度及び長周期構造がＺ方向を向いている程度を規定
するものである。

【００２８】なお、散乱ピーク１の出現する２θについ
て、以下のことに注意する。ピーク１の２θは、特に熱
履歴、即ち処理１及び処理２及び処理２の後の熱処理温
度の影響を受けやすい。そのピーク頂点は０．９〜１．
０度に出現するが、処理２の後に熱処理を行うと０．５
度に出現することもある。 （２）本発明のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの製造
方法 次に、本発明のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム（以
下、構造体ともいう）を得るための方法を示す。

【００２９】下記の処理１、処理２によって上記構造パ
ラメータを満たすＰＶＤＣの結晶構造が発現する様な共
重合モノマー組成、即ちＰＶＤＣ中のＶＤＣ重量率が１
００〜６０ｗｔ％であれば、ＰＶＤＣ−ＬＴＸの重合法
には特に限定はない。例えば、特公昭５９−４１６６０
号公報、特公昭６０−５３０５４号公報、特公昭６０−
５４９６４号公報等に従い合成すれば良い。しかし、ガ
スバリア性を良くするためには、特公昭５９−４１６６
０号公報及び先述したＯｋｕｄａの文献から推測される
様に共重合モノマー組成は、ＰＶＤＣ−ＬＴＸ共重合体
中のＶＤＣ重量率が９６〜８５ｗｔ％、且つその他のモ
ノマー成分もＶＤＣに次いでガスバリア性の点で優れた
メタクリロニトリル（ＭＡＮ）、アクリロニトリル（Ａ
Ｎ）またはメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を単独または
組み合わせて４〜１５ｗｔ％とすることが好ましい。ま
た、基材フィルムとの密着性を高めるために、バリア性
を損なわない程度、目安として３ｗｔ％以下のアクリル
酸（ＡＡ）またはメタクリル酸（ＭＡＡ）を用いること
が出来る。この様な共重合モノマー組成を重合して得ら
れるＰＶＤＣ−ＬＴＸを基材フィルムにコートした後、
以下の処理１及び処理２を順次行なうことによって、本
発明の高バリア性のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムが
得られる。上記基材フィルムとしては、ＰＳ、ＰＥＴ、
ＰＰ、Ｎｙ等が好ましいものとして挙げられる。なお、
コートにあたってＰＶＤＣ−ＬＴＸと基材フィルムとの
接着性を高めるため、コートする前に基材フィルムにア
ンカー剤の塗布やコロナ放電処理をしておくことが望ま
しい。

【００３０】処理１：処理１は、続いて行う処理２の効
果が有効にＰＶＤＣ層に働くためにＰＶＤＣ−ＬＴＸの
ラテックス粒子同士を融着させるためのものである。具
体的にはＰＶＤＣ−ＬＴＸをコートすると同時にまたは
コート乾燥後から、熱処理温度＝ＰＶＤＣ−ＬＴＸの融
点以下３０℃〜融点以上３０℃の温度で、好ましくは融
点以下２０℃〜融点の温度で、熱処理時間＝０．０１秒
〜６０分間の時間で、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
に行う熱処理である。熱処理温度が融点以下３０℃より
低いと、ラテックス粒子同士の融着が不十分なため、次
の処理２による延伸効果が十分得られない。また、融点
以上３０℃より高いと、ラテックス粒子の融着は短時間
で済むもののＰＶＤＣ自体の分解が進み、ＰＶＤＣ層の
着色や強度低下が生じ実用的ではない。処理時間は処理
温度によって異なるが、０．０１秒より短いと融着が不
十分であり、また熱処理時間が６０分より長いと生産効
率が低すぎて実用性に欠ける場合がある。

【００３１】処理２：処理２は、ＰＶＤＣ層のＰＶＤＣ
分子やＰＶＤＣ結晶を十分に配向させ、結晶化を促進す
るための処理であり、最も重要な処理である。具体的に
は、処理１を行うと同時にまたは後から、圧延温度＝Ｐ
ＶＤＣ−ＬＴＸの融点以下３０℃〜融点以上３０℃の温
度、好ましくは融点以下２０℃〜融点の温度で、圧延速
度＝０．００１ｍ／分〜６００ｍ／分で、圧延倍率Ｌ＝
３．０〜７．３で、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムに
行う圧延処理である。なお、好ましくは処理２に引き続
き、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを熱プレス等の緊
張条件下で熱処理することが望ましい。

【００３２】圧延温度がＰＶＤＣ−ＬＴＸの融点以下３
０℃より低いと、ＰＶＤＣ層に亀裂やキズが入ったり、
白色化して、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのガスバ
リア性が低下するだけでなく、十分なＰＶＤＣ分子の延
伸が行われないため、ピーク１が現れないか、現れても
その散乱強度は小さいものとなる。一方、融点以上３０
℃より高いと、ＰＶＤＣ層の着色や強度低下が生じ実用
的ではない。また、変形速度が０．００１ｍ／分より遅
いと生産効率が低すぎて実用性に欠け、変形速度６００
ｍ／分より速いとＰＶＤＣ層に亀裂やキズが入ったり、
白色化して、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのガスバ
リア性が低下する可能性が高い。また、本発明の構造体
が得られる圧延処理の加工度の目安を、次式（１）で定
義される圧延倍率Ｌで示せば、Ｌ＝３．０〜７．３で得
られた。

【００３３】Ｌ＝ｄ０／ｄ ・・・・（１） （ここで、ｄ０：圧延前のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィ
ルムの厚み、ｄ：圧延後のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィ
ルムの厚みである。） 圧延温度＝ＰＶＤＣ−ＬＴＸの融点以下３０℃〜融点以
上３０℃の温度で、Ｌが３．０より小さいと、ＰＶＤＣ
層のＰＶＤＣ結晶を十分に配向させたり、長周期構造が
出来ず、散乱強度比Ｉ１／Ｉ０は３．０より小さく、配
向強度β１が０．３以下となり、Δβ１が測定出来なか
ったり、測定出来てもΔβ１が６０度より大きくなる。
また、Ｌが７．３より大きくても、散乱強度比Ｉ１／Ｉ
０は３．０より小さく、配向強度β１が０．３以下とな
り、Δβ１が測定出来なかったり、測定出来てもΔβ１
が６０度より大きくなる。これは、圧延条件が厳しすぎ
て、結晶領域や長周期構造が崩れることによるものと考
えられる。

【００３４】なお、処理２に引続き、ＰＶＤＣ−ＬＴＸ
コートフィルムを自由端熱処理、好ましくは熱プレスや
テンター等を用いて緊張熱処理を行えば、Ｌが７．３よ
り大きくても散乱強度比Ｉ１／Ｉ０が３．０以上、配向
強度β１が０．３以上、Δβ１を６０度以下にすること
が出来る。この場合、出来たＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフ
ィルムは最もガスバリア性の良い構造体となる。ただ
し、自由端熱処理の場合、処理温度、処理時間によって
は、配向を乱すことがあるので注意を要する。

【００３５】また、圧延法については特に制限はない
が、例えば、２〜６本のロール（好ましくは金属ロール
を用いる）を用いた通常のカレンダー成形で用いられる
装置や、特公昭４５−１４１９９号公報の大量の液体を
潤滑剤としてロールとフィルムの間に介在させて圧延さ
せるＦＣＲ法と呼ばれる方法、あるいはまた、特公昭５
５−１７６９４号公報の上下ロールの回転速度を異なる
速度で回転させて圧延する非等速圧延法を使用すれば良
い。金属ロールを用いることは、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコー
トフィルムの圧延温度を制御しやすくするだけでなく、
基材フィルムからのＰＶＤＣ層の剥離を抑えて、ＰＶＤ
Ｃ分子やＰＶＤＣ結晶の延伸に必要な外力を容易に与え
るのに都合が良いからである。

【００３６】なお、上記の圧延処理を行った後、緊張熱
処理以外に、更にＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの厚
みを極薄化するため、異なる方向への圧延処理または延
伸処理を用いても良い。この場合、圧延処理では新たな
方向への本発明における構造が発現し、出来たＰＶＤＣ
−ＬＴＸコートフィルムは、夫々の圧延方向に本発明の
構造体が発現した混合体となる。しかし、延伸処理では
先述した問題が起こりやすく、ＰＶＤＣの融点以上の延
伸でも処理２で発現した構造を破壊する可能性があるた
めに注意を要する。

【００３７】（３）本発明のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフ
ィルムの構造の同定法 構造パラメータの同定には結晶構造解析に常用されるＸ
線回折法を用いる。同定装置としては、理学電機（株）
ＲＩＮＴ−ＩＰシステムＲ−ＡＸＩＳ２を用いた。使用
Ｘ線波長は、４０ＫＶ、１８２ｍＡの条件で発生させた
Ｘ線を入射モノクロメータによって単色化して、φ０．
５ｍｍの孔の開いた入射第１及び第２スリット、及び上
下左右に手動可変の第３スリット（各スリットの間隔は
１５０ｍｍ）を用いて特性Ｘ線ＣｕＫα線（波長０．１
４１８２ｎｍ）を取り出して用いた。この特性Ｘ線を下
記の様にセットした試料フィルムに照射し、分解能画素
サイズ２００×２００μｍ２のＩＰを用いて測定した。

【００３８】また、同定を行うＸ線回折用試料の状態に
ついて、次の注意が必要である。本発明において、基材
フィルムの種類によってはＰＶＤＣに由来する散乱ピー
クに基材フィルムに由来する散乱ピークが重なる場合が
ある。その場合、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのＰ
ＶＤＣ層が基材フィルムから剥離出来る場合は、剥離し
たＰＶＤＣ層に下記の同定法を適用する。ＰＶＤＣ層が
基材フィルムから剥離出来ない場合は、ＰＶＤＣ−ＬＴ
ＸコートフィルムのＩＰ上のＸ線回折像から、ＰＶＤＣ
層だけを適当な溶媒を用いて除去した基材フィルムのＩ
Ｐ上のＸ線回折像を引き去って得られるＸ線回折像に対
して下記の同定法を用いれば良い。または、ミクロトー
ン等を用いてＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムからフィ
ルム面に平行にＰＶＤＣ層の超薄切片を切り出し、その
超薄切片に対し、理学電機（株）製マイクロＸ線回折装
置等を用いてＸ線回折像を得て、それに対して下記の同
定法を用いれば良い。

【００３９】この時、ピーク強度比、配向強度βｉ、Δ
βｉを求めるにあたっては、理学電機（株）ＲＩＮＴ２
０００シリーズ応用プログラム、多重ピーク分離を用い
てＰＶＤＣに由来する散乱ピークと基材フィルムに由来
する散乱ピークとをピーク分離した後、下記の同定法に
従うことが好ましい。あるいはまた、ＰＶＤＣ層が基材
フィルムから剥離出来ない場合、アルミ箔等の様に後か
ら剥離することが出来る基材フィルムにＰＶＤＣ−ＬＴ
Ｘをコートし、乾燥し、本発明の処理を行った後、基材
フィルムから剥離して得たＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜
は、同一条件で乾燥、処理を行ったＰＶＤＣ−ＬＴＸコ
ートフィルムと同じ構造を与える。従って、基材フィル
ムの影響による構造同定の煩雑を防ぐため、ＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムの構造パラメータをＰＶＤＣ−Ｌ
ＴＸコート膜を用いて同定しても良い。

【００４０】Ｘ線回折用試料へのＸ線の照射方法及び構
造パラメ−タの算出方法を説明する。ＰＶＤＣ−ＬＴＸ
コートフィルムまたはＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜（以
降、両者をまとめてＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムと
表記する）において、圧延方向（Ｚ方向）を鉛直上方に
セットし、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの法線方向
（Ｘ方向）からＸ線を試料フィルムに照射させ、ＰＶＤ
Ｃ−ＬＴＸコートフィルムと平行に置かれたＩＰ上にそ
の散乱を記録する。

【００４１】なお、測定にあたっては、２θ＝０．５〜
１．２度に現れるピーク１を検出する時は、ＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムとＩＰとの間隔（カメラ半径Ｒ）
をＲ＝４０６ｍｍとし、更に空気からの散乱を抑えるた
めＨｅ置換パスを用いた。この時ＩＰ上に得られるＸ線
回折像が小角Ｘ線回折写真（ＳＡＸＳ）である。一方、
２θ＝１５〜１６度に現れるピーク２及び２θ＝２４〜
２６度に現れるピーク３を検出する時は、Ｒ＝９６．４
ｍｍとし、Ｈｅ置換パスは用いなかった。この時得られ
るＸ線回折像が広角Ｘ線回折写真（ＷＡＸＳ）である。

【００４２】２θ−Ｉプロファイル及びβ−Ｉプロファ
イルの求め方を説明する。ＳＡＸＳ及びＷＡＸＳから各
プロファイルを求めるには、同Ｘ線回折装置システムの
解析プログラムを用いて、散乱角度２θと散乱強度Ｉの
関係を示す２θ−Ｉプロファイルと、各ピークの２θが
作るＩＰ上の円周（デバイシェラー環）上における散乱
強度の分布（配向）を示すβ−Ｉプロファイルを求め
る。以下、具体的に各プロファイル、散乱強度比Ｉ１／
Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２、配向強度βｉ及び配向の広がりΔβ
ｉの算出方法を示す。

【００４３】先ず、２θ−Ｉプロファイル、散乱強度比
Ｉ１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２は、以下の算出方法に従う。図
１、図２、図３、図４は、本発明の実施例１の条件で処
理を行い得られたＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜の夫々、Ｓ
ＡＸＳ、２θ−Ｉ（ＳＡＸＳ）プロファイル、ＷＡＸＳ
及び２θ−Ｉ（ＷＡＸＳ）プロファイルである。２θ＝
０．５〜１．２度のピ−ク１とは、図１において夫々、
ピーク１Ａ、１Ｂ（これらを総称してピーク１と呼ぶ）
を指す。２θ＝１５〜１６度のピーク２、２θ＝２４〜
２６度のピーク３とは、図３において夫々、ピーク２
Ａ、２Ｂ（これらを総称してピーク２と呼ぶ）、ピーク
３Ａ、３Ｂ、３Ｃ、３Ｄ（これらを総称してピーク３と
呼ぶ）を指す。

【００４４】なお、本発明で得られる構造体は、Ｚ方向
を繊維軸方向（結晶中におけるＰＶＤＣ分子鎖方向）と
した１軸配向に近い構造体であり、且つピーク１及びピ
ーク２のＡ、Ｂは同じ結晶面指数を持ち、同様にピーク
３のＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄは同じ結晶面指数を持つものであ
る。従って、これらの同じ結晶面指数を持つピークは、
本質的に同じ２θ、Ｉ、β、Δβを持つ。しかし、Ｘ線
の入射方向が正しくＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの
Ｘ方向と一致していない場合は、ピーク１及びピーク２
では片方だけしか現れなかったり、ピーク３ではＺ軸
（ＩＰ上において、ダイレクトビーム位置を通りＺ方向
に平行な直線）やＹ軸（同様に、Ｙ方向に平行な直線）
に対し、非対称的なＸ線回折像となる。以下の算出方法
では、全てＸ線を正しくＸ方向から入射させた場合であ
って、そうでない場合、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムを再調整しなければならない。ただし、非対称性が小
さい時（同じ結晶面指数を持つピークの２θ、Ｉ、β、
Δβの違いが僅かな時）は、同じ結晶面指数を持つピー
ク全体の平均値を用いても構わない。

【００４５】ピーク１の２θ−Ｉプロファイルとは、Ｓ
ＡＸＳ上で鉛直方向の２θ−Ｉプロファイルのことであ
る（２θ−Ｉ（ＳＡＸＳ）と呼ぶ）。また、ピーク２及
びピーク３の２θ−Ｉプロファイルとは、同システムの
解析処理では２θ−Ｉプロファイル変換のｗｈｏｌｅと
呼ばれる処理であり、ＷＡＸＳの上においてダイレクト
ビームの位置を中心としてＩＰ上の全方向の散乱強度を
積算し、規格化した２θ−Ｉプロファイルのことである
（２θ−Ｉ（ＷＡＸＳ）と呼ぶ）。

【００４６】更に、散乱強度比Ｉ１／Ｉ０とは、２θ−
Ｉ（ＳＡＸＳ）においてピーク１の散乱強度Ｉ１と２θ
＝１０度の散乱強度Ｉ０の散乱強度比Ｉ１／Ｉ０のこと
であり、散乱強度比Ｉ３／Ｉ２とは、２θ−Ｉ（ＷＡＸ
Ｓ）においてピーク３の散乱強度Ｉ３とピーク２の散乱
強度Ｉ２の散乱強度比Ｉ３／Ｉ２のことである。Ｉ１
は、図２に示す様に、２θ−Ｉ（ＳＡＸＳ）において、
ピーク１の両側の裾野に生じる谷間の接線を基線ｏｐと
した時、ピーク１の基線ｏｐからの散乱強度をＩ１とす
る。また、Ｉ２及びＩ３は、以下の方法で求める。図４
に示す様に、２θ−Ｉ（ＷＡＸＳ）において、ピーク２
の両側の裾野、２θ＝１２．０〜１２．５度の散乱強度
の平均値ａと２θ＝１８．５〜１９．０度の散乱強度の
平均値ｂを結ぶ接線を基線ａｂとした時、ピーク２の基
線ａｂからの散乱強度をＩ２とする。同様に、ピーク３
の両側の裾野、２θ＝２１．０〜２１．５度の散乱強度
の平均値ｃと２θ＝２７．５〜２８．０度の散乱強度の
平均値ｄを結ぶ接線を基線ｃｄとした時、ピーク３の基
線ｃｄからの散乱強度をＩ３とする。

【００４７】なお、各ピークについて次の点に注意を要
する。先述したＫ．Ｏｋｕｄａの文献によれば、ＶＤＣ
重量率が１００〜約６０ｗｔ％のＰＶＤＣでは、ＶＤＣ
重量率が１００ｗｔ％のＰＶＤＣ（１００ｗｔ％ＰＶＤ
Ｃ）と同じの単一結晶構造が現れ、この１００ｗｔ％Ｐ
ＶＤＣの結晶構造については Ｔ．Ｔａｋａｈａｇｉ等
の文献によって決定づけられている。従って、これらの
文献に従えば、本発明で得られる構造体の結晶構造は１
００ｗｔ％ＰＶＤＣと同一の結晶構造であるが、共重合
体のＶＤＣ以外の成分の組み合わせによっては、上記し
たピークとは異なる散乱ピークが得られる場合がある。
例えば、実施例１で示す様に、ＶＤＣ９２ｗｔ％、ＭＡ
Ｎ８ｗｔ％の重合組成で重合し得られたＰＶＤＣ−ＬＴ
Ｘを用いて得られた構造体には、水平方向に２θ＝２．
５〜３．５度に散乱ピーク４が出現し、更にこの構造体
を実施例３に示す様に１４０℃で熱処理を行うとこの散
乱ピークは消失する。この様にＴａｋａｈａｇｉ等の結
晶構造だけでは決定づけられない新たな散乱ピークが現
れる場合においても、本発明の構造パラメータを満足し
ている場合は、本発明に含まれる。

【００４８】続いて、β−Ｉプロファイルからのピーク
１の配向の広がりΔβ１及びピーク２の配向の広がりΔ
β２は以下の様に算出する。図５は、図１においてピー
ク１の２θが作るＩＰ上の円周上での散乱強度プロファ
イル（β−Ｉ（ＳＡＸＳ））であり、図６は、図３にお
いてピーク２のデバイシェラー環上での散乱強度プロフ
ァイルβ−Ｉ（ＷＡＸＳ）である。図５に示す様に、β
−Ｉ（ＳＡＸＳ）のβ＝０度（またはβ＝１８０度）に
現れるピーク１の両側の裾野を結ぶ接線を基線ｅｆとし
た時、基線からピーク１の頂点までの高さの１／２の高
さに相当する、基線と平行な基線ｋｋ１とβ−Ｉ（ＳＡ
ＸＳ）との交点におけるβの値Ｂ１、Ｂ２の角度差をピ
ーク１の配向の広がりΔβ１と定義する。即ち、Δβ１
＝｜Ｂ１−Ｂ２｜（｜｜は絶対値を意味する）である。

【００４９】そして、基線の散乱強度に対する、基線か
らピーク１の頂点までの高さに相当する散乱強度のの比
を配向強度β１と定義する。同様に、図６に示す様にβ
−Ｉ（ＷＡＸＳ）のβ＝９０度（またはβ＝２７０度）
に現れるピーク２の両側の裾野を結ぶ接線を基線ｇｈと
した時、基線からピーク２の頂点までの高さの１／２の
高さに相当する基線と平行な基線ｋｋ２とβ−Ｉ（ＷＡ
ＸＳ）との交点におけるβの値Ｂ３、Ｂ４の角度差を各
ピ−クの配向の広がりΔβ２と定義する。即ち、Δβ２
＝｜Ｂ３−Ｂ４｜である。

【００５０】そして、基線の散乱強度に対する、基線か
らピーク２の頂点までの高さに相当する散乱強度のの比
を配向強度β２と定義する。なお、βｉ（ｉ＝１または
２）が０に近づくことは、ピークｉに配向がないこと
（無配向）に近づくことを意味し、その場合、ピークｉ
の両側の裾野に谷間が現れないため、基線が描けなくな
りΔβｉを正しく求めることは困難となる（測定不
可）。無配向、測定不可、そしてピーク１自体が出現し
ない（長周期なし）様な散乱を与えるＰＶＤＣ−ＬＴＸ
コートフィルムは、本発明の構造体ではない。

【００５１】（４）融点測定法、酸素バリア測定法及び
外観検査 次に、本発明の製造法における処理温度を規定するのに
用いるＰＶＤＣ−ＬＴＸの融点の測定法を示す。融点の
測定には、高分子の分解点や結晶化温度、融点を測定す
るのに常用されている熱重量示差熱量計（ＴＧ／ＤＴ
Ａ）を用いた。ＴＧ／ＤＴＡの測定条件は、ＰＶＤＣ−
ＬＴＸまたはＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜１０ｍｇを白金
製サンプルホルダーに詰め、大気雰囲気下、一定速度
（１０℃／分）で室温〜１９０℃まで昇温した時に得ら
れるチャートの吸熱ピークの頂点から求めた。

【００５２】また、本発明によって得られたＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムの性能を示す、酸素バリア測定法
を示す。本発明によって得られたＰＶＤＣ−ＬＴＸコー
トフィルム（基材フィルムはＰＳ）を４０℃に保ったオ
−ブン中で２日間エージングした後、ＯＸＴＲＡＮ−１
００（Ｍｏｒｄｅｒ Ｃｏｎｔｒｏｌ製）を用いて、２
０℃で相対湿度６０％の条件下で酸素透過度を測定し
た。なお、実施例及び比較例に示した測定値は、基材フ
ィルム補正を行うと共に、本発明によって得られたＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸコートフィルム中のＰＶＤＣコート重量を
測定し、ＰＶＤＣコート重量５ｇ（これを厚み３μｍと
換算）あたりの酸素透過度に換算して、ｃｃ／（ｍ２・
ａｔｍ・２４ｈｒ）の単位で表示した。

【００５３】ただし、酸素透過度が５０．０ｃｃ／（ｍ
２・ａｔｍ・２４ｈｒ）を越えた場合は、測定値はｏｖ
ｅｒと表記した。ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム中の
ＰＶＤＣコート重量の測定は、一定寸法に裁断したＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸコートフィルムをテトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）にて良く洗浄してＰＶＤＣ層を溶解除去し、洗浄
前後の重量差から求めた。また、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコー
トフィルムの厚みに関しては、通常の厚み計マイクロメ
ータを用い、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの異なる
５カ所の平均値とした。

【００５４】最後に、外観検査として目視により、ＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの欠陥（亀裂、孔）の発生
の有無及び白色化の程度の変化を見た。なお、白色化
は、処理前後でより白色化した場合を『白色化あり』と
し、変わらない場合を『白色化なし』とした。欠陥の発
生がなく且つ白色化なしの場合を◎、欠陥の発生がなく
且つ白色化ありの場合を○、欠陥の発生がある場合を×
と表記した。

【００５５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を説明す
る。なお、ＰＶＤＣ−ＬＴＸは下記の方法にて重合し
た。ガラスライニングを施した耐圧反応器中に、水９７
０ｇ、アルキルスルホン酸ソーダ（ＡＳＮ）２．０ｇお
よび過硫酸ソーダ４．０ｇを仕込み、脱気した後、内容
物の温度を５５℃に保った。これとは別の容器にＶＤＣ
９２０ｇ、ＭＡＮ８０ｇを計量混合してモノマー混合物
を作成した。前記耐圧反応器中にモノマー混合物のうち
７０ｇを一括添加し、撹拌下反応器の内圧が降下するま
で重合した。続いて、単量体混合物残り９３０ｇを１８
時間にわたって連続的に定量添加した。並行して、ＡＳ
Ｎ６．０ｇも１０時間にわたって連続的に定量添加し
た。この間内容物を５５℃に保ち、内圧が十分に降下す
るまで反応を進行させた。重合収率は９９．９％であっ
た。重合収率はほぼ１００％なので、得られたＰＶＤＣ
−ＬＴＸの組成は仕込比にほぼ等しい。

【００５６】この後、水蒸気ストリッピングによって未
反応モノマーを除去し、セルロース系半透膜を用いて透
析処理を施した。この様にして出来たＰＶＤＣ−ＬＴＸ
は、ゲルクロマトグラフィー測定による分子量測定（Ｐ
Ｓ換算）で数平均分子量２１０００、重量平均分子量６
４０００の値を持ち、更に動的光散乱測定による粒径測
定では粒径１２０ｎｍの値を持ち、ＴＧ／ＤＴＡによる
融点及び分解温度測定では融点１５５℃、分解温度１７
５℃以上の値を持った。

【００５７】以下の実施例５を除く実施例及び比較例で
は、この様に重合して得られたＰＶＤＣ−ＬＴＸを用い
た。

【００５８】

【実施例１】上記ＰＶＤＣ−ＬＴＸを用いてアルミ箔及
び厚さ５３μｍのＰＳフィルム上にコートし、恒温恒湿
機内３０℃、８５ＲＨ％で乾燥して、乾燥後のＰＶＤＣ
層の厚みＨがＨ＝１４μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜
及びＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを作製した。これ
らを１４０℃、２０分間熱風乾燥機内にて処理１を行っ
た。続いて、１４０℃に温度制御された手動式加熱圧延
機（日東反応機（株）製）を用いて、圧延速度０．１ｍ
／分でＬ＝４．５になるまで１方向に圧延した。

【００５９】得られたＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜及びＰ
ＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムから剥がしたＰＶＤＣ層
は同じＳＡＸＳ、ＷＡＸＳを与えた。ＰＶＤＣ−ＬＴＸ
コートフィルムのＳＡＸＳ、ＷＡＸＳ、２θ−Ｉ（ＳＡ
ＸＳ）、２θ−Ｉ（ＷＡＸＳ）、β−Ｉ（ＳＡＸＳ）及
びβ−Ｉ（ＷＡＸＳ）を夫々、図１、図３、図２、図
４、図５、図６に示す。

【００６０】これらから算出されるＩ１／Ｉ０、Ｉ３／
Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δβ２は以下の値を持っ
た。Ｉ１／Ｉ０＝３．５、Ｉ３／Ｉ２＝１．３、β１＝
０．５、Δβ１＝５２度、β２＝０．８３、Δβ２＝２
１度。従って、得られたＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜及び
ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムは本発明の構造体であ
る。

【００６１】また、このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムの酸素透過度は２．２ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ
ｒ）であった。この様に、乾燥、処理１及び処理２が同
一条件ならば、出来たＰＶＤＣ−ＬＴＸコート膜とＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸコートフィルムとは同じ構造を与える。

【００６２】

【比較例１】実施例１と同様にコート、乾燥して、Ｈ＝
４μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを作製した。
この構造体のＩ１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ
１、β２、Δβ２は以下の値を持った。Ｉ１／Ｉ０＝
０．０（ほとんど長周期は観察されない）、Ｉ３／Ｉ２
＝０．４、β１＝無配向、Δβ１＝測定不可、β２＝無
配向、Δβ２＝測定不可。従って、得られたＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムは本発明の構造体ではない。

【００６３】また、このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムの酸素透過度は５．６ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ
ｒ）であった。更に、このＨ＝４μｍのＰＶＤＣ−ＬＴ
Ｘコートフィルムを１４０℃、２０分間熱風乾燥機内に
て処理１のみを行った。このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフ
ィルムのＳＡＸＳ、ＷＡＸＳ、２θ−Ｉ（ＳＡＸＳ）、
２θ−Ｉ（ＷＡＸＳ）、β−Ｉ（ＳＡＸＳ）及びβ−Ｉ
（ＷＡＸＳ）を夫々、図７、図８、図９、図１０、図１
１、図１２に示す。

【００６４】これらから算出されるＩ１／Ｉ０、Ｉ３／
Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δβ２は以下の値を持っ
た。Ｉ１／Ｉ０＝０．６、Ｉ３／Ｉ２＝０．３、β１＝
無配向、Δβ１＝測定不可、β２＝無配向、Δβ２＝測
定不可。従って、得られたＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィ
ルムは本発明の構造体ではない。また、このＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムの酸素透過度は４．０ｃｃ／（ｍ
２・ａｔｍ・２４ｈｒ）であった。

【００６５】この様に乾燥しただけのＰＶＤＣ−ＬＴＸ
コートフィルムやそれらを単に加熱処理したＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムでは、ＰＶＤＣ層のＰＶＤＣ分子
やＰＶＤＣ結晶に配向は生じないため、酸素バリア性も
良くはならない。

【００６６】

【実施例２】実施例１と同様にコート、乾燥して、Ｈ＝
９μｍとＨ＝２２μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムを作製し、圧延倍率Ｌを除き、実施例１と同一条件で
処理１及び処理２を行って、夫々Ｌ＝３．０（Ｈ＝９μ
ｍの場合）及びＬ＝７．３（Ｈ＝２２μｍの場合）のＰ
ＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを作製した。

【００６７】これらのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
のＩ１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δ
β２は以下の値を持った。Ｌ＝３．０の構造体では、Ｉ
１／Ｉ０＝３．２、Ｉ３／Ｉ２＝１．０、β１＝０．４
２、Δβ１＝４９度、β２＝０．５４、Δβ２＝３９
度。Ｌ＝７．３の構造体では、Ｉ１／Ｉ０＝３．１、Ｉ
３／Ｉ２＝１．３、β１＝０．３２、Δβ１＝６０度、
β２＝０．６、Δβ２＝３５度。従って、得られたＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸコートフィルムは本発明の構造体である。

【００６８】また、各ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
の酸素透過度は夫々Ｌ＝３．０の構造体では２．５ｃｃ
／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈｒ）、Ｌ＝７．３の構造体で
は２．４ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈｒであった。

【００６９】

【比較例２】実施例１と同様にコート、乾燥して、Ｈ＝
７μｍとＨ＝４１μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムを作製し、圧延倍率Ｌを除き、実施例１と同一条件で
処理１及び処理２を行って、夫々Ｌ＝２．３（Ｈ＝７μ
ｍの場合）及びＬ＝１４（Ｈ＝４１μｍの場合）のＰＶ
ＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを作製した。

【００７０】これらのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
のＩ１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δ
β２は以下の値を持った。Ｌ＝２．３の構造体では、Ｉ
１／Ｉ０＝２．５、Ｉ３／Ｉ２＝０．８、β１＝０．２
９、Δβ１＝５７度、β２＝０．３６、Δβ２＝４９
度。Ｌ＝１４の構造体では、Ｉ１／Ｉ０＝２．４、Ｉ３
／Ｉ２＝１．５、β１＝０．０９、Δβ１＝測定不可、
β２＝０．３０、Δβ２＝４４度。従って、得られたＰ
ＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムは本発明の構造体ではな
い。

【００７１】また、各ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
の酸素透過度は夫々Ｌ＝２．３の構造体では３．４ｃｃ
／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈｒ）、Ｌ＝７．３の構造体で
は酸素透過度が５０．０ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ
ｒ）を越え、ｏｖｅｒとなった。この様に、実施例２と
比較例２からＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのＰＶＤ
Ｃ層のＰＶＤＣ分子やＰＶＤＣ結晶を配向させるには、
処理１に引き続いて行う処理２の圧延倍率に圧延温度で
決まる最適圧延倍率が存在し、圧延温度１４０℃ではＬ
＝３．０〜７．３が好ましいことがわかる。

【００７２】

【比較例３】実施例１と同様にコート、乾燥してＨ＝１
２μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを作製し、そ
の後処理１の熱処理を行わず、直接１４０℃で圧延機上
で５分間以上熱処理されることがないようにしてＬ＝
３．０で圧延を行ったＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
では、ＰＶＤＣ層に欠陥（亀裂）が入り、正常な圧延が
出来なかった。また、実施例１と同様にコート、乾燥し
てＨ＝７μｍ、Ｈ＝１１μｍ、Ｈ＝１９μｍのＰＶＤＣ
−ＬＴＸコートフィルムを作製し、１４０℃、２０分間
熱風乾燥機内にて処理１を行った後、圧延温度を４０
℃、圧延倍率Ｌ＝２．２（Ｈ＝７μｍの場合）、Ｌ＝
３．７（Ｈ＝１１μｍの場合）、Ｌ＝６．４（Ｈ＝１９
μｍの場合）で圧延を行なってＰＶＤＣ−ＬＴＸコート
フィルムを作製した。

【００７３】これらのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
のＩ１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δ
β２は以下の値を持った。Ｌ＝２．２の構造体では、Ｉ
１／Ｉ０＝長周期なし、Ｉ３／Ｉ２＝０．８、β１＝測
定不可、Δβ１＝測定不可、β２＝０．２０、Δβ２＝
５５度。Ｌ＝３．７の構造体では、Ｉ１／Ｉ０＝長周期
なし、Ｉ３／Ｉ２＝１．０、β１＝測定不可、Δβ１＝
測定不可、β２＝０．３８、Δβ２＝４６度。Ｌ＝６．
４の構造体では、Ｉ１／Ｉ０＝長周期なし、Ｉ３／Ｉ２
＝０．６、β１＝測定不可、Δβ１＝測定不可、β２＝
０．２０、Δβ２＝６１度。従って、得られたＰＶＤＣ
−ＬＴＸコートフィルムは全て本発明の構造体ではな
い。

【００７４】また、各ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
の酸素透過度は、夫々Ｌ＝２．２の構造体では４．１ｃ
ｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈｒ）、Ｌ＝３．７の構造体
では３．９ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈｒ）、Ｌ＝
６．４の構造体では酸素透過度が５０．０ｃｃ／（ｍ２
・ａｔｍ・２４ｈｒ）を越え、ｏｖｅｒとなった。この
様に実施例１及び実施例２と比較例３から、低温で圧延
を行なったのではピーク１は得られなく、また圧延時に
欠陥も生じやすいことがわかる。

【００７５】

【実施例３】実施例１の構造体を２枚のステンレス板に
挟み、バネクリップで周囲を挟み、１４０℃に制御した
オーブン中にて６０分間緊張熱処理した構造体のＩ１／
Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δβ２は以
下の値を持った。Ｉ１／Ｉ０＝２８．３、Ｉ３／Ｉ２＝
１．６、β１＝５．７８、Δβ１＝３３度、β２＝１．
３１、Δβ２＝１７度。従って、得られたＰＶＤＣ−Ｌ
ＴＸコートフィルムは本発明の構造体である。

【００７６】また、このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムの酸素透過度は１．７ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ
ｒ）であった。

【００７７】

【比較例４】実施例１の構造体を１４０℃に制御したオ
ーブン中にて６０分間自由端熱処理した構造体のＩ１／
Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δβ２は以
下の値を持った。Ｉ１／Ｉ０＝２６．４、Ｉ３／Ｉ２＝
１．１、β１＝３．１８、Δβ１＝４４度、β２＝０．
３１、Δβ２＝４８度。従って、得られたＰＶＤＣ−Ｌ
ＴＸコートフィルムは本発明の構造体ではない。

【００７８】また、このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムの酸素透過度は２．８ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ
ｒ）であった。この様に実施例１及び実施例３と比較例
４から、処理２を行った後、緊張熱処理することで更に
より配向の良い構造体が得られること、更に自由端熱処
理では処理温度、処理時間によっては、逆に配向が悪く
なることがわかる。

【００７９】

【比較例５】実施例１と同様にコート、乾燥してＨ＝１
２μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを作製し、１
４０℃、２０分間熱風乾燥機内にて処理１のみを行っ
た。その後、島津製作所製引張試験機ＡＧＳ−５００Ｇ
を用いて延伸速度０．０５ｍ／分で、次式（２）で定義
される延伸倍率ＬＬと延伸温度で１軸延伸を行い、ＬＬ
＝３．０（１３５℃）、ＬＬ＝７．０（１４０℃）、Ｌ
Ｌ＝７．０（１８０℃）のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィ
ルムを作製した。

【００８０】ＬＬ＝Ｓ／Ｓ０ ・・・・（２） （ここで、Ｓ０：１軸延伸前のＰＶＤＣ−ＬＴＸコ−ト
フィルムの長さ、Ｓ：１軸延伸後のＰＶＤＣ−ＬＴＸコ
−トフィルムの長さである。） ＬＬ＝３．０（１３５℃）では、延伸途中でフィルムが
破断し、ＬＬ＝７．０（１４０℃）ではＰＶＤＣ層がＰ
Ｓ基材フィルムから鱗片状に剥離した。また、ＬＬ＝
７．０（１８０℃）ではＰＶＤＣ層は剥離することな
く、均一に延伸することが出来た。ＬＬ＝７．０（１８
０℃）の構造体のＩ１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δ
β１、β２、Δβ２は以下の値を持った。Ｉ１／Ｉ０＝
長周期なし、Ｉ３／Ｉ２＝０．５、β１＝測定不可、Δ
β１＝測定不可、β２＝無配向、Δβ２＝測定不可。従
って、得られたＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムは本発
明の構造体ではない。

【００８１】また、このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムの酸素透過度は４．０ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ
ｒ）であった。この様に、延伸法では、たとえ処理１を
行っても、ＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのＰＶＤＣ
層が均一に延伸出来ないか、あるいは見かけ上延伸が出
来たとしても、ＰＶＤＣ層には延伸がほとんどかから
ず、ＰＶＤＣ層のＰＶＤＣ分子やＰＶＤＣ結晶は配向し
ないことがわかる。

【００８２】

【実施例４】実施例１と同じＰＶＤＣ−ＬＴＸを厚さ５
０μｍのＰＰ、Ｎｙ６、ＰＥＴフィルム上にコートし、
恒温恒湿機内３０℃、８５ＲＨ％で乾燥して、乾燥後の
ＰＶＤＣ層の厚みＨがＨ＝１４μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸ
コートフィルムを作製した。これらを実施例１と同一条
件で処理１及び処理２を行い、Ｌ＝４．５のＰＶＤＣ−
ＬＴＸコートフィルムを作製した。

【００８３】これらのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルム
のＩ１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δ
β２は基材によらず同じ値を持った。Ｉ１／Ｉ０＝３．
５、Ｉ３／Ｉ２＝１．３、β１＝０．５、Δβ１＝５２
度、β２＝０．８３、Δβ２＝２１度。従って、得られ
たＰＶＤＣ−ＬＴＸコ−トフィルムは本発明の構造体で
ある。

【００８４】また、このＰＶＤＣ−ＬＴＸコ−トフィル
ムの酸素透過度は２．２ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈ
ｒ）であった。この様に本発明は基材フィルムの種類に
よらない、汎用性を持った技術であることがわかる。

【００８５】

【実施例５】組成として、ＶＤＣ９１．０ｇ、ＭＡ９．
０ｇを除き、実施例１〜実施例４で用いたＰＶＤＣ−Ｌ
ＴＸと同様な重合法でＰＶＤＣ−ＬＴＸを作製した。こ
の様にして出来たＰＶＤＣ−ＬＴＸは、数平均分子量２
００００、重量平均分子量５６０００、粒径１０３ｎ
ｍ、融点約１４０℃、分解温度１５０℃以上であった。
このＰＶＤＣ−ＬＴＸを厚さ５３μｍのＰＳフィルム上
にコートし、恒温恒湿機内３０℃、８５ＲＨ％で乾燥し
て、Ｈ＝９μｍのＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムを作
製した。これを１３５℃、２０分間熱風乾燥機内にて処
理１を行った。続いて、１３５℃に温度制御された手動
式加熱圧延機を用いて、圧延速度０．１ｍ／分でＬ＝
３．０になるまで１方向に圧延した。

【００８６】このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムのＩ
１／Ｉ０、Ｉ３／Ｉ２及びβ１、Δβ１、β２、Δβ２
は以下の値を持った。Ｉ１／Ｉ０＝３．２、Ｉ３／Ｉ２
＝２．８、β１＝０．４３、Δβ１＝４８度、β２＝
０．５５、Δβ２＝２４度。従って、得られたＰＶＤＣ
−ＬＴＸコートフィルムは本発明の構造体である。ま
た、このＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィルムの酸素透過度
は、乾燥しただけの構造体では１１．２ｃｃ／（ｍ２・
ａｔｍ・２４ｈｒ）、処理１のみを行った構造体では
９．６ｃｃ／（ｍ２・ａｔｍ・２４ｈｒ）、そして、本
発明の処理を行った構造体では４．５ｃｃ／（ｍ２・ａ
ｔｍ・２４ｈｒ）であった。

【００８７】この様に本発明は重合組成によらない、汎
用性を持った技術であることがわかる。以上の実施例１
〜５及び比較例１〜５の散乱強度比Ｉ１／Ｉ０、Ｉ３／
Ｉ２、配向強度β１、β２、配向の広がりΔβ１、Δβ
２、酸素透過度、外観検査の結果、処理前後のＰＶＤＣ
−ＬＴＸコートフィルムのＰＶＤＣ層の厚みを、表にま
とめて示す。

【００８８】

【表１】

【００８９】

【表２】

【００９０】

【表３】

【００９１】

【表４】

【００９２】

【発明の効果】本発明のＰＶＤＣ−ＬＴＸコートフィル
ムは、従来のものに比し、きわめてガスバリア性に優れ
たものであり、種々の包装材料として有用である。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１に示した圧延倍率Ｌ＝４．５の構造体
のＳＡＸＳである。

【図２】実施例１に示した圧延倍率Ｌ＝４．５の構造体
のＳＡＸＳの鉛直方向から求めた２θ−Ｉ（ＳＡＸＳ）
である。

【図３】実施例１に示した圧延倍率Ｌ＝４．５の構造体
のＷＡＸＳである。

【図４】実施例１に示した圧延倍率Ｌ＝４．５の構造体
のＷＡＸＳの鉛直方向から求めた２θ−Ｉ（ＷＡＸＳ）
である。

【図５】実施例１に示した圧延倍率Ｌ＝４．５の構造体
のＳＡＸＳのピ−ク１の円周上のβ−Ｉ（ＳＡＸＳ）で
ある。

【図６】実施例１に示した圧延倍率Ｌ＝４．５の構造体
のＷＡＸＳのピ−ク２の円周上のβ−Ｉ（ＷＡＸＳ）で
ある。

【図７】比較例１に示した処理１のみを行った構造体の
ＳＡＸＳである。

【図８】比較例１に示した処理１のみを行った構造体の
ＳＡＸＳの鉛直方向から求めた２θ−Ｉ（ＳＡＸＳ）で
ある。

【図９】比較例１に示した処理１のみを行った構造体の
ＷＡＸＳである。

【図１０】比較例１に示した処理１のみを行った構造体
のＷＡＸＳの鉛直方向から求めた２θ−Ｉ（ＷＡＸＳ）
である。

【図１１】比較例１に示した処理１のみを行った構造体
のＳＡＸＳのピ−ク１の円周上のβ−Ｉ（ＳＡＸＳ）で
ある。

【図１２】比較例１に示した処理１のみを行った構造体
のＷＡＸＳのピ−ク２の円周上のβ−Ｉ（ＷＡＸＳ）で
ある。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 塩化ビニリデン共重合体中の塩化ビニリ
   デン重量率が１００〜６０重量％の塩化ビニリデン共重
   合体ラテックスを用いて、以下に示す構造パラメータを
   満たし、且つ厚さが８μ未満の塩化ビニリデン共重合体
   ラテックスのコート層を有するフィルム。 ［構造パラメータ］Ｘ線回折法において、入射Ｘ線とし
   てＣｕＫα線（波長０．１５４２ｎｍ）を用いて塩化ビ
   ニリデン共重合体ラテックスのコート層を有するフィル
   ムの面の法線方向（Ｘ方向）から照射した時、該フィル
   ムと平行に置かれたＸ線回折平面写真上において、塩化
   ビニリデン共重合体に由来する各散乱ピークが次の構造
   パラメータ１〜３の特徴を持つこと。 構造パラメータ１：散乱角２θ＝０．５〜１．２度（ピ
   ーク１）、２θ＝１５〜１６度（ピーク２）及び２θ＝
   ２４〜２６度（ピーク３）の全てに塩化ビニリデン共重
   合体に由来する散乱ピークを持つこと。 構造パラメータ２：ピーク１の散乱強度Ｉ１と２θ＝１
   ０度の散乱強度Ｉ０の散乱強度比Ｉ１／Ｉ０が３．０以
   上であり、且つピーク３の散乱強度Ｉ３とピーク２の散
   乱強度Ｉ２の散乱強度比Ｉ３／Ｉ２が１．０以上である
   こと。 構造パラメータ３：Ｘ線回折平面写真上において塩化ビ
   ニリデン共重合体に由来する各散乱ピークの現れる方向
   （配向β、βは圧延方向と平行な方向を０度として測っ
   た角度）及び配向の広がりΔβｉ（但し、ｉは各散乱ピ
   ークの番号を意味する。即ちｉ＝１または２である）
   が、ピーク１では塩化ビニリデン共重合体ラテックスコ
   ートフィルムの圧延方向（Ｚ方向、β＝０度または１８
   ０度の方向）を中心にしてΔβ１＝０〜６０度に、配向
   強度β１として０．３以上の散乱ピークを有し、ピーク
   ２ではＺ方向及びＸ方向の両者に垂直な方向（Ｙ方向、
   β＝９０度または２７０度の方向）を中心にしてΔβ２
   ＝０〜４０度に、配向強度β２として０．３以上の散乱
   ピークを有し、ピーク３ではＺ方向と３８度なす方向
   （β＝３８度または１４２度または２１８度または３２
   ２度の方向）を中心に散乱ピークを有すること。
2. 【請求項２】 塩化ビニリデン共重合体中の塩化ビニリ
   デン重量率が１００〜６０重量％の塩化ビニリデン共重
   合体ラテックスを基材フィルムにコートした後、以下の
   処理１及び処理２を順次行うことを特徴とする、請求項
   １記載のフィルムの製造法。 処理１：塩化ビニリデン共重合体ラテックスをコートす
   ると同時にまたはコート乾燥後から、熱処理温度＝塩化
   ビニリデン共重合体ラテックスの融点以下３０℃〜融点
   以上３０℃の温度で、熱処理時間＝０．０１秒〜６０分
   間の時間で、塩化ビニリデン共重合体ラテックスをコー
   トした基材フィルムに行う熱処理。 処理２：処理１を行うと同時にまたは後から、圧延温度
   ＝塩化ビニリデン共重合体ラテックスの融点以下３０℃
   〜融点以上３０℃の温度で、圧延速度＝０．０１ｍ／分
   〜６００ｍ／分で、圧延倍率Ｌ＝３．０〜７．３で、塩
   化ビニリデン共重合体ラテックスをコートした基材フィ
   ルムに行う圧延処理。
3. 【請求項３】 基材フィルムが、ポリスチレン、ポリエ
   チレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリアミドで
   ある請求項２記載の製造法。