JPH1116874A - 遠心乾燥装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体の表面に設けられたトレンチ等の水切
れが悪いこと、また、回転摺動部からパーテクルが発生
しやすいこと及び高速回転にともなう振動によってウエ
ハが破損しやすいこと等の問題がある。 【解決手段】 上記課題を解決するために、本発明はワ
ーク装填機構を含むターンテーブル１２が気体軸受１３
によって回転駆動体に軸支されている遠心乾燥装置１０
を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は遠心乾燥装置、詳し
くは洗浄後のシリコンウエハやガリウム砒素ウエハ等基
板の表面に付着している水分を遠心力により飛散させ、
乾燥させる遠心乾燥装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造プロセス等において、ウエッ
ト洗浄プロセスはそのワーク体であるウエハ表面の清浄
化を実現するために必要不可欠の工程であり、半導体製
造工程中では多数回繰り返される重要なプロセスであ
る。ところで、このようなウエット洗浄プロセス後には
次工程に移るまえにそのウエハを乾燥させなければなら
ず、その乾燥方法としては遠心乾燥装置が従来から用い
られている。遠心乾燥装置は公転式のものと自転式のも
のとに区別され、また自転式のものはバッチ処理タイプ
と枚葉処理タイプのものに分けられる。

【０００３】遠心乾燥装置の公転式のものを図に示すと
図１２のようなものである。図１２のものは回転体を収
納するケース１２１の中に回転テーブル１２２が配置さ
れており、その回転テーブル１２２はその回転テーブル
下方のスピンドル１２３に設けられたプーリー１２４に
より回転駆動体１２５からベルト１２６で動力が伝達さ
れて１０００〜３０００ｒｐｍの高速回転により回転す
るようになっている。そして、この回転テーブル１２２
にはクレードル１２７と呼ばれるものが設けられてお
り、このクレードル１２７に乾燥させようとするウエハ
を複数枚収納して回転させることにより、ウエハ上に付
着している水を振り切るようにしている。このような方
法はスループットが高く、かつ安全性にすぐれ、装置価
格も比較的安く、ランニングコストが低いなどの利点を
備えており、従来から多用されるものであった。

【０００４】この装置の構成をさらに詳しく説明すると
図１３のようになる。即ち乾燥させようとするとウエハ
１３０を多数枚収納したウエハカセット１３１をターン
テーブル１２２中のクレードル１２７を持ち上げ、そこ
に載置し、ターンテーブル１２２中で寝かせ、回転体を
収納しているボックス１２１の蓋を閉めて回転させ、高
速回転によりウエハ１３０の付着水を振り切っている。
この際、ウエハの付着水が効率的に振り切られるように
ウエハカセット１３１が挿入されたクレードル１２７は
約９０度回転して、回転平面と平行にウエハ１３０が収
納されるようになっている。

【０００５】この駆動機構は図１３に示すように一般的
には駆動用モータ１２５とその駆動用モータ１２５から
ベルト１２６を渡されたターンテーブル１２２に連なる
プーリー１２４及びこのプーリー１２４からターンテー
ブル１２２に回転力を伝えるスピンドル１２３からなっ
ている。ターンテーブル１２２は遠心回転により大きな
力が加わるためその力を吸収するようにターンテーブル
１２２とスピンドル１２３との接続部分とが弾性的に軸
支されるようになっている。なぜなら１０００〜３００
０ｒｐｍの高速で回すためこの部分が剛性に軸支されて
いればスピンドル１２３に大きな力が加わって機械的強
度の点から不利だからである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】以上のように従来の遠
心乾燥装置においては、スループットも高く安全性にす
ぐれ、装置価格も比較的安く、ランニングコストも低い
など利点を備えているが、半導体の表面に設けられたト
レンチ等の水切れが悪いこと、また、回転摺動部からパ
ーテクルが発生しやすいこと及び高速回転にともなう振
動によってウエハが破損しやすいこと等の問題が指摘さ
れている。

【０００７】これを具体的に示すと、図１４のようにな
る。即ちこの種の遠心乾燥装置での問題は例えば、遠心
乾燥装置のターンテーブル１２２中に配置されるクレー
ドル１２７のウエハ１３０の収納枚数に偏りがある場合
に、このターンテーブル１２２全体と見ては重量が不釣
り合いとなるため、重心が必ずしもターンテーブル１２
２の中心点と一致せずターンテーブル１２２を回転させ
ることによって重心のずれによってターンテーブル１２
２自体が振動するという問題が生じる。ターンテーブル
１２２自体が振動すれば、特にプーリ１２４によって軸
支されている部分等からパーテクルが発生しやすくな
り、また、振動が激しい場合には、高速回転であるので
ウエハ１３０が破損することとなる。特に化合物半導体
のように極めて脆い材料を使用している場合には、この
ような振動は極めて問題となり、重量を調整すためにバ
ランサーを設けたり、またはダミーのウエハを入れる等
して調整している。

【０００８】しかしながら、例えば特開平７−１１５０
８２に開示されているようなバランサーを設けるのは装
置的に複雑であり、また、高価となるとともにウエハの
収納枚数がバランサー占有分減るので好ましくない。ま
た、ダミーのウエハを入れるのはその分手間が掛かって
妥当でない。そこで本発明においては、化合物半導体の
ような脆い材料を遠心乾燥する場合にクレードル中のウ
エハの収納が不釣り合いであっても大きな振動を生ぜず
安定して回転し、摺動部からのパーテクルの発生やウエ
ハの破損を防止することができる遠心乾燥装置を提供す
ることを目的としている。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明はワーク装填機構を含むターンテーブルが気
体軸受によって回転駆動体に軸支されている遠心乾燥装
置を提供する。また、前記気体軸受は、ステップ動圧ス
ラスト軸受である遠心乾燥装置を提供する。また、前記
気体軸受は、スパイラルグルーブ動圧スラスト軸受であ
る遠心乾燥装置を提供する。また、ワーク装填機構を含
むターンテーブルが、回転駆動体に磁石軸受によって軸
支されている遠心乾燥装置を提供する。また、ワーク装
填機構を含むターンテーブルが、磁石軸受によって軸支
されている遠心乾燥装置であってこの磁石軸受が気体軸
受によって軸支されている遠心乾燥装置を提供する。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
を参照しながら説明する。請求項１記載の発明は前述の
ようにワーク装填機構を含むターンテーブルが気体軸受
けによって回転駆動体に軸支されている遠心乾燥装置で
ある。具体的には図１に示すようなものであり、クレー
ドル１１を含むターンテーブル１２は気体軸受け１３に
よって回転駆動機構に軸支されており、クレードル１１
に装填されるウエハが不釣り合いである場合であっても
気体軸受け１３によって軸支されているため大きな振動
が発生することはない。これを更に具体的に示すと図２
のようなものになる。

【００１１】図２はこのような遠心乾燥装置のうちの気
体軸受１３部分を拡大して示すものである。ターンテー
ブル１２は横から見てＴ字状の茸型のターンテーブル浮
上面２２上に載置され、このターンテーブル浮上面２２
はスラスト気体軸受２３とラジアル気体軸受２４によっ
て軸支されている。この気体スラスト軸受２３及びラジ
アル気体軸受２４はモータに直結されているか又は図に
示すようにモータ２６から駆動ベルト２７を通じて動力
が伝達されるようになっており、この気体軸受１３が高
速回転することによってターンテーブル浮上面２２、ひ
いてはターンテーブル１２が軸受けと物理的に接触する
ことなく高速回転することになる。スラスト気体軸受部
２３には多数の細かい穴が形成されており、この穴から
高圧気体２８（図中矢印）が上方に向かって吹き出すよ
うになっており、この高圧気体２８によってターンテー
ブル浮上面２２が上方に持ち上げられるようになってい
る。

【００１２】また、ラジアル気体軸受２４の部分には、
やはり側面に同様に多数の穴が形成されており、この穴
からターンテーブル浮上面２２の軸に向かって高圧気体
２８が吹き付けられ、ターンテーブル浮上面２２の軸は
気体軸受１３の中心部に配置されるようになっている。
なお、高圧エア２８はこの気体軸受の下方から高圧エア
供給体によって供給されるようになっている。また、タ
ーンテーブル浮上面２２はスラスト気体軸受２３と対向
面に溝が形成されており、スラスト気体軸受２３が高速
回転することによりこの溝が抵抗となってターンテーブ
ル浮上面２２が回転し、ひいてはターンテーブル１２が
回転して、ターンテーブル１２中に配置されるクレード
ルのウエハの遠心乾燥が行なわれるようになっている。
なお、この溝は各種の形状のものが考えられる。

【００１３】更に、これを断面図で示したのが図３であ
る。図３に示すように気体軸受１３はスラスト気体軸受
面２３とラジアル気体軸受面２４とからなっており、い
ずれの軸受面にも多数の穴が形成されてあってこの部分
から高圧エア２８（図中矢印）が噴出し、ターンテーブ
ル浮上面２２が空中に持ち上げられるとともに軸３１が
気体軸受１３にぶつからないようにされ、回転するよう
になっている。この気体軸受１３は下方でモータから伝
達ベルト２７を通して力を受けるようになっており、こ
の気体軸受１３の全体が高速で回転するようになってい
る。

【００１４】また、この気体軸受１３に供給される高圧
気体２８は図に示すように下方から高圧で流入するよう
になっていて、その圧力は気体軸受１３の上方に載置さ
れるターンテーブル浮上面２２を含むターンテーブル全
体の重量や、また、気体軸受１３のスラスト気体軸受面
２３の面積によっても変わるが、凡その圧力としては５
ｋｇ／ｃｍ2 〜３０ｋｇ／ｃｍ2 がよい。また、この時
の回転数は従来の遠心乾燥装置と同様な回転数でよく、
１０００回転〜３０００ｒｐｍ程度のものを実現するこ
とができる。なお、気体軸受１３の回転によってターン
テーブル浮上面２２を介し、ターンテーブルが回転され
るわけであるが、これは前述のように、ターンテーブル
浮上面２２に形成されている溝が抵抗となって動力が伝
達されるものである。従って、この溝の深さや形状、溝
の数等によってその抵抗値を最適値に設計することがで
きる。

【００１５】図４にはこの発明の作用を従来のものと比
較して示した。図４ａは従来のターンテーブル１２２の
振動の様子を、図４ｂは本発明に掛かるターンテーブル
浮上面２２の振動の様子を表したものである。図中 〜
は一定の時間の変化を示すものである。従来のものに
あっては、最初平衡状態にあったターンテーブル１２２
が次々に振動を繰り返していくが、本発明に掛かる気体
軸受を用いた場合には図４ｂに示すように同じ時間でも
その振動は緩やかであって、ターンテーブル浮上面２２
全体の物理的な重心の位置が偏ることによって生じる振
動をよく吸収することがわかる。また、ターンテーブル
の物理的な重心軸が図５ａに示す状態からずれた場合に
は、図５ｂに示すようにそのずれた状態でターンテーブ
ル浮上面２２の全体を回転させることが可能であるた
め、必ずしも大きな振動を生じることなく回転させるよ
うなことも可能である。

【００１６】このようにターンテーブルが気体軸受によ
って回転駆動体に軸支されている場合には、物理的なタ
ーンテーブルの重心軸がずれることがあってもその振動
を充分に吸収し、また、場合によっては軸受側の中心線
からずれた部分で回転をすることも可能であるため、高
速回転でウエハが破損するというような問題を少なくす
ることができる。また、気体軸受を用いる場合には物理
的な摺動部がないため回転摺動部からパーテクルが発生
するというような問題も回避することができる。従っ
て、このような装置は半導体製造工程の中でウエット洗
浄工程後のウエハ表面の乾燥するのに適しているほか、
ウエハを高速回転するようなもの、例えばウエハに対し
て各種の液体状のものを塗布するような場合にも適用す
ることができ、また、家庭で用いられる洗濯機の脱水機
のようなものにも応用が可能な構成である。

【００１７】なお、この気体軸受によって回転させられ
るターンテーブルの作動は、気体軸受の形状のみならず
その圧力によって種々変更が可能であることは言うまで
もない。具体的には圧力を高くすれば高くするほど気体
バネ定数が小さくなって物理的に軸支されたものと同様
の作動を示すようになる。一方、気体の圧力を小さくす
ればターンテーブルの重心軸のずれによる振動を吸収す
る能力が大きくなるが、余りにも気体圧力を小さくしす
ぎれば気体軸受とターンテーブル浮上面とが接触する問
題が生じて妥当でない。

【００１８】次に請求項２記載の発明について説明す
る。請求項２記載の発明は前記気体軸受が、ステップ動
圧スラスト軸受けである請求項１記載の遠心乾燥装置で
ある。スラスト軸受け部がステップ軸受けになっている
と構造が簡単であり、加工が容易で、安定性の高い軸受
けを実現することができ、中小型の高速回転機に適して
いる。このステップ軸受けとしては図６（ａ）に示すよ
うな階段状にステップが形成されているステップ軸受け
６１のほか、テーパランド（ｂ）が設けられているもの
や傾斜平面（ｂ）を用いているものも使うことが可能で
ある。ここで同図６２はターンテーブル浮上面であり、
６３はスラスト軸受けである。

【００１９】また、請求項３記載の発明は図７ａ、ｂに
示すようなものであって、前記気体軸受けがスパイラル
グルーブ動圧気体軸受７１である請求項１記載の遠心乾
燥装置である。このスラスト軸受け部がスパイラルグル
ーブ状になっている場合にはステップ軸受けと同様に構
造が簡単であって、工作が容易であり、且つ負荷能力を
高くすることができる。但し安定性がやや低いという問
題点がある。このようなスパイラルグルーブ軸受けとし
てはスパイラル溝内側吸い込みのものや、ヘリングボー
ン形状のものもその変形例として可能である。ここで同
図７２はターンテーブル浮上面であり、７３はスラスト
軸受けである。また、ラジアル軸受けとしては図８
（ａ）のようなヘリングボーン型や同図（ｂ）のような
変形ヘリングボーン型の軸受けを用いればよい。

【００２０】なお、本請求項にはクレームしなかったが
ピボット支持のようなもの、例えばティルテングパッド
を用いたものやホイル形状のものを用いたようなものも
可能である。ティルテイングパッドを用いた場合には構
造が複雑であるが負荷能力が高くまた、精度が低くても
比較的安定な動作をする特徴を有する。このようなティ
ルテングパッド軸受けは大型回転機に特に適している。
ティルテングパッドの形状としては偏心支持のようなも
のや曲面パッドのようなものも考えられる。また、ホイ
ル軸受けを採用することも可能である。ホイル軸受けの
問題点は構造が複雑である点であるが、精度が低くても
安定して作動する点に大きなメリットがある。

【００２１】次に請求項１から３記載の発明の気体軸受
をどのようにして受けるかについて説明する。気体軸受
を受ける方法は従来のメカニカルベアリングを使ってこ
れを受けることも可能であるが、気体軸受を気体軸受に
よって受けることも可能である。これを示すのが図９で
ある。図９に示すようにターンテーブルが載置されるタ
ーンテーブル浮上面２２は先程から説明している気体軸
受１３によって軸支されている。この気体軸受１３は下
方の部分にモータから動力伝達を受けるベルト２７が係
止されており、その下方面では気体軸受１３自身が装置
本体９６に軸支されている。この軸支は気体軸受９５で
もって軸支されているのである。

【００２２】この構造は図に示すように気体軸受１３を
受ける下方から高圧エア２８を気体軸受９５に対して吹
き上げ気体軸受１３内部を高圧とすることによって気体
軸受１３から気体軸受１３を受ける装置本体９６側に高
圧のエア２８を吹き出させて気体軸受９５自身を装置本
体９６側から浮き上がらせる構造となっている。このよ
うにすることによる特徴は気体軸受１３がメカニカルに
摺動しないため、回転摺動部が完全に取り除かれパーテ
クルの発生を極めて小量に押さえることができるという
点である。また、気体軸受１３自身が気体軸受け９５構
造によって軸受けされているため、気体軸受１３の偏心
がある場合であっても、その振動が極めて容易に吸収さ
れることになる。

【００２３】具体的にはターンテーブル浮上面２２が気
体軸受１３によってまず振動が吸収され、その振動が吸
収された気体軸受１３が更に装置本体９６側の気体軸受
９５によって振動が吸収されるという２重構造になるも
のである。なお、ここで気体軸受の原理について簡単に
説明しておく、気体軸受は気体の粘性を利用して隙間内
の気体の圧力を高くしてものを浮上させる方法であり、
具体的には動圧形、静圧形及びスクィーズフィルム形に
大別される。動圧形は図１５に示すように２つの面１５
１、１５２が相対的に移動し、しかも隙間１５３が楔状
隙間になっていて移動の方向に段々狭くなる形状等であ
って、面の相対的な移動により気体がその粘性で引きず
られ楔状隙間に押し込められて圧力を生じるというもの
である。

【００２４】静圧形は図１６に示すようなものであっ
て、外部から加圧した気体１６１を絞り１６２を通した
隙間１６３内に導入し、その静圧によって浮上させるも
のであり、絞り１６２の役目は隙間１６３が変化したと
きに隙間内の圧力を加減することで軸受けに剛性を与え
る役割をしているのである。スクィーズフィルム形は図
１７に示すようなものであって、あい接する面１７１、
１７２が隙間１７３内の圧力の平均値が周囲の圧力より
も高くなるのを利用したものである。これは気体の粘性
によって隙間１７３内の気体がすみやかに出入りできな
いため、例えば平滑なガラス板の上にガラス板を落下さ
せたときガラス板が静かに着地する現象からそれを理解
することができる。これら３種類の軸受け形式のうち、
今日広く用いられているのは動圧形と静圧形である。

【００２５】本発明について言えば、本発明は動圧形と
静圧形との両者の性質を合わせ持ったような軸受けの形
式をしていることが分かる。即ち軸受けからは高圧気体
が噴出して、それ自身静圧形の気体軸受けのように浮上
するとともに軸受け上のターンテーブル浮上面が回転す
ることによって楔状の隙間に高圧気体を発生させ、動圧
形の気体軸受と同様な作用をも生じるのである。それで
は前述の請求項１から３に記載された発明にいうところ
の微小な穴とはどのような形状のものかを説明する。図
１８の（ａ）から（ｆ）は静圧気体軸受に用いられる絞
りの種類を示したものであり、本発明における絞りもこ
のような種類のものが適用可能である。

【００２６】オリフィス絞り、毛細管絞り、及びスロッ
ト絞りはオリフィス、毛細管、スロットの抵抗によって
吸気孔絞りの働きをさせる。磁性絞りは絞りの役目を吸
気孔と軸受け隙間とで作られる仮想的な円筒面で行なう
ものである。表面絞りは軸受け面に吸気孔と繋がる極め
て浅い溝を設けたものでその溝の抵抗が絞りとなる。多
孔質絞りとは軸受け面に通気性を持つ多孔質材料を用い
るものであり、この多孔質材料の抵抗が吸気孔絞りの役
目をするものである。これら６種類の絞りはそれぞれ本
発明の気体軸受に設けられた微小孔の形状として採用可
能なものである。

【００２７】それではここで再度本発明のように、遠心
乾燥装置に気体軸受を用いた場合の利点・長所について
整理する。利点・長所は大きく分けると５つある。これ
らは軽く回ること、きれいな状態で回ること、滑らかに
回ること、及び温度差に強いこと、ならびに特殊な例で
はあるが放射能の場で運転できるということである。以
下それぞれについて簡単に説明すると、先ず気体軸受を
用いて遠心乾燥装置を構成した場合には、気体軸受が軽
く回るということのメリットを享受することができる。
軸受けの摩擦は潤滑剤の粘性係数に比例する。気体の粘
性係数は普通の潤滑油の千分の一のオーダだから軸受け
摩擦も千分の一になる。従って軸受け摩擦が問題になる
高速機械や摩擦が誤差のもととなる軸受けに非常に適し
ている。

【００２８】また、２番目の特徴となるきれいな状態で
回るという特徴がある。きれいな状態で回るとはメカニ
カルな軸受けのように油を使う必要がないため半導体製
造装置のようなものには非常に適しているということで
ある。従って、この遠心乾燥装置内での気体の純度を保
ちたいという理由から油分等の不純物がは入り込まない
ようにすることができ、純水に系統ガスだけで運転でき
るから系統ガスが不純物で汚染される心配もない。な
お、ここで用いられる気体は一般的には高圧エアで充分
であるが、半導体の製造工程中の特別の理由やまた、基
板の材料等により各種の不活性ガスを用いることも可能
である。

【００２９】また、３番目の特徴として遠心乾燥装置に
気体軸受を用いた場合には前述のように滑らかに回ると
いう大きな特徴を有している。軸即ち本発明の場合には
ターンテーブル浮上面及びターンテーブルは軸受けから
完全に浮上しているから軸や軸受けに少しくらい凹凸が
あっても又軸受けの物理的な重心軸とターンテーブル浮
上面の物理的な重心軸とが一致しない場合でもこれによ
って影響されることが少ない。また、隙間を充たしてい
る気体は圧縮性だから油よりさらに柔らかいし、まして
や硬いボールの上にのって回るのと違い、軸は滑らかに
回ることができる。軸受けの凹凸が気体の膜によって均
されてしまい、一般的には平均効果と呼ばれている。そ
の結果、軸の回転精度は極めて高く、ターンテーブル上
に一枚のウエハを載置して行なう薬液等の塗布の場合に
は非常に高精度で回転することができるので均一の膜を
塗布することができるというメリットも有する。

【００３０】また、本発明の軸受けは潤滑剤が気体であ
るため油を用いておらず、従って温度差に対する耐性が
極めて高いというメリットも有する。さらに５番目の特
徴としては放射能の場で運転できるというメリットも有
する。本発明のような遠心乾燥装置が、例えば放射性物
質の乾燥等に用いられる場合には、潤滑油が放射能によ
って侵されることを心配しなければならないが本発明の
場合には潤滑油を用いていないため掛かる問題点もな
く、原子炉関係の放射線で汚染された製造部品等を遠心
乾燥させる際の遠心乾燥機としても非常に有用である。

【００３１】次に請求項４記載の発明について説明す
る。請求項４記載の発明はワーク装填機構を含むターン
テーブルが、回転駆動体に磁石軸受けによって軸支され
ている遠心乾燥装置である。これは図１０に示すような
ものである。気体軸受１００としては前述のように高圧
エア等を用いてターンテーブル浮上面１０１を含むター
ンテーブルを軸受けに対して浮上させるのであるが、磁
石を用いる場合であってもこれと同様な効果を得ること
ができる。即ち図１０に示すようにターンテーブル浮上
面１０１の軸受け１００と対向する面にＳＮの磁石１０
２を配置し、この軸受け１００にも同様にＮＳの磁石１
０３を配置し、ターンテーブル浮上面１０１に配置され
た磁石１０２と軸受け１００に配置された磁石１０３と
が互いに反発するような向きに形成しておけば磁石１０
２、１０３の反発力によってターンテーブル浮上面１０
１を含むターンテーブルは軸受け１００に対して浮上す
ることになる。このようにして浮上したターンテーブル
は前述同様にモータ等による駆動によって高速回転さ
せ、ターンテーブル浮上面１０１に設けられている溝に
軸受けから発生するエアを吹き込むことによってターン
テーブル浮上面１０１を含むターンテーブルを回転する
ことができるのである。

【００３２】次に請求項５記載の発明について説明す
る。請求項５記載の発明はワーク装填機構を含むターン
テーブルが、磁石軸受けによって軸支されている遠心乾
燥装置であって、この磁石軸受けが気体軸受によって回
転駆動体に軸支されている遠心乾燥装置を提供するもの
である。これは図１１に示すようなものであって、ター
ンテーブル浮上面１０１を含むターンテーブルは前述の
請求項４記載の発明と同様である。一方、請求項４記載
の発明においては、磁石軸受けを軸支する方法について
は説明しなかったが、本発明においては図１１に示すよ
うに磁石軸受け１１０を気体軸受１１５によって軸支す
るようにしているのである。このようにすると、前述の
図９で示した発明と同様に軸受け１１０自身が気体軸受
１１５で軸支されるためターンテーブル上で発生する振
動を２重に吸収することが可能となって、さらにウエハ
に与えられる振動を低下することができると同時に軸受
け１１０、１１５及びターンテーブルの全体から物理的
なメカニカルベアリング部分が排除されるので回転摺動
部から発生するパーテクルを極めて少なくできるという
メリットがある。

【００３３】

【発明の効果】以上説明したように本発明においては遠
心乾燥装置の軸受けを気体軸受としたので回転摺動部か
らパーテクルが発生するのを少なくすることができ、又
ウエハ等の不釣り合い等によって生じるターンテーブル
の物理的重心軸が機械的重心軸からずれた場合であって
もその振動を極めて減ずることができるので高速回転に
よりウエハが破損するというようなことを少なくするこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の遠心乾燥装置の斜視図

【図２】 遠心乾燥装置の気体軸受け部分の拡大斜視図

【図３】 図２の気体軸受け部分の断面図

【図４】 ターンテーブルの振動の様子を示す図

【図５】 ターンテーブルの重心軸が偏った場合を示す
図

【図６】 ステップ動圧スラスト型気体軸受けを示す図

【図７】 スパイラルグルーブ動圧型気体軸受けを示す
図

【図８】 ヘリングボーン型気体軸受けを示す図

【図９】 気体軸受けを気体軸受けで受ける軸受けの断
面図

【図１０】 磁石軸受け使用の遠心乾燥装置の軸受け断
面図

【図１１】 磁石軸受けと気体軸受け併用の遠心乾燥装
置の軸受け断面図

【図１２】 従来の公転式の遠心乾燥装置の斜視図

【図１３】 図１２の遠心乾燥装置の詳細側面図

【図１４】 従来の遠心乾燥装置における問題点を示す
図

【図１５】 動圧形気体軸受けを示す断面図

【図１６】 静圧形気体軸受けを示す断面図

【図１７】 スクィーズフィルム形気体軸受けを示す断
面図

【図１８】 静圧形気体軸受けの絞りの種類を示す断面
図

【符号の説明】

１０ 遠心乾燥装置 １２ ターンテーブル １３ 気体軸受け ６１ ステップ動圧スラスト軸受け ７１ スパイラルグルーブ動圧スラスト軸受け １００ 磁石軸受け

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】ワーク装填機構を含むターンテーブルが気
   体軸受によって回転駆動体に軸支されている遠心乾燥装
   置。
2. 【請求項２】前記気体軸受は、ステップ動圧スラスト軸
   受である請求項１記載の遠心乾燥装置。
3. 【請求項３】前記気体軸受は、スパイラルグルーブ動圧
   スラスト軸受である請求項１記載の遠心乾燥装置。
4. 【請求項４】ワーク装填機構を含むターンテーブルが、
   回転駆動体に磁石軸受によって軸支されている遠心乾燥
   装置。
5. 【請求項５】ワーク装填機構を含むターンテーブルが、
   磁石軸受によって軸支されている遠心乾燥装置であって
   この磁石軸受が気体軸受によって軸支されている遠心乾
   燥装置。