JPH11167132A - 紫外線を照射または発生する光学系 - Google Patents
紫外線を照射または発生する光学系Info
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- JPH11167132A JPH11167132A JP10272591A JP27259198A JPH11167132A JP H11167132 A JPH11167132 A JP H11167132A JP 10272591 A JP10272591 A JP 10272591A JP 27259198 A JP27259198 A JP 27259198A JP H11167132 A JPH11167132 A JP H11167132A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線を照
射しても特性を低下させない紫外線照射光学系、及び外
部共振器を用いて波長４００ｎｍ以下の紫外線に波長変
換する場合も高調波出力低下を生じない紫外線発生光学
系を提供する。 【解決手段】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線
を照射する光学系について、その光学部品の雰囲気を、
あるいは、外部共振器内に非線形光学結晶を配置した波
長変換系である紫外線を発生する光学系で波長４００ｎ
ｍ以下の紫外線を発生させる場合、そのミラー部及び非
線形光学結晶部の雰囲気を、９９．９％以上の窒素と
し、または９９．９％以上の乾燥空気とし、または
水分が０．１％以下の気体とし、または炭化水素化合
物分が０．１％以下の気体とする。
射しても特性を低下させない紫外線照射光学系、及び外
部共振器を用いて波長４００ｎｍ以下の紫外線に波長変
換する場合も高調波出力低下を生じない紫外線発生光学
系を提供する。 【解決手段】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線
を照射する光学系について、その光学部品の雰囲気を、
あるいは、外部共振器内に非線形光学結晶を配置した波
長変換系である紫外線を発生する光学系で波長４００ｎ
ｍ以下の紫外線を発生させる場合、そのミラー部及び非
線形光学結晶部の雰囲気を、９９．９％以上の窒素と
し、または９９．９％以上の乾燥空気とし、または
水分が０．１％以下の気体とし、または炭化水素化合
物分が０．１％以下の気体とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は紫外線を照射または
発生する光学系に関し、さらに詳しくは、光学部品に波
長４００ｎｍ以下の紫外線を照射する光学系、または波
長４００ｎｍ以下の紫外線を発生する光学系に関するも
のである。本発明は特に、このような波長４００ｎｍ以
下の紫外線を照射または発生する場合にも、光学損失が
増加して光学特性が低下することを防止した光学系を提
供するものである。
発生する光学系に関し、さらに詳しくは、光学部品に波
長４００ｎｍ以下の紫外線を照射する光学系、または波
長４００ｎｍ以下の紫外線を発生する光学系に関するも
のである。本発明は特に、このような波長４００ｎｍ以
下の紫外線を照射または発生する場合にも、光学損失が
増加して光学特性が低下することを防止した光学系を提
供するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、大気中で光学部品に波長４０
０ｎｍ以下の紫外線が照射されると、光学部品の特性が
低下するという問題がある。これは、このような場合に
は光学部品の光学損失が増加することに由来すると考え
られ、かかる光学損失は、光学部品の表面の大気中の水
分や、油分が反応して、その反応物や周辺のパーティク
ル等が光学部品表面に付着することが原因ではないかと
推定される。
０ｎｍ以下の紫外線が照射されると、光学部品の特性が
低下するという問題がある。これは、このような場合に
は光学部品の光学損失が増加することに由来すると考え
られ、かかる光学損失は、光学部品の表面の大気中の水
分や、油分が反応して、その反応物や周辺のパーティク
ル等が光学部品表面に付着することが原因ではないかと
推定される。
【０００３】また、波長４００ｎｍ以下の紫外線を発生
させる場合、外部共振器を用いた波長変換（これについ
ては、Ｍ．Ｏｋａ ａｎｄ Ｓ．Ｋｕｂｏｔａ，Ｊｐ
ｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３１（１９９
２）ｐｐ．５１３，ａｎｄ Ｍ．Ｏｋａ ｅｔ．ａ
ｌ．，ｉｎ Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃ
ｅ ｏｎ Ｌａｓｅｒ ａｎｄ Ｅｌｅｃｔｏ−Ｏｐｔ
ｉｃｓ（ＯＳＡ，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ Ｄ．Ｃ．，１
９９２），ｐａｐｅｒ ＣＷＱ７」参照）等において
は、外部共振器内に配置されたミラーや、非線型形光学
素子の性能の微妙な劣化が発生し、高周波出力を著しく
低下させていた。このような劣化も、本発明者の検討で
は、上記と同様な事情によるものと推定される。たとえ
ば波長変換されて形成された波長４００ｎｍ以下の紫外
線がミラー等の光学部品をとおる際に、光学部品（ミラ
ー等）の性能低下が生じることによるものと考えられ
る。
させる場合、外部共振器を用いた波長変換（これについ
ては、Ｍ．Ｏｋａ ａｎｄ Ｓ．Ｋｕｂｏｔａ，Ｊｐ
ｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｖｏｌ．３１（１９９
２）ｐｐ．５１３，ａｎｄ Ｍ．Ｏｋａ ｅｔ．ａ
ｌ．，ｉｎ Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃ
ｅ ｏｎ Ｌａｓｅｒ ａｎｄ Ｅｌｅｃｔｏ−Ｏｐｔ
ｉｃｓ（ＯＳＡ，Ｗａｓｈｉｎｇｔｏｎ Ｄ．Ｃ．，１
９９２），ｐａｐｅｒ ＣＷＱ７」参照）等において
は、外部共振器内に配置されたミラーや、非線型形光学
素子の性能の微妙な劣化が発生し、高周波出力を著しく
低下させていた。このような劣化も、本発明者の検討で
は、上記と同様な事情によるものと推定される。たとえ
ば波長変換されて形成された波長４００ｎｍ以下の紫外
線がミラー等の光学部品をとおる際に、光学部品（ミラ
ー等）の性能低下が生じることによるものと考えられ
る。
【０００４】したがって、このように光学部品に波長４
００ｎｍ以下の紫外線を照射する場合に、また波長４０
０ｎｍ以下の紫外線を発生させる場合にも、光学部品の
光学損失が増加して光学特性が低下することや、出力性
能等の劣化が生じることを防止した光学系の開発が強く
望まれている。
００ｎｍ以下の紫外線を照射する場合に、また波長４０
０ｎｍ以下の紫外線を発生させる場合にも、光学部品の
光学損失が増加して光学特性が低下することや、出力性
能等の劣化が生じることを防止した光学系の開発が強く
望まれている。
【０００５】以下図面を参照して、上記従来技術の問題
点について説明する。たとえば波長５３２ｎｍの基本波
を、外部共振器を用いて波長２６６ｎｍの紫外線光に波
長変換する場合、外部共振器部分の構造は図２のように
なっている。
点について説明する。たとえば波長５３２ｎｍの基本波
を、外部共振器を用いて波長２６６ｎｍの紫外線光に波
長変換する場合、外部共振器部分の構造は図２のように
なっている。
【０００６】図２中、符号１〜３で示すのは、波長５３
２ｎｍにおいて超高反射率たとえば９９．９５％以上の
反射率を有する高反射ミラー、符号４は、波長５３２ｎ
ｍにおいて高反射率たとえば９９％の反射率を有する入
射ミラー、符号５は、端面を鏡面研磨し、波長５３２ｎ
ｍにおいて低反射率たとえば０．１％以下の反射率の低
反射膜を施した波長変換素子の非線形光学結晶ＢＢＯで
ある。高反射ミラー３は、図示しないが、位置決めデバ
イスであるＶＣＭ（前掲のＪｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈ
ｙｓ．Ｖｏｌ．３１参照）上に設置されており、たとえ
ばサーボ駆動系により制御されるようになっている。以
上、符号１〜５で示す要素により、外部共振器部が構成
されている。
２ｎｍにおいて超高反射率たとえば９９．９５％以上の
反射率を有する高反射ミラー、符号４は、波長５３２ｎ
ｍにおいて高反射率たとえば９９％の反射率を有する入
射ミラー、符号５は、端面を鏡面研磨し、波長５３２ｎ
ｍにおいて低反射率たとえば０．１％以下の反射率の低
反射膜を施した波長変換素子の非線形光学結晶ＢＢＯで
ある。高反射ミラー３は、図示しないが、位置決めデバ
イスであるＶＣＭ（前掲のＪｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈ
ｙｓ．Ｖｏｌ．３１参照）上に設置されており、たとえ
ばサーボ駆動系により制御されるようになっている。以
上、符号１〜５で示す要素により、外部共振器部が構成
されている。
【０００７】この外部共振器に、図２に矢印６で模式的
に示す基本波（ここでは波長５３２ｎｍ）が入射し、ミ
ラー間で出力が増幅され、その増幅により増強された基
本波が、非線形光学結晶５（ＢＢＯ）で、第２高調波
（ここでは波長２６６ｎｍ）に変換される。図２にこの
第２高調波を矢印７で模式的に示す。
に示す基本波（ここでは波長５３２ｎｍ）が入射し、ミ
ラー間で出力が増幅され、その増幅により増強された基
本波が、非線形光学結晶５（ＢＢＯ）で、第２高調波
（ここでは波長２６６ｎｍ）に変換される。図２にこの
第２高調波を矢印７で模式的に示す。
【０００８】上記のような波長変換を大気中（典型的な
条件としては、気温２０℃、湿度５０％ＲＨで水分の体
積分率は１．１％程度）で行うと、ミラー（特にミラー
１）の光学損失（具体的には、主に散乱）が増加する。
光学損失と、外部共振器内の波長５３２ｎｍの基本波の
増幅された出力は、次の式１で示される。
条件としては、気温２０℃、湿度５０％ＲＨで水分の体
積分率は１．１％程度）で行うと、ミラー（特にミラー
１）の光学損失（具体的には、主に散乱）が増加する。
光学損失と、外部共振器内の波長５３２ｎｍの基本波の
増幅された出力は、次の式１で示される。
【０００９】
【数１】 Ｐω＝√（δｃａｖ2 ＋４γSHＰｉ−δｃａｖ）／２γSH ・・・式１
【００１０】ここで、δｃａｖは外部共振器内の波長５
３２ｎｍでの光学損失、Ｐωは増幅された基本波の出
力、Ｐｉは外部共振器に入射する波長５３２ｎｍの基本
波の出力である。γSHは、非線形光学結晶５（ＢＢＯ）
の結晶長、基本波の波長、スポットサイズ、フォーカシ
ングパラメータから決定される非線形変換ファクターと
言われる定数である。
３２ｎｍでの光学損失、Ｐωは増幅された基本波の出
力、Ｐｉは外部共振器に入射する波長５３２ｎｍの基本
波の出力である。γSHは、非線形光学結晶５（ＢＢＯ）
の結晶長、基本波の波長、スポットサイズ、フォーカシ
ングパラメータから決定される非線形変換ファクターと
言われる定数である。
【００１１】上記式１より、外部共振器内において、光
学損失δｃａｖが増加すると、基本波の出力Ｐωは低下
することがわかる。
学損失δｃａｖが増加すると、基本波の出力Ｐωは低下
することがわかる。
【００１２】一方、基本波の出力と、第２高調波の出力
との関係は、次の式２で示される。
との関係は、次の式２で示される。
【００１３】
【数２】 Ｐ2 ω＝γSHＰω2 ・・・式２
【００１４】ここで、Ｐωは非線形光学結晶５（ＢＢ
Ｏ）に入射した基本波の出力、Ｐ2 ωは非線形光学結晶
５（ＢＢＯ）で波長変換されて発生した第２高調波の出
力、γSHは上記した非線形変換ファクターである。
Ｏ）に入射した基本波の出力、Ｐ2 ωは非線形光学結晶
５（ＢＢＯ）で波長変換されて発生した第２高調波の出
力、γSHは上記した非線形変換ファクターである。
【００１５】上記式２より、基本波の出力Ｐωが低下す
ると、第２高調波の出力Ｐ2 ωも低下することがわか
る。だいたいで言えば、およそ５〜１０時間で、第２高
調波出力が半減する。実際に通常の条件で試験をしたと
ころ、当初たとえば５０ｍＷの紫外光が、図３に示すよ
うに、２０時間で０ｍＷに減じる（０ｍＷになる時間
は、条件によって異なる）。
ると、第２高調波の出力Ｐ2 ωも低下することがわか
る。だいたいで言えば、およそ５〜１０時間で、第２高
調波出力が半減する。実際に通常の条件で試験をしたと
ころ、当初たとえば５０ｍＷの紫外光が、図３に示すよ
うに、２０時間で０ｍＷに減じる（０ｍＷになる時間
は、条件によって異なる）。
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した従
来技術の問題点を解決することを課題とするもので、特
に、光学部品に波長４００ｎｍ以下（特にたとえば波長
２６６ｎｍ）の紫外線を照射してもその特性を低下させ
ない紫外線照射光学系を提供することを目的とし、ま
た、外部共振器を用いて波長４００ｎｍ以下（特にたと
えば波長２６６ｎｍ）の紫外線に波長変換する場合にお
いても、高調波出力の低下を生じない紫外線発生光学系
を提供することを目的とする。
来技術の問題点を解決することを課題とするもので、特
に、光学部品に波長４００ｎｍ以下（特にたとえば波長
２６６ｎｍ）の紫外線を照射してもその特性を低下させ
ない紫外線照射光学系を提供することを目的とし、ま
た、外部共振器を用いて波長４００ｎｍ以下（特にたと
えば波長２６６ｎｍ）の紫外線に波長変換する場合にお
いても、高調波出力の低下を生じない紫外線発生光学系
を提供することを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上述した目的を達成する
ため、本発明に係る紫外線を照射する光学系は、光学部
品に波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射する光学系であ
って、その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の窒素と
したことを特徴とする。なお本明細書中、％による割合
の表示の方法はすべて「体積分率」である。
ため、本発明に係る紫外線を照射する光学系は、光学部
品に波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射する光学系であ
って、その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の窒素と
したことを特徴とする。なお本明細書中、％による割合
の表示の方法はすべて「体積分率」である。
【００１８】また、その光学部品の雰囲気を９９．９％
以上の空気としたことを特徴とする。
以上の空気としたことを特徴とする。
【００１９】また、その光学部品の雰囲気を水分が０．
１％以下の気体としたことを特徴とする。
１％以下の気体としたことを特徴とする。
【００２０】また、その光学部品の雰囲気を炭化水素化
合物分が０．１％以下の気体としたことを特徴とする。
合物分が０．１％以下の気体としたことを特徴とする。
【００２１】また、上述した目的を達成するため、本発
明に係る紫外線を発生する光学系は、外部共振器内に非
線形光学結晶を配置した波長変換において波長４００ｎ
ｍ以下の紫外線を発生させる場合、そのミラー部及び非
線形光学結晶部の雰囲気を９９．９％以上の窒素とした
ことを特徴とする。
明に係る紫外線を発生する光学系は、外部共振器内に非
線形光学結晶を配置した波長変換において波長４００ｎ
ｍ以下の紫外線を発生させる場合、そのミラー部及び非
線形光学結晶部の雰囲気を９９．９％以上の窒素とした
ことを特徴とする。
【００２２】また、そのミラー部及び非線形光学結晶部
の雰囲気を９９．９％以上の空気としたことを特徴とす
る。
の雰囲気を９９．９％以上の空気としたことを特徴とす
る。
【００２３】また、そのミラー部及び非線形光学結晶部
の雰囲気を水分が０．１％以下の気体としたことを特徴
とする。
の雰囲気を水分が０．１％以下の気体としたことを特徴
とする。
【００２４】また、そのミラー部及び非線形光学結晶部
の雰囲気を炭化水素化合物分が０．１％以下の気体とし
たことを特徴とする。
の雰囲気を炭化水素化合物分が０．１％以下の気体とし
たことを特徴とする。
【００２５】本発明は、従来は考慮されていなかった、
波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射または発生させる場
合の雰囲気について注目し、特に、窒素、空気の純度、
また、水分、油分（炭化水素化合物分）の含有量に着目
して、種々検討の結果、なされたものである。本発明に
よれば、その機構の詳細は解明されていないが、波長４
００ｎｍ以下の紫外線については、その雰囲気の窒素、
空気の純度、また、水分、油分（炭化水素化合物分）の
含有量が本発明の範囲であれば、本発明の目的に合致し
た良好な結果が得られるのである。
波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射または発生させる場
合の雰囲気について注目し、特に、窒素、空気の純度、
また、水分、油分（炭化水素化合物分）の含有量に着目
して、種々検討の結果、なされたものである。本発明に
よれば、その機構の詳細は解明されていないが、波長４
００ｎｍ以下の紫外線については、その雰囲気の窒素、
空気の純度、また、水分、油分（炭化水素化合物分）の
含有量が本発明の範囲であれば、本発明の目的に合致し
た良好な結果が得られるのである。
【００２６】なお、特開昭６０−５７６９５号公報に
は、レーザー素子を機密封止してその劣化を防止する技
術が記載され、特開平４−８４４８１号公報には、半導
体レーザー装置のパッケージに不活性ガスを封入してレ
ーザー素子を保護する技術が記載され、特開平５−１１
０１７４号公報には、レーザーダイオードを不活性ガス
雰囲気とする技術が記載されているが、いずれも本発明
とは構成を異にする。
は、レーザー素子を機密封止してその劣化を防止する技
術が記載され、特開平４−８４４８１号公報には、半導
体レーザー装置のパッケージに不活性ガスを封入してレ
ーザー素子を保護する技術が記載され、特開平５−１１
０１７４号公報には、レーザーダイオードを不活性ガス
雰囲気とする技術が記載されているが、いずれも本発明
とは構成を異にする。
【００２７】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態例につ
いて説明し、さらに、具体的な好ましい実施の形態例
を、図面を参照して説明する。ただし当然のことである
が、本発明は以下述べる実施の形態例により限定を受け
るものではない。
いて説明し、さらに、具体的な好ましい実施の形態例
を、図面を参照して説明する。ただし当然のことである
が、本発明は以下述べる実施の形態例により限定を受け
るものではない。
【００２８】本発明に係る紫外線を照射する光学系は、
光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射する光学
系であって、その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の
窒素とし、または９９．９％以上の空気とし、または水
分が０．１％以下の気体とし、または炭化水素化合物分
が０．１％以下の気体としたものである。この場合に、
光学部品を上記の雰囲気にするのは、その光学部品を、
上記の各雰囲気ガス、すなわち、９９．９％以上の窒
素、または９９．９％以上の空気、または水分が０．１
％以下の気体、または炭化水素化合物分が０．１％以下
の気体で封入する手段を用いることができる。
光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射する光学
系であって、その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の
窒素とし、または９９．９％以上の空気とし、または水
分が０．１％以下の気体とし、または炭化水素化合物分
が０．１％以下の気体としたものである。この場合に、
光学部品を上記の雰囲気にするのは、その光学部品を、
上記の各雰囲気ガス、すなわち、９９．９％以上の窒
素、または９９．９％以上の空気、または水分が０．１
％以下の気体、または炭化水素化合物分が０．１％以下
の気体で封入する手段を用いることができる。
【００２９】あるいは、各光学部品の周辺部を、上記の
各雰囲気ガスでパージする手段を用いることができる。
たとえばパージする場合には、密閉容器に２以上の穴を
開け、その１つから上記の各雰囲気ガス、すなわち、９
９．９％以上の窒素、または９９．９％以上の空気、ま
たは水分が０．１％以下の気体、または炭化水素化合物
分が０．１％以下の気体を入れ、一方他の穴からもとも
とその密閉容器に存在していた気体を追い出して、容器
内を上記の各雰囲気ガスで置換するようにして実施する
ことができる。
各雰囲気ガスでパージする手段を用いることができる。
たとえばパージする場合には、密閉容器に２以上の穴を
開け、その１つから上記の各雰囲気ガス、すなわち、９
９．９％以上の窒素、または９９．９％以上の空気、ま
たは水分が０．１％以下の気体、または炭化水素化合物
分が０．１％以下の気体を入れ、一方他の穴からもとも
とその密閉容器に存在していた気体を追い出して、容器
内を上記の各雰囲気ガスで置換するようにして実施する
ことができる。
【００３０】また、本発明に係る紫外線を発生する光学
系は、外部共振器内に非線形光学結晶を配置した波長変
換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発生させる場
合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気を９
９．９％以上の窒素とし、または９９．９％以上の空気
とし、または水分が０．１％以下の気体とし、または炭
化水素化合物分が０．１％以下の気体としたものであ
る。この場合に、上記ミラー部及び非線形光学結晶部を
上記の雰囲気にするのは、これらの部分を、上記の各雰
囲気ガス、すなわち、９９．９％以上の窒素、または９
９．９％以上の空気、または水分が０．１％以下の気
体、または炭化水素化合物分が０．１％以下の気体で封
入した構成とする手段を用いることができる。
系は、外部共振器内に非線形光学結晶を配置した波長変
換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発生させる場
合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気を９
９．９％以上の窒素とし、または９９．９％以上の空気
とし、または水分が０．１％以下の気体とし、または炭
化水素化合物分が０．１％以下の気体としたものであ
る。この場合に、上記ミラー部及び非線形光学結晶部を
上記の雰囲気にするのは、これらの部分を、上記の各雰
囲気ガス、すなわち、９９．９％以上の窒素、または９
９．９％以上の空気、または水分が０．１％以下の気
体、または炭化水素化合物分が０．１％以下の気体で封
入した構成とする手段を用いることができる。
【００３１】あるいは、上記の部分を、上記の各雰囲気
ガスでパージする手段を用いることができる。たとえば
パージする場合には、これらの部分を配置する空間を密
閉容器としてこの密閉容器に２以上の穴を開け、その１
つから上記の各雰囲気ガス、すなわち、９９．９％以上
の窒素、または９９．９％以上の空気、または水分が
０．１％以下の気体、または炭化水素化合物分が０．１
％以下の気体を入れ、一方他の穴からもともとその密閉
容器に存在していた気体を追い出して、容器内を上記の
各雰囲気ガスで置換するようにして実施することができ
る。
ガスでパージする手段を用いることができる。たとえば
パージする場合には、これらの部分を配置する空間を密
閉容器としてこの密閉容器に２以上の穴を開け、その１
つから上記の各雰囲気ガス、すなわち、９９．９％以上
の窒素、または９９．９％以上の空気、または水分が
０．１％以下の気体、または炭化水素化合物分が０．１
％以下の気体を入れ、一方他の穴からもともとその密閉
容器に存在していた気体を追い出して、容器内を上記の
各雰囲気ガスで置換するようにして実施することができ
る。
【００３２】以下、具体的な実施の形態例を述べる。 実施の形態例１ この実施の形態例は、図２を用いて説明した外部共振器
部分を有する紫外線発生光学系、すなわち外部共振器内
に非線形光学結晶を配置した波長変換系について、本発
明を適用したものである。
部分を有する紫外線発生光学系、すなわち外部共振器内
に非線形光学結晶を配置した波長変換系について、本発
明を適用したものである。
【００３３】本例においては、図２に示す外部共振器内
に非線形光学結晶を配置した波長変換において波長４０
０ｎｍ以下の紫外線を発生させる光学系で、そのミラー
部及び非線形光学結晶部の雰囲気を９９．９９９％以上
の窒素とした。図２の、高反射ミラー１〜３、入射ミラ
ー４、波長変換素子である非線形光学結晶ＢＢＯ５の各
部分を、この９９．９９９％以上の窒素雰囲気としたも
のである。具体的には、図２に示す外部共振器内を９
９．９９９％以上の窒素でパージして、上記と同様な波
長変換を行った。
に非線形光学結晶を配置した波長変換において波長４０
０ｎｍ以下の紫外線を発生させる光学系で、そのミラー
部及び非線形光学結晶部の雰囲気を９９．９９９％以上
の窒素とした。図２の、高反射ミラー１〜３、入射ミラ
ー４、波長変換素子である非線形光学結晶ＢＢＯ５の各
部分を、この９９．９９９％以上の窒素雰囲気としたも
のである。具体的には、図２に示す外部共振器内を９
９．９９９％以上の窒素でパージして、上記と同様な波
長変換を行った。
【００３４】この結果、図１に示すように、ミラーの光
学損失は増加せず、第２高調波の出力も、１０００時間
以上、わずかに低下が見られる程度であるというデータ
が得られた。なお図１は、横軸に時間（ｈｏｕｒ）をと
り、縦軸に第２高調波の出力（紫外光出力／ｍＷ）をと
って、第２高調波の出力の時間経過による劣化を見たも
のであるが、図１から理解されるように、１０００時間
以上、第２高調波の出力の減衰はわずかであった。
学損失は増加せず、第２高調波の出力も、１０００時間
以上、わずかに低下が見られる程度であるというデータ
が得られた。なお図１は、横軸に時間（ｈｏｕｒ）をと
り、縦軸に第２高調波の出力（紫外光出力／ｍＷ）をと
って、第２高調波の出力の時間経過による劣化を見たも
のであるが、図１から理解されるように、１０００時間
以上、第２高調波の出力の減衰はわずかであった。
【００３５】なお図４には、紫外光発生のためのグリー
ン出力が経時的に多少上昇した場合のデータを示すが、
経時的変化を抑制した条件であれば、図１と同様のデー
タとなる。
ン出力が経時的に多少上昇した場合のデータを示すが、
経時的変化を抑制した条件であれば、図１と同様のデー
タとなる。
【００３６】実施の形態例２ この実施の形態例は、実施の形態例１と同様に、図２を
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を９９．９９９％以上の乾燥空
気でパージして、上記と同様な波長変換を行った。
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を９９．９９９％以上の乾燥空
気でパージして、上記と同様な波長変換を行った。
【００３７】この結果、時間（ｈｏｕｒ）と第２高調波
の出力（紫外光出力／ｍＷ）との関係が、図５に示すよ
うに、１０００時間経過でも当初の５０ｍＷからほとん
ど低下の認められないきわめて良好なデータが得られ
た。
の出力（紫外光出力／ｍＷ）との関係が、図５に示すよ
うに、１０００時間経過でも当初の５０ｍＷからほとん
ど低下の認められないきわめて良好なデータが得られ
た。
【００３８】実施の形態例３ この実施の形態例は、実施の形態例１と同様に、図２を
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を９９．９％以上の窒素でパー
ジして、上記と同様な波長変換を行った。
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を９９．９％以上の窒素でパー
ジして、上記と同様な波長変換を行った。
【００３９】この結果、図６に示すように、大気中で行
ったものに比べ、１０００時間以上もの間、紫外光出力
が得られるというデータが得られた。図６は、時間（ｈ
ｏｕｒ）と第２高調波の出力（紫外光出力／ｍＷ）との
関係を示すものであるが、図６から理解されるように、
出力の低下は見られるものの、１０００時間以上、第２
高調波の出力が得られた。
ったものに比べ、１０００時間以上もの間、紫外光出力
が得られるというデータが得られた。図６は、時間（ｈ
ｏｕｒ）と第２高調波の出力（紫外光出力／ｍＷ）との
関係を示すものであるが、図６から理解されるように、
出力の低下は見られるものの、１０００時間以上、第２
高調波の出力が得られた。
【００４０】実施の形態例４ この実施の形態例は、実施の形態例１と同様に、図２を
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を９９．９％以上の乾燥空気で
パージして、上記と同様な波長変換を行った。
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を９９．９％以上の乾燥空気で
パージして、上記と同様な波長変換を行った。
【００４１】この結果、本例では、図５に示すデータ
（実施の形態例２）よりはやや出力の低下の傾向は見ら
れたが、図６に示すデータ（実施の形態例３）よりも出
力の低下は見られず、やはり大気中で行ったものに比
べ、１０００時間以上もの間、安定した紫外光出力が得
られるというデータが得られた。
（実施の形態例２）よりはやや出力の低下の傾向は見ら
れたが、図６に示すデータ（実施の形態例３）よりも出
力の低下は見られず、やはり大気中で行ったものに比
べ、１０００時間以上もの間、安定した紫外光出力が得
られるというデータが得られた。
【００４２】本例、及び上述の実施の形態例１〜３と、
従来技術から、不純物量１％（たとえば水分量１％、純
度９９％）では、紫外光出力が２０時間程度で０ｍＷに
なってしまうが、不純物量０．１％（純度９９．９
％）、及び不純物量０．００１％（純度９９．９９９
％）では１０００時間程度紫外光出力が得られ、よって
不純物量０．１％（特に水分０．１％）以下で、大きな
効果がもたらされていることがわかる。この理由は明確
ではないが、たとえば大気中の不純物（水分等）と紫外
光により何らかの物質から成る散乱体が光学部品上に形
成されるために出力の劣化が起きるが、これが上記構成
で防止されることによると推定される。また特に、空気
等酸素が存在する系で、良好な結果が得られている。
従来技術から、不純物量１％（たとえば水分量１％、純
度９９％）では、紫外光出力が２０時間程度で０ｍＷに
なってしまうが、不純物量０．１％（純度９９．９
％）、及び不純物量０．００１％（純度９９．９９９
％）では１０００時間程度紫外光出力が得られ、よって
不純物量０．１％（特に水分０．１％）以下で、大きな
効果がもたらされていることがわかる。この理由は明確
ではないが、たとえば大気中の不純物（水分等）と紫外
光により何らかの物質から成る散乱体が光学部品上に形
成されるために出力の劣化が起きるが、これが上記構成
で防止されることによると推定される。また特に、空気
等酸素が存在する系で、良好な結果が得られている。
【００４３】実施の形態例５ この実施の形態例は、実施の形態例１と同様に、図２を
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を、水分が０．１％以下の気体
（窒素、乾燥空気、アルゴン、ヘリウム等の気体を使用
して実施）でパージして、上記と同様な波長変換を行っ
た。
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を、水分が０．１％以下の気体
（窒素、乾燥空気、アルゴン、ヘリウム等の気体を使用
して実施）でパージして、上記と同様な波長変換を行っ
た。
【００４４】この結果、ほぼ図６に示すデータ（実施の
形態例３）と同様のデータが得られ、大気中で行ったも
のに比べ、１０００時間以上もの間、紫外光出力が得ら
れるというデータが得られた。
形態例３）と同様のデータが得られ、大気中で行ったも
のに比べ、１０００時間以上もの間、紫外光出力が得ら
れるというデータが得られた。
【００４５】実施の形態例６ この実施の形態例は、実施の形態例１と同様に、図２を
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を、炭化水素化合物分が０．１
％以下の気体（窒素、乾燥空気、アルゴン、ヘリウム等
の気体を使用して実施）でパージして、上記と同様な波
長変換を行った。
用いて説明した外部共振器部分を有する紫外線発生光学
系、すなわち外部共振器内に非線形光学結晶を配置した
波長変換系について、本発明を適用したが、ここでは、
図２に示す外部共振器内を、炭化水素化合物分が０．１
％以下の気体（窒素、乾燥空気、アルゴン、ヘリウム等
の気体を使用して実施）でパージして、上記と同様な波
長変換を行った。
【００４６】この結果、ほぼ図６に示すデータ（実施の
形態例３）と同様のデータが得られ、大気中で行ったも
のに比べ、１０００時間以上もの間、紫外光出力が得ら
れるというデータが得られた。
形態例３）と同様のデータが得られ、大気中で行ったも
のに比べ、１０００時間以上もの間、紫外光出力が得ら
れるというデータが得られた。
【００４７】実施の形態例７〜１２ この実施の形態例は、実施の形態例１〜６と同様に、図
２の外部共振器部分を各雰囲気にしたが、これら実施の
形態例７〜１２では、実施の形態例１〜６が各雰囲気ガ
スをパージする手法を用いたのに対し、ここでは、外部
共振器の構成要素を配置する空間を、もともと各雰囲気
ガスで封入するようにした。この結果、対応する実施の
形態例１〜６と同様の効果が得られた。また、水分、油
分（炭化水素化合物分）を吸着させる材料を共振器とと
もに封入することによっても、同様の効果が得られた。
２の外部共振器部分を各雰囲気にしたが、これら実施の
形態例７〜１２では、実施の形態例１〜６が各雰囲気ガ
スをパージする手法を用いたのに対し、ここでは、外部
共振器の構成要素を配置する空間を、もともと各雰囲気
ガスで封入するようにした。この結果、対応する実施の
形態例１〜６と同様の効果が得られた。また、水分、油
分（炭化水素化合物分）を吸着させる材料を共振器とと
もに封入することによっても、同様の効果が得られた。
【００４８】実施の形態例１３ この実施の形態例では、実施の形態例１〜１２と同様で
あるが、水分、油分（炭化水素化合物分）などの不純物
量が０．１％以下で、酸素が１％、２０％、５０％、８
０％、１００％の気体でミラー部及び光学結晶部の雰囲
気を満たした場合で実施した。この場合の紫外光出力の
経時変化は、図５に示すとおりで、良好な結果が得られ
た。この例から、酸素が含まれなくても１０００時間紫
外光は得られるが（たとえば図１、図６参照）、酸素が
１％以上含まれることにより、紫外光出力がさらに安定
になることがわかる。特にたとえば、不純物量がきわめ
て微量の場合（たとえば不純物量が０．００１％以下の
ような場合）に、酸素が１％以上存在すると、図５に示
すように、出力が全く低下しないといってよいデータが
得られる。これは、紫外光によりわずかに生成すると考
えられる散乱物質を、酸素が酸化によって分解するため
ではないかと推定される。
あるが、水分、油分（炭化水素化合物分）などの不純物
量が０．１％以下で、酸素が１％、２０％、５０％、８
０％、１００％の気体でミラー部及び光学結晶部の雰囲
気を満たした場合で実施した。この場合の紫外光出力の
経時変化は、図５に示すとおりで、良好な結果が得られ
た。この例から、酸素が含まれなくても１０００時間紫
外光は得られるが（たとえば図１、図６参照）、酸素が
１％以上含まれることにより、紫外光出力がさらに安定
になることがわかる。特にたとえば、不純物量がきわめ
て微量の場合（たとえば不純物量が０．００１％以下の
ような場合）に、酸素が１％以上存在すると、図５に示
すように、出力が全く低下しないといってよいデータが
得られる。これは、紫外光によりわずかに生成すると考
えられる散乱物質を、酸素が酸化によって分解するため
ではないかと推定される。
【００４９】実施の形態例１４〜１９ この実施の形態例は、光学部品に波長４００ｎｍ以下の
紫外線を照射する光学系について、その光学部品の周辺
部の雰囲気を実施の形態例１〜６と同様な、各雰囲気に
したものである。この結果、従来見られたような光学部
品の特性の低下は見られず、良好な特性が得られた。
紫外線を照射する光学系について、その光学部品の周辺
部の雰囲気を実施の形態例１〜６と同様な、各雰囲気に
したものである。この結果、従来見られたような光学部
品の特性の低下は見られず、良好な特性が得られた。
【００５０】実施の形態例２０〜２５ この実施の形態例は、光学部品に波長４００ｎｍ以下の
紫外線を照射する光学系について、その光学部品の雰囲
気を実施の形態例７〜１２と同様に、各雰囲気にしたも
のである。この結果、従来見られたような光学部品の特
性の低下は見られず、良好な特性が得られた。なお、上
述の実施の形態例は、いずれも波長２６６ｎｍの紫外光
についての結果であるが、同様の結果が波長３５５ｎｍ
の紫外光について得られた。波長５２２ｎｍの光では得
られなかった。波長４００ｎｍ以下の紫外光について本
発明の効果が得られることがわかる。
紫外線を照射する光学系について、その光学部品の雰囲
気を実施の形態例７〜１２と同様に、各雰囲気にしたも
のである。この結果、従来見られたような光学部品の特
性の低下は見られず、良好な特性が得られた。なお、上
述の実施の形態例は、いずれも波長２６６ｎｍの紫外光
についての結果であるが、同様の結果が波長３５５ｎｍ
の紫外光について得られた。波長５２２ｎｍの光では得
られなかった。波長４００ｎｍ以下の紫外光について本
発明の効果が得られることがわかる。
【００５１】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射してもそ
の特性を低下させない紫外線照射光学系を提供すること
ができ、また、外部共振器を用いて波長４００ｎｍ以下
の紫外線に波長変換する場合においても、高調波出力の
低下を生じない紫外線発生光学系を提供することができ
る。
光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線を照射してもそ
の特性を低下させない紫外線照射光学系を提供すること
ができ、また、外部共振器を用いて波長４００ｎｍ以下
の紫外線に波長変換する場合においても、高調波出力の
低下を生じない紫外線発生光学系を提供することができ
る。
【図１】 本発明の実施の形態例１の作用を示す図であ
る。
る。
【図２】 波長４００ｎｍ以下の紫外線に波長変換する
場合に用いる外部共振器の構成を示す図である。
場合に用いる外部共振器の構成を示す図である。
【図３】 従来技術の問題点を示す図である。
【図４】 本発明の実施の形態例１の作用を示す図であ
る。
る。
【図５】 本発明の実施の形態例２の作用を示す図であ
る。
る。
【図６】 本発明の実施の形態例３の作用を示す図であ
る。
る。
１〜３・・・高反射率ミラー、４・・・入射ミラー、５
・・・非線形光学結晶（ＢＢＯ）。
・・・非線形光学結晶（ＢＢＯ）。
Claims (29)
- 【請求項１】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線
を照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気の湿度を大気よりも低減する措置
を施すことを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項２】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線
を照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の窒素としたこ
とを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項３】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線
を照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の乾燥空気とし
たことを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項４】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線
を照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を水分が０．１％以下の気体とし
たことを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項５】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外線
を照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を炭化水素化合物分が０．１％以
下の気体としたことを特徴とする紫外線を照射する光学
系。 - 【請求項６】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置し
た波長変換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発生
させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲
気の湿度を大気よりも低減する措置を施すことを特徴と
する紫外線を発生する光学系。 - 【請求項７】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置し
た波長変換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発生
させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲
気を９９．９％以上の窒素としたことを特徴とする紫外
線を発生する光学系。 - 【請求項８】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置し
た波長変換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発生
させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲
気を９９．９％以上の乾燥空気としたことを特徴とする
紫外線を発生する光学系。 - 【請求項９】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置し
た波長変換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発生
させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲
気を水分が０．１％以下の気体としたことを特徴とする
紫外線を発生する光学系。 - 【請求項１０】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発
生させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰
囲気を炭化水素化合物分が０．１％以下の気体としたこ
とを特徴とする紫外線を発生する光学系。 - 【請求項１１】 光学部品に波長２６６ｎｍの紫外線を
照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気の湿度を大気よりも低減する措置
を施すことを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項１２】 光学部品に波長２６６ｎｍの紫外線を
照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の窒素としたこ
とを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項１３】 光学部品に波長２６６ｎｍの紫外線を
照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を９９．９％以上の乾燥空気とし
たことを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項１４】 光学部品に波長２６６ｎｍの紫外線を
照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を水分が０．１％以下の気体とし
たことを特徴とする紫外線を照射する光学系。 - 【請求項１５】 光学部品に波長２６６ｎｍの紫外線を
照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を炭化水素化合物分が０．１％以
下の気体としたことを特徴とする紫外線を照射する光学
系。 - 【請求項１６】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気
の湿度を大気よりも低減する措置を施すことを特徴とす
る紫外線を発生する光学系。 - 【請求項１７】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気
を９９．９％以上の窒素としたことを特徴とする紫外線
を発生する光学系。 - 【請求項１８】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気
を９９．９％以上の乾燥空気としたことを特徴とする紫
外線を発生する光学系。 - 【請求項１９】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気
を水分が０．１％以下の気体としたことを特徴とする紫
外線を発生する光学系。 - 【請求項２０】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰囲気
を炭化水素化合物分が０．１％以下の気体としたことを
特徴とする紫外線を発生する光学系。 - 【請求項２１】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部の雰囲気の湿度を大気よりも低
減する措置を施すことを特徴とする紫外線を発生する光
学系。 - 【請求項２２】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部の雰囲気を９９．９％以上の窒
素としたことを特徴とする紫外線を発生する光学系。 - 【請求項２３】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部の雰囲気を９９．９％以上の空
気としたことを特徴とする紫外線を発生する光学系。 - 【請求項２４】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部の雰囲気を水分が０．１％以下
の気体としたことを特徴とする紫外線を発生する光学
系。 - 【請求項２５】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長２６６ｎｍの紫外線を発生さ
せる場合、そのミラー部の雰囲気を炭化水素化合物分が
０．１％以下の気体としたことを特徴とする紫外線を発
生する光学系。 - 【請求項２６】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外
線を照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を酸素が１〜１００％で、かつ、
不純物が０．１％以下の気体にしたことを特徴とする紫
外線を照射する光学系。 - 【請求項２７】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発
生させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰
囲気を酸素が１〜１００％で、かつ、不純物が０．１％
以下の気体にしたことを特徴とする紫外線を発生する光
学系。 - 【請求項２８】 光学部品に波長４００ｎｍ以下の紫外
線を照射する光学系であって、 その光学部品の雰囲気を酸素が１〜１００％で、かつ、
水分が０．１％以下の気体にしたことを特徴とする紫外
線を照射する光学系。 - 【請求項２９】 外部共振器内に非線形光学結晶を配置
した波長変換において波長４００ｎｍ以下の紫外線を発
生させる場合、そのミラー部及び非線形光学結晶部の雰
囲気を酸素が１〜１００％で、かつ、水分が０．１％以
下の気体にしたことを特徴とする紫外線を発生する光学
系。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10272591A JPH11167132A (ja) | 1997-09-09 | 1998-09-09 | 紫外線を照射または発生する光学系 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9-243739 | 1997-09-09 | ||
| JP24373997 | 1997-09-09 | ||
| JP10272591A JPH11167132A (ja) | 1997-09-09 | 1998-09-09 | 紫外線を照射または発生する光学系 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11167132A true JPH11167132A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=26536409
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10272591A Pending JPH11167132A (ja) | 1997-09-09 | 1998-09-09 | 紫外線を照射または発生する光学系 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11167132A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7110425B2 (en) | 2002-04-03 | 2006-09-19 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Laser module and production process thereof |
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| JP2006344727A (ja) * | 2005-06-08 | 2006-12-21 | Sharp Corp | レーザ装置の製造方法 |
| US7226222B2 (en) | 2004-08-13 | 2007-06-05 | Fujifilm Corporation | Laser module with sealed packages having reduced total volume |
| JP2007173434A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Sharp Corp | 半導体レーザ装置及び組立装置 |
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