JPH11163088A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板の姿勢を水平姿勢と垂直姿勢との間で変
換する姿勢変換機構を備えた基板処理装置であって、コ
ンパクトな基板処理装置を提供する。 【解決手段】 基板処理装置１は、複数の処理部を直線
的に配列した基板処理部６００を備え、さらにこれらの
処理部の直線的配列の側方に、水平移載ロボット２０
０、姿勢変換機構３００、プッシャ４００などの受渡し
機構を備える。また姿勢変換機構３００は、水平姿勢と
垂直姿勢との間でその基板の姿勢を変換することが可能
である。別設の基板姿勢変換装置をこれらの処理部の直
線的配列の延長線上に設ける場合に比べて、本発明の基
板処理装置１はコンパクトな装置を実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、液
晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、
光ディスク用基板等の基板（以下「基板」という）に所
定の処理を施す基板処理装置であって、基板の姿勢を変
換する機構を備える基板処理装置に関する。

【０００２】

【関連技術】従来、複数の基板に対する処理を行うた
め、搬送キャリアに収納された複数の基板を搬入して処
理を行った後、基板を搬出する基板処理装置が存在す
る。このような基板処理装置においては、直線的に配列
された各処理部において基板処理が順次行われる。そし
て、これらの基板処理装置においては、複数の基板はそ
れぞれが垂直姿勢とされ、さらにお互いが平行に配列さ
れて保持された状態において基板に対する処理が行われ
る。

【０００３】従来の搬送キャリア内においては、基板処
理装置での処理時と同様、複数の基板はそれぞれが垂直
姿勢で互いに平行配列された状態において搬送されてい
たため、搬入時および搬出時には特に姿勢を変換する必
要はなかった。

【０００４】しかしながら、近年の基板サイズの増大に
よって、基板の搬送時においては水平姿勢で搬送するこ
とが多くなってきた。これは、垂直姿勢で搬送すると、
基板が搬送キャリア内で揺動することによって基板同士
が接触・衝突し、汚染物資の発生原因となることがあっ
たためである。

【０００５】一方、基板処理装置においては、その内部
で行われる処理の都合上、垂直姿勢で保持されることが
好ましい。そのため、複数の基板の姿勢を水平姿勢と垂
直姿勢との間で変換することが必要になる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、直線的
に配列された複数の処理部の延長上にこのような姿勢変
換を行う装置を併置するだけでは、基板処理装置の配列
方向の長さが大きくなってしまう。したがって、フット
プリントの増大を招くことになり、クリーンルームのス
ペースの有効利用を図ることができないという問題を有
する。

【０００７】そこで、本発明は前記問題点に鑑み、基板
の姿勢を水平姿勢と垂直姿勢との間で変換する姿勢変換
機構を備えた基板処理装置であって、コンパクトな基板
処理装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１に記載の基板処理装置は、基板に対して所
定の処理を行う基板処理装置であって、(a)複数の処理
部の直線的配列として構成され、基板に一連の処理を順
次に行うための処理部列と、(b)基板を水平姿勢で待機
させる基板待機部と、(c)基板を垂直姿勢の状態で前記
処理部列に沿って搬送する搬送手段と、(d)前記搬送手
段と前記基板待機部との間で基板を受け渡す受渡し部
と、を備え、前記受渡し部は、(d-1)基板の姿勢を水平
姿勢と垂直姿勢との間で変換する姿勢変換手段、を有す
るとともに、前記受渡し部が、前記処理部列における列
方向の側方に配置されていることを特徴とする。

【０００９】請求項２に記載の基板処理装置は、請求項
１に記載の基板処理装置において、前記姿勢変換手段
は、前記基板待機部に水平姿勢で搬入された基板を垂直
姿勢に変換することを特徴とする。

【００１０】請求項３に記載の基板処理装置は、請求項
１に記載の基板処理装置において、前記姿勢変換手段
は、前記処理部列において垂直姿勢で処理された基板を
水平姿勢に変換することを特徴とする。

【００１１】請求項４に記載の基板処理装置は、請求項
１ないし請求項３のいずれかに記載の基板処理装置にお
いて、前記受渡し部と前記搬送手段との間の基板の受渡
しは、前記複数の処理部のうちの特定の処理部の上方で
なされることを特徴とする。

【００１２】請求項５に記載の基板処理装置は、請求項
４に記載の基板処理装置において、前記搬送手段は、(c
-1)基板に接触して基板を保持する保持手段を備えてお
り、前記特定の処理部は、前記保持手段を洗浄する保持
手段洗浄部であることを特徴とする。

【００１３】請求項６に記載の基板処理装置は、請求項
５に記載の基板処理装置において、前記受渡し部は、(d
-2)前記姿勢変換手段と前記搬送手段との間で基板を垂
直姿勢のまま移載する移載手段をさらに備え、前記移載
手段は、前記保持手段洗浄部の上方に移動して前記搬送
手段との間で基板の授受を行うことを特徴とする。

【００１４】請求項７に記載の基板処理装置は、請求項
６に記載の基板処理装置において、前記保持手段は、基
板を挟持する一対の保持部材を有するとともに、前記保
持手段洗浄部においては、前記一対の保持部材のそれぞ
れを洗浄する第１洗浄部と第２洗浄部とが所定の空隙を
隔てて配置されており、前記移載手段は、前記空隙に進
入して前記搬送手段との間で基板を受渡し可能であるこ
とを特徴とする。

【００１５】請求項８に記載の基板処理装置は、請求項
６に記載の基板処理装置において、前記移載手段は、(d
-2-1)垂直姿勢の基板を鉛直軸まわりに旋回させる旋回
手段を備えることを特徴とする。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて説明する。

【００１７】＜Ａ．第１実施形態＞ ＜装置の概要＞図１、図２、および図３は、本実施形態
の基板処理装置１を示す図であり、これらの図を参照し
て装置の概要を説明する。図１は、本実施形態の基板処
理装置１の構成を示す平面図であり、図２は基板処理装
置１の一部の構成を示す斜視図である。また、図３は、
矢印ＡＰ（図２参照）の方向から見た基板処理装置１の
内部構成を示す側面図である。

【００１８】これらの図に示すように、基板処理装置１
は、キャリア載置部１００、水平移載ロボット２００、
姿勢変換機構３００、プッシャ４００、搬送機構５０
０、および基板処理部６００を備える。

【００１９】キャリア載置部１００には、複数の基板Ｗ
を収納するキャリアＣが載置され、基板処理装置１の外
部との間で、キャリアＣに収納された基板Ｗの搬入およ
び搬出を行う。なお、このときこれら複数の基板Ｗはキ
ャリアＣ内において、水平姿勢において保持されてい
る。

【００２０】水平移載ロボット２００は多関節型の搬送
ロボットであり、基台２１０内部に連通する昇降軸２２
０と、基台２１０上方において昇降軸２２０上端にその
一端が連結された第１アーム２３０と、第１アーム２３
０他端にその一端が連結された第２アーム２４０と、第
２アーム２４０の他端に連結された基板支持ハンド２５
０とを備えており、各部はそれぞれ図示しない内部の駆
動機構により以下のように駆動される。

【００２１】図２に示すように昇降軸２２０は鉛直方向
（Ｚ方向）に昇降自在となっており、さらに、第１アー
ム２３０は昇降軸２２０との連結部分における回動軸Ａ
１の周りのほぼ水平面内において任意の角度で回動（旋
回）可能となっている。同様に、第２アーム２４０は第
１アーム２３０との連結部分における回動軸Ａ２の周
り、基板支持ハンド２５０は第２アーム２４０との連結
部分における回動軸Ａ３の周りのほぼ水平面内におい
て、それぞれ任意の角度で回動（旋回）可能となってい
る。そして、このような機構により水平移載ロボット２
００は、基板支持ハンド２５０で基板Ｗを保持しつつ所
定範囲の３次元空間内で移動自在となっており、キャリ
ア載置部１００に載置されたキャリアＣと姿勢変換機構
３００との間で基板Ｗを搬送する。

【００２２】姿勢変換機構３００は、支持台３０５、ベ
ース３１０、回動台３２０、基板を保持するための一対
の第１保持機構３３０および一対の第２保持機構３４
０、第１整列装置３５０、第２整列装置３６０を有して
いる。回動台３２０は、軸Ａ３０を中心にして矢印ＡＲ
３０（図３参照）が示す方向に回転することが可能であ
り、図３中において実線で示す姿勢Ｐ１と二点鎖線で示
す姿勢Ｐ２をとることが可能である。また第１保持機構
３３０および第２保持機構３４０は回動台３２０と連動
して回転する。したがって回動台３２０を回転させるこ
とにより、姿勢変換機構３００は、第１保持機構３３０
および第２保持機構３４０に保持された複数の基板Ｗの
姿勢を水平姿勢と垂直姿勢との間で変換することができ
る。

【００２３】プッシャ４００は、ベース４１０、Ｙ方向
可動部４２０、Ｚ方向可動部４３０、ホルダ４４０を有
する。Ｙ方向可動部４２０は、ベース４１０に設けられ
る図示しないモータ、ボールねじ、レールなどによって
駆動され、ベース４１０に対して矢印ＡＲ４２のように
水平方向（Ｙ方向）に所定の範囲を直線運動する。Ｚ方
向可動部４３０は、Ｙ方向可動部４２０に設けられる図
示しないモータ、ボールねじ、レールによって駆動さ
れ、Ｙ方向可動部４２０に対して矢印ＡＲ４０のように
鉛直方向（Ｚ方向）に所定の範囲を直線運動する。ま
た、ホルダ４４０は、Ｚ方向可動部４３０の上部に設け
られ、垂直姿勢を有する基板を保持することができ、Ｚ
方向可動部４３０の上下移動により、姿勢Ｐ３、Ｐ４を
とり得る。このような機構を用いることによって、プッ
シャ４００は、垂直姿勢を有する複数の基板Ｗを姿勢変
換機構３００と搬送機構５００との間で搬送することが
できる。またプッシャ４００は、その上下移動によっ
て、姿勢変換機構３００および搬送機構５００のそれぞ
れとの間で、垂直姿勢を有する複数の基板Ｗの受け渡し
を行うことが可能である。

【００２４】搬送機構５００は、水平移動及び昇降移動
が可能な搬送ロボット５１０を備える。また、搬送機構
５００は、垂直姿勢を有する複数の基板Ｗを挟持するた
めの一対の挟持機構５２０を備えている。挟持機構５２
０のそれぞれは、支持部５２２、５２４を有しており、
支持部５２２、５２４のそれぞれは、複数の基板を支持
するための複数の溝ＧＶを有している。また挟持機構５
２０は、図２の矢印ＡＲの向きに回動することによっ
て、基板Ｗを支持したり、基板Ｗの支持を解除したりす
ることができる。このような構成を有する搬送機構５０
０は、プッシャ４００との間で基板の授受を行う。また
処理部に設けられているリフタ５５０およびリフタ５６
０のそれぞれとの間での基板の授受を行うこともでき
る。搬送機構５００は、洗浄処理前、洗浄処理中及び洗
浄処理後の基板を一箇所から別の箇所に搬送したり移載
したりする。

【００２５】基板処理部６００は、一対の挟持機構５２
０を洗浄するための洗浄槽６１２ａ、６１２ｂを有する
搬送機構水洗処理部６１０と、薬液を収容する薬液槽Ｃ
Ｂを有する薬液処理部６２０、６４０と、純水を収容す
る水洗槽ＷＢを有する水洗処理部６３０、６５０と、乾
燥処理部６６０とを備える。なお、搬送機構水洗処理部
６１０は、厳密には基板を処理するものではないが、便
宜上、基板処理に付随する処理を行うものとして基板処
理部６００の１つとして扱う。

【００２６】またこれらの複数の処理部はＸ方向に直線
的に配列されており、この直線的配列の側方には前述の
搬送機構５００が設けられている。搬送機構５００は、
直線的配列方向に移動することが可能であり、前述のよ
うな各処理部の相互間において基板の搬送を行う。

【００２７】さらに薬液処理部６２０及び水洗処理部６
３０の後方側には、リフタ５５０が配置されている。リ
フタ５５０は、上下動（Ｚ方向）および横行（Ｘ方向）
が可能であり、搬送機構５００から受け取った基板を薬
液処理部６２０の薬液槽ＣＢに浸漬したり、水洗処理部
６３０の水洗槽ＷＢに浸漬したりする。また、同様に、
薬液処理部６４０及び水洗処理部６５０の後方側には、
リフタ５６０が配置されている。リフタ５６０は、上下
動（Ｚ方向）および横行（Ｘ方向）が可能であり、搬送
機構５００から受け取った基板を薬液処理部６４０の薬
液槽ＣＢに浸漬したり、水洗処理部６５０の水洗槽ＷＢ
に浸漬したりする。このような機構によって、これらの
処理部において薬液処理および水洗処理が行われ得る。

【００２８】また、上記の各処理の制御および各駆動機
構などの制御は、制御部ＣＬによって行われる。

【００２９】＜基板処理の一例＞次に、このような基板
処理装置１による処理手順の一例を説明する。

【００３０】基板処理装置１において処理を行う複数の
基板Ｗは、キャリアＣ内において水平に収納された状態
で、キャリア載置部１００に搬入されて載置される。水
平移載ロボット２００は、キャリア内に収納されている
複数の基板を同時に取り出し、姿勢Ｐ１（図３参照）の
姿勢変換機構３００に受け渡す。次に、姿勢変換機構３
００は、水平の軸Ａ３０まわりに回動台３２０を９０度
回転して姿勢Ｐ２（図３参照）となり、水平姿勢で受け
取った複数の基板Ｗを垂直姿勢に変換する。

【００３１】位置Ｐ３（図３参照）に待機していたプッ
シャ４００は、位置Ｐ４の方向へ上昇し、この上昇時に
垂直姿勢の基板を受け取る。さらにプッシャ４００は、
Ｙ方向を正の向きに移動して、Ｚ方向可動部４３０の一
部を洗浄槽６１２ａ、６１２ｂの間の空隙部６１４に進
入させることによって、複数の基板を搬送機構水洗処理
部６１０の上方へと搬送する。そして搬送機構５００
は、挟持機構５２０を用いることによって、垂直姿勢を
有する複数の基板をプッシャ４００から受け取って把持
する。

【００３２】さらに、薬液処理部６２０、水洗処理部６
３０、薬液処理部６４０、水洗処理部６５０、乾燥処理
部６６０の順序で所定の処理を基板に対して行う場合を
想定して説明を続ける。

【００３３】搬送ロボット５１０は、Ｘ方向を正の向き
に移動して、薬液処理部６２０の上方に複数の基板を搬
送し、リフタ５５０に複数の基板を移載する。基板を受
け取ったリフタ５５０は下降して、基板を薬液槽ＣＢに
浸漬する。そして、基板に対して所定の薬液処理が行わ
れる。

【００３４】一方、搬送ロボット５１０は、移載終了
後、Ｘ方向を負の向きに搬送機構水洗処理部６１０にま
で移動する。さらに搬送ロボット５１０は、下降（Ｚ方
向の負の向きに移動）することによって、一対の挟持機
構５２０のそれぞれを洗浄槽６１２ａ、６１２ｂに浸漬
して洗浄する。挟持機構５２０は、薬液処理部６２０上
方において薬液雰囲気によって汚染されることがあるな
どのため、洗浄することが好ましいからである。

【００３５】また薬液処理部６２０において基板に対し
て所定の薬液処理が行われた後、リフタ５５０は上昇
し、さらに水洗処理部６３０へとＸ方向を負の向きに移
動する。水洗処理部６３０において純水による水洗処理
を行うため、リフタ５５０は下降して、水洗槽ＷＢに基
板を浸漬する。

【００３６】搬送ロボット５１０は、前述の挟持機構５
２０の洗浄処理を終えた後、水洗処理部６３０へと移動
する。基板に対する次の処理を薬液処理部６４０におい
て行うために、基板をリフタ５５０から受け取るためで
ある。搬送ロボット５１０は、リフタ５５０から基板を
受け取ったのち、薬液処理部６４０の位置にまでＸ方向
を負の向きに移動する。そして、薬液処理部６４０の位
置において待機するリフタ５６０に対して、基板を受け
渡す。基板を受け取ったリフタ５６０は下降して、薬液
処理部６４０の薬液槽ＣＢに基板を浸漬して所定の薬液
処理を行う。

【００３７】そして、上記と同様にして、薬液処理部６
４０および水洗処理部６５０における基板に対する所定
の処理と、搬送機構水洗処理部６１０における挟持機構
５２０に対する洗浄処理とが行われる。

【００３８】搬送ロボット５１０は、水洗処理部６５０
において、リフタ５６０から基板を受け取り、乾燥処理
部６６０に移動して乾燥処理を行う。乾燥処理が終了し
た後、搬送機構５００は、基板を搬送機構水洗処理部６
１０の上方へと搬送する。

【００３９】以上のようにして、基板処理部６００にお
ける処理が行われる。

【００４０】基板処理部６００において所定の一連の処
理が施された複数の基板Ｗは、搬送機構水洗処理部６１
０の上方において搬送機構５００からプッシャ４００へ
と受け渡された後、姿勢変換機構３００に移載される。
姿勢変換機構３００は、垂直姿勢から水平姿勢へと基板
の姿勢を変換する。さらに水平移載ロボット２００は、
水平姿勢で保持される複数の基板を、キャリア載置部１
００に載置されるキャリアＣの内部に収納する。そし
て、これらの複数の基板は、キャリアＣと共に基板処理
装置１の外部に搬出される。

【００４１】＜姿勢変換機構＞次に、姿勢変換機構３０
０の構造および姿勢変換機構３００を利用した姿勢変換
に関して詳細な説明を進めていく。

【００４２】まず、姿勢変換機構３００の構造について
詳細に説明する。

【００４３】図４および図５は、姿勢変換機構３００の
構造を示す図である。図４は、ＹＺ平面に平行な面にお
ける概略断面図であり、図５は、ＸＺ平面に平行な面に
おける概略断面図である。

【００４４】図４および図５に示すように、姿勢変換機
構３００は、支持台３０５（図２参照）、ベース３１
０、回動台３２０、基板を保持するための一対の第１保
持機構３３０および一対の第２保持機構３４０、第１整
列装置３５０、第２整列装置３６０を有している。

【００４５】ベース３１０には、モータＭ３０が固定さ
れており、モータＭ３０の回転軸はリンク機構３１５に
よって回動台３２０と連結されている。したがって、回
動台３２０は、モータＭ３０の回転駆動によって、軸Ａ
３０を中心にして、矢印ＡＲ３０が示す方向に回転する
ことが可能である。

【００４６】ここで、以降の説明のため仮想基準面Ｆ
（図４参照）を導入する。仮想基準面Ｆは、軸Ａ３０を
含み、かつ、回動台３２０の回動に伴って回転する平面
であって、回動台３２０が姿勢Ｐ１（図３参照）の状態
にあるときにＸＹ平面に対して平行な平面であるとす
る。よって、回動台３２０の回転によって回動台３２０
が姿勢Ｐ２（図３参照）を有する場合には、仮想基準面
ＦはＸＹ平面に対して垂直になる。

【００４７】＜第１保持機構＞回動台３２０は、基板を
保持するための一対の第１保持機構３３０を有してい
る。第１保持機構３３０は、３つの自由度を有し、仮想
基準面Ｆに対して垂直および水平方向の直線運動と、仮
想基準面Ｆに垂直な軸まわりの回転運動とを行うことが
できる。以下では、これらの各運動を実現する機構につ
いて説明する。

【００４８】図５は、これらの駆動機構の概略を示す図
である。まず、図５を参照しながら、仮想基準面Ｆに対
して垂直方向の直線運動を達成する駆動機構について説
明する。回動台３２０（図４参照）の上側には固定台３
２２が固定されており、固定台３２２の一部には、リニ
アブッシュ３２２ａが備えられている。また昇降ベース
３２４は、このリニアブッシュ３２２ａを貫通する部分
を有しており、矢印ＡＲ３１の方向、つまり仮想基準面
Ｆに対して垂直な方向に固定台３２２に対して移動す
る。

【００４９】固定台３２２と昇降ベース３２４との間の
相対運動は、シリンダＭ３１の水平方向の直線運動を昇
降方向の直線運動に変換することにより行われる。ここ
で図４を参照する。シリンダＭ３１は、固定台３２２に
固定されており、シリンダＭ３１の可動部の水平方向の
直線運動は、横行スライダ部３２３の矢印ＡＲ３１ａ
（図４参照）で示す方向の直線運動として伝達される。
また横行スライダ部３２３はその上面にテーパ部３２３
ａを有している。

【００５０】一方、昇降ベース３２４は、ローラ３２４
ａを有している。ローラ３２４ａは、軸受部３２４ｂを
介して、昇降ベース３２４に軸Ａ３１まわりに回動可能
であるように取り付けられている。このローラ３２４ａ
は、横行スライダ部３２３の上面に配置されており、テ
ーパ部３２３ａ上を転がることができる。

【００５１】上記の横行スライダ部３２３は、固定台３
２２の上側に設けられたレール部３２２ｂを走行するこ
とによって直線運動（矢印ＡＲ３１ａ）し、この直線運
動に応じてローラ３２４ａがテーパ部３２３ａの上を転
がることによって、ローラ３２４ａはテーパ部３２３ａ
の傾きに応じた昇降運動を行う。このローラ３２４ａの
昇降運動に応じて、昇降ベース３２４は矢印ＡＲ３１で
示される方向（鉛直方向）に直線運動を行うことにな
る。なお、昇降ベース３２４は、バネなどの付勢手段Ｓ
（図５参照）によって、固定台３２２に近づく方向に付
勢されている。これは、回動台３２０がどのような姿勢
をとる場合にあっても、ローラ３２４ａが横行スライダ
部３２３から離れることがないようにするためである。
したがって、回動台３２０が姿勢Ｐ１（図３参照）以外
の姿勢をとる場合にあっても、昇降ベース３２４は横行
スライダ部３２３のテーパ部３２３ａの傾きに応じた相
対運動を行う。

【００５２】次に、第１保持機構３３０が仮想基準面Ｆ
に対して水平方向に行う直線運動について説明する。こ
の水平方向の直線運動は、昇降ベース３２４と横行ベー
ス３２６との間の相対移動により実現される。

【００５３】昇降ベース３２４上には、直線状のレール
３２４ｃが備えられている。横行ベース３２６はガイド
３２６ａを有し、そのガイド３２６ａはこのレール３２
４ｃ上を矢印ＡＲ３２で示す方向に滑動することができ
る。また昇降ベース３２４は、横行駆動用のシリンダＭ
３２を備えている。シリンダＭ３２の直線運動は、矢印
ＡＲ３２で示す方向の横行ベース３２６の直線運動へと
伝達される。このようにして、横行ベース３２６は、昇
降ベース３２４に対して矢印ＡＲ３２で示す方向に直線
状に駆動される。

【００５４】横行ベース３２６は、モータＭ３３を備え
ている。またモータＭ３３の回転軸は第１保持機構３３
０に接続されている。よって第１保持機構３３０は、こ
のモータＭ３３の回転駆動によって、矢印ＡＲ３３で示
すような回転運動を行うことができる。このようにし
て、第１保持機構３３０は、仮想基準面Ｆに垂直な軸ま
わりに回転運動を行うことができる。

【００５５】また一対の第１保持機構３３０のそれぞれ
は、その表面に複数の基板を保持するための複数の保持
溝３３２を有している。これらの複数の保持溝３３２
は、Ｚ方向に配列されている。図６は、複数の保持溝３
３２のそれぞれに基板Ｗが水平姿勢で載置されている状
態において、その一部を拡大した断面図である。このよ
うに、一対の第１保持機構３３０は、一対の保持溝３３
２によって、水平姿勢を有する複数の基板を保持するこ
とができる。なお、これらの保持溝３３２は、フッ素樹
脂製、とりわけテフロン（商標）製であることが好まし
い。

【００５６】さらにこれらの複数の保持溝３３２は、第
１保持機構３３０の片面に複数の保持溝３３２ａの配列
を有し、その反対側の面に複数の保持溝３３２ｂの配列
を有する。第１保持機構３３０は、上記の回転機構によ
って回転可能であるので、基板を保持する保持溝３３２
ａおよび３３２ｂを切り換えることができる。たとえ
ば、基板処理部６００における基板処理前の基板を一対
の保持溝３３２ａによって保持し、基板処理後の基板を
一対の保持溝３３２ｂによって保持することができる。
このように基板処理前後において基板を保持する保持溝
を切り換えるようにすれば、基板処理前に基板に付着し
ていた汚染物が基板処理が施された基板に付着すること
がない。

【００５７】＜第２保持機構＞また回動台３２０は、基
板を保持するための一対の第２保持機構３４０を有して
いる。第２保持機構３４０は、モータＭ３４によって回
転駆動される。

【００５８】一対の第２保持機構３４０のそれぞれは、
その表面に複数の基板を保持するための複数の保持溝３
４２を有している。これらの複数の保持溝３４２は、Ｚ
方向に配列されている。図７は、複数の保持溝３４２の
それぞれに基板Ｗが垂直姿勢で載置されている状態にお
いて、その一部を拡大した断面図である。保持溝３４２
のそれぞれはＶ字型の形状を有している。一対の第２保
持機構３４０は、このような形状を有する保持溝３４２
によって、垂直姿勢を有する複数の基板を保持すること
ができる。なお、これらの保持溝３４２は、フッ素樹脂
製、とりわけテフロン（商標）製であることが好まし
い。

【００５９】また、第１保持機構３３０と同様に、第２
保持機構３４０は、第２保持機構３４０の片面に複数の
保持溝の配列を有し、その反対側の面に複数の保持溝の
配列を有する。第２保持機構３４０は、モータＭ３４に
よって回転可能であるので、基板を保持する保持溝を切
り換えることができる。たとえば、基板処理部６００に
おける基板処理前の基板を片面の一対の保持溝によって
保持し、基板処理後の基板を反対側の面の一対の保持溝
によって保持することができる。このように基板処理前
後において基板を保持する保持溝を切り換えることによ
れば、基板処理前に基板に付着していた汚染物が基板処
理が施された基板に付着することがない。

【００６０】＜第１および第２整列装置＞さらに、回動
台３２０は、第１整列装置３５０および第２整列装置３
６０を有する。これらは、それぞれ、シリンダＭ３５お
よびシリンダＭ３６によって、Ｘ軸方向に横行駆動され
る。

【００６１】＜姿勢変換動作〜水平姿勢から垂直姿勢へ
の変換動作＞姿勢変換機構３００は、以上のような構造
を有する。このような構造を有する姿勢変換機構３００
は、第１保持機構３３０および第２保持機構３４０に保
持された複数の基板Ｗの姿勢を水平姿勢と垂直姿勢との
間で変換することができる。以下では、この姿勢変換動
作について説明する。

【００６２】まず、水平姿勢を垂直姿勢に変換する動作
について説明する。

【００６３】図８から図１７は、姿勢変換機構３００
が、複数の基板Ｗを水平姿勢から垂直姿勢へと変換する
動作を説明するための姿勢変換機構３００の概略側面図
である。また図１８から図２０は、それぞれ図８から図
１０に対応する状態を示す平面図である。

【００６４】まず図８および図１８に示すように、水平
移載ロボット２００は、キャリアＣから同時に取り出し
た複数の基板Ｗを、姿勢変換機構３００の−Ｙ方向から
姿勢変換機構３００に接近させる。さらに水平移載ロボ
ット２００（図２参照）は、これらの基板を矢印ＡＦ１
が示す向きに移動する。この際、複数の基板Ｗは、Ｚ方
向位置に関して、第１保持機構３３０の複数の保持溝３
３２の相互間の間隙を通過して所定の位置にまで移動す
る。したがって、基板Ｗと第１保持機構３３０とは接触
しない。

【００６５】そして水平移載ロボット２００は、複数の
基板Ｗを矢印ＡＦ２の向きに下降させて、第１保持機構
３３０の複数の保持溝３３２の上に載置する。これによ
って、複数の基板Ｗのそれぞれは、一対の第１保持機構
３３０の、対応する一対の保持溝３３２によって保持さ
れる。上記のような動作によって、複数の基板Ｗは図９
および図１９に示す状態を有することになる。ただし、
この状態においては、まだ複数の基板Ｗは第２保持機構
３４０と接触していない。なお、水平移載ロボット２０
０は、複数の基板Ｗを載置した後、その後の姿勢変換動
作と干渉しない位置に退避する。

【００６６】次に、第１保持機構３３０自体が回動台３
２０に対して矢印ＡＦ３で示す向きに移動する。したが
って、第１保持機構３３０によって保持されている複数
の基板Ｗも、矢印ＡＦ３で示す向きに水平移動する。そ
してこれら複数の基板Ｗは、第２保持機構３４０に接触
する位置にまで移動し（図２０参照）、複数の基板Ｗの
それぞれは第２保持機構３４０のＶ字型の保持溝３４２
のそれぞれに接触する。図１０および図２０は、移動後
の状態を示す図である。また図２１は、基板Ｗが保持溝
３４２に接触している状態を示す。したがって、複数の
基板Ｗは、第１保持機構３３０の保持溝３２２および第
２保持機構３４０の保持溝３４２によって、保持されて
いる状態となる。

【００６７】そして、回動台３２０が矢印ＡＦ４の向き
に９０度回転する。したがって、第１保持機構３３０お
よび第２保持機構３４０によって保持されている複数の
基板Ｗは、矢印ＡＦ４の向きに９０度回転し、図１１に
示す状態になる。この状態においては、複数の基板Ｗは
主に一対の第２保持機構３４０によって保持されてい
る。また基板Ｗは、回転開始時から第２保持機構３４０
によって支持されているため、回転中においても第１保
持機構３３０との間に相対移動を生じない。したがっ
て、基板Ｗと第１保持機構３３０との擦れに起因するパ
ーティクルは発生しない。

【００６８】さらに第１保持機構３３０は、矢印ＡＦ５
に示す向きに移動する。その移動距離は基板配列の間隔
Ｄ（図２２参照）よりも少ない距離であり、移動後の第
１保持機構３３０は複数の基板Ｗと接触しない状態にな
る。図２２は、第１保持機構３３０の保持溝３３２と基
板Ｗとの関係を示す図である。図２２において、移動後
の第１保持機構３３０の保持溝３３２が実線で表されて
おり、基板Ｗと接触していないことが表されている。な
お、図中において移動前の第１保持機構３３０の保持溝
３４２の位置が破線で示されている。また図１２は、第
１保持機構３３０が矢印ＡＦ５の向きに移動した後の状
態を示す図である。図１２において、複数の基板Ｗは第
２保持機構３４０の保持溝３４２によって保持されてお
り（図７参照）、第１保持機構３３０とは接触していな
い。

【００６９】ここでプッシャ４００は、一対の第１保持
機構３３０および第２保持機構３４０の間を矢印ＡＦ６
の向きに上昇する。図２３は、この上昇動作をＹＺ平面
に平行な面において表す図である。プッシャ４００は矢
印ＡＦ６の向きに上昇し、基板Ｗをホルダ４４０によっ
て保持して基板Ｗを押し上げる。これにより基板Ｗと第
２保持機構３４０との接触は解除され、ホルダ４４０に
よって基板Ｗは保持されることになる。プッシャ４００
は、一対の第２保持機構３４０の間、および一対の第１
保持機構３３０の間をさらに上昇し、図１３の状態とな
る。このようにして第２保持機構３４０に保持されてい
た基板Ｗは、プッシャ４００へと受け渡されるのであ
る。このプッシャ４００の上昇時において、複数の基板
Ｗと第１保持機構３３０とは接触していないため、接触
や擦れなどに起因するパーティクルが発生しない。

【００７０】姿勢変換機構３００の回動台３２０は、プ
ッシャ４００に複数の基板Ｗを受け渡した後、矢印ＡＦ
７の向きに９０度回転し、図１４の状態となる。その
後、第１保持機構３３０は、矢印ＡＦ８および矢印ＡＦ
９の向きに移動し、図１５の状態となる。一方、プッシ
ャ４００は、図１３および図１４に示す位置から、図１
５に示す位置へと矢印ＡＦ１０（図１４参照）の向きに
下降する。このようにして、姿勢変換機構３００によっ
て、複数の基板Ｗが水平姿勢から垂直姿勢へと変換され
てプッシャ４００へと受け渡される。なお、姿勢変換機
構３００の図１５における状態は、図８における状態と
ほぼ同じである。

【００７１】以上のようにして、複数の基板Ｗの配列を
垂直姿勢において保持することができるが、複数の基板
Ｗの配列の間にさらに別の複数の基板Ｗの配列を挿入し
て、同容積に倍の数の基板Ｗを収容することもできる。
この動作について以下でさらに説明する。

【００７２】姿勢変換済みの複数の基板Ｗ（以下、「第
１基板群」と称する）とは別の複数の基板Ｗ（以下、
「第２基板群」と称する）を水平移載ロボット２００に
よって姿勢変換機構３００に載置し、上記の図８から図
１１までに示す動作と同様の動作を繰り返す。これによ
って、図１６に示す状態にまで、第２基板群の姿勢を変
換する。なお、図１６は、上記説明における図１２に対
応する図である。

【００７３】次に、プッシャ４００は矢印ＡＦ１６に示
す向きに上昇して、ホルダ４４０に保持されている第１
基板群の基板Ｗのそれぞれを、第２保持機構３４０に保
持されている第２基板群の基板Ｗの相互間に挿入する。
そのためプッシャ４００のホルダ４４０は、Ｄ／２の間
隔で配列されている溝Ｇ（図２４参照）を有するもので
あることが好ましい。図２４は、ホルダ４４０の溝Ｇの
構造を示す断面図である。ここで、間隔Ｄは第１基板群
における基板相互間の間隔を表すものとする。このよう
なプッシャ４００の上昇によって、第１基板群と第２基
板群とが干渉しないようにして、溝Ｇのうち第１基板群
の基板を保持する溝Ｇ１に対してＹ方向にＤ／２ずれて
位置する溝Ｇ２によって第２基板群を保持するため、プ
ッシャ４００のＹ方向の位置は、Ｄ／２だけあらかじめ
ずれていることが好ましい。

【００７４】このずれを発生させるために、図１５に示
すように、たとえばプッシャ４００は矢印ＡＦ１０Ｂの
向きにＤ／２の距離だけ移動することができる。この場
合、基板Ｗにおいてデバイスが作成される面（以下、
「主面」と称する）について、第１基板群および第２基
板群の全ての主面が同一の向きに揃えられる。あるい
は、矢印ＡＦ１０Ｃの方向に軸ＡＣを中心として１８０
度回転することもできる。なお、この場合には第１基板
群および第２基板群の基板の主面がお互いに逆向きにな
る。これらの動作のうち何れを選択するかは、その後の
基板処理の内容等によって変更することができる。な
お、これらの動作は、図１４における矢印ＡＦ１０で示
す向きの下降動作と同時に行うことも可能である。

【００７５】上記の動作によって、第１基板群の基板が
保持されている溝Ｇ１が存在していた位置に、第２基板
群の基板を保持するための溝Ｇ２を位置させることがで
きる。このようにＹ方向にＤ／２だけずれた位置に第１
基板群の基板が配置されたホルダ４４０を、図１６にお
いて矢印ＡＦ１６で示す向きに上昇することができる。
したがって、姿勢変換機構３００の第２保持機構３４０
によって保持されている第２基板群の基板は、プッシャ
４００の上昇に際して、ホルダ４４０の溝Ｇ２の位置に
保持されてプッシャ４００に受け渡される。またホルダ
４４０に保持されている第１基板群の基板Ｗのそれぞれ
は、第２基板群の基板Ｗの相互間に挿入され、第１基板
群と第２基板群との間には接触が生じない。

【００７６】さらに上昇を続けたプッシャ４００は、図
１７に示すように、第１基板群および第２基板群の基板
を溝Ｇにおいて保持している。その後、回動台３２０が
矢印ＡＦ１７の向きに９０度回転することなどによっ
て、姿勢変換機構３００は図８に示す状態へと戻る。

【００７７】以上のようにして、プッシャ４００に倍密
度で基板Ｗを収容することができる。

【００７８】＜姿勢変換動作〜垂直姿勢から水平姿勢へ
の変換動作＞上記において、姿勢変換機構３００の姿勢
変換動作のうち、水平姿勢から垂直姿勢へと変換する動
作（以下、「順変換動作」とも称する）について説明し
た。

【００７９】以下では、逆に、垂直姿勢を水平姿勢に変
換する動作（以下、「逆変換動作」とも称する）につい
て説明する。この逆変換動作については、基本的に、水
平姿勢から垂直姿勢への変換の動作の逆動作を行えばよ
い。したがって、上記において図８から図１７を中心に
して説明した動作を順次逆に進めることになる。このよ
うな動作によって、プッシャ４００に保持された第１基
板群および第２基板群のそれぞれを姿勢変換機構３００
によって垂直姿勢から水平姿勢へと変換することができ
る。

【００８０】またこの逆変換動作においては、順変換動
作の逆動作に加えて、さらに第１整列装置３５０および
第２整列装置３６０を用いて基板を整列させるための動
作を追加することができる。図２５および図２６は、姿
勢変換機構３００の概略側面図であり、図２７および図
２８は、それぞれ図２５および図２６に対応する状態を
示す平面図である。これらの図を用いて、プッシャ４０
０から受け取った複数の基板Ｗを垂直姿勢から水平姿勢
へと変換するにあたって、基板を整列させるための第１
整列装置３５０および第２整列装置３６０の動作を説明
する。

【００８１】プッシャ４００に垂直に保持されていた複
数の基板は、姿勢変換機構３００に対して受け渡され、
回動台３２０の回転によって水平姿勢に保持される。図
２５はこのような状態を表す図である。なお、この状態
は順変換動作の説明における図１０に対応する。したが
って、順変換動作の逆動作によって、図９の状態に移行
する。図２６は、図９に対応する状態を示す図であり、
第１保持機構３３０が矢印ＡＦ３（図９参照）の逆向き
の矢印ＡＦ２３（図２５参照）で示す向きに移動した状
態が示されている。

【００８２】この動作に伴って、第１保持機構３３０に
載置される基板も矢印ＡＦ２３の向きに移動する。しか
しながら、垂直姿勢において第２保持機構３４０の保持
溝３４２に保持されていた基板の中には、保持溝３４２
に嵌合して、はずれにくくなっているものが存在するこ
とがある。このような場合において、複数の基板を第１
保持機構３３０に対して所定の位置に整列させるために
第１整列装置３５０を用いることができる。

【００８３】第１整列装置３５０は、図２５および図２
７の状態において第１整列装置３５０を矢印ＡＦ２３Ｂ
の方向に移動する。これによって、第１整列装置３５０
は第２保持機構３４０に保持されている複数の基板Ｗの
端部と接触し、複数の基板Ｗを第２保持機構３４０から
離す方向の力が加わる。したがって、複数の基板Ｗは、
矢印ＡＦ２３Ｂの方向に押し出され、複数の基板Ｗは第
１整列装置３５０によって整列される。そして、第１保
持機構３３０が矢印ＡＦ２３の向きに移動することによ
って、このように整列された複数の基板Ｗを第１保持機
構３３０の動作に伴って移動することができる。

【００８４】また第１保持機構３３０のこの移動に先立
って、図２８に示すように第２整列装置３６０を矢印Ａ
Ｆ２３Ｃの向きに所定の位置にまで移動させておくこと
ができる。このような位置に存在する第２整列装置３６
０によって、矢印ＡＦ２３の向きに移動する複数の基板
Ｗは整列され得る。

【００８５】以上のように第１整列装置３５０および第
２整列装置３６０を用いることによって、複数の基板を
所定の位置に整列させることができる。またその他の動
作については順変換動作と逆の動作を行うことによっ
て、逆変換動作を遂行することができ、垂直姿勢の基板
を水平姿勢に変換することができる。

【００８６】＜受け渡し機構の配置位置について＞基板
処理装置１は、上記のような姿勢変換機構３００、水平
移載ロボット２００、プッシャ４００などの受け渡し機
構を有し、水平姿勢と垂直姿勢との間での姿勢変換を行
って基板を処理することができる。

【００８７】ところで、直線的に配列された複数の処理
部の延長上に従来の姿勢変換を行う装置を併設するだけ
では、基板処理装置の配列方向の長さが大きくなってし
まう。これでは、フットプリントの増大を招くことにな
り、クリーンルームのスペースの有効利用を図ることが
できない。

【００８８】それに対して、基板処理装置１は、水平移
載ロボット２００、姿勢変換機構３００、プッシャ４０
０などの受け渡し機構を直線的に配列された複数の処理
部を有する基板処理部の列方向の側方に配置されてい
る。したがって、直線配列方向（Ｘ方向）の長さの増大
を抑えることができる。また、受け渡し機構が配置され
る側方部分は、従来有効に利用されていなかったスペー
スであったため、側方に配置することによる直線配列方
向と垂直な方向への長さの増大も抑制することができ
る。したがって、フットプリントの増大を抑えられ、ク
リーンルームのスペースの有効利用を図ることができ
る。

【００８９】＜Ｂ．第２実施形態＞図２９は、第２実施
形態の基板処理装置１Ｂの構成を示す平面図である。第
１実施形態の基板処理装置１と同様に、基板処理装置１
Ｂは、キャリア載置部１００、水平移載ロボット２０
０、姿勢変換機構３００、プッシャ４００、搬送機構５
００などの受け渡し機構を備える。また、基板処理装置
１Ｂは、キャリア載置部１００Ｂ、水平移載ロボット２
００Ｂ、姿勢変換機構３００Ｂ、プッシャ４００Ｂ、搬
送機構５００Ｂを有するさらに別の受け渡し機構を備え
る。

【００９０】さらに基板処理装置１Ｂは、基板処理部６
００Ｂを備える。基板処理部６００Ｂは、搬送機構水洗
処理部６１０と、薬液を収容する薬液槽ＣＢを有する薬
液処理部６２０Ｂ、６４０Ｂと、純水を収容する水洗槽
ＷＢを有する水洗処理部６３０Ｂ、６５０Ｂと、乾燥処
理部６６０Ｂとを備える。

【００９１】これらの複数の処理部は直線的に配列され
ており、この直線的配列の側方には前述の搬送機構５０
０および搬送機構５００Ｂが設けられており、各処理部
の相互間における基板の搬送を行う。搬送機構５００は
搬送機構水洗処理部６１０と薬液処理部６４０Ｂとの間
を移動することができ、搬送機構５００Ｂは、水洗処理
部６５０Ｂと乾燥処理部６６０Ｂとの間を移動すること
ができる。

【００９２】さらにリフタ５５０Ｂおよびリフタ５６０
Ｂが配置されているが、これらの構造および動作などに
ついては、基板処理装置１におけるリフタ５５０および
リフタ５６０と同様である。

【００９３】この基板処理装置１においては、処理対象
となる複数の基板の搬入および搬出は何れもキャリア載
置部１００において行われる。しかしながら、この基板
処理装置１Ｂにおいては、搬入および搬出はそれぞれ異
なるキャリア載置部１００および１００Ｂにおいて行わ
れ、この点において大きく相違する。つまり、キャリア
載置部１００において搬入されたキャリアＣに収容され
た複数の基板は、所定の処理が施された後、キャリア載
置部１００Ｂに載置されたキャリアＣに収容されて搬出
される。したがって、処理の流れが一方向に限定される
ことになる。

【００９４】搬送機構５００は薬液処理部６２０Ｂおよ
び６４０Ｂとの間で基板の搬送を行うため、薬液雰囲気
等によって汚染された挟持機構を洗浄するための搬送機
構水洗処理部６１０を設けることが好ましい。一方、搬
送機構５００Ｂは、水洗処理部６５０Ｂと乾燥処理部６
６０Ｂとの間で移動するだけであり、搬送機構５００Ｂ
に対して特に搬送機構水洗処理部を設ける必要があまり
ない。このような場合、搬送機構５００Ｂは、搬送機構
水洗処理部以外の処理部の上方において、受け渡し機構
との間で複数の基板を受け渡すことも可能である。図２
９は、乾燥処理部６６０Ｂの上方において基板の受け渡
しを行う場合を例示している。

【００９５】またこの場合、プッシャ４００Ｂは、プッ
シャ４００のように搬送機構水洗処理部の空隙部に進入
することができない。このような場合、プッシャ４００
Ｂの構造は、プッシャ４００とは異なるものでなければ
ならない。例えば、プッシャ４００Ｂの構造を次のよう
なものとすることができる。

【００９６】図３０は、プッシャ４００Ｂの構造を示す
図である。図３０に示すように、プッシャ４００Ｂは、
ベース４１０Ｂ、Ｚ方向可動部４３０Ｂ、Ｙ方向伸縮機
構４２０Ｂ、ホルダ４４０Ｂを有する。Ｙ方向伸縮機構
４２０Ｂは、Ｙ方向可動部４２２Ｂ、４２４Ｂ、４２６
Ｂなどを有しており、ホルダ４４０のＹ方向位置を変更
することができる。これらの機構によって、プッシャ４
００のように搬送機構水洗処理部６１０の空隙部６１４
に進入することなく、プッシャ４００Ｂは複数の基板Ｗ
を搬送機構５００Ｂとの間で受け渡すことが可能にな
る。

【００９７】あるいは、プッシャ４００のＺ方向可動部
４３０の形状を工夫することなどによっても、プッシャ
と搬送装置との間で基板を受け渡すことができる。

【００９８】＜Ｃ．その他の変形例＞上記実施形態にお
いて、プッシャ４００と搬送機構５００との間での基板
が搬送機構水洗処理部６１０の上方で受け渡されるに際
して、図３１に示すように、各基板面は矢印ＡＹ１の向
きと略垂直であった。なお、図３１は、搬送機構水洗処
理部６１０の上方におけるプッシャ４００と搬送機構５
００との間での基板の受け渡しを説明するための平面図
である。

【００９９】しかしながら、プッシャ４００が移動する
際に、複数の基板が揺動することによって基板同士が接
触しパーティクルが発生することが考えられる。このよ
うな場合には、次のように動作させることが好ましい。

【０１００】図３２は、プッシャ４００の動作を説明す
るための平面図である。プッシャ４００は、図３１に示
す状態から鉛直軸まわりに矢印ＡＲ１で示す向きに９０
度回転することによって図３２に示す状態になる。この
ように基板Ｗの面と矢印ＡＹ１の向きとが平行な状態に
おいて、プッシャ４００は矢印ＡＹ１の向きに移動す
る。そして、搬送機構水洗処理部６１０の上方におい
て、矢印ＡＲ１の逆向きに回転し、搬送機構５００に対
して複数の基板を受け渡す。

【０１０１】この場合、基板Ｗの面とプッシャ４００の
進行方向（矢印ＡＹ１の方向）が平行であるので、プッ
シャ４００の移動時においても、基板Ｗは矢印ＡＹ１方
向の揺動をほとんど生じない。したがって、配列された
基板同士の接触が生じにくいためパーティクルの発生を
防止できる。

【０１０２】さらに基板の大型化に伴い、基板の面方向
の長さＤ１（図３２参照）に比べて配列方向の長さＤ２
は小さいことが多くなっている。図３３および図３４
は、そのような場合において、それぞれ図３１および図
３２に対応する正面図である。図３３において直径Ｄ１
を有する複数の基板をＹ方向に一対の挟持機構５２０の
間に進入させる場合においては、挟持機構５２０の相互
間の間隔は少し大きめに採る必要があるため、一対の挟
持機構５２０がＸ方向に占める長さはＤ３である。一
方、図３４に示されるように、９０度回転させた複数の
基板の配列を一対の挟持機構５２０の間に進入させる場
合においては、一対の挟持機構５２０がＸ方向に占める
長さはＤ４となり、長さＤ３に比べて小さい値となる。

【０１０３】したがって、上記のように９０度回転させ
て搬送機構５００の一対の挟持機構５２０の間に複数の
基板Ｗを進入させて受け渡すと、挟持機構５２０のＸ方
向に占める長さが小さくて済む。よってそれに応じてＸ
方向の基板処理装置の長さも小さくて済み、装置全体と
してコンパクトになるなどの利点も存在する。

【０１０４】

【発明の効果】以上のように、請求項１に記載の基板処
理装置によれば、複数の処理部の直線的配列として構成
される処理部列の側方に、基板の姿勢を水平姿勢と垂直
姿勢との間で変換する姿勢変換手段を有する受渡し部が
配置されている。したがって、基板処理装置をコンパク
トにすることができ、クリーンルーム内のスペースを有
効に利用することができる。

【０１０５】請求項２に記載の基板処理装置によれば、
基板待機部に水平姿勢で搬入された基板を垂直姿勢に変
換することができる。したがって、垂直姿勢で基板を処
理することが好ましい処理部に対して、複数の基板を垂
直姿勢で受け渡すことができる。

【０１０６】また請求項３に記載の基板処理装置によれ
ば、処理部列において垂直姿勢で処理された基板を水平
姿勢に変換することができる。したがって、垂直姿勢で
基板を処理することが好ましい処理部から受け取った複
数の基板を、水平姿勢に変換して搬出することが可能で
ある。

【０１０７】請求項４に記載の基板処理装置によれば、
受渡し部と搬送手段との間の基板の受渡しは、複数の処
理部のうちの特定の処理部の上方でなされる。したがっ
て、フットプリントを犠牲にすることなく、効率的にク
リーンルームのスペースを利用することができる。

【０１０８】請求項５に記載の基板処理装置によれば、
保持手段洗浄部の上方において基板の受渡しをおこなう
ことができる。したがって、さらにスペース効率を高め
ることができる。

【０１０９】請求項６に記載の基板処理装置によれば、
姿勢変換手段と搬送手段との間で基板を垂直姿勢のまま
移載する移載手段は、保持手段洗浄部の上方に移動して
搬送手段と基板の授受を行う。したがって、さらにスペ
ース効率を高めることができる。

【０１１０】請求項７に記載の基板処理装置によれば、
移載手段は第１洗浄部と第２洗浄部との間の空隙に進入
して搬送手段との間で基板を受渡し可能である。したが
って、さらにスペース効率を高めることができる。

【０１１１】請求項８に記載の基板処理装置によれば、
垂直姿勢の基板を鉛直軸まわりに旋回させる旋回手段に
よって、基板をあらかじめ回転させた上で、移載するこ
とができる。したがって、基板の揺れによるパーティク
ルの発生を防止できる。また、保持手段の間隔を広げず
に済むため、スペース効率を高めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施形態に係る基板処理装置１の
構成を示す平面図である。

【図２】基板処理装置１の一部の構成を示す斜視図であ
る。

【図３】基板処理装置１の内部構成を示す側面図であ
る。

【図４】姿勢変換機構３００の構造を示す縦断面図であ
る。

【図５】姿勢変換機構３００の構造を示す別の縦断面図
である。

【図６】第１保持機構３３０の保持溝３３２を示す拡大
図である。

【図７】第２保持機構３４０の保持溝３４２を示す拡大
図である。

【図８】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図９】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１０】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１１】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１２】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１３】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１４】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１５】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１６】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１７】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図１８】図８の状態に対応する、姿勢変換機構３００
の概略平面図である。

【図１９】図９の状態に対応する、姿勢変換機構３００
の概略平面図である。

【図２０】図１０の状態に対応する、姿勢変換機構３０
０の概略平面図である。

【図２１】第２保持機構３４０の保持溝３４２を示す拡
大図である。

【図２２】第１保持機構３３０の保持溝３３２と第２保
持機構３４０の保持溝３４２に保持されている基板Ｗと
の関係を示す図である。

【図２３】第２保持機構３４０の保持溝３４２に保持さ
れている基板Ｗとプッシャ４００との関係を示す図であ
る。

【図２４】プッシャ４００のホルダ４４０の一部を示す
拡大断面図である。

【図２５】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図２６】姿勢変換機構３００の概略側面図である。

【図２７】図２５の状態に対応する、姿勢変換機構３０
０の概略平面図である。

【図２８】図２６の状態に対応する、姿勢変換機構３０
０の概略平面図である。

【図２９】第２実施形態に係る基板処理装置１Ｂの構成
を示す平面図である。

【図３０】プッシャ４００Ｂの構成を示す側面図であ
る。

【図３１】プッシャ４００および搬送機構水洗処理部６
１０を示す平面図である。

【図３２】プッシャ４００および搬送機構水洗処理部６
１０を示す平面図である。

【図３３】図３１の状態に対応する、挟持機構５２０と
基板との関係を示す図である。

【図３４】図３２の状態に対応する、挟持機構５２０と
基板との関係を示す図である。

【符号の説明】

１、１Ｂ 基板処理装置 １００、１００Ｂ キャリア載置部 ２００、２００Ｂ 水平移載ロボット ３００、３００Ｂ 姿勢変換機構 ４００、４００Ｂ プッシャ ５００、５００Ｂ 搬送機構 ５１０ 搬送ロボット ５２０ 挟持機構 ５５０、５６０ リフタ ６００ 基板処理部 ６１０ 搬送機構水洗処理部 ６１２ａ、６１２ｂ 洗浄槽 ６１４ 空隙部 ６２０、６２０Ｂ 薬液処理部 ６３０、６３０Ｂ 水洗処理部 ６４０、６４０Ｂ 薬液処理部 ６５０、６５０Ｂ 水洗処理部 ６６０、６６０Ｂ 乾燥処理部 ＣＢ 薬液槽 ＷＢ 水洗槽 ＣＬ 制御部 Ｃ キャリア Ｗ 基板 Ｓ 付勢手段

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に対して所定の処理を行う基板処理
   装置であって、 (a) 複数の処理部の直線的配列として構成され、基板に
   一連の処理を順次に行うための処理部列と、 (b) 基板を水平姿勢で待機させる基板待機部と、 (c) 基板を垂直姿勢の状態で前記処理部列に沿って搬送
   する搬送手段と、 (d) 前記搬送手段と前記基板待機部との間で前記基板を
   受け渡す受渡し部と、を備え、 前記受渡し部は、 (d-1) 基板の姿勢を水平姿勢と垂直姿勢との間で変換す
   る姿勢変換手段、を有するとともに、 前記受渡し部が、前記処理部列における列方向の側方に
   配置されていることを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記姿勢変換手段は、前記基板待機部に水平姿勢で搬入
   された基板を垂直姿勢に変換することを特徴とする基板
   処理装置。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記姿勢変換手段は、前記処理部列において垂直姿勢で
   処理された基板を水平姿勢に変換することを特徴とする
   基板処理装置。
4. 【請求項４】 請求項１ないし請求項３のいずれかに記
   載の基板処理装置において、 前記受渡し部と前記搬送手段との間の基板の受渡しは、
   前記複数の処理部のうちの特定の処理部の上方でなされ
   ることを特徴とする基板処理装置。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の基板処理装置におい
   て、 前記搬送手段は、 (c-1) 基板に接触して基板を保持する保持手段を備えて
   おり、 前記特定の処理部は、前記保持手段を洗浄する保持手段
   洗浄部であることを特徴とする基板処理装置。
6. 【請求項６】 請求項５に記載の基板処理装置におい
   て、 前記受渡し部は、 (d-2) 前記姿勢変換手段と前記搬送手段との間で基板を
   垂直姿勢のまま移載する移載手段をさらに備え、 前記移載手段は、前記保持手段洗浄部の上方に移動して
   前記搬送手段との間で基板の授受を行うことを特徴とす
   る基板処理装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の基板処理装置におい
   て、 前記保持手段は、基板を挟持する一対の保持部材を有す
   るとともに、 前記保持手段洗浄部においては、前記一対の保持部材の
   それぞれを洗浄する第１洗浄部と第２洗浄部とが所定の
   空隙を隔てて配置されており、 前記移載手段は、前記空隙に進入して前記搬送手段との
   間で基板を受渡し可能であることを特徴とする基板処理
   装置。
8. 【請求項８】 請求項６に記載の基板処理装置におい
   て、 前記移載手段は、 (d-2-1) 垂直姿勢の基板を鉛直軸まわりに旋回させる旋
   回手段を備えることを特徴とする基板処理装置。