JPH11160855A - ペリクル及びペリクル付露光用マスク - Google Patents
ペリクル及びペリクル付露光用マスクInfo
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- JPH11160855A JPH11160855A JP33023297A JP33023297A JPH11160855A JP H11160855 A JPH11160855 A JP H11160855A JP 33023297 A JP33023297 A JP 33023297A JP 33023297 A JP33023297 A JP 33023297A JP H11160855 A JPH11160855 A JP H11160855A
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/62—Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】機械的な強度を高め、耐用期間の延長を可能と
する。 【解決手段】露光用マスク本体６と、露光用マスク本体
６上に固定配置され、所定の高さを有する枠状のフレー
ム３と、フレーム３に接合され、細線状に複数形成され
た石英ファイバ１と、石英ファイバ１に固定支持され、
フレーム３により露光用マスク本体６表面と所定の間隔
をおいてフレーム３の内側を塞ぐことにより、露光用マ
スク本体６表面へのダストの付着を防ぐペリクルメンブ
レン膜５から構成され、石英ファイバ１はペリクルメン
ブレン膜５よりも機械的強度が高く、かつペリクルメン
ブレン膜５を透過する光強度が実質的に均一となるよう
に形成される。
する。 【解決手段】露光用マスク本体６と、露光用マスク本体
６上に固定配置され、所定の高さを有する枠状のフレー
ム３と、フレーム３に接合され、細線状に複数形成され
た石英ファイバ１と、石英ファイバ１に固定支持され、
フレーム３により露光用マスク本体６表面と所定の間隔
をおいてフレーム３の内側を塞ぐことにより、露光用マ
スク本体６表面へのダストの付着を防ぐペリクルメンブ
レン膜５から構成され、石英ファイバ１はペリクルメン
ブレン膜５よりも機械的強度が高く、かつペリクルメン
ブレン膜５を透過する光強度が実質的に均一となるよう
に形成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、露光用マスクの表
面を保護するペリクル及びこのペリクルの付加されたペ
リクル付露光用マスクに関する。
面を保護するペリクル及びこのペリクルの付加されたペ
リクル付露光用マスクに関する。
【０００２】
【従来の技術】ペリクル膜は枠状のフレームに張られた
薄膜で、レチクル表面を覆うように張られることでレチ
クルのパターン面やレチクルガラスの裏面へのダストの
付着を防いでいる。このペリクル膜の重要な機能とし
て、レチクルパターンの露光の際に転写特性に影響を与
えないことが必要で、この機能を保持するため膜厚の一
様な透明薄膜が用いられてきた。ペリクル膜はパターン
面から離れて設けられるため、ペリクル膜に付着したダ
ストは結像しない。露光領域サイズの拡大に伴ってペリ
クルサイズの拡大が進められている。
薄膜で、レチクル表面を覆うように張られることでレチ
クルのパターン面やレチクルガラスの裏面へのダストの
付着を防いでいる。このペリクル膜の重要な機能とし
て、レチクルパターンの露光の際に転写特性に影響を与
えないことが必要で、この機能を保持するため膜厚の一
様な透明薄膜が用いられてきた。ペリクル膜はパターン
面から離れて設けられるため、ペリクル膜に付着したダ
ストは結像しない。露光領域サイズの拡大に伴ってペリ
クルサイズの拡大が進められている。
【０００３】また、近年はレチクルを固定して露光する
装置のみでなく、スキャン動作を採用した露光装置、あ
るいは、従来以上に短波長の光源を採用した露光装置が
開発されている。そのため、ペリクルには従来以上に大
面積で、且つ、機械的な強度の高いことが要求されてい
る。
装置のみでなく、スキャン動作を採用した露光装置、あ
るいは、従来以上に短波長の光源を採用した露光装置が
開発されている。そのため、ペリクルには従来以上に大
面積で、且つ、機械的な強度の高いことが要求されてい
る。
【０００４】しかしながら、従来の製造方法で作成され
たペリクルは均一な薄膜をフレームに張るのみであり、
またその膜厚は１μｍ程度であるため、短波長の露光光
に対して照射耐性を維持し、且つ、機械的な強度を有す
る材料の選択が困難で、高価な材料を使用せざるを得な
かったり、耐用期間が限定された。
たペリクルは均一な薄膜をフレームに張るのみであり、
またその膜厚は１μｍ程度であるため、短波長の露光光
に対して照射耐性を維持し、且つ、機械的な強度を有す
る材料の選択が困難で、高価な材料を使用せざるを得な
かったり、耐用期間が限定された。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述したように従来の
ペリクルでは、均一な薄膜をフレームに張るのみであっ
たため、短波長の露光光に対して照射耐性を維持し、且
つ、機械的な強度を有する材料の選択が困難で、耐用期
間が限定される。
ペリクルでは、均一な薄膜をフレームに張るのみであっ
たため、短波長の露光光に対して照射耐性を維持し、且
つ、機械的な強度を有する材料の選択が困難で、耐用期
間が限定される。
【０００６】本発明は上記課題を解決するためになされ
たもので、その目的とするところは、機械的な強度が高
く、耐用期間の長いペリクル及びペリクル付露光用マス
クを提供することにある。
たもので、その目的とするところは、機械的な強度が高
く、耐用期間の長いペリクル及びペリクル付露光用マス
クを提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
ペリクルは、所定の高さを有する枠状のフレームと、こ
のフレームに接合され、細線状に複数形成された支持部
材と、この支持部材に固定支持され、前記フレームの内
側を塞ぐように張られたペリクルメンブレン膜とを具備
してなり、前記支持部材は該ペリクルメンブレン膜より
も機械的強度が高く、かつペリクルメンブレン膜を透過
する光強度が実質的に均一となるように形成されたもの
であることを特徴とする。
ペリクルは、所定の高さを有する枠状のフレームと、こ
のフレームに接合され、細線状に複数形成された支持部
材と、この支持部材に固定支持され、前記フレームの内
側を塞ぐように張られたペリクルメンブレン膜とを具備
してなり、前記支持部材は該ペリクルメンブレン膜より
も機械的強度が高く、かつペリクルメンブレン膜を透過
する光強度が実質的に均一となるように形成されたもの
であることを特徴とする。
【０００８】また、本発明の請求項２に係るペリクル付
露光用マスクは、露光用マスク本体と、この露光用マス
ク本体の上に固定支持され、所定の高さを有する枠状の
フレームと、このフレームに接合され、細線状に複数形
成された支持部材と、この支持部材に固定支持され、該
フレームにより前記露光用マスク表面と所定の間隔をお
いて該フレームの内側を塞ぐことにより、該露光用マス
ク本体表面へのダストの付着を防ぐペリクルメンブレン
膜とを具備してなり、前記支持部材は該ペリクルメンブ
レン膜よりも機械的強度が高く、前記ペリクルメンブレ
ン膜を透過する光強度が実質的に均一となるように形成
されたものであることを特徴とする。
露光用マスクは、露光用マスク本体と、この露光用マス
ク本体の上に固定支持され、所定の高さを有する枠状の
フレームと、このフレームに接合され、細線状に複数形
成された支持部材と、この支持部材に固定支持され、該
フレームにより前記露光用マスク表面と所定の間隔をお
いて該フレームの内側を塞ぐことにより、該露光用マス
ク本体表面へのダストの付着を防ぐペリクルメンブレン
膜とを具備してなり、前記支持部材は該ペリクルメンブ
レン膜よりも機械的強度が高く、前記ペリクルメンブレ
ン膜を透過する光強度が実質的に均一となるように形成
されたものであることを特徴とする。
【０００９】本発明において、ペリクルメンブレン膜を
透過する光強度が実質的に均一とは、ペリクルメンブレ
ン膜に光を透過させた光強度分布が一定の周期パターン
を有することにより透過領域全体として均一であること
を示す。
透過する光強度が実質的に均一とは、ペリクルメンブレ
ン膜に光を透過させた光強度分布が一定の周期パターン
を有することにより透過領域全体として均一であること
を示す。
【００１０】また、本発明の請求項３に係るペリクル
は、前記支持部材は、露光用マスクによるパターンの露
光時に転写されない程度に微細に形成されたものである
ことを特徴とする。
は、前記支持部材は、露光用マスクによるパターンの露
光時に転写されない程度に微細に形成されたものである
ことを特徴とする。
【００１１】また、本発明の請求項４に係るペリクル又
はペリクル付露光用マスクは、前記支持部材は有機・無
機ガラス又は金属からなることを特徴とする。本発明の
望ましい形態は、以下に示す通りである。 （１）支持部材は等間隔で平行に張られる。 （２）フレームは固定板、可変板及びこれら固定板及び
可変板を接続し、伸縮可能な弾性体から構成される。 （３）上記（２）の伸縮可能な弾性体は、熱硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂からなるばね又は形状記憶合金からな
る部材からなる。
はペリクル付露光用マスクは、前記支持部材は有機・無
機ガラス又は金属からなることを特徴とする。本発明の
望ましい形態は、以下に示す通りである。 （１）支持部材は等間隔で平行に張られる。 （２）フレームは固定板、可変板及びこれら固定板及び
可変板を接続し、伸縮可能な弾性体から構成される。 （３）上記（２）の伸縮可能な弾性体は、熱硬化性樹
脂、熱可塑性樹脂からなるばね又は形状記憶合金からな
る部材からなる。
【００１２】また、上記ペリクル付露光用マスクの第一
の製造方法は、以下に示す通りである。ペリクルメンブ
レン膜を支持するフレームに、ペリクルメンブレン膜よ
りも機械的強度の高い支持部材を固定する工程と、この
支持部材を固定したフレームを、塗布膜の形で基板上に
設けられたペリクルメンブレン膜に押しつけて接着した
後に該基板をフレームからはがす工程と、前記フレーム
をマスクに固定させる工程からなり、前記支持部材は、
ペリクルメンブレン膜と支持部材を透過する光強度が均
一となるように形成する。
の製造方法は、以下に示す通りである。ペリクルメンブ
レン膜を支持するフレームに、ペリクルメンブレン膜よ
りも機械的強度の高い支持部材を固定する工程と、この
支持部材を固定したフレームを、塗布膜の形で基板上に
設けられたペリクルメンブレン膜に押しつけて接着した
後に該基板をフレームからはがす工程と、前記フレーム
をマスクに固定させる工程からなり、前記支持部材は、
ペリクルメンブレン膜と支持部材を透過する光強度が均
一となるように形成する。
【００１３】なお、上記ペリクル付露光用マスクの製造
方法の望ましい形態は、フレームをペリクルメンブレン
膜に接着する際に、ペリクルメンブレン膜の接着面を減
圧することによりペリクルメンブレン膜をフレーム側に
吸引させて行う。
方法の望ましい形態は、フレームをペリクルメンブレン
膜に接着する際に、ペリクルメンブレン膜の接着面を減
圧することによりペリクルメンブレン膜をフレーム側に
吸引させて行う。
【００１４】また、ペリクル付露光用マスクの第二の製
造方法は、以下に示す通りである。ペリクルメンブレン
膜を支持するフレームに、ペリクルメンブレン膜よりも
機械的強度の高い支持部材を固定する工程と、このフレ
ームに有機材を流入することによりペリクルメンブレン
膜を形成する工程からなり、前記支持部材は、ペリクル
メンブレン膜と支持部材を透過する光強度が均一となる
ように形成する。 （作用）本発明では、ペリクルメンブレン膜を支持する
フレームに、ペリクルメンブレン膜よりも強度が高く、
かつペリクルメンブレン膜を透過する光強度が実質的に
均一となるように支持部材を形成する。ペリクルメンブ
レン膜と併せた透過光強度が均一となるように支持部材
を形成する。これによって、パターン露光時の転写特性
に影響を与えることなくペリクル自体の機械的強度を上
げることができ、また耐用期間を長くすることができ
る。
造方法は、以下に示す通りである。ペリクルメンブレン
膜を支持するフレームに、ペリクルメンブレン膜よりも
機械的強度の高い支持部材を固定する工程と、このフレ
ームに有機材を流入することによりペリクルメンブレン
膜を形成する工程からなり、前記支持部材は、ペリクル
メンブレン膜と支持部材を透過する光強度が均一となる
ように形成する。 （作用）本発明では、ペリクルメンブレン膜を支持する
フレームに、ペリクルメンブレン膜よりも強度が高く、
かつペリクルメンブレン膜を透過する光強度が実質的に
均一となるように支持部材を形成する。ペリクルメンブ
レン膜と併せた透過光強度が均一となるように支持部材
を形成する。これによって、パターン露光時の転写特性
に影響を与えることなくペリクル自体の機械的強度を上
げることができ、また耐用期間を長くすることができ
る。
【００１５】また、本発明によれば、支持部材を有機・
無機ガラス又は金属で形成することにより、露光光の吸
収が無く、あるいは少なくとも表面が効率よく露光光を
反射するため結像せず、支持部材が転写特性に与える影
響がさらに少なくなる。
無機ガラス又は金属で形成することにより、露光光の吸
収が無く、あるいは少なくとも表面が効率よく露光光を
反射するため結像せず、支持部材が転写特性に与える影
響がさらに少なくなる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら本発明
の実施形態を説明する。 （第１実施形態）図１は、本発明の第１実施形態に係る
ペリクル付露光用マスクの全体構成を示す図であり、支
持部材として石英ファイバを用いた例を示す。図１に示
すように、マスク本体６のうち、遮光膜７が形成される
側の表面上に枠型のフレーム３が固定配置されている。
この枠型のフレーム３の上側には石英２を固定するため
の凹部が設けられており、またマスクに安定に固定させ
るため、このフレーム３の下側は上側に比較して幅広く
なっている。
の実施形態を説明する。 （第１実施形態）図１は、本発明の第１実施形態に係る
ペリクル付露光用マスクの全体構成を示す図であり、支
持部材として石英ファイバを用いた例を示す。図１に示
すように、マスク本体６のうち、遮光膜７が形成される
側の表面上に枠型のフレーム３が固定配置されている。
この枠型のフレーム３の上側には石英２を固定するため
の凹部が設けられており、またマスクに安定に固定させ
るため、このフレーム３の下側は上側に比較して幅広く
なっている。
【００１７】石英２はフレーム３の上側に設けられた凹
部に固定されるもので、フレーム３と同様に枠型であ
る。そして、この石英２にはペリクルメンブレン膜５が
張られ、この構造によりペリクルメンブレン膜５とマス
ク本体６は所定の間隙を挟んで固定され、その隙間はフ
レーム３により塞がる構成となっており、マスク本体６
のマスクパターン表面にダストが入り込まないようにな
っている。また、図１ではペリクルメンブレン膜５の一
点鎖線で囲んだ部分の拡大図を示しているが、ペリクル
メンブレン膜５の強度を高めるべく、メンブレン膜５よ
りも強度の高い部材からなる石英ファイバ１がメンブレ
ン膜５中に形成されている。
部に固定されるもので、フレーム３と同様に枠型であ
る。そして、この石英２にはペリクルメンブレン膜５が
張られ、この構造によりペリクルメンブレン膜５とマス
ク本体６は所定の間隙を挟んで固定され、その隙間はフ
レーム３により塞がる構成となっており、マスク本体６
のマスクパターン表面にダストが入り込まないようにな
っている。また、図１ではペリクルメンブレン膜５の一
点鎖線で囲んだ部分の拡大図を示しているが、ペリクル
メンブレン膜５の強度を高めるべく、メンブレン膜５よ
りも強度の高い部材からなる石英ファイバ１がメンブレ
ン膜５中に形成されている。
【００１８】この石英ファイバ１は、露光用マスクのパ
ターンの露光時に転写されない３〜４μｍφの細線であ
り、この細線がペリクルメンブレン膜５に複数本張られ
ている。さらに、この石英ファイバ１を張ったことによ
りペリクルメンブレン膜５を透過する光強度が不均一と
ならないように、等間隔でそれぞれが平行に張られてい
る。すなわち、ペリクルメンブレン膜５に光を透過させ
た光強度分布が一定の周期パターンを有することにより
透過領域全体として均一となるように張られている。
ターンの露光時に転写されない３〜４μｍφの細線であ
り、この細線がペリクルメンブレン膜５に複数本張られ
ている。さらに、この石英ファイバ１を張ったことによ
りペリクルメンブレン膜５を透過する光強度が不均一と
ならないように、等間隔でそれぞれが平行に張られてい
る。すなわち、ペリクルメンブレン膜５に光を透過させ
た光強度分布が一定の周期パターンを有することにより
透過領域全体として均一となるように張られている。
【００１９】次に、図１に示すペリクル付露光用マスク
の製造工程を図２，図３を用いて説明する。まず、石英
を溶融し、延伸して３〜４μｍφの石英ファイバ１を製
作する。次いで図２（ａ），（ｂ）に示すように棒状の
３ｍｍφの石英２にこの石英ファイバ１を接合する。こ
こで、石英２は枠型であり、この枠に石英ファイバ１を
それぞれが平行で、５ｍｍの等間隔を保つように複数本
接合した。
の製造工程を図２，図３を用いて説明する。まず、石英
を溶融し、延伸して３〜４μｍφの石英ファイバ１を製
作する。次いで図２（ａ），（ｂ）に示すように棒状の
３ｍｍφの石英２にこの石英ファイバ１を接合する。こ
こで、石英２は枠型であり、この枠に石英ファイバ１を
それぞれが平行で、５ｍｍの等間隔を保つように複数本
接合した。
【００２０】次いで、例えばアルミニウムからなるフレ
ーム３に石英２の枠を図３（ｃ），（ｄ）のように固定
する。フレーム３は図３（ｃ）に示すように枠型で、ま
たその横断面図である図３（ｄ）に示すように、上側に
は石英を固定するための凹部が設けられており、またマ
スクに安定に固定させるため、下側は上側に比較して幅
広くなっている。
ーム３に石英２の枠を図３（ｃ），（ｄ）のように固定
する。フレーム３は図３（ｃ）に示すように枠型で、ま
たその横断面図である図３（ｄ）に示すように、上側に
は石英を固定するための凹部が設けられており、またマ
スクに安定に固定させるため、下側は上側に比較して幅
広くなっている。
【００２１】次いで、ペリクルメンブレン膜５を従来方
法に従って石英基板４上に塗布膜の形で１μｍの厚さに
設ける。一方、希釈した接着剤の溶液にフレーム３ごと
浸漬する。浸漬して４５秒乾燥した後、このフレーム３
をペリクルメンブレン膜５に接着させる。接着に際して
は、メンブレン膜５表面を石英ファイバ１に接触させる
ため、図３（ｅ）に示すようにメンブレンの面間に差圧
を設けて強制的に接触させる。すなわち、ペリクルメン
ブレン膜５の接着面を減圧することにより、ペリクルメ
ンブレン膜５の接着面がフレーム３側に吸引されるよう
にする。そして、ペリクルメンブレン膜５から石英基板
４をはがしてペリクルが完成する。次いで、フレーム３
の下側に接着剤を約５μｍの厚さに設け、図３（ｆ）の
如くマスク本体６に接着し、ペリクル付露光用マスクを
完成させる。
法に従って石英基板４上に塗布膜の形で１μｍの厚さに
設ける。一方、希釈した接着剤の溶液にフレーム３ごと
浸漬する。浸漬して４５秒乾燥した後、このフレーム３
をペリクルメンブレン膜５に接着させる。接着に際して
は、メンブレン膜５表面を石英ファイバ１に接触させる
ため、図３（ｅ）に示すようにメンブレンの面間に差圧
を設けて強制的に接触させる。すなわち、ペリクルメン
ブレン膜５の接着面を減圧することにより、ペリクルメ
ンブレン膜５の接着面がフレーム３側に吸引されるよう
にする。そして、ペリクルメンブレン膜５から石英基板
４をはがしてペリクルが完成する。次いで、フレーム３
の下側に接着剤を約５μｍの厚さに設け、図３（ｆ）の
如くマスク本体６に接着し、ペリクル付露光用マスクを
完成させる。
【００２２】以上のような製造工程により製造されたペ
リクル付露光用マスクの性能を検査すべく、ニコン社製
のスキャン型のエキシマレーザ露光装置にペリクル付露
光用マスクを搭載してスキャン露光を行った。シリコン
基板上に塗布型反射防止膜を介して、０．５μｍ膜厚の
化学増幅系ポジレジストに０．１８μｍラインアンドス
ペースを露光し、現像パターンを得た。
リクル付露光用マスクの性能を検査すべく、ニコン社製
のスキャン型のエキシマレーザ露光装置にペリクル付露
光用マスクを搭載してスキャン露光を行った。シリコン
基板上に塗布型反射防止膜を介して、０．５μｍ膜厚の
化学増幅系ポジレジストに０．１８μｍラインアンドス
ペースを露光し、現像パターンを得た。
【００２３】次いで、ＫＬＡ社製のパターン比較方式を
採用した欠陥検査装置でパターンの異常の有無を評価し
たが、レチクルに起因すると考えられる欠陥は検出され
なかった。また、形成されたパターンの寸法測定した測
長ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope：走査型電子
顕微鏡）を用いて実施したが、連続測定した１５０本の
ラインには寸法の異常は認められず、約２１．３ｎｍの
ばらつきであった。これに対して、ペリクルを張る前に
同一の条件で寸法測定を行った際の寸法のばらつきは約
２２．７ｎｍ（３σ）であり、ペリクルを張ることによ
り転写特性に影響を与えないことが分かった。
採用した欠陥検査装置でパターンの異常の有無を評価し
たが、レチクルに起因すると考えられる欠陥は検出され
なかった。また、形成されたパターンの寸法測定した測
長ＳＥＭ（Scanning Electron Microscope：走査型電子
顕微鏡）を用いて実施したが、連続測定した１５０本の
ラインには寸法の異常は認められず、約２１．３ｎｍの
ばらつきであった。これに対して、ペリクルを張る前に
同一の条件で寸法測定を行った際の寸法のばらつきは約
２２．７ｎｍ（３σ）であり、ペリクルを張ることによ
り転写特性に影響を与えないことが分かった。
【００２４】このように、ペリクルメンブレン膜５に細
線状の支持構造としてペリクルメンブレン膜５よりも機
械的強度の高い石英ファイバ１を付加することにより、
ペリクルメンブレン膜５の機械的な強度が向上し、大面
積であっても振動せず、耐用期間が長くなる。また、石
英ファイバ１はレチクルのパターン面から離れているた
め、通常のペリクルメンブレン膜５へのダストの付着と
同様に許容されるサイズ以下では転写に影響を与えな
い。許容されるサイズとは、ダストの占める面積と同等
以下の面積をいう。すなわち、転写像の各点における光
強度は、石英ファイバ１により減少しているが、通常の
ダストの付着と比較しても充分に小さな変化である。
線状の支持構造としてペリクルメンブレン膜５よりも機
械的強度の高い石英ファイバ１を付加することにより、
ペリクルメンブレン膜５の機械的な強度が向上し、大面
積であっても振動せず、耐用期間が長くなる。また、石
英ファイバ１はレチクルのパターン面から離れているた
め、通常のペリクルメンブレン膜５へのダストの付着と
同様に許容されるサイズ以下では転写に影響を与えな
い。許容されるサイズとは、ダストの占める面積と同等
以下の面積をいう。すなわち、転写像の各点における光
強度は、石英ファイバ１により減少しているが、通常の
ダストの付着と比較しても充分に小さな変化である。
【００２５】さらに、石英ファイバ１は細線状で、それ
ぞれが平行かつ等間隔に複数本形成されているため、ペ
リクルメンブレン膜５を透過する光の強度が均一とな
る。従って、石英ファイバ１が許容されるサイズ以上で
あっても転写特性に影響を与えない。また、機械的に強
度に優れた材料が採用できたため、従来のペリクルに比
較してフレームの変形が低減される。
ぞれが平行かつ等間隔に複数本形成されているため、ペ
リクルメンブレン膜５を透過する光の強度が均一とな
る。従って、石英ファイバ１が許容されるサイズ以上で
あっても転写特性に影響を与えない。また、機械的に強
度に優れた材料が採用できたため、従来のペリクルに比
較してフレームの変形が低減される。
【００２６】なお、本実施形態では石英ファイバを支持
部材として用いたが、ペリクルメンブレン膜よりも強度
が高い部材でかつパターンの露光時に転写されない程度
に微細に形成されたものであれば、例えば有機・無機ガ
ラス、金属等何でもよいことは勿論である。これらの部
材を用いれば、露光光のうち光路のまがった成分が被露
光基板に到達せず、あるいは広い領域に拡散させられる
ため結像することはなく、転写特性に影響を与えない。
さらに、ペリクルメンブレン膜を透過する光の強度が膜
全面で均一に保持するように支持部材を形成すれば、い
かなる部材でも本発明を適用可能である。
部材として用いたが、ペリクルメンブレン膜よりも強度
が高い部材でかつパターンの露光時に転写されない程度
に微細に形成されたものであれば、例えば有機・無機ガ
ラス、金属等何でもよいことは勿論である。これらの部
材を用いれば、露光光のうち光路のまがった成分が被露
光基板に到達せず、あるいは広い領域に拡散させられる
ため結像することはなく、転写特性に影響を与えない。
さらに、ペリクルメンブレン膜を透過する光の強度が膜
全面で均一に保持するように支持部材を形成すれば、い
かなる部材でも本発明を適用可能である。
【００２７】また、図３（ｃ）に示すような石英ファイ
バの接合方法を示したが、例えば図４に示すように等間
隔に設けられた細線状の石英ファイバ１が交差するもの
であってもよいことは勿論である。この場合、図３
（ｄ）に示した場合よりもさらにペリクル膜の強度が高
くなり、耐用期間もさらに長くなる。
バの接合方法を示したが、例えば図４に示すように等間
隔に設けられた細線状の石英ファイバ１が交差するもの
であってもよいことは勿論である。この場合、図３
（ｄ）に示した場合よりもさらにペリクル膜の強度が高
くなり、耐用期間もさらに長くなる。
【００２８】また、塗布膜の形で設けられたペリクルメ
ンブレン膜とフレームとを接合してペリクルを製造する
場合を示したが、フレームに有機材を流入することで、
石英ファイバの埋め込まれたペリクルメンブレン膜を製
造することも可能である。
ンブレン膜とフレームとを接合してペリクルを製造する
場合を示したが、フレームに有機材を流入することで、
石英ファイバの埋め込まれたペリクルメンブレン膜を製
造することも可能である。
【００２９】また、細線状の石英ファイバ１は平行かつ
等間隔である必要はなく、ペリクルメンブレン膜の透過
する光が均一となるものであれば、パターン露光時の透
過する光のばらつきに応じてその配置を種々変更でき
る。
等間隔である必要はなく、ペリクルメンブレン膜の透過
する光が均一となるものであれば、パターン露光時の透
過する光のばらつきに応じてその配置を種々変更でき
る。
【００３０】また、図１に示すようにマスクパターンが
形成されている側の表面にペリクルを付加する場合を示
したが、その反対側の面に付加することも可能であり、
また両面に付加することも可能である。 （第２実施形態）図５は、本発明の第２実施形態に係る
ペリクル付露光用マスクを示す図であり、図５（ａ）は
その全体構成を示す断面図、図５（ｂ），（ｃ）はその
要部の詳細な構成及び動作を示す断面図である。図５
（ａ）に示すように、本実施形態に係るペリクル付露光
用マスクは第１実施形態に示したものとほぼ同じ構成を
とるが、フレーム２３の構成が異なる。すなわち、フレ
ーム２３はフレーム本体２３ａ、ばね２３ｂ、高さ調整
治具２３ｃから構成される。
形成されている側の表面にペリクルを付加する場合を示
したが、その反対側の面に付加することも可能であり、
また両面に付加することも可能である。 （第２実施形態）図５は、本発明の第２実施形態に係る
ペリクル付露光用マスクを示す図であり、図５（ａ）は
その全体構成を示す断面図、図５（ｂ），（ｃ）はその
要部の詳細な構成及び動作を示す断面図である。図５
（ａ）に示すように、本実施形態に係るペリクル付露光
用マスクは第１実施形態に示したものとほぼ同じ構成を
とるが、フレーム２３の構成が異なる。すなわち、フレ
ーム２３はフレーム本体２３ａ、ばね２３ｂ、高さ調整
治具２３ｃから構成される。
【００３１】図５（ｂ），（ｃ）に示すように、フレー
ム本体２３ａは露光用マスク本体６上にペリクルを固定
支持するものである。また、高さ調整治具２３ｃは石英
ファイバ１を固定してペリクルメンブレン膜５を張るも
ので、これらフレーム本体２３ａ，２３ｃはばね２３ｂ
により接続されている。ばね２３ｂは熱硬化性の樹脂で
できたばねであり、このばね２３ｂが伸縮することによ
りフレーム２３自体の高さが変わるようになっている。
図５（ｂ）はフレーム２３が伸長した状態を示し、図５
（ｃ）は縮んだ状態を示す。
ム本体２３ａは露光用マスク本体６上にペリクルを固定
支持するものである。また、高さ調整治具２３ｃは石英
ファイバ１を固定してペリクルメンブレン膜５を張るも
ので、これらフレーム本体２３ａ，２３ｃはばね２３ｂ
により接続されている。ばね２３ｂは熱硬化性の樹脂で
できたばねであり、このばね２３ｂが伸縮することによ
りフレーム２３自体の高さが変わるようになっている。
図５（ｂ）はフレーム２３が伸長した状態を示し、図５
（ｃ）は縮んだ状態を示す。
【００３２】上記実施形態に係るペリクル付露光用マス
クの動作を説明する。まず、ペリクル付露光用マスクの
検査を行う。検査に際しては、図５（ｃ）に示すように
上面側からフレーム２３を押しつけ、ばね２３ｂを縮ま
せることによりフレーム２３の高さを低くする。そし
て、検査が終了して実際にこのペリクル付露光用マスク
を用いたパターン露光を行う際には、押しつけていたフ
レーム２３を元に戻すことにより、フレーム２３の高さ
を高くする。そして、フレーム２３に熱を与え、ばね２
３ｂを熱硬化により固定する。
クの動作を説明する。まず、ペリクル付露光用マスクの
検査を行う。検査に際しては、図５（ｃ）に示すように
上面側からフレーム２３を押しつけ、ばね２３ｂを縮ま
せることによりフレーム２３の高さを低くする。そし
て、検査が終了して実際にこのペリクル付露光用マスク
を用いたパターン露光を行う際には、押しつけていたフ
レーム２３を元に戻すことにより、フレーム２３の高さ
を高くする。そして、フレーム２３に熱を与え、ばね２
３ｂを熱硬化により固定する。
【００３３】このように、検査時にはフレーム２３の高
さを低くすることによりペリクルメンブレン膜５とマス
ク本体６の間隔が小さくなり、フレーム２３周辺にも検
査光を入射させることができるため検査可能領域が広く
なり、十分な検査を行うことができる。
さを低くすることによりペリクルメンブレン膜５とマス
ク本体６の間隔が小さくなり、フレーム２３周辺にも検
査光を入射させることができるため検査可能領域が広く
なり、十分な検査を行うことができる。
【００３４】また、パターン露光を行う際にはフレーム
２３の高さを高くすることによりペリクルメンブレン膜
５とマスク本体６の間隔が長くなり、ペリクルメンブレ
ン膜５がパターン露光時のマスク本体６表面の焦点位置
から離れるため、ペリクルメンブレン膜５表面に付着し
たダストによる転写特性への影響がさらに少なくなり、
高精度の露光を実現することができる。さらに、フレー
ム２３のばね２３ｂをパターン露光の際に熱硬化により
固定することで、ペリクル自体の振動を防止して安定し
た状態でパターン露光を行うことができる。
２３の高さを高くすることによりペリクルメンブレン膜
５とマスク本体６の間隔が長くなり、ペリクルメンブレ
ン膜５がパターン露光時のマスク本体６表面の焦点位置
から離れるため、ペリクルメンブレン膜５表面に付着し
たダストによる転写特性への影響がさらに少なくなり、
高精度の露光を実現することができる。さらに、フレー
ム２３のばね２３ｂをパターン露光の際に熱硬化により
固定することで、ペリクル自体の振動を防止して安定し
た状態でパターン露光を行うことができる。
【００３５】なお、本実施形態においてばね２３ｂとし
て熱硬化性の樹脂からなるばねを用いる場合を示した
が、熱可塑性の樹脂からなるばねや形状記憶合金からな
る部材等、可変状態から固定状態に変わる弾性体であれ
ば何でも適用可能である。また、ばねを用いて離れた位
置に移動させているが、ばねの力は必ずしも必要でな
く、外部から治具を用いて移動を行い固定しても本発明
の主旨を逸脱しない。
て熱硬化性の樹脂からなるばねを用いる場合を示した
が、熱可塑性の樹脂からなるばねや形状記憶合金からな
る部材等、可変状態から固定状態に変わる弾性体であれ
ば何でも適用可能である。また、ばねを用いて離れた位
置に移動させているが、ばねの力は必ずしも必要でな
く、外部から治具を用いて移動を行い固定しても本発明
の主旨を逸脱しない。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係るペリク
ル及びペリクル付露光用マスクによれば、機械的な強度
を有する材料であって、ペリクルメンブレン膜の透過光
強度が均一となるように支持部材を細線状にペリクルメ
ンブレン膜に複数接合させるため、パターン露光時の転
写特性に影響を与えることなくペリクル膜全体として機
械的な強度が向上し、耐用期間が長くなる。
ル及びペリクル付露光用マスクによれば、機械的な強度
を有する材料であって、ペリクルメンブレン膜の透過光
強度が均一となるように支持部材を細線状にペリクルメ
ンブレン膜に複数接合させるため、パターン露光時の転
写特性に影響を与えることなくペリクル膜全体として機
械的な強度が向上し、耐用期間が長くなる。
【図１】本発明の第１実施形態に係るペリクル付露光用
マスクの全体構成を示す図。
マスクの全体構成を示す図。
【図２】同実施形態におけるペリクル付露光用マスクの
製造工程を示す図。
製造工程を示す図。
【図３】同実施形態におけるペリクル付露光用マスクの
製造工程を示す図。
製造工程を示す図。
【図４】同実施形態におけるペリクルの変形例を示す
図。
図。
【図５】本発明の第２実施形態に係るペリクル付露光用
マスクの全体構成及びその湯部を示す図。
マスクの全体構成及びその湯部を示す図。
１ 石英ファイバ ２ 石英 ３，２３ フレーム ４ 石英基板 ５ ペリクルメンブレン膜 ６ マスク本体 ７ 遮光膜 ２３ａ フレーム本体 ２３ｂ ばね ２３ｃ 高さ調整治具
Claims (4)
- 【請求項１】 所定の高さを有する枠状のフレームと、 このフレームに接合され、細線状に複数形成された支持
部材と、 この支持部材に固定支持され、前記フレームの内側を塞
ぐように張られたペリクルメンブレン膜とを具備してな
り、 前記支持部材は該ペリクルメンブレン膜よりも機械的強
度が高く、かつペリクルメンブレン膜を透過する光強度
が実質的に均一となるように形成されたものであること
を特徴とするペリクル。 - 【請求項２】 露光用マスク本体と、 この露光用マスク本体の上に固定支持され、所定の高さ
を有する枠状のフレームと、 このフレームに接合され、細線状に複数形成された支持
部材と、 この支持部材に固定支持され、該フレームにより前記露
光用マスク本体表面と所定の間隔をおいて該フレームの
内側を塞ぐことにより、該露光用マスク本体表面へのダ
ストの付着を防ぐペリクルメンブレン膜とを具備してな
り、 前記支持部材は該ペリクルメンブレン膜よりも機械的強
度が高く、前記ペリクルメンブレン膜を透過する光強度
が実質的に均一となるように形成されたものであること
を特徴とするペリクル付露光用マスク。 - 【請求項３】 前記支持部材は、露光用マスクによるパ
ターンの露光時に転写されない程度に微細に形成された
ものであることを特徴とする請求項１記載のペリクル又
は請求項２記載のペリクル付露光用マスク。 - 【請求項４】 前記支持部材は有機・無機ガラス又は金
属からなることを特徴とする請求項１記載のペリクル又
は請求項２記載のペリクル付露光用マスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33023297A JP3347038B2 (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | ペリクル及びペリクル付露光用マスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33023297A JP3347038B2 (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | ペリクル及びペリクル付露光用マスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11160855A true JPH11160855A (ja) | 1999-06-18 |
| JP3347038B2 JP3347038B2 (ja) | 2002-11-20 |
Family
ID=18230344
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33023297A Expired - Fee Related JP3347038B2 (ja) | 1997-12-01 | 1997-12-01 | ペリクル及びペリクル付露光用マスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3347038B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011007934A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
| JP2012220533A (ja) * | 2011-04-04 | 2012-11-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル及びペリクル膜の製造方法 |
| CN111020477A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-04-17 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种掩膜装置、蒸镀方法及显示面板 |
| WO2023145604A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
-
1997
- 1997-12-01 JP JP33023297A patent/JP3347038B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011007934A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Shin-Etsu Chemical Co Ltd | ペリクルフレーム及びリソグラフィ用ペリクル |
| JP2012220533A (ja) * | 2011-04-04 | 2012-11-12 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ペリクル及びペリクル膜の製造方法 |
| CN111020477A (zh) * | 2019-11-29 | 2020-04-17 | 上海天马有机发光显示技术有限公司 | 一种掩膜装置、蒸镀方法及显示面板 |
| WO2023145604A1 (ja) * | 2022-01-26 | 2023-08-03 | 旭化成株式会社 | ペリクル |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3347038B2 (ja) | 2002-11-20 |
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