JPH10221513A - 回折光学素子及び該素子を備えた光学機器及びデバイス製造方法 - Google Patents
回折光学素子及び該素子を備えた光学機器及びデバイス製造方法Info
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- JPH10221513A JPH10221513A JP4001197A JP4001197A JPH10221513A JP H10221513 A JPH10221513 A JP H10221513A JP 4001197 A JP4001197 A JP 4001197A JP 4001197 A JP4001197 A JP 4001197A JP H10221513 A JPH10221513 A JP H10221513A
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- optical element
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 回折光学素子を別部材と一体化し、その回折
光学面を保護して十分な強度を確保する。 【解決手段】 平凸レンズ１１に対し回折光学素子１０
の回折光学面１０ａを対向面として、これらの対向面間
を真空状態とし、これらの周縁部を低融点ガラス１２に
より接着する。
光学面を保護して十分な強度を確保する。 【解決手段】 平凸レンズ１１に対し回折光学素子１０
の回折光学面１０ａを対向面として、これらの対向面間
を真空状態とし、これらの周縁部を低融点ガラス１２に
より接着する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば半導体露光
装置、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の光学系を有する装置
に使用する回折光学素子及び該素子を用いた光学機器及
びデバイス製造方法に関するものである。
装置、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の光学系を有する装置
に使用する回折光学素子及び該素子を用いた光学機器及
びデバイス製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、図１０に示すようなブレーズ
ド形状Ｂを有する回折光学素子１が知られており、回折
光学素子１をこの断面形状とすることにより、設計波長
に対する回折効率を１００％にすることが可能とされて
いる。しかし、現実には完全なブレーズド形状Ｂに加工
することは困難であるために、通常は図１１に示すよう
に、ブレーズド形状Ｂを量子化して近似した階段状の断
面形状Ｓとした、バイナリオプティクスと呼ばれる回折
光学素子２が利用されている。この回折光学素子２は回
折光学素子１を近似したものであるが、一次回折光の回
折効率は図１１に示した４レベルのバイナリオプティク
スで８０％以上を確保することができる。
ド形状Ｂを有する回折光学素子１が知られており、回折
光学素子１をこの断面形状とすることにより、設計波長
に対する回折効率を１００％にすることが可能とされて
いる。しかし、現実には完全なブレーズド形状Ｂに加工
することは困難であるために、通常は図１１に示すよう
に、ブレーズド形状Ｂを量子化して近似した階段状の断
面形状Ｓとした、バイナリオプティクスと呼ばれる回折
光学素子２が利用されている。この回折光学素子２は回
折光学素子１を近似したものであるが、一次回折光の回
折効率は図１１に示した４レベルのバイナリオプティク
スで８０％以上を確保することができる。
【０００３】ここで、近似の度合いを高めたり、回折光
学素子に大きなパワーを持たせるためには、回折光学素
子の周期構造のピッチを可能な限り小さくする必要があ
り、このような高性能な回折光学素子を得るために、半
導体製造で培われたリソグラフィ技術が使用されてい
る。そして、現在使用されているリソグラフィ工程用の
装置は、厚さがｌｍｍ未満のウエハを扱うことを前提と
して設計されているために、このリソグラフィ工程を用
いて作成される回折光学素子３は、図１２に示すように
薄い円板状の光学部材に形成されている。
学素子に大きなパワーを持たせるためには、回折光学素
子の周期構造のピッチを可能な限り小さくする必要があ
り、このような高性能な回折光学素子を得るために、半
導体製造で培われたリソグラフィ技術が使用されてい
る。そして、現在使用されているリソグラフィ工程用の
装置は、厚さがｌｍｍ未満のウエハを扱うことを前提と
して設計されているために、このリソグラフィ工程を用
いて作成される回折光学素子３は、図１２に示すように
薄い円板状の光学部材に形成されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来例において
は、回折光学素子３はリソグラフィ工程を経て加工する
ために、製造上の理由から０．６２５ｍｍ〜数ｍｍの厚
さの基板で製造することになる。このような薄い回折光
学素子３を、外形が１００〜２００ｍｍの素子として作
成して、例えば半導体露光装置の投影光学系に搭載する
場合には、従来から用いられているレンズと同様の保持
方式で回折光学素子３を鏡筒に保持すると、回折光学素
子３の自重変形、鏡筒の加工精度による接触部位の不均
一、固定時に加わる力等による取り付け時の歪み、気圧
や温度変動等により、回折光学素子３に面変形が発生し
易くなり、設計時の性能が発揮できずに像性能が劣化す
るという問題が生ずる。
は、回折光学素子３はリソグラフィ工程を経て加工する
ために、製造上の理由から０．６２５ｍｍ〜数ｍｍの厚
さの基板で製造することになる。このような薄い回折光
学素子３を、外形が１００〜２００ｍｍの素子として作
成して、例えば半導体露光装置の投影光学系に搭載する
場合には、従来から用いられているレンズと同様の保持
方式で回折光学素子３を鏡筒に保持すると、回折光学素
子３の自重変形、鏡筒の加工精度による接触部位の不均
一、固定時に加わる力等による取り付け時の歪み、気圧
や温度変動等により、回折光学素子３に面変形が発生し
易くなり、設計時の性能が発揮できずに像性能が劣化す
るという問題が生ずる。
【０００５】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
他の光学部材と一体化してその回折光学面を保護すると
共に十分な強度を有する回折光学素子を提供することに
ある。
他の光学部材と一体化してその回折光学面を保護すると
共に十分な強度を有する回折光学素子を提供することに
ある。
【０００６】本発明の他の目的は、上述の回折光学素子
を備えて微細構造を有する回折光学素子本来の性能を発
揮できるようにした光学系を提供することにある。
を備えて微細構造を有する回折光学素子本来の性能を発
揮できるようにした光学系を提供することにある。
【０００７】本発明の更に他の目的は、上述の回折光学
素子を備えた光学系を有し良好な光学特性を発揮してウ
エハのパターン露光を行う露光装置を提供することにあ
る。
素子を備えた光学系を有し良好な光学特性を発揮してウ
エハのパターン露光を行う露光装置を提供することにあ
る。
【０００８】本発明の更に他の目的は、上述の回折光学
素子を備えた光学系を有する露光装置を用いて高集積度
のデバイスを製造するデバイス製造方法を提供すること
にある。
素子を備えた光学系を有する露光装置を用いて高集積度
のデバイスを製造するデバイス製造方法を提供すること
にある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明に係る回折光学素子は、回折光学面に別の光学
部材を対向して配置し、これらの周縁部同士を当接し、
これらの間隙を真空に封入した状態で前記周縁部を接着
剤により固定したことを特徴とする。
の本発明に係る回折光学素子は、回折光学面に別の光学
部材を対向して配置し、これらの周縁部同士を当接し、
これらの間隙を真空に封入した状態で前記周縁部を接着
剤により固定したことを特徴とする。
【００１０】本発明に係る光学系は、回折光学面に別の
光学部材を対向して配置し、これらの周縁部同士を当接
し、これらの間隙を真空に封入した状態で前記周縁部を
接着剤により固定した回折光学素子を備えたことを特徴
とする。
光学部材を対向して配置し、これらの周縁部同士を当接
し、これらの間隙を真空に封入した状態で前記周縁部を
接着剤により固定した回折光学素子を備えたことを特徴
とする。
【００１１】本発明に係る露光装置は、回折光学面に別
の光学部材を対向して配置し、これらの周縁部同士を当
接し、これらの間隙を真空に封入した状態で前記周縁部
を接着剤により固定した回折光学素子を備えた光学系を
有することを特徴とする。
の光学部材を対向して配置し、これらの周縁部同士を当
接し、これらの間隙を真空に封入した状態で前記周縁部
を接着剤により固定した回折光学素子を備えた光学系を
有することを特徴とする。
【００１２】本発明に係るデバイス製造方法は、回折光
学面に別の光学部材を対向して配置し、これらの周縁部
同士を当接し、これらの間隙を真空に封入した状態で前
記周縁部を接着剤により固定した回折光学素子を備えた
光学系を有する露光装置を用いてデバイスを製造するこ
とを特徴とする。
学面に別の光学部材を対向して配置し、これらの周縁部
同士を当接し、これらの間隙を真空に封入した状態で前
記周縁部を接着剤により固定した回折光学素子を備えた
光学系を有する露光装置を用いてデバイスを製造するこ
とを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明を図１〜図７に図示の実施
例に基づいて詳細に説明する。図１は他の光学部材と一
体化した回折光学素子の断面図を示し、石英ウエハ上に
形成された回折光学素子１０は、石英を材料とする平凸
レンズ１１と対向され、周縁部において低融点ガラス１
２によって接着されている。そして、図２に示すように
回折光学面１０ａは量子化して近似した４段のバイナリ
オプティクス形状とされている。なお、バイナリオプテ
ィクスの量子化段数は４段に限定する必要はなく、また
ブレーズト形状を有するフレネルレンズを使用してもよ
い。
例に基づいて詳細に説明する。図１は他の光学部材と一
体化した回折光学素子の断面図を示し、石英ウエハ上に
形成された回折光学素子１０は、石英を材料とする平凸
レンズ１１と対向され、周縁部において低融点ガラス１
２によって接着されている。そして、図２に示すように
回折光学面１０ａは量子化して近似した４段のバイナリ
オプティクス形状とされている。なお、バイナリオプテ
ィクスの量子化段数は４段に限定する必要はなく、また
ブレーズト形状を有するフレネルレンズを使用してもよ
い。
【００１４】図３は回折光学素子１０と平凸レンズ１１
との組立装置の構成図を示し、真空チャンバ１３内にお
いて、ステージ１４上にはウエハチャック１５に保持さ
れた回折光学素子１０が載置され、その上方のレンズチ
ャック１６に、周縁に低融点ガラス１２を塗布した平凸
レンズ１１が保持されている。そして、その横方向に赤
外線ヒータ１７が配置されており、真空チャンバ１３に
は排気口１８が設けられている。
との組立装置の構成図を示し、真空チャンバ１３内にお
いて、ステージ１４上にはウエハチャック１５に保持さ
れた回折光学素子１０が載置され、その上方のレンズチ
ャック１６に、周縁に低融点ガラス１２を塗布した平凸
レンズ１１が保持されている。そして、その横方向に赤
外線ヒータ１７が配置されており、真空チャンバ１３に
は排気口１８が設けられている。
【００１５】真空チャンバ１３内から空気を排気口１８
から排気した状態で、回折光学素子１０は平凸レンズ１
１に対して、回折光学面１０ａの周縁部を接着面として
低融点ガラス１２により固定される。先ず、回折光学素
子１０と平凸レンズ１１を、それぞれウエハチャック１
５とレンズチャック１６で保持して接触させる。平凸レ
ンズ１１の周縁には上述したように予め低融点ガラス１
２が付着されており、ステージ１４を回転させながら、
赤外線ヒータ１７により加熱して低融点ガラス１２を溶
融し、平凸レンズ１１と回折光学素子１０との対向面の
間隙を封止するようにして接着する。平凸レンズ１１と
回折光学素子１０の固定は、真空による吸着力と低融点
ガラス１２の接着強度から成り、また接着面にはＡＲコ
ーティングが施されていて、接着面での反射が抑えられ
ている。
から排気した状態で、回折光学素子１０は平凸レンズ１
１に対して、回折光学面１０ａの周縁部を接着面として
低融点ガラス１２により固定される。先ず、回折光学素
子１０と平凸レンズ１１を、それぞれウエハチャック１
５とレンズチャック１６で保持して接触させる。平凸レ
ンズ１１の周縁には上述したように予め低融点ガラス１
２が付着されており、ステージ１４を回転させながら、
赤外線ヒータ１７により加熱して低融点ガラス１２を溶
融し、平凸レンズ１１と回折光学素子１０との対向面の
間隙を封止するようにして接着する。平凸レンズ１１と
回折光学素子１０の固定は、真空による吸着力と低融点
ガラス１２の接着強度から成り、また接着面にはＡＲコ
ーティングが施されていて、接着面での反射が抑えられ
ている。
【００１６】ここで、回折光学素子１０をその周縁部に
おいて他の光学部材と接着固定しているのは、光学部材
によって基本的な固定強度を与えると共に、真空雰囲気
の封止を兼ねている。また、ブレーズド形状を有する面
を対向面とし、この対向面の間隙を真空状態とすること
により、回折光学素子１０が投影光学系中で光学部材よ
りも下側に配置された場合でも、回折光学素子１０の中
心部の光学部材への密着を確保することができる。
おいて他の光学部材と接着固定しているのは、光学部材
によって基本的な固定強度を与えると共に、真空雰囲気
の封止を兼ねている。また、ブレーズド形状を有する面
を対向面とし、この対向面の間隙を真空状態とすること
により、回折光学素子１０が投影光学系中で光学部材よ
りも下側に配置された場合でも、回折光学素子１０の中
心部の光学部材への密着を確保することができる。
【００１７】また、補強のための光学部材を光学系を構
成するレンズによって兼ねることにより、投影光学系全
体として光学部材の全体の厚みをより薄くすることがで
き、照明光の吸収を最小限に抑えることが可能となる。
更に、低融点ガラス１２は熱膨張係数等の点でガラス同
士の接着に対して相性が良く、真空雰囲気の吸着力と併
せて、環境温度の変化及びレンズ自身の光吸収による温
度変化の際にも、不要な応力等の発生を抑えることがで
きる。
成するレンズによって兼ねることにより、投影光学系全
体として光学部材の全体の厚みをより薄くすることがで
き、照明光の吸収を最小限に抑えることが可能となる。
更に、低融点ガラス１２は熱膨張係数等の点でガラス同
士の接着に対して相性が良く、真空雰囲気の吸着力と併
せて、環境温度の変化及びレンズ自身の光吸収による温
度変化の際にも、不要な応力等の発生を抑えることがで
きる。
【００１８】図４、図５に示すように、回折光学素子１
０を固定して強度を確保する光学部材は平凹レンズ１９
でもよく、その作用効果は平凸レンズ１１の場合と同様
であるので説明は省略する。
０を固定して強度を確保する光学部材は平凹レンズ１９
でもよく、その作用効果は平凸レンズ１１の場合と同様
であるので説明は省略する。
【００１９】また、図６に示すように回折光学素子１０
と平行平板２０とを接着剤２１により接着してもよい。
回折光学素子１０は平行平板２０に対し回折光学面１０
ａを接触面として周縁部を接着剤２１により固定されて
いる。また、回折光学面１０ａが平行平板２０と対向す
る間隙は真空状態とされ、周縁部を固定している接着剤
２１はこの真空状態の封止の効果も果たしている。従っ
て、平行平板２０と回折光学素子１０の固定は、真空に
よる吸着力と接着剤２１の接着強度から成る。
と平行平板２０とを接着剤２１により接着してもよい。
回折光学素子１０は平行平板２０に対し回折光学面１０
ａを接触面として周縁部を接着剤２１により固定されて
いる。また、回折光学面１０ａが平行平板２０と対向す
る間隙は真空状態とされ、周縁部を固定している接着剤
２１はこの真空状態の封止の効果も果たしている。従っ
て、平行平板２０と回折光学素子１０の固定は、真空に
よる吸着力と接着剤２１の接着強度から成る。
【００２０】このようにして、回折光学素子１０と別の
光学部材を周縁部において接着固定することにより、十
分な接着強度と回折光学面１０ａの保護が可能となる。
また、回折光学素子１０と密着固定する別部材を光学系
を構成するレンズとすれば、光学系全体の硝材中の光路
長の増加を抑制又は削減することが可能となる。更に、
回折光学素子１０を別部材に密着固定する際の接着剤と
して低融点ガラス１２を使用することにより、環境温度
の変化や光学素子自体が光の吸収等で温度変化を生じた
場合でも、回折光学素子１０と一体化する部材との整合
性に優れたものとすることができる。
光学部材を周縁部において接着固定することにより、十
分な接着強度と回折光学面１０ａの保護が可能となる。
また、回折光学素子１０と密着固定する別部材を光学系
を構成するレンズとすれば、光学系全体の硝材中の光路
長の増加を抑制又は削減することが可能となる。更に、
回折光学素子１０を別部材に密着固定する際の接着剤と
して低融点ガラス１２を使用することにより、環境温度
の変化や光学素子自体が光の吸収等で温度変化を生じた
場合でも、回折光学素子１０と一体化する部材との整合
性に優れたものとすることができる。
【００２１】微細加工が必要な回折光学素子１０は、製
造上の理由から前述したように薄い基板により製造され
るが、このような薄い回折光学素子１０を外形が１００
〜２００ｍｍの素子として作成して、例えば半導体露光
装置の投影光学系に搭載する場合には、固定時に面変形
が発生し易く、設計時の性能が発揮できずに投影系全体
の像性能が劣化する。従って、回折光学素子１０に上述
のような補強を行って、固定時の変形を抑えることが重
要となる。
造上の理由から前述したように薄い基板により製造され
るが、このような薄い回折光学素子１０を外形が１００
〜２００ｍｍの素子として作成して、例えば半導体露光
装置の投影光学系に搭載する場合には、固定時に面変形
が発生し易く、設計時の性能が発揮できずに投影系全体
の像性能が劣化する。従って、回折光学素子１０に上述
のような補強を行って、固定時の変形を抑えることが重
要となる。
【００２２】図７は上述の回折光学素子１０を投影光学
系に組み込んだ半導体露光装置の構成図を示している。
ウエハステージ３１にウエハＷが載置され、ウエハＷの
上方には、上述の補強を施した回折光学素子１０を備え
た投影光学系３２、保持台３３に保持されたレチクル３
４、光源３５が順次に配置されている。投影光学系３２
はウエハＷの熱歪み等による伸縮に対応するために、微
小に上下動可能となっており、倍率補正や収差補正を行
う機能を有している。また、この半導体露光装置におい
ては投影光学系３２のレンズの要求精度が厳しいので、
重力を考慮すると鉛直方向に光軸を設定することが好ま
しく、回折光学素子１０は投影光学系３２中で横置き状
態に設けられている。
系に組み込んだ半導体露光装置の構成図を示している。
ウエハステージ３１にウエハＷが載置され、ウエハＷの
上方には、上述の補強を施した回折光学素子１０を備え
た投影光学系３２、保持台３３に保持されたレチクル３
４、光源３５が順次に配置されている。投影光学系３２
はウエハＷの熱歪み等による伸縮に対応するために、微
小に上下動可能となっており、倍率補正や収差補正を行
う機能を有している。また、この半導体露光装置におい
ては投影光学系３２のレンズの要求精度が厳しいので、
重力を考慮すると鉛直方向に光軸を設定することが好ま
しく、回折光学素子１０は投影光学系３２中で横置き状
態に設けられている。
【００２３】ウエハステージ３１によってウエハＷを所
望の位置に位置決めし、図示しないフォーカス検出手段
により、ウエハＷの高さをフォーカス位置に調整する。
そして、図示しないシャッタを開き、光源３５からの照
明光によってレチクル７を照明し、レチクル７上の回路
パターンを回折光学素子１０を有する投影光学系３２に
より精度良くウエハＷ上に投影する。
望の位置に位置決めし、図示しないフォーカス検出手段
により、ウエハＷの高さをフォーカス位置に調整する。
そして、図示しないシャッタを開き、光源３５からの照
明光によってレチクル７を照明し、レチクル７上の回路
パターンを回折光学素子１０を有する投影光学系３２に
より精度良くウエハＷ上に投影する。
【００２４】なお、本発明の回折光学素子は投影光学系
のみならず、半導体露光装置の照明光学系やその他の光
学機器の光学系に対しても応用可能である。
のみならず、半導体露光装置の照明光学系やその他の光
学機器の光学系に対しても応用可能である。
【００２５】図８は上述の回折光学素子１０を撮影光学
系に組み込んだ露光装置を利用してＩＣやＬＳＩ等の半
導体チップ、液晶パネルやＣＣＤから成る半導体デバイ
スを製造する工程のフローチャート図を示している。ス
テップ１では半導体デバイスの回路設計を行う。ステッ
プ２では設計した回路パターンを形成したレチクルであ
るマスクＲを製作する。一方、ステップ３ではシリコン
等の材料を用いてウエハＷを製造する。ステップ４は用
意したマスクＲとウエハＷを用いてチップ化するウエハ
作成の全工程であり、ダイシング、ボンディングなどの
アッセンブリ工程、チップ封入のパッケージ工程等の工
程を含んでいる。ステップ５で半導体デバイスを組立
て、スラップ６で動作確認テスト、耐久性テストの検査
を行う。ステップ７で上述の工程を経て完成した半導体
デバイスを出荷する。
系に組み込んだ露光装置を利用してＩＣやＬＳＩ等の半
導体チップ、液晶パネルやＣＣＤから成る半導体デバイ
スを製造する工程のフローチャート図を示している。ス
テップ１では半導体デバイスの回路設計を行う。ステッ
プ２では設計した回路パターンを形成したレチクルであ
るマスクＲを製作する。一方、ステップ３ではシリコン
等の材料を用いてウエハＷを製造する。ステップ４は用
意したマスクＲとウエハＷを用いてチップ化するウエハ
作成の全工程であり、ダイシング、ボンディングなどの
アッセンブリ工程、チップ封入のパッケージ工程等の工
程を含んでいる。ステップ５で半導体デバイスを組立
て、スラップ６で動作確認テスト、耐久性テストの検査
を行う。ステップ７で上述の工程を経て完成した半導体
デバイスを出荷する。
【００２６】図９はステップ４のウエハプロセスのフロ
ーチャート図を示す。ステップ１１ではウエハＷの表面
を酸化する。ステップ１２ではウエハＷの表面に絶縁膜
を形成する。ステップ１３ではウエハＷ上に電極を蒸着
によって形成する。ステップ１４ではウエハＷにイオン
を打込む。ステップ１５ではウエハＷに感材であるレジ
ストを塗布するレジスト処理を行う。ステップ１６では
露光装置によってマスクＲの回路パターンの像によりウ
エハＷを露光する。ステップ１７では露光したウエハＷ
を現像する。ステップ１８では現像したレジスト以外の
部分を削り取るエッチングを行う。ステップ１９ではエ
ッチング終了後に不要となったレジストを剥離して取り
除く。上述のステップを繰り返し行うことにより、ウエ
ハＷ上に回路パターンが形成される。
ーチャート図を示す。ステップ１１ではウエハＷの表面
を酸化する。ステップ１２ではウエハＷの表面に絶縁膜
を形成する。ステップ１３ではウエハＷ上に電極を蒸着
によって形成する。ステップ１４ではウエハＷにイオン
を打込む。ステップ１５ではウエハＷに感材であるレジ
ストを塗布するレジスト処理を行う。ステップ１６では
露光装置によってマスクＲの回路パターンの像によりウ
エハＷを露光する。ステップ１７では露光したウエハＷ
を現像する。ステップ１８では現像したレジスト以外の
部分を削り取るエッチングを行う。ステップ１９ではエ
ッチング終了後に不要となったレジストを剥離して取り
除く。上述のステップを繰り返し行うことにより、ウエ
ハＷ上に回路パターンが形成される。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように本発明に係る回折光
学素子は、回折光学面を対向面として別の光学部材と周
縁を接着剤によって接着封止すると共に、対向面の間隙
を真空状態とすることにより、十分な接着強度と回折光
学面の保護が可能となる。
学素子は、回折光学面を対向面として別の光学部材と周
縁を接着剤によって接着封止すると共に、対向面の間隙
を真空状態とすることにより、十分な接着強度と回折光
学面の保護が可能となる。
【００２８】本発明に係る光学系は、補強を施した回折
光学素子を搭載することにより、レンズの変形に対して
内部応力の発生を抑えることができる。
光学素子を搭載することにより、レンズの変形に対して
内部応力の発生を抑えることができる。
【００２９】本発明に係る露光装置は、収差発生の許容
値の小さな条件下でも良好な光学特性を発揮してウエハ
のパターン露光を行うことができる。
値の小さな条件下でも良好な光学特性を発揮してウエハ
のパターン露光を行うことができる。
【００３０】本発明に係るデバイス製造方法は、従来で
は困難であった高集積度の半導体デバイスの製造が可能
である。
は困難であった高集積度の半導体デバイスの製造が可能
である。
【図１】第１の実施例の断面図である。
【図２】一部を拡大した断面図である。
【図３】組立装置の構成図である。
【図４】第２の実施例の断面図である。
【図５】一部を拡大した断面図である。
【図６】第３の実施例の断面図である。
【図７】半導体露光装置の構成図である。
【図８】半導体デバイスの製造工程のフローチャート図
である。
である。
【図９】ウエハプロセスのフローチャート図である。
【図１０】従来のフレネルレンズの部分拡大断面図であ
る。
る。
【図１１】バイナリオプティクスの部分拡大断面図であ
る。
る。
【図１２】回折光学素子の斜視図である。
１０ 回折光学素子 １１ 平凸レンズ １２ 低融点ガラス １３ 真空チャンバ １５ ウエハチャック １６ レンズチャック １７ 赤外線ヒータ １９ 平凹レンズ ２０ 平行平板 ２１ 接着剤 ３１ ウエハステージ ３２ 投影光学系 ３４ レチクル ３５ 光源 Ｗ ウエハ
Claims (6)
- 【請求項１】 回折光学面に別の光学部材を対向して配
置し、これらの周縁部同士を当接し、これらの間隙を真
空に封入した状態で前記周縁部を接着剤により固定した
ことを特徴とする回折光学素子。 - 【請求項２】 前記別の光学部材は少なくとも対向面が
平面である屈折型光学素子とした請求項１に記載の回折
光学素子。 - 【請求項３】 前記接着剤には低融点ガラスを使用した
請求項１に記載の回折光学素子。 - 【請求項４】 回折光学面に別の光学部材を対向して配
置し、これらの周縁部同士を当接し、これらの間隙を真
空に封入した状態で前記周縁部を接着剤により固定した
回折光学素子を備えたことを特徴とする光学系。 - 【請求項５】 回折光学面に別の光学部材を対向して配
置し、これらの周縁部同士を当接し、これらの間隙を真
空に封入した状態で前記周縁部を接着剤により固定した
回折光学素子を備えた光学系を有することを特徴とする
露光装置。 - 【請求項６】 回折光学面に別の光学部材を対向して配
置し、これらの周縁部同士を当接し、これらの間隙を真
空に封入した状態で前記周縁部を接着剤により固定した
回折光学素子を備えた光学系を有する露光装置を用いて
デバイスを製造することを特徴とするデバイス製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4001197A JPH10221513A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 回折光学素子及び該素子を備えた光学機器及びデバイス製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4001197A JPH10221513A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 回折光学素子及び該素子を備えた光学機器及びデバイス製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10221513A true JPH10221513A (ja) | 1998-08-21 |
Family
ID=12568977
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4001197A Pending JPH10221513A (ja) | 1997-02-07 | 1997-02-07 | 回折光学素子及び該素子を備えた光学機器及びデバイス製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH10221513A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002107520A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-10 | Canon Inc | 回折光学素子及び該回折光学素子を有する光学系 |
-
1997
- 1997-02-07 JP JP4001197A patent/JPH10221513A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002107520A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-10 | Canon Inc | 回折光学素子及び該回折光学素子を有する光学系 |
| JP4587418B2 (ja) * | 2000-09-27 | 2010-11-24 | キヤノン株式会社 | 回折光学素子及び該回折光学素子を有する光学系 |
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