JPH11154772A - 半導体モジュール装置及びその製造方法 - Google Patents

半導体モジュール装置及びその製造方法

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JPH11154772A
JPH11154772A JP9319821A JP31982197A JPH11154772A JP H11154772 A JPH11154772 A JP H11154772A JP 9319821 A JP9319821 A JP 9319821A JP 31982197 A JP31982197 A JP 31982197A JP H11154772 A JPH11154772 A JP H11154772A
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semiconductor module
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 発光及び受光の機能又は受光のみの機能を持
つ半導体モジュール装置において、気密性の確保を容易
にし、小型化と構成の簡易化を可能にする。 【解決手段】 開示される半導体モジュール装置は、シ
リコン基板4上に発光素子1と発光素子1からのモニタ
光を検出する側面入射型受光素子2とを配置すると共
に、シリコン基板4上に設けられたV溝11に光ファイ
バ芯線3を収容することによって、発光素子1と光ファ
イバ芯線3を結合するが、この際、発光素子1と側面入
射型受光素子2及び光ファイバ芯線3の一部が封止キャ
ップ5によってシリコン基板4上に気密封止されるよう
に構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光通信及び光計
測の分野で用いて好適な半導体モジュール装置及びその
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】光通信及び光計測の分野では、一般に、
光ファイバを介して、変調光によってデータを伝送する
方式がとられる。この場合の変調光の光源装置として
は、半導体レーザからなる発光素子の一方の側面の活性
層からの発生光(前方光)を光ファイバに結合して伝送
すると共に、前方光の強度と一定の関係がある、発光素
子の他方の側面の活性層からの発生光(後方光)の強度
を受光素子を介してモニタし、検出電流を発光素子の駆
動電源に帰還して、発光素子に対する駆動電流値を制御
することによって、発光素子の発生光の強度を一定に保
つようにした半導体モジュール装置が多く用いられてい
る。
【0003】以下、従来の半導体モジュール装置につい
て説明する。図7乃至図9は、それぞれ従来の半導体モ
ジュール装置の構成を示す断面図である。まず、図7
は、特開昭62−139375号公報(以下、第1の公
報という)に記載の半導体モジュール装置の構成を示
し、この半導体モジュール装置では、レーザダイオード
(以下、LDという)である発光素子1と、その光軸上
に設けられた発光素子1の光を収束する第1レンズ36
と、フォトダイオード(以下、PDという)である面入
射型受光素子2Aとが、小型の気密パッケージ35内に
マウントされている。パッケージ35に設けられた、発
光素子1の光軸に一致した貫通穴には、円柱レンズから
なる第2レンズ37が気密封止固定されていると共に、
その焦点位置に光ファイバ38の先端が固定されてい
る。気密パッケージ35は、封止キャップ39によって
気密封止されると共に、冷却素子40を介して、ケース
7に固定されている。さらに、ケース7は、封止キャッ
プ10によって蓋をされている。上記第1の公報に記載
の従来例では、発光素子1と受光素子2Aとを収容する
パッケージ35内の気密は、封止キャップ39とパッケ
ージ35間、円柱レンズ37とパッケージ35間の各部
で保たれており、したがって、光ファイバ38は、パッ
ケージ35による気密封止領域より外側に配置されてい
るので、気密性の確保が容易である。
【0004】次に、図8は、特開平9−27634号公
報(以下、第2の公報という)に記載の半導体モジュー
ル装置の構成を示し、この半導体モジュール装置では、
発光素子(LD)1と、側面入射型受光素子(PD)2
とが、マウント材41の同一平面上にマウントされてい
る。また、マウント材41と、発光素子1の光を収束す
る第1レンズ42とは、金属基板43の同一平面上に固
定されている。さらに、金属基板43は、冷却素子40
を介して、ケース7に固定されている。ケース7の側面
の第1レンズ42の光軸に対応する位置に、第1レンズ
42と光学結合する第2レンズ44と、第2レンズ44
と光学結合する光ファイバ38とが、気密性のファイバ
ホルダ45によって固定されている。ケース7は、封止
キャップ10によって気密封止される。上記第2の公報
に記載の従来例では、発光素子1、受光素子2及び光フ
ァイバ38を収容するケース7内の気密は、封止キャッ
プ10とケース7間、ケース7とファイバホルダ45間
の各部で保たれており、したがって、ファイバホルダ4
5は、光軸調整に無関係にケース7に固定されているの
で、気密性の確保が容易である。
【0005】図9は、従来におけるさらに別の半導体モ
ジュール装置の構成を示し、この半導体モジュール装置
では、発光素子と光ファイバとを、レンズを介して光学
結合させる代わりに、同図に示すように、発光素子1と
光ファイバとを、シリコン基板4の同一平面上に、光学
的な位置合わせ操作を行なわずに機械的に位置決めする
ことによって、発光素子1と光ファイバ等が、自動的に
所要の結合状態で配置される構造となっている点で、上
述の第1及び第2の公報記載の技術とは相違している。
すなわち、同図に示すように、シリコン基板4には、そ
の平面部上に、発光素子(LD)1と、側面入射型受光
素子(PD)2とがマウントされていると共に、異方性
エッチングによってシリコン表面に形成したV溝11内
に、先端がテーパ加工されて、さらに、その先端が先球
加工された光ファイバ芯線3が配置されている。シリコ
ン基板4は、ケース7内に固定されている。ケース7
は、封止キャップ10によって気密封止される。またフ
ァイバ被覆8の部分は、ファイバホルダ45を介してケ
ース7の側面に気密封止固定されている。発光素子1の
光は、先球加工によって光ファイバ芯線3と効率よく光
学結合される。また発光素子2の活性層と側面入射型受
光素子2の受光層の高さを合わせることによって、効率
よくモニタ光を検出できるようになっている。このよう
な構造を持つ半導体モジュール装置では、光ファイバか
らの出力光による結合状態の確認を行なうことなく、フ
ァイバアセンブリを行なうことができるため、組立工程
を簡略化することが可能となる。また、レンズ等の部品
点数も極端に減らすことができるため、装置の小型化、
低価格化を実現することができる。この従来例では、ケ
ース7内の気密は、封止キャップ10とケース7間、ケ
ース7とファイバホルダ45間、及びファイバホルダ4
5とファイバ被覆8間の各部で保たれている(図9)。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記第
1の公報記載の従来装置(図7)では、発光素子と受光
素子とが同一平面上に配置されていないため、面入射型
受光素子を使用しなければならないと共に、発光素子と
光ファイバとをレンズを介して光学結合させているの
で、半導体モジュール装置の小型化,構造の簡易化が難
しい、という欠点があった。
【0007】また、上記第2の公報記載の従来装置(図
8)では、発光素子と光ファイバとを、レンズを介して
光学結合させていると共に光ファイバが気密封止領域よ
り外部にあるため、構成部品数が多くなると共に光軸調
整が難しく、したがって、半導体モジュール装置の小型
化,構造の簡易化には不向きである、という欠点があっ
た。
【0008】また、図9に示す従来装置では、発光素子
と光ファイバとを、レンズを介して光学結合させる代わ
りに、発光素子及び受光素子を基板面上に配置し、光フ
ァイバを基板面に設けられたV溝内に配置することによ
って、発光素子と光ファイバとが機械的に位置決めされ
て、自動的に所要の結合状態に配置されるようにしてい
るが、発光素子と受光素子とを収容したケースの側面を
貫通して設けたファイバホルダによって光ファイバの被
覆部を固定するようにしているため、ファイバ芯線の位
置決めを行なった後に、ケースとファイバホルダ間及び
ファイバホルダとファイバ被覆部間の気密加工を行なう
場合は、ケースとファイバホルダ間及びファイバホルダ
とファイバ被覆部間の位置合わせが不完全なために、気
密性が悪くなることがあり、又はケースとファイバホル
ダ間及びファイバホルダとファイバ被覆部間の気密加工
を行なってから、ファイバ芯線の位置決めを行なう場合
は、ファイバ芯線の位置が固定されているので、発光素
子とファイバ芯線との光学結合に支障を来すことがあ
る。このため、ケース内の気密性と、V溝を介する発光
素子とファイバ芯線との位置合わせ精度の確保とを両立
させることが難しい、という欠点があった。
【0009】この発明は、上述の事情に鑑みてなされた
ものであって、装置小型化、構造簡易化を実現でき、か
つ、パッケージ内の気密性を犠牲にすることなく、発光
素子と光ファイバとの位置合わせ精度を確保できる半導
体モジュール装置及びその製造方法を提供することを目
的としている。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項1記載の発明に係る半導体モジュール装置
は、基板上に発光素子と該発光素子からのモニタ光を検
出する受光素子とを配置すると共に、該基板上に設けら
れた傾斜側面を持つ溝部に光ファイバを収容することに
よって、前記発光素子と光ファイバとを結合する半導体
モジュール装置において、前記発光素子と受光素子及び
光ファイバの一部が封止部材によって前記基板上に気密
封止されていることを特徴としている。
【0011】また、請求項2記載の発明に係る半導体モ
ジュール装置は、基板上に発光素子と該発光素子からの
モニタ光を検出する受光素子とを配置すると共に、該基
板上に設けられた光導波路を介して前記発光素子と光フ
ァイバとを結合する半導体モジュール装置において、前
記発光素子と受光素子及び光導波路の一部が封止部材に
よって前記基板上に気密封止されていることを特徴とし
ている。
【0012】また、請求項3記載の発明は、請求項1又
は2記載の発明に係る半導体モジュール装置であって、
前記基板が前記発光素子と受光素子の各端子を外部接続
するリードフレーム上に載置されていることを特徴とし
ている。
【0013】また、請求項4記載の発明は、請求項1,
2又は3記載の発明に係る半導体モジュール装置であっ
て、前記受光素子が側面入射型受光素子であることを特
徴としている。
【0014】また、請求項5記載の発明に係る半導体モ
ジュール装置は、基板上に一又は複数の受光素子を含む
受光素子アレイを配置すると共に、該基板上に前記受光
素子と同数個設けられた傾斜側面を持つ溝部にそれぞれ
光ファイバを収容することによって、該各受光素子と対
応する光ファイバとを結合する半導体モジュール装置に
おいて、前記受光素子アレイ及び各光ファイバの一部が
封止部材によって前記基板上に気密封止されていること
を特徴としている。
【0015】また、請求項6記載の発明は、請求項1記
載の半導体モジュール装置を製造する方法に係り、前記
基板上に設けられた配線パターンのマーカによって前記
発光素子と受光素子をそれぞれの配線パターンに位置合
わせして接続する工程と、前記溝部に収容された光ファ
イバを該光ファイバの外周に配されているソルダによっ
て前記溝部内の間隙を満たすように溶着する工程と、前
記封止部材をその下部に配されているソルダによって該
封止部材と前記基板及び前記光ファイバの溶着部との間
隙を満たすように該基板上に溶着することによって発光
素子と受光素子及び光ファイバの一部を気密封止する工
程とを含むことを特徴としている。
【0016】また、請求項7記載の発明は、請求項2記
載の半導体モジュール装置を製造する方法であって、前
記基板上に設けられた配線パターンのマーカによって前
記発光素子と受光素子とをそれぞれの配線パターンに位
置合わせして接続する工程と、前記封止部材をその下部
に配されているソルダによって該封止部材と前記基板及
び前記光導波路との間隙を満たすように該基板上に溶着
することによって前記発光素子と受光素子及び光導波路
の一部を気密封止する工程とを含むことを特徴としてい
る。
【0017】さらにまた、請求項8記載の発明は、請求
項5記載の半導体モジュール装置を製造する方法であっ
て、前記基板上に設けられた配線パターンのマーカによ
って前記受光素子アレイを構成する各受光素子をそれぞ
れの配線パターンに位置合わせして接続する工程と、前
記溝部に収容された光ファイバを該光ファイバの外周に
配されているソルダによって前記溝部内の間隙を満たす
ように溶着する工程と、前記封止部材をその下部に配さ
れているソルダによって該封止部材と前記基板及び前記
光ファイバの溶着部との間隙を満たすように前記基板上
に溶着することによって前記受光素子アレイ及び光ファ
イバの一部を気密封止する工程とを含むことを特徴とし
ている。
【0018】
【作用】この発明の半導体モジュール装置及びその製造
方法では、基板の同一平面上に配置された発光素子,受
光素子及び光ファイバ、又は発光素子、受光素子及び光
導波路、又は受光素子アレイ及び光ファイバを、基板上
で気密封止するので、気密領域を基板上のみに限定する
ことが可能となる。したがって、パッケージの他の部分
に気密性を持たせる必要がなくなり、気密不良の問題発
生を少なくすることができる。また、気密封止と同時
に、光ファイバをソルダで基板上に固定するので、傾斜
側面を持つ溝部(例えば、V溝)に収容された光ファイ
バの位置精度を、そのまま保持することができる。さら
に、光ファイバ又は光導波路まで気密領域に含ませるこ
とが可能になるので、光学結合を簡略化でき、部品数の
低減と装置の小型化とを実現することができる。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態について説明する。説明は、実施例を用い
て具体的に行なう。 ◇第1実施例 図1は、この発明の第1実施例である半導体モジュール
装置の構成を示す断面図、図2は、同半導体モジュール
装置に用いられるシリコン基板の表面外観構成を示す図
で、(a)は同シリコン基板の平面図、(b)は(a)
のA−A線に沿う断面図、また、図3は、同半導体モジ
ュール装置の製造方法を工程順に示す工程図である。以
下、図1を参照して、この例の半導体モジュール装置の
構成について説明する。シリコン基板4は、その上面が
平面部からなると共に、その一部に異方性エッチング処
理によってV溝11が設けられている。LDの発光素子
1と、PIN型PDの側面入射型受光素子2とは、シリ
コン基板4の平面部に、発光素子1の活性層と側面入射
型受光素子2の受光層とが対向し、かつ、両者の高さが
揃うようにマウントされていて、効率よくモニタ光を検
出できるようになっている。シリコン基板4のV溝11
内に、先端がテーパ状とされ、最先端部が先球加工され
た光ファイバ芯線3が配置されていて、効率よく発光素
子1の発生光を光ファイバ芯線3に結合できるようにな
っている。シリコン基板4上の発光素子1と受光素子2
及び光ファイバ芯線3の先端部とは、封止ソルダ6を介
してシリコン基板4に固定された封止キャップ5によっ
て気密封止されている。シリコン基板4は、ケース7内
に固定されると共に、光ファイバ芯線3は、ファイバ被
覆部8の部分で、ケース7の側面の貫通穴にファイバ被
覆固定用樹脂9によって固定されている。ケース7は、
カバー10によって蓋をされている。
【0020】次に、図2を参照して、シリコン基板4の
表面外観構成について詳述する。シリコン基板4の上面
は平面をなし、その一部に光ファイバ芯線3を収容する
ためのV溝11が設けられていて、その平面部には、発
光素子をマウントするための発光素子用配線パターン1
4A,14Bと、受光素子をマウントするための受光素
子用配線パターン15A,15Bとが、不純物を拡散す
ることによってシリコン基板4内に形成されている。ま
た、シリコン基板4の上面には、配線パターン14A,
14B,15A,15Bの上面及びV溝11の斜面にわ
たって、発光素子と受光素子とを囲むように、環状のシ
リコン酸化膜13が設けられていて、この酸化膜13上
に封止キャップ5(図1)をソルダリングするためのメ
タライズ部17が設けられている。さらに、配線パター
ン14A,15Aには、それぞれ発光素子と受光素子を
マウントする際の基準とするための、メタライズされな
い部分からなる発光素子マウント用マーカ16A、受光
素子マウント用マーカ16Bが設けられている。
【0021】次に、図3を参照して、この例の半導体モ
ジュール装置における気密封止までの工程を説明する。
シリコン基板4を下面から赤外線で照射すると、図2に
示された配線パターン14A,14B,15A,15B
のメタライズ部は影となるが、発光素子マウント用マー
カ16A、受光素子マウント用マーカ16Bは明るく見
えるので、これを基準として、発光素子1と側面入射型
受光素子2のそれぞれの下面に設けられた電極(不図
示)と、対応する配線パターンとを位置合わせしてマウ
ント・ボンディングする(図3(a))。次に、V溝1
1に光ファイバ芯線3を収容して位置合わせし、予め、
光ファイバ芯線3の外周にメタライズされているソルダ
18を加熱溶解して、V溝11の部分のメタライズ部1
7に溶着して、光ファイバ芯線3とV溝11間の間隙を
満たすと同時に、光ファイバ芯線3を固定する(図3
(b))。最後に、乾燥不活性ガス雰囲気中で、シリコ
ン基板4の平面部のメタライズ部17に封止キャップ5
を載せて、封止キャップ5の下部の周囲に予めメタライ
ズされているソルダ19を加熱溶解して、封止キャップ
5とメタライズ部17間及び光ファイバ芯線3とV溝1
1との溶着部間の間隙を満たすように溶着することによ
って、発光素子と受光素子及び光ファイバ芯線3の一部
との気密封止を完成させる(図3(c))。
【0022】このように、この例では、発光素子1、受
光素子2及び光ファイバ芯線3を、シリコン基板4上で
封止キャップ5によって気密封止するので、ケース7に
対してシリコン基板4を収容すると共に、ケース7の側
面でファイバ被覆部8を貫通させる際の気密封止を省略
することができる。すなわち、ファイバ被覆部8とケー
ス7間、ケース7とカバー10間では、厳密な気密処理
を行なう必要がなくなる。したがって、この部分に起因
する気密不良の問題が解消すると共に、半導体モジュー
ル装置の小型化と構造の簡易化が可能となる。具体的に
は、この例の構成によれば、半導体モジュール装置の材
料費を50パーセント以下に抑えることができた。ま
た、気密リーク不良発生率を約90パーセント低減する
ことができた。
【0023】◇第2実施例 図4は、この発明の第2実施例である半導体モジュール
装置の構成を示す断面図である。なお、この例の半導体
モジュール装置におけるシリコン基板4の構成及び気密
封止までの工程は、第1実施例の場合と略同様である。
この例の半導体モジュール装置は、図4に示すように、
シリコン基板4の上面の平面部の一部にV溝11を設け
て、シリコン基板4の平面部に、発光素子1の活性層と
側面入射型受光素子2の受光層とが対向し、かつ、両者
の高さが揃うようにマウントし、V溝11内に、先端を
テーパ状とされ、さらに、最先端部が先球加工された光
ファイバ芯線3を配置して、発光素子1と受光素子2及
び光ファイバ芯線3の先端部とを、封止ソルダ6を介し
てシリコン基板4に固定された封止キャップ5によって
気密封止することで、まず、装置本体を形成し、次に、
装置本体を、リードフレーム21上にマウントし、第1
実施例の場合と同様にして、配線パターンを介して発光
素子1、受光素子2の電気的接続を行なった後、シリコ
ン基板4、封止キャップ5、ファイバ被覆部8及びリー
ドフレーム21を含む全体を、樹脂によって成形固化し
てモールド22を形成することで、構成されている。
【0024】このように、この例では、シリコン基板4
上の発光素子1と受光素子2及び光ファイバ芯線3の先
端部との気密は封止キャップ5によって確保されている
ので、モールドによる半導体モジュール装置の形成が可
能となり、半導体モジュール装置のコストを大幅に低減
することができるようになる。
【0025】◇第3実施例 図5は、この発明の第3実施例である半導体モジュール
装置の構成を示す断面図である。この例の半導体モジュ
ール装置では、同図に示すように、シリコン基板4の上
面が平面部からなると共に、その一部に光導波路23が
形成されている。LDの発光素子1と、PIN型PDの
側面入射型受光素子2とは、シリコン基板4の平面部
に、発光素子1の活性層と側面入射型受光素子2の受光
層とが対向し、かつ両者の高さが揃うようにマウントさ
れていて、効率よくモニタ光を検出できるようになって
いる。光導波路23は、一端が発光素子1の活性層に対
して、効率よく結合できるように配置されている。さら
に、シリコン基板4に近接して配置されたV溝ブロック
24の上面のV溝に光ファイバ芯線3を収容して、光フ
ァイバ芯線3が光導波路23の他端に対して効率よく結
合できるようにすることによって、発光素子1の発生光
を、光ファイバ芯線3に対して効率よく伝送できるよう
になっている。シリコン基板4上の発光素子1と受光素
子2及び光ファイバ芯線3の先端部とは、封止ソルダ6
を介してシリコン基板4に固定された封止キャップ5に
よって気密封止されている。シリコン基板4及びV溝ブ
ロック24は、ケース7内に固定されると共に、光ファ
イバ芯線3は、ファイバ被覆部8の部分で、ケース7の
側面の貫通穴にファイバ被覆固定用樹脂9によって固定
されている。ケース7は、カバー10によって蓋をされ
る。
【0026】この例の半導体モジュール装置の気密封止
までの組立は、次のようにして行なわれる。最初、基板
上に設けられた配線パターンのマーカを基準として、発
光素子1と受光素子2とをそれぞれの配線パターンに位
置合わせしてマウント・ボンディングする。次に、封止
キャップ5をその下部に配されている封止ソルダを加熱
溶解して、封止キャップ5とシリコン基板4及び光導波
路23との間隙を満たすように、シリコン基板4上に溶
着することによって、発光素子1と受光素子2及び光導
波路23の一部を気密封止する。
【0027】このように、この例では、気密封止は、発
光素子1と側面入射型受光素子2に対してのみ行なえば
よく、第1実施例の場合と比較して、気密封止がより簡
単になると共に、ファイバ被覆部8とケース7間、ケー
ス7とカバー10間では、厳密な気密処理を行なう必要
がなくなる。したがって、この部分に起因する気密不良
の問題が解消すると共に、半導体モジュール装置の小型
化と構造の簡易化が可能となる。
【0028】◇第4実施例 図6は、この発明の第4実施例である半導体モジュール
装置の構成を示す断面図である。この例の半導体モジュ
ールでは、同図に示すように、シリコン基板25の上面
が平面部からなると共に、その一部に異方性エッチング
によって一又は複数のV溝11Aが設けられている。さ
らに基板25の平面部には、一又は複数の出力線用配線
パターン27と共通線用配線パターン28とが、不純物
拡散等によって予め形成されている。基板25上には、
PD等からなる一又は複数の受光素子を含む受光素子ア
レイ26が配置され、この状態で、各受光素子の出力端
子が出力線用配線パターン27に接続され、共通端子が
共通線用配線パターン28に接続されている。受光素子
アレイ26に含まれる各受光素子は、各V溝11Aに収
容された光ファイバ芯線3Aに対して、それぞれの受光
層が光ファイバ芯線3Aと効率よく結合できる位置に設
けられている。基板25はケース7中に固定されると共
に、各光ファイバ芯線3Aはそれぞれのファイバ被覆部
(不図示)の部分でケース7の側面の貫通穴にファイバ
被覆固定用樹脂(不図示)によって固定されている。さ
らに、出力線用配線パターン27と共通線用配線パター
ン28とは、ケース7に予め装着されている出力線用端
子金具29と共通線用端子金具30とに、ボンディング
ワイヤ31によって接続されている。また、必要によ
り、カバー(不図示)によってケース7上に蓋がされ
る。
【0029】この例の半導体モジュール装置の気密封止
までの組立は、次のようにして行なわれる。まず、基板
25上に設けられた図示せぬ配線パターンのマーカによ
って受光素子アレイ26を構成する各受光素子をそれぞ
れの配線パターンに位置合わせして、基板25上に受光
素子アレイ26をマウント・ボンディングする。次に、
各V溝11Aにそれぞれ光ファイバ芯線3Aを収容し
て、光ファイバ芯線3Aの外周に配されているソルダ
(不図示)を加熱溶解して、光ファイバ芯線3AとV溝
11A間の間隙を満たすと同時に光ファイバ芯線3Aを
固定する。さらに受光素子アレイ26と光ファイバ芯線
3Aの一部を覆って封止キャップ5を載せて、その下部
に配されているソルダ(不図示)を加熱溶解して、基板
25上に予め形成されているメタライズ部(不図示)に
対して溶着することによって気密封止する。
【0030】このように、この例では、受光素子アレイ
26及び光ファイバ芯線3Aを、基板25上で封止キャ
ップ5によって気密封止するので、ケース7に対して基
板25を収容すると共にファイバ被覆部を貫通させる際
の気密封止を省略することができる。すなわち、ファイ
バ被覆部とケース間、ケースとカバー間では、厳密な気
密処理を行なう必要がなくなる。したがって、この部分
に起因する気密不良の問題が解消すると共に、半導体モ
ジュール装置の小型化と構造の簡易化が可能となる。
【0031】以上、この発明の実施例を図面により詳述
してきたが、具体的な構成はこの実施例に限られたもの
ではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変
更等があってもこの発明に含まれる。例えば、封止キャ
ップの材質は、気密性を有し、かつ、必要な程度の強度
を有するものであればよく、セラミックや金属等を使用
できる。また、封止キャップの形状も特に限定されず、
矩形皿状、円形皿状等のものを使用できる。また、光フ
ァイバは、シングルモード型のものが望ましいが、発光
素子、受光素子の特性によっては、マルチモード型のも
のも使用できる。また、その構造は、ステップインデッ
クス型、グレーデッドインデッツス型のいずれでも使用
できる。また、上述の実施例では、V溝に光ファイバ芯
線を収容する場合について述べたが、これに代えて、被
覆された光ファイバ自身をV溝に収容するようにしても
よい。また、上述の実施例では、光ファイバ芯線の収容
部としてV溝を用いたが、傾斜側面を持つ溝部である限
り、V溝に限らず、U溝や半楕円溝、その他の溝でもよ
い。
【0032】
【発明の効果】以上説明したように、この発明の半導体
モジュール装置及びその製造方法によれば、基板の同一
平面上に配置された発光素子、受光素子、受光素子アレ
イ及びファイバ芯線、光導波路等を基板上で気密封止す
るようにしたので、気密領域を基板上のみに限定するこ
とができ、この結果、気密リーク不良発生率を著しく低
減できる。また、ファイバ芯線の部分まで気密領域に含
めて、発光素子、受光素子とファイバ芯線との光学結合
をレンズレスに行なうようにしたので、半導体モジュー
ル素子の構成を簡略化することができ、加えて、部品数
の低減と装置の小型化を実現できる。それゆえ、半導体
モジュール装置の材料費を著しく削減できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の第1実施例である半導体モジュール
装置の概略構成を示す断面図である。
【図2】同半導体モジュール装置に用いられるシリコン
基板の表面外観構成を示す図で、(a)は、同シリコン
基板の平面図、(b)は、(a)のA−A線に沿う断面
図である。
【図3】同半導体モジュール装置の製造方法を工程順に
示す工程図である。
【図4】この発明の第2実施例である半導体モジュール
装置の概略構成を示す断面図である。
【図5】この発明の第3実施例である半導体モジュール
装置の概略構成を示す断面図である。
【図6】この発明の第4実施例である半導体モジュール
装置の概略構成を示す断面図である。
【図7】従来における半導体モジュール装置の構成を示
す断面図である。
【図8】従来における別の半導体モジュール装置の構成
を示す断面図である。
【図9】従来におけるさらに別の半導体モジュール装置
の構成を示す断面図である。
【符号の説明】
1 発光素子 2 側面入射型受光素子(受光素子) 3 光ファイバ芯線 4 シリコン基板(基板) 5 封止キャップ(封止部材) 11 V溝 14A,14B,15A,15B 配線パターン 16A 発光素子マウント用マーカ(マーカ) 16B 受光素子マウント用マーカ(マーカ) 18 ソルダ 19 ソルダ 21 リードフレーム 23 光導波路 25 基板 26 受光素子アレイ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板上に発光素子と該発光素子からのモ
    ニタ光を検出する受光素子とを配置してなると共に、該
    基板上に設けられた傾斜側面を持つ溝部に光ファイバを
    収容することによって、前記発光素子と光ファイバとを
    結合してなる半導体モジュール装置において、 前記発光素子と受光素子及び光ファイバの一部が封止部
    材によって前記基板上に気密封止されていることを特徴
    とする半導体モジュール装置。
  2. 【請求項2】 基板上に発光素子と該発光素子からのモ
    ニタ光を検出する受光素子とを配置してなると共に、該
    基板上に設けられた光導波路を介して前記発光素子と光
    ファイバとを結合してなる半導体モジュール装置におい
    て、 前記発光素子と受光素子及び光導波路の一部が封止部材
    によって前記基板上に気密封止されていることを特徴と
    する半導体モジュール装置。
  3. 【請求項3】 前記基板が前記発光素子と受光素子の各
    端子を外部接続するリードフレーム上に載置されている
    ことを特徴とする請求項1又は2記載の半導体モジュー
    ル装置。
  4. 【請求項4】 前記受光素子が側面入射型受光素子であ
    ることを特徴とする請求項1,2又は3記載の半導体モ
    ジュール装置。
  5. 【請求項5】 基板上に一又は複数の受光素子を含む受
    光素子アレイを配置してなると共に、該基板上に前記受
    光素子と同数個設けられた傾斜側面を持つ溝部にそれぞ
    れ光ファイバを収容することによって、該各受光素子と
    対応する光ファイバとを結合してなる半導体モジュール
    装置において、 前記受光素子アレイ及び各光ファイバの一部が封止部材
    によって前記基板上に気密封止されていることを特徴と
    する半導体モジュール装置。
  6. 【請求項6】 請求項1記載の半導体モジュール装置を
    製造する方法であって、 前記基板上に設けられた配線パターンのマーカによって
    前記発光素子と受光素子をそれぞれの配線パターンに位
    置合わせして接続する工程と、前記溝部に収容された光
    ファイバを該光ファイバの外周に配されているソルダに
    よって前記溝部内の間隙を満たすように溶着する工程
    と、前記封止部材をその下部に配されているソルダによ
    って該封止部材と前記基板及び前記光ファイバの溶着部
    との間隙を満たすように該基板上に溶着することによっ
    て前記発光素子と受光素子及び光ファイバの一部を気密
    封止する工程とを含むことを特徴とする半導体モジュー
    ル装置の製造方法。
  7. 【請求項7】 請求項2記載の半導体モジュール装置を
    製造する方法であって、 前記基板上に設けられた配線パターンのマーカによって
    前記発光素子と受光素子とをそれぞれの配線パターンに
    位置合わせして接続する工程と、前記封止部材をその下
    部に配されているソルダによって該封止部材と前記基板
    及び前記光導波路との間隙を満たすように該基板上に溶
    着することによって前記発光素子と受光素子及び光導波
    路の一部を気密封止する工程とを含むことを特徴とする
    半導体モジュール装置の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項5記載の半導体モジュール装置を
    製造する方法であって、 前記基板上に設けられた配線パターンのマーカによって
    前記受光素子アレイを構成する各受光素子をそれぞれの
    配線パターンに位置合わせして接続する工程と、前記溝
    部に収容された光ファイバを該光ファイバの外周に配さ
    れているソルダによって前記溝部内の間隙を満たすよう
    に溶着する工程と、前記封止部材をその下部に配されて
    いるソルダによって該封止部材と前記基板及び前記光フ
    ァイバの溶着部との間隙を満たすように前記基板上に溶
    着することによって前記受光素子アレイ及び光ファイバ
    の一部を気密封止する工程とを含むことを特徴とする半
    導体モジュール装置の製造方法。
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